TWM447191U - 胡椒研磨器 - Google Patents

Description

胡椒研磨器

本新型是有關於一種胡椒研磨器，特別是指一種用於將胡椒、鹽粒等粗粒狀調味品研磨成微小粉末狀的胡椒研磨器。

胡椒研磨器主要是藉由可相對轉動的一內研磨座與一外研磨座的配合，以將胡椒粗顆粒研磨成細顆粒。而且為了因應使用者的食用習慣，該等研磨座之間的一個研磨空間的大小被設計成可調整，藉由調整後的空間大小來決定研磨出的胡椒顆粒大小。

而本案申請人先前曾提出台灣專利申請號第98208158號專利案，目的在於改良英國專利GB2412616號專利案在調整研磨空間時容易有胡椒顆粒卡住的問題，在該台灣專利案中，主要是透過轉動一個底座單元而將一調整座往上頂推，該調整座進而帶動一外研磨座相對於一內研磨座往上移動，以改變所述兩研磨座之間的空間大小。但本案申請人又發現，該台灣專利案雖然已改善前述英國專利案的缺失，但卻產生其它問題，即，在設計上必需使用數個彈簧來作為該外研磨座向上移動時的緩衝元件，以及提供該外研磨座向下移動的復位力，但是當其中有任一彈簧彈性疲乏時，該彈性疲乏的彈簧施加於該外研磨座上的彈力就會與其它彈簧的彈力不同，造成該外研磨座受力不均，容易有歪斜現象，進而影響該外研磨座在上升或下降時的穩 定性，因此該胡椒研磨器仍有待改良。

因此，本新型之目的，即在提供一種元件能夠穩定移動，進而能穩定地調整研磨粒徑的胡椒研磨器。

於是，本新型胡椒研磨器，包含：一界定出一容裝空間的容裝單元、一研磨單元、一彈性件、一調整座，以及一底座單元。

該研磨單元包括一受該容裝單元帶動而可繞自身中心軸線轉動的連動軸、一可受該連動軸帶動而轉動的內研磨座，以及一圍繞該內研磨座並與該內研磨座共同界定出一研磨空間的外研磨座。該彈性件位於該內研磨座的上方，並提供該內研磨座一個恆朝下的復位力量。該調整座包括一位於該內研磨座的下方並可將該內研磨座往上頂推的頂推部，以及一圍繞該頂推部並具有一朝下的調整面的調整圍壁，該調整面具有至少一斜面部，該斜面部具有間隔的一高點與一低點。

該底座單元可相對轉動地安裝在該容裝單元之底部，並包括一向上突伸而抵接該斜面部的卡塊組，該底座單元可相對該調整座轉動，使該卡塊組沿該斜面部移動於該高點與該低點之間，進而使該調整座與該內研磨座相對該外研磨座上下移動而改變該研磨空間之大小。

有關本新型之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中，將可 清楚的呈現。

參閱圖1、2、3、4，本新型胡椒研磨器之較佳實施例，包含：一容裝單元1、一研磨單元2、一彈性件3、一調整座4，以及一底座單元5。

該容裝單元1包括一圍繞一中心軸線(圖未示)的瓶體11、一可相對轉動地安裝在該瓶體11的頂部的蓋體12、一位於該蓋體12上方的螺接件13，以及一固定地安裝在該瓶體11的底部的導引座14。

其中，該蓋體12與該瓶體11共同界定出一供胡椒顆粒放置的容裝空間10。該導引座14包括一個位於該瓶體11的下方且呈環形的基壁141、一自該基壁141的內周緣朝上突出於該瓶體11中的固定壁142、一間隔地位於該固定壁142的上方並界定出一圓形的軸孔146的軸穿壁143、數個彼此間隔並斜向延伸且連接該軸穿壁143與該固定壁142的連接條144，以及一自該基壁141朝下延伸且圍繞設置的導引圍壁145，該導引圍壁145具有兩個自其底緣向上延伸的導槽147。本新型在實施時，該導引座14可以卡合固定於該瓶體11的下方，另外還可以藉由圖未示出的螺絲來鎖固該導引座14與該瓶體11。

該研磨單元2包括：一受該蓋體12帶動而可繞自身中心軸線轉動的連動軸21、一與該連動軸21固定住而圍繞在該連動軸21的周圍的抵壓件22、一結合在該連動軸21之底段的內研磨座23，以及一圍繞該內研磨座23的外研磨座24。

其中，該連動軸21為一支上下長向延伸的桿件，其頂段向上伸入並卡合於該蓋體12中而可受該蓋體12帶動而轉動，且該連動軸21的頂部突出於該蓋體12並與該螺接件13螺鎖固定。而該連動軸21的底段向下穿過該導引座14的軸孔146並伸入該內研磨座23中。需要說明的是，該連動軸21僅是穿過該軸孔146，該連動軸21與該導引座14之間沒有連動關係。該抵壓件22位於該導引座14的軸穿壁143的下方，且位於該內研磨座23的上方。

該內研磨座23可受該連動軸21帶動而同步轉動，另外，該內研磨座23可相對該連動軸21上下移動。該內研磨座23與該外研磨座24都包括數個斜向延伸的研磨齒，且兩者之間存有縫隙，因而配合界定出一個用於研磨胡椒的研磨空間20。

本實施例的彈性件3是一個伸縮彈簧，並圍繞該連動軸21地位於該研磨單元2的抵壓件22與該內研磨座23之間，該彈性件3可被壓縮而蓄積一個方向朝下的彈性恢復力，以提供該內研磨座23一個恆朝下的復位力量。而且該彈性件3可以穩定該內研磨座23以避免該內研磨座23上下晃動，並可作為該內研磨座23向上移動時的緩衝元件。

該調整座4包括一個位於該內研磨座23的下方的頂推部41、一個圍繞該頂推部41的調整圍壁42、一個位於該調整圍壁42及該頂推部41之間的環壁43，以及二個彼此間隔並自該調整圍壁42的表面徑向突出的導引塊44。

其中，該頂推部41為圍繞設置並具有一個可供該連動 軸21的底部伸入的凹槽411。該調整圍壁42包括一個水平的頂面421，以及一個相反於該頂面421而朝下的調整面422，該調整面422具有二個間隔的斜面部423，以及二個連接在該等斜面部423之間並上下延伸的擋面部424(見圖2)。該等斜面部423皆是繞同一方向而由上往下逐漸傾斜，而且該等斜面部423皆具有一個位於最高處的高點425、一個位於最低處的低點426，以及數個位於該高點425與該低點426之間並向上凹設的定位槽427。

所述導引塊44各別對應該導引座14的導槽147而伸入，由於該調整座4可相對該導引座14上下移動，因此所述導引塊44可在導槽147中上下移動。在實施時，導引塊44及導槽147的數量都為至少一個即可。

該底座單元5是可相對轉動地安裝於該容裝單元1的下方，並包圍在該調整座4、內研磨座23及外研磨座24的外圍。該底座單元5包括一個外底座51，以及一個連動轉動地安裝在該外底座51中的內底座52，該內底座52包括一個環形的第一圍壁521、一個圍繞該第一圍壁521並與該外底座51結合的第二圍壁522，以及一個設置在該第一圍壁521上並向上突伸而抵接該調整面422的卡塊組523，該卡塊組523具有二個彼此間隔並向上突伸的卡塊524，每一卡塊524皆是可選擇地卡固於每一個斜面部423之所述定位槽427中的任一個。

本新型使用時，轉動該蓋體12可以帶動該連動軸21與內研磨座23相對於該外研磨座24轉動，進而研磨位於 該研磨空間20中的胡椒顆粒。而且本新型可以調整該研磨空間20的大小，以改變研磨顆粒大小，其使用方式如下：在一般使用狀態下，該內底座52的該等卡塊524卡合在該調整座4的其中二個定位槽427，圖3是以卡合在二個鄰近斜面部423之高點425的定位槽427為例。

參閱圖3、4，要調整該研磨空間20的大小時，轉動該外底座51而帶動該內底座52轉動(轉動方向如圖中箭頭所示)，此時該調整座4與該外研磨座24不會轉動，而該內底座52則因為相對於該調整座4轉動而使其卡塊524脫離原本卡合的定位槽427，卡塊524沿著調整座4的斜面部423移動而逐漸往低點426方向移動，而且移動過程中逐漸將調整座4往上頂推，該調整座4進而透過其頂推部41將該內研磨座23向上推動到圖5、6所示的位置，此時卡塊524定位於最靠近該低點426的定位槽427中，該調整座4與內研磨座23的位置相對於圖3、4升高，使該研磨空間20變小，達到調整目的。

需要說明的是，由於該調整座4的導引塊44伸入該導引座14的導槽147中，藉此導引該調整座4的上下移動行程，並可避免該調整座4產生不必要的轉動。此外，該連動軸21上設有該抵壓件22，而該抵壓件22上方受到該導引座14的軸穿壁143限制，因此該調整座4與內研磨座23向上移動時，該連動軸21不會跟著往上移動，該連動軸21伸入該調整座4的凹槽411中的長度因而變長。

當胡椒研磨器位於圖5、6的狀態時，該彈性件3的壓 縮程度變大，蓄積更大的彈力，所以當反向轉動該底座單元5而使卡塊524朝該調整座4的高點425移動時，彈性件3之彈力將該內研磨座23與調整座4往下推，進而使相關元件復位到圖4之研磨空間20較大的狀態。

參閱圖2、3、4，由於該調整座4設有該等定位槽427，所以卡塊524可以卡固於任一定位槽427中，達到多段調整的效果。但另一方面，本新型不以設置該等定位槽427為必要，因為該內底座52轉動到任一位置之後，只要該調整座4的重量與彈性件3向下抵推力量足夠時，該內底座52即可定位住而不會任意轉動。而擋面部424之設計使該內底座52僅能相對該調整座4轉動接近180°，當卡塊524轉動到擋面部424之一側即會受到阻擋，表示達到極限而不能再轉動，此時必須反向轉動。

綜上所述，藉由轉動該底座單元5而帶動該調整座4與內研磨座23上下移動，以調整該研磨空間20大小，達到改變研磨顆粒大小之目的。而且本新型只需要設置該單一的彈性件3來抵推該內研磨座23，由於該單一的彈性件3可以提供穩定的彈力，使該內研磨座23整體受力均勻，進而能穩定地上下移動，以穩定地調整研磨粒徑的大小，並且減少彈性元件的使用數量。

惟以上所述者，僅為本新型之較佳實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，即大凡依本新型申請專利範圍及新型說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

1‧‧‧容裝單元

10‧‧‧容裝空間

11‧‧‧瓶體

12‧‧‧蓋體

13‧‧‧螺接件

14‧‧‧導引座

141‧‧‧基壁

142‧‧‧固定壁

143‧‧‧軸穿壁

144‧‧‧連接條

145‧‧‧導引圍壁

146‧‧‧軸孔

147‧‧‧導槽

2‧‧‧研磨單元

20‧‧‧研磨空間

21‧‧‧連動軸

22‧‧‧抵壓件

23‧‧‧內研磨座

24‧‧‧外研磨座

3‧‧‧彈性件

4‧‧‧調整座

41‧‧‧頂推部

411‧‧‧凹槽

42‧‧‧調整圍壁

421‧‧‧頂面

422‧‧‧調整面

423‧‧‧斜面部

424‧‧‧擋面部

425‧‧‧高點

426‧‧‧低點

427‧‧‧定位槽

43‧‧‧環壁

44‧‧‧導引塊

5‧‧‧底座單元

51‧‧‧外底座

52‧‧‧內底座

521‧‧‧第一圍壁

522‧‧‧第二圍壁

523‧‧‧卡塊組

524‧‧‧卡塊

圖1是本新型胡椒研磨器之一較佳實施例的組合剖視圖；圖2是該較佳實施例的部分元件的立體分解圖；圖3是一局部的剖視圖，圖中主要將該較佳實施例之一內底座局部剖視，以顯示該內底座與一調整座之間的關係；圖4是取自於圖1的局部放大圖；圖5是一類似圖3的局部的剖視圖，同時顯示該內底座相對於該調整座轉動一角度值；及圖6是一局部剖視圖，主要顯示該較佳實施例之一內研磨座相對於圖4狀態上升，使一研磨空間變小。

1‧‧‧容裝單元

10‧‧‧容裝空間

11‧‧‧瓶體

14‧‧‧導引座

141‧‧‧基壁

142‧‧‧固定壁

143‧‧‧軸穿壁

144‧‧‧連接條

146‧‧‧軸孔

147‧‧‧導槽

2‧‧‧研磨單元

20‧‧‧研磨空間

21‧‧‧連動軸

22‧‧‧抵壓件

23‧‧‧內研磨座

24‧‧‧外研磨座

3‧‧‧彈性件

4‧‧‧調整座

41‧‧‧頂推部

411‧‧‧凹槽

42‧‧‧調整圍壁

43‧‧‧環壁

44‧‧‧導引塊

5‧‧‧底座單元

51‧‧‧外底座

52‧‧‧內底座

521‧‧‧第一圍壁

522‧‧‧第二圍壁

524‧‧‧卡塊

Claims (8)

1. 一種胡椒研磨器，包含：一容裝單元，界定出一容裝空間；一研磨單元，包括一受該容裝單元帶動而可繞自身中心軸線轉動的連動軸、一可受該連動軸帶動而轉動的內研磨座，以及一圍繞該內研磨座並與該內研磨座共同界定出一研磨空間的外研磨座；一彈性件，位於該內研磨座的上方，並提供該內研磨座一個恆朝下的復位力量；一調整座，包括一位於該內研磨座的下方並可將該內研磨座往上頂推的頂推部，以及一圍繞該頂推部並具有一朝下的調整面的調整圍壁，該調整面具有至少一斜面部，該斜面部具有間隔的一高點與一低點；及一底座單元，可相對轉動地安裝在該容裝單元之底部，並包括一向上突伸而抵接該斜面部的卡塊組，該底座單元可相對該調整座轉動，使該卡塊組沿該斜面部移動於該高點與該低點之間，進而使該調整座與該內研磨座相對該外研磨座上下移動而改變該研磨空間之大小。
2. 依據申請專利範圍第1項所述之胡椒研磨器，其中，該容裝單元包括一導引座，該導引座包括一圍繞設置並位於該內研磨座的上方的導引圍壁，該導引圍壁具有一個自其底緣向上延伸的導槽，該調整座還包括一個自該調整圍壁的表面突出並伸入該導槽中的導引塊。
3. 依據申請專利範圍第2項所述之胡椒研磨器，其中，該 導引座還包括一個位於該導引圍壁的上方的軸穿壁，該軸穿壁界定出一供該連動軸穿伸的軸孔，該研磨單元還包括一個與該連動軸固定住並圍繞該連動軸的抵壓件，該抵壓件位於該軸穿壁的下方，該彈性件圍繞該連動軸地位於該抵壓件與該內研磨座之間。
4. 依據申請專利範圍第3項所述之胡椒研磨器，其中，該容裝單元還包括一個組裝在該調整座的上方的瓶體，以及一個可相對轉動地安裝在該瓶體的頂部的蓋體，所述蓋體連結該連動軸而可帶動該連動軸轉動。
5. 依據申請專利範圍第4項所述之胡椒研磨器，其中，該導引座還包括一個位於該瓶體的下方的基壁、一自該基壁朝上突出於該瓶體中並位於該軸穿壁的下方的固定壁，以及數個彼此間隔並連接該軸穿壁與該固定壁的連接條。
6. 依據申請專利範圍第1項所述之胡椒研磨器，其中，該調整座的斜面部還具有二個位於該高點與該低點之間並向上凹設的定位槽，該底座單元的卡塊組包括一可選擇地卡合於該等定位槽的其中之一的卡塊。
7. 依據申請專利範圍第1項所述之胡椒研磨器，其中，該調整座的調整面具有二個彼此間隔的斜面部，以及二個連接在該等斜面部之間並上下延伸的擋面部，該等斜面部皆是繞同一方向而由上往下逐漸傾斜，而且該等斜面部皆包括前述高點與前述低點，以及二個位於該高點與該低點之間並向上凹設的定位槽，該底座單元的卡塊組 包括二個各別對應該等斜面部的卡塊，該等卡塊各別卡合於每一斜面部的該等定位槽的其中之一。
8. 依據申請專利範圍第1項所述之胡椒研磨器，其中，該調整座的頂推部具有一個可供該連動軸的底部伸入的凹槽。