TWM410056U - High temperature substrate transmittal water cooling device for stand type vacuum coater - Google Patents

Description

M410056 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作涉及一種立式真空鍍膜機的梦 ^ . a ^〜裒置，尤其涉及 種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置 【先前技術】 疋在腔體70内的底 部以及頂部分別設有一沿左、右方向延伸的驅動構造71以 及-導弓丨構造72,又在腔體7㈣前面以及㈣的後側各設 有-藏射源73以及—加熱器74，並將破璃载具75設置在 驅動構造71上而可沿左、右方向行進’當玻璃載具乃行 進時頂部受導引構造72的導引而能進行—直線的運動。 前述現有的導引構造72是在腔體7〇頂部的底面結合 多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿721，在多數個 現有立式真空鍍膜機如圖6所

的底端結合-基板722，在基板722底面以左、右間隔的 形態結合多對限位滾輪723,各對限位滾輪723分設於前、 後兩側’並且各以内側抵靠在玻璃載具75頂緣的前面與後 面’作為傳輸玻璃載具75時的導正以及上方的固定手段。 但因製程上的需求，鍍膜過程中需要以加熱器Μ將腔 體7〇内的溫度加溫至3_至5帆，内部的高溫容易造 成導引構$ 72的熱變形，使各對限位滾輪723的位置偏 移，造成傳輸玻璃载具75時的不順情況甚至卡住玻璃載具 75不動，影響到鍍膜作業的進行。 【新型内容】 由於現有立式真空鍍膜機的導引構造缺乏冷卻的設 3 ^10056 將水冷導引構造上的熱能帶走。 本創作的有益效果在於，由於水冷管能 =各基板支架桿、基板以及滚輪座的温度，： 二:引構造的各部分皆能保持一定的溫度，防止構造產： ^形而影響到傳輸的穩定性，因此能保持輸送的玻璃载 〃所固定的玻璃機板鍍膜的均勻性。 【實施方式】 -種立式真空㈣機的高溫基板傳輸水冷裝置，請參 至圖5的較佳實施例，為本創作裝設立 膜機的使用形態，包括： 具二鍍 -腔體10,為豎直的矩形殼體並具有前、後面以及左、 右兩側，在腔體1〇内部以貫穿左、右兩側的形態穿設-滅 鑛工間11 ’為g直且沿左、右方向延伸的矩形孔洞，對應 滅鑛空間11的左、右兩端，在腔體1G相反位置的左、右 兩側面分別形成一矩形的開口 12。 一濺射源20，結合在腔體1 0的前面。 一驅動構造30’設置在濺鍵空間η内的底部，並在腔 體1 〇底。Ρ的頂面結合―沿左、右方向延伸的輸送輪支架 31，在輸送輪支架31以左、右間隔的形態結合多個輸送輪 311 ° 加熱β 4〇,為豐直設置的板形加熱器並設在滅錢空 間11。内的後側’在輸送輪支架31結合一朝後顏伸並依託 加熱器40的加熱器支架41。 一水冷導引構造50，設置在濺锻空間】η内的頂部，並 且在腔體10頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別 5 M410056 朝下垂直延伸的基板支架桿51’在多數個基板支架桿51 的底端結合一基板52’為沿左、右方向延伸的長板體，並 且在前、後兩側緣分別形成一朝上彎曲延伸的立板部521， 在前、後各立板部521部的内面與基板52底部的頂面之間 分別形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面522,在灵板 52底面的中間以左、右間隔的形態結合多個分別朝下凸伸 的滾輪座53’各滾輪座53為圓形的豎直柱體，並且各在底 部的周面以可旋轉的形態套設一滾輪54，又在基板52 口、J J 貝 面貼设有一 U形且沿左、右方向延伸的水冷管5 5，以水a 管55前、後兩側的外面貼設抵靠在兩弧曲面522 ,以緊密 的接觸達到較佳的散熱傳輸效果。 一玻璃載具60,設有一承載外框61，為矩形且登直設 置的框體，在玻璃載具60的内側可定位承載需要鍍臈的玻 璃基板’承載外框61以底面置放在輸送輪支架31的各個 輪送輪311上，在承載外框61的頂部凹設—沿左、右方向 延伸且貫穿承載外框61左、右兩側的導引溝6°2，以導弓I漠 62容納各個水冷導引構造5()的滚輪54並受各滾輪 導引。 本創作如前述較佳實施例，a . 邱抓右吉“ 4 疋在水冷導引構造50的底 邛叹有一直線成排的滾輪M以外， ^ Λ 々门先别技術的設置方 式’亦可將滾輪54設為前、後 W ^ ^ ^ , T且/〇左、右方向間隔設 形態，由於本創作的構造特徵主要在於水冷管55 的冷卻作用，故導_的滾輪54設要在/水// 55 制。 又罝方式在此不加以限 本創作是設置在腔體 1〇内’在水冷導引構造50的基 M410056 板52上增設水冷管55，藉由 々g〜刀硬外部卻水 進入腔體10内循環，將水冷 种A令導引構造50上的熱能帶走， 使水冷導⑽造5G的各基板支架桿…純仏乂及滚輪 座53 s此保持一疋的溫度，防止構造熱變形而影響到傳輸

的穩定& ’因&此保持輸送的玻璃載具6〇所固定的玻璃機 板鍍膜的均勻性。 【圖式簡單說明】 圖1是本創作較佳實 施例的立體圖。 圖2是本創作較佳實 施例的分解圖。 圖3是本創作較佳實 施例的剖面圖。 圖4是本創作較佳實施例的側視圖。 圖5是本創作較佳實施例放大的剖面圖 圖6是現有立式真空鍍膜機的示意圖。 【主要元件符號說明】 10腔體 11濺鍍空間 12開口 2〇濺射源 30驅動構造 31輸送輪支架 311輸送輪 40加熱器 41加熱器支架 50水冷導引構造 51基板支架桿 52基板 521立板部 522弧曲面 5 3滚輪座 54滾輪 55水冷管 6〇玻璃載具 61承載外框 62導引溝 7 M410056 70腔體 72導引構造 722基板 73濺射源 75玻璃載具 71驅動構造 721基板支架桿 723限位滾輪 74加熱器

Claims (1)

1. M410056 J0年7月5曰替換頁 、申請專利範圍 括： [-種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，包 -腔體’為賢直的殼體並具有前、後面以及左、右兩 側，在该腔體内部以貫穿左、右兩側的形態穿設 間；以及 又工 -水冷導引構造’設置在該濺鍍空間内的頂部，並且 在該腔體頂部的底面以纟、右間隔的形態結合多個分別朝 :垂直L伸的基板支架桿，纟多數個基板支架桿的底端結 。基板’為沿左、右方向延伸的長板體，在該基板的頂 面、〇水冷官，又在該基板的底面結合多個朝下凸伸的 滾輪座，在各滾輪座底部的周面以可旋轉的形態套設一滾 輪。 2 ·如申请專利範圍第1項所述之立式真空錄膜機的高 溫基板傳輸水冷裝置，其中在所述基板的前、後兩側緣分 •1 $成朝上·考曲延伸的立板部’在前、後各立板部的内 面與該基板底部的頂面之間分別形成一弧形且沿左、右方 向延伸的弧曲面；所述水冷管為U形的管體且沿左、右方 向k伸’以該水冷管前、後兩側的外面貼設抵靠在兩弧曲 面 0 3.如申請專利範圍第彳或2項所述之立式真空鍍膜機的 向溫基板傳輸水冷裝置，其中所述各個滾輪座是以左、右 間隔的形態結合在所述基板底面的中間。 七圖式.（如次頁） 9