CN202619457U - 胡椒研磨器 - Google Patents

Abstract

一种胡椒研磨器，包含：一容装单元、一研磨单元、一弹性件、一调整座，以及一底座单元。该研磨单元包括配合界定出一研磨空间的一内研磨座与一外研磨座。该弹性件位于该内研磨座的上方并提供一个恒朝下的复位力量。该调整座具有一朝下的斜面部，该斜面部具有一高点与一低点。该底座单元可相对该调整座转动，使其一卡块组沿该斜面部移动于该高点与低点之间，使该调整座与该内研磨座相对该外研磨座上下移动而改变该研磨空间的大小。通过设置该单一的弹性件来提供该内研磨座稳定的推力，使该内研磨座整体受力均匀，能稳定地上下移动。

Description

胡椒研磨器

技术领域

本实用新型涉及一种胡椒研磨器，特别是涉及一种用于将胡椒、盐粒等粗粒状调味品研磨成微小粉末状的胡椒研磨器。

背景技术

胡椒研磨器主要是通过可相对转动的一内研磨座与一外研磨座的配合，以将胡椒粗颗粒研磨成细颗粒。而且为了适应使用者的食用习惯，所述研磨座之间的一个研磨空间的大小被设计成可调整，通过调整后的空间大小来决定研磨出的胡椒颗粒大小。

而中国台湾专利申请号第98208158号专利案，目的在于改良英国专利GB2412616号专利案在调整研磨空间时容易有胡椒颗粒卡住的问题，在该中国台湾专利案中，主要是透过转动一个底座单元而将一调整座往上顶推，该调整座进而带动一外研磨座相对于一内研磨座往上移动，以改变所述两研磨座之间的空间大小。但该中国台湾专利案虽然已改善前述英国专利案的缺失，但却产生其它问题，在设计上必需使用数个弹簧来作为该外研磨座向上移动时的缓冲元件，以及提供该外研磨座向下移动的复位力，但是当其中有任一弹簧弹性疲乏时，该弹性疲乏的弹簧施加于该外研磨座上的弹力就会与其它弹簧的弹力不同，造成该外研磨座受力不均，容易有歪斜现象，进而影响该外研磨座在上升或下降时的稳定性，因此该胡椒研磨器仍有待改良。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种元件能够稳定移动，进而能稳定地调整研磨粒径的胡椒研磨器。

本实用新型胡椒研磨器，包含：一个界定出一个容装空间的容装单元，以及一个研磨单元，该研磨单元包括一个受该容装单元带动而可绕自身中心轴线转动的连动轴、一个可受该连动轴带动而转动的内研磨座，以及一个围绕该内研磨座并与该内研磨座共同界定出一个研磨空间的外研磨座。该胡椒研磨器还包含：一个弹性件、一个调整座，以及一个底座单元；该弹性件位于该内研磨座的上方，并向该内研磨座提供一个恒朝下的复位力量；该调整座包括一个位于该内研磨座的下方并可将该内研磨座往上顶推的顶推部，以及一个围绕该顶推部并具有一个朝下的调整面的调整围壁，该调整面具有至少一个斜面部，该斜面部具有间隔的一个高点与一个低点；该底座单元可相对转动地安装在该容装单元的底部，并包括一个向上突伸而抵接该斜面部的卡块组，该底座单元可相对该调整座转动，使该卡块组沿该斜面部移动于该高点与该低点之间，并使该调整座与该内研磨座相对该外研磨座上下移动而改变该研磨空间的大小。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该容装单元包括一个导引座，该导引座包括一个围绕设置并位于该内研磨座的上方的导引围壁，该导引围壁具有一个自其底缘向上延伸的导槽，该调整座还包括一个自该调整围壁的表面突出并伸入该导槽中的导引块。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该导引座还包括一个位于该导引围壁的上方的轴穿壁，该轴穿壁界定出一个供该连动轴穿伸的轴孔，该研磨单元还包括一个与该连动轴固定住并围绕该连动轴的抵压件，该抵压件位于该轴穿壁的下方，该弹性件围绕该连动轴地位于该抵压件与该内研磨座之间。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该容装单元还包括一个组装在该调整座的上方的瓶体，以及一个可相对转动地安装在该瓶体的顶部的盖体，所述盖体连结该连动轴而可带动该连动轴转动。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该导引座还包括一个位于该瓶体的下方的基壁、一个自该基壁朝上突出于该瓶体中并位于该轴穿壁的下方的固定壁，以及数个彼此间隔并连接该轴穿壁与该固定壁的连接条。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该调整座的斜面部还具有两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽，该底座单元的卡块组包括一个可选择地卡合于所述定位槽的其中之一的卡块。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该调整座的调整面具有两个彼此间隔的斜面部，以及两个连接在所述斜面部之间并上下延伸的挡面部，所述斜面部都绕同一方向而由上往下逐渐倾斜，而且所述斜面部都包括前述高点与前述低点，以及两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽，该底座单元的卡块组包括两个分别对应所述斜面部的卡块，所述卡块分别卡合于相对应斜面部的所述定位槽的其中之一。

本实用新型所述的胡椒研磨器，该调整座的顶推部具有一个可供该连动轴的底部伸入的凹槽。

本实用新型的有益效果在于：通过转动该底座单元而带动该调整座与内研磨座上下移动，以调整该研磨空间大小，达到改变研磨颗粒大小的目的。而且本实用新型只需要设置单一的弹性件来抵推该内研磨座，可以提供稳定的弹力，使该内研磨座整体受力均匀，进而能稳定地上下移动，以稳定地调整研磨粒径的大小，并且减少弹性元件的使用数量。

附图说明

图1是本实用新型胡椒研磨器的一较佳实施例的组合剖视图；

图2是该较佳实施例的部分元件的立体分解图；

图3是一局部的剖视图，图中主要将该较佳实施例的一内底座局部剖视，以显示该内底座与一调整座之间的关系；

图4是取自于图1的局部放大图；

图5是一类似图3的局部的剖视图，同时显示该内底座相对于该调整座转动一角度值；

图6是一局部剖视图，主要显示该较佳实施例的一内研磨座相对于图4状态上升，使一研磨空间变小。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。

参阅图1、2、3、4，本实用新型胡椒研磨器的较佳实施例，包含：一容装单元1、一研磨单元2、一弹性件3、一调整座4，以及一底座单元5。

该容装单元1包括一围绕一中心轴线(图未示)的瓶体11、一可相对转动地安装在该瓶体11的顶部的盖体12、一位于该盖体12上方的螺接件13，以及一固定地安装在该瓶体11的底部的导引座14。

其中，该盖体12与该瓶体11共同界定出一供胡椒颗粒放置的容装空间10。该导引座14包括一个位于该瓶体11的下方且呈环形的基壁141、一自该基壁141的内周缘朝上突出于该瓶体11中的固定壁142、一间隔地位于该固定壁142的上方并界定出一圆形的轴孔146的轴穿壁143、数个彼此间隔并斜向延伸且连接该轴穿壁143与该固定壁142的连接条144，以及一自该基壁141朝下延伸且围绕设置的导引围壁145，该导引围壁145具有两个自其底缘向上延伸的导槽147。本实用新型在实施时，该导引座14可以卡合固定于该瓶体11的下方，另外还可以通过图未示出的螺丝来锁固该导引座14与该瓶体11。

该研磨单元2包括：一受该盖体12带动而可绕自身中心轴线转动的连动轴21、一与该连动轴21固定住而围绕在该连动轴21的周围的抵压件22、一结合在该连动轴21的底段的内研磨座23，以及一围绕该内研磨座23的外研磨座24。

其中，该连动轴21为一支上下长向延伸的杆件，其顶段向上伸入并卡合于该盖体12中而可受该盖体12带动而转动，且该连动轴21的顶部突出于该盖体12并与该螺接件13螺锁固定。而该连动轴21的底段向下穿过该导引座14的轴孔146并伸入该内研磨座23中。需要说明的是，该连动轴21只是穿过该轴孔146，该连动轴21与该导引座14之间没有连动关系。该抵压件22位于该导引座14的轴穿壁143的下方，且位于该内研磨座23的上方。

该内研磨座23可受该连动轴21带动而同步转动，另外，该内研磨座23可相对该连动轴21上下移动。该内研磨座23与该外研磨座24都包括数个斜向延伸的研磨齿，且两者之间存有缝隙，因而配合界定出一个用于研磨胡椒的研磨空间20。

本实施例的弹性件3是一个伸缩弹簧，并围绕该连动轴21地位于该研磨单元2的抵压件22与该内研磨座23之间，该弹性件3可被压缩而蓄积一个方向朝下的弹性恢复力，以向该内研磨座23提供一个恒朝下的复位力量。而且该弹性件3可以稳定该内研磨座23以避免该内研磨座23上下晃动，并可作为该内研磨座23向上移动时的缓冲元件。

该调整座4包括一个位于该内研磨座23的下方的顶推部41、一个围绕该顶推部41的调整围壁42、一个位于该调整围壁42及该顶推部41之间的环壁43，以及两个彼此间隔并自该调整围壁42的表面径向突出的导引块44。

其中，该顶推部41为围绕设置并具有一个可供该连动轴21的底部伸入的凹槽411。该调整围壁42包括一个水平的顶面421，以及一个相反于该顶面421而朝下的调整面422，该调整面422具有两个间隔的斜面部423，以及两个连接在所述斜面部423之间并上下延伸的挡面部424(见图2)。所述斜面部423都绕同一方向而由上往下逐渐倾斜，而且所述斜面部423都具有一个位于最高处的高点425、一个位于最低处的低点426，以及数个位于该高点425与该低点426之间并向上凹设的定位槽427。

所述导引块44分别对应该导引座14的导槽147而伸入，由于该调整座4可相对该导引座14上下移动，因此所述导引块44可在导槽147中上下移动。在实施时，导引块44及导槽147的数量都为至少一个即可。

该底座单元5是可相对转动地安装于该容装单元1的下方，并包围在该调整座4、内研磨座23及外研磨座24的外围。该底座单元5包括一个外底座51，以及一个连动转动地安装在该外底座51中的内底座52，该内底座52包括一个环形的第一围壁521、一个围绕该第一围壁521并与该外底座51结合的第二围壁522，以及一个设置在该第一围壁521上并向上突伸而抵接该调整面422的卡块组523，该卡块组523具有两个彼此间隔并向上突伸的卡块524，每一卡块524都是可选择地卡固于每一个斜面部423的所述定位槽427中的任一个。

本实用新型使用时，转动该盖体12可以带动该连动轴21与内研磨座23相对于该外研磨座24转动，进而研磨位于该研磨空间20中的胡椒颗粒。而且本实用新型可以调整该研磨空间20的大小，以改变研磨颗粒大小，其使用方式如下：在一般使用状态下，该内底座52的所述卡块524卡合在该调整座4的其中两个定位槽427，图3是以卡合在两个邻近斜面部423的高点425的定位槽427为例。

参阅图3、4、5、6，要调整该研磨空间20的大小时，转动该外底座51而带动该内底座52转动(转动方向如图中箭头所示)，此时该调整座4与该外研磨座24不会转动，而该内底座52则因为相对于该调整座4转动而使其卡块524脱离原本卡合的定位槽427，卡块524沿着调整座4的斜面部423移动而逐渐往低点426方向移动，而且移动过程中逐渐将调整座4往上顶推，该调整座4进而透过其顶推部41将该内研磨座23向上推动到图5、6所示的位置，此时卡块524定位于最靠近该低点426的定位槽427中，该调整座4与内研磨座23的位置相对于图3、4升高，使该研磨空间20变小，达到调整目的。

需要说明的是，由于该调整座4的导引块44伸入该导引座14的导槽147中，借此导引该调整座4的上下移动行程，并可避免该调整座4产生不必要的转动。此外，该连动轴21上设有该抵压件22，而该抵压件22上方受到该导引座14的轴穿壁143限制，因此该调整座4与内研磨座23向上移动时，该连动轴21不会跟着往上移动，该连动轴21伸入该调整座4的凹槽411中的长度因而变长。

当胡椒研磨器位于图5、6的状态时，该弹性件3的压缩程度变大，蓄积更大的弹力，所以当反向转动该底座单元5而使卡块524朝该调整座4的高点425移动时，弹性件3的弹力将该内研磨座23与调整座4往下推，进而使相关元件复位到图4的研磨空间20较大的状态。

参阅图2、3、4，由于该调整座4设有所述定位槽427，所以卡块524可以卡固于任一定位槽427中，达到多段调整的效果。但另一方面，本实用新型不以设置所述定位槽427为必要，因为该内底座52转动到任一位置后，只要该调整座4的重量与弹性件3向下抵推力量足够时，该内底座52即可定位住而不会任意转动。而挡面部424的设计使该内底座52只能相对该调整座4转动接近180°，当卡块524转动到挡面部424的一侧即会受到阻挡，表示达到极限而不能再转动，此时必须反向转动。

综上所述，通过转动该底座单元5而带动该调整座4与内研磨座23上下移动，以调整该研磨空间20大小，达到改变研磨颗粒大小的目的。而且本实用新型只需要设置该单一的弹性件3来抵推该内研磨座23，由于该单一的弹性件3可以提供稳定的弹力，使该内研磨座23整体受力均匀，进而能稳定地上下移动，以稳定地调整研磨粒径的大小，并且减少弹性元件的使用数量。

Claims (8)

1.一种胡椒研磨器，包含：一个界定出一个容装空间的容装单元，以及一个研磨单元，该研磨单元包括一个受该容装单元带动而可绕自身中心轴线转动的连动轴、一个可受该连动轴带动而转动的内研磨座，以及一个围绕该内研磨座并与该内研磨座共同界定出一个研磨空间的外研磨座，其特征在于，该胡椒研磨器还包含：一个弹性件、一个调整座，以及一个底座单元；该弹性件位于该内研磨座的上方，并向该内研磨座提供一个恒朝下的复位力量；该调整座包括一个位于该内研磨座的下方并可将该内研磨座往上顶推的顶推部，以及一个围绕该顶推部并具有一个朝下的调整面的调整围壁，该调整面具有至少一个斜面部，该斜面部具有间隔的一个高点与一个低点；该底座单元可相对转动地安装在该容装单元的底部，并包括一个向上突伸而抵接该斜面部的卡块组，该底座单元可相对该调整座转动，使该卡块组沿该斜面部移动于该高点与该低点之间，并使该调整座与该内研磨座相对该外研磨座上下移动而改变该研磨空间的大小。

2.根据权利要求1所述的胡椒研磨器，其特征在于：该容装单元包括一个导引座，该导引座包括一个围绕设置并位于该内研磨座的上方的导引围壁，该导引围壁具有一个自其底缘向上延伸的导槽，该调整座还包括一个自该调整围壁的表面突出并伸入该导槽中的导引块。

3.根据权利要求2所述的胡椒研磨器，其特征在于：该导引座还包括一个位于该导引围壁的上方的轴穿壁，该轴穿壁界定出一个供该连动轴穿伸的轴孔，该研磨单元还包括一个与该连动轴固定住并围绕该连动轴的抵压件，该抵压件位于该轴穿壁的下方，该弹性件围绕该连动轴地位于该抵压件与该内研磨座之间。

4.根据权利要求3所述的胡椒研磨器，其特征在于：该容装单元还包括一个组装在该调整座的上方的瓶体，以及一个可相对转动地安装在该瓶体的顶部的盖体，所述盖体连结该连动轴而可带动该连动轴转动。

5.根据权利要求4所述的胡椒研磨器，其特征在于：该导引座还包括一个位于该瓶体的下方的基壁、一个自该基壁朝上突出于该瓶体中并位于该轴穿壁的下方的固定壁，以及数个彼此间隔并连接该轴穿壁与该固定壁的连接条。

6.根据权利要求1所述的胡椒研磨器，其特征在于：该调整座的斜面部还具有两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽，该底座单元的卡块组包括一个可选择地卡合于所述定位槽的其中之一的卡块。

7.根据权利要求1所述的胡椒研磨器，其特征在于：该调整座的调整面具有两个彼此间隔的斜面部，以及两个连接在所述斜面部之间并上下延伸的挡面部，所述斜面部都绕同一方向而由上往下逐渐倾斜，而且所述斜面部都包括前述高点与前述低点，以及两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽，该底座单元的卡块组包括两个分别对应所述斜面部的卡块，所述卡块分别卡合于相对应斜面部的所述定位槽的其中之一。

8.根据权利要求1所述的胡椒研磨器，其特征在于：该调整座的顶推部具有一个可供该连动轴的底部伸入的凹槽。

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