TWM420042U - Automatic taking/placing substrate device of vertical vacuum coater - Google Patents

Description

M420042 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作涉及-種，尤其是-種立式真空錄膜機的自 動 取放基板裝置。 【先前技術】 目前現有技術的立式真空鍍膜機的取放組件，如^證 書號M336527號專利案（以下簡稱參考案），是使用彈才 (簧片）@定基板，但是’如果選用簧力太強的彈扣 刮傷基板，如果選用簧力太弱的彈扣件則失持力不強，^ 板容易自彈扣片掉落而破裂。 土 >因此，參考案具有簧片選擇困難，夹持力太強容易到 壞基板’或是夾持力太弱基板容易掉落的問題， 的必要。 貝 〇 【新型内容】 為解決參考案具有簧片選擇困難 ^ ^, 又持力太強容易刮 K基板，或是夾持力太弱基板容 的的不足與限制， 本創作的目的在於提供一種立式直空 ^ ¥ ^ 膜機的自動取放基 极Ί 弟—驅動早兀使滑塊撥件位 亚讓滑塊撥件撥動或離開頂抵滑塊，藉此，基板能夠被 :::頂抵滑塊抵住而定位’由於本創作是用頂抵，而不是 M 个^有參考案簧片選擇困 、 夾持力太強或太弱的問題。 本創作所運用的技術手段在於提供一 Μ- 67) 6 a, l ^ 種立式真空鍵膜 栻的自動取放基板裝置，包括： M420042 —立起的主架； —基板載具’其一設於該主架内的立起的框體，該基 板載具可滑動地與該主架連接並形成一基板容置空間；以 及 複數個取放組件，其固設於該主架並各包括一固設於 s玄主架的第一驅動單元、一固設於相對應第一驅動單元的 第二驅動單元、一固設於該第二驅動單元的滑塊撥件、一 可滑動地與該基板載具結合且可與該滑塊撥件凹凸結合的 頂抵滑塊及一位於該基板載具内的彈性元件；其中，各第 驅動單元及各苐二驅動單元使相對應滑塊撥件能夠有二 個維度的方向的位移，各頂抵滑塊設有一伸入該基板容置 空間的頂抵端，該彈性元件的兩端分別抵住該基板載具及 相對應的頂抵滑塊。 所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝置’其中各 第一驅動單元設有二能夠伸出縮回的第一驅動件，各第二

回且與相對應的滑塊撥件固設的第二驅動件。 所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝置，其中各

撥部插入的撥孔。 6自動取放基板裝置，各滑塊 ;各頂抵滑塊設有一被相對應 所述的立式直空蚀η** |)4 -二錢技機的自動取放基板裝置，其中 各頂抵滑塊設有一導孔； 個導孔的導部。 該基板載具設有分別插入該複數 4 斤述的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝置，其中， '抵q塊设有一呈開設狀且容置相對應彈性元件的容 槽。 斤述的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝置其中各 頂抵端的哉面形狀呈L形。 所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝置，其中各 彈性元件為一彈簧。 ^創作所提供的立式真空鍍膜機的自動取放基板裝 可以後彳于的具體效益及功效增進至少包括·· 1.頂抵方式確實定位：本創作利用第一驅動單元及第 2駆動單元使滑塊撥件位移，並讓滑塊撥件撥動或離開頂板 滑塊’藉此，基板能夠被複數個頂抵滑塊抵住而定位，由於 本創作是用頂抵’ *不是用夾持的方式來定位基板，所以不 會有參考案簧片選擇困難’夾持力太強或太弱的問題。 ^ 2.自動化控制精確且作動快速：藉著第一驅動單元及 第二驅動單滑塊撥件的位移量能夠精確控制，且使滑塊 撥件快速地撥動或退出頂抵滑塊，作動快速，節省作業時間。 3.直線滑動：本創作藉著導部與導孔的結合，能夠讓 頂抵滑塊確實地呈直線滑動，並確實地將基板定位，基板 載具移動時不會晃動而到傷基板。 土 【實施方式】 為能詳細瞭解本創作的技術特徵及實用功效’並可依 照說明書的内容來f对；，#、& . , ^ 乃曰j 合木貫她錄進一步以如圖式所示的較佳實 施例，詳細說明如后： 本創作所提供的一種立式真空鍍膜機的自動取放基板 M420042 裝置的較佳實施例，如圖1所示，包括：一主架i 〇、一基 板載具2 0及複數個取放組件3 0等元件，其中： 如圖〗所示’該主架1 〇大致為一立起的矩形架體。該 基板載具20為一没於该主架1〇内的立起的矩形框體’該 基板載具20可滑動地與該主架丨〇連接並形成一基板容置 空間21 ;主架1 0與基板載具2 〇為現有技術的構件，其詳 細結構以及連結關係在此不詳細描述。 如圖2至圖3所示，該複數個取放組件3 〇固設於該主 木1 0並各包括一固设於該主架丨〇的内側緣的第一驅動單 元31、一固設於相對應第一驅動單元31的第二驅動單元 32、一固設於該第二驅動單元32的滑塊撥件33、一可滑動 地與該基板載具2“吉合且可與該滑塊撥# 3…結合的 頂抵滑塊34及-位於該基板載具2〇内的彈性元件35;其 中各第馬區動單元31及各第二驅動單元32使相對應滑 塊撥件33能夠有二個維度的方向的位移； 舉例來說’將主架1G的底部至頂部的延伸方向定義為 Z軸’將主架1Q從左側至右側的延伸方向定義為丫轴，將 主架1〇從前側至後側的延伸方向定義為“由； 設置於主架1〇下侧的取放組件30的滑塊撥件33能夠 平打於X轴而進退移動且能夠平行於2軸而升降，而設置 於主架1G左側的取放組件30的滑塊撥件33能夠平行於χ :而=移動且能夠平行於γ轴而平移；也就是說，各滑 塊撥件33有二個維度的方向的位移。 較佳地，各第一 SE紅DD _ n 产 谷弟駆動早兀及各第二驅動單元32八 別為—氣壓缸組。各第— 刀 動早π 3〗設有二能夠伸出縮回 6

Claims (1)

1. M420042 100年了0月17日替換頁 六、申請專利範圍： 1. 一種立式真空鍵膜機的自動取放基板裝置’包括： 一立起的主架，· 一基板載具，其一設於該主架内的立起的框體，該基 板載具可滑動地與該主架連接並形成一基板容置空間；以 及 複數個取放組件，其固設於該主架並各包括一固設於 該主架的第—驅動單元 '一固設於相對應第一驅動單元的 第一驅動單元、一固設於該第二驅動單元的滑塊撥件、一 可滑動地與該基板載具結合且可與該滑塊撥件凹凸結合的 頂抵滑塊及一位於該基板載具内的彈性元件；其中，各第 驅動單元及各第二驅動單元使相對應滑塊撥件能夠.有二 個·准度的方向的位移，各頂抵滑塊設有一伸入該基板容置 工門的頂抵缟，該彈性元件的兩端分別抵住該基板載具及 相對應的頂抵滑塊。 ^ 2·如π求項1所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板 、 八中各第一驅動單元設有二能夠伸出縮回的第一驅 動件，各第二Μ如m %動早7L固設於相對應的第一驅動件並設有 :能夠伸出縮回且與相對應的滑塊撥件固設的第二驅動 件。 ψ ψ 1长項2所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板 裝置，其中各第一驱私„ _ 壓缸組。 早7L及各第二驅動單元分別為一氣 4.如請求項1咬？ # 取放基板裝置，… 述的立式真空鍍膜機的自動 '月撥件設有一呈凸出狀的撥部；各頂 10 M420042 抵滑塊設有—被相對應撥部插入的撥孔。 ^ 长員4所述的立式真空鍵膜機的自動取放基板 旒置〃中’各頂抵滑塊設有一導孔；該基板載具設有分 別插入s玄複數個導孔的導部。 6·如請求項5所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板 置/、中各頂抵滑塊設有一呈開設狀且容置相對應彈 性元件的容槽。 7·如請求項6所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板 &置’其中各頂抵端的戴面形狀呈L形。 8.如請求項7所述的立式真空鍍膜機的自動取放基板 裝置，其中各彈性元件為一彈簧。 9·如請求項1或2或3所述的立式真空鏟膜機的自動 取放基板褒置’其中各頂抵端的截面形狀呈L形。 1 〇·如請求項1或2或3所述的立式真空鍍膜機的自動 取放基板裝置，其中，各頂抵滑塊設有一導孔；該基板載 具設有分別插入該複數個導孔的導部。 七、圖式：（如次頁） M420042

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