TWM394874U - Grinding & polishing container - Google Patents

Description

M394874 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係有I卜種研磨拋光用容器，特別是—種分為内、外筒，以外 筒受機具驅動樞轉，於内筒佈有可供摩擦的加工覆層，藉此於樞轉過程中 以加工覆層將物件研磨拋光的容器。 【先前技術】 研磨抛光⑽ishing or Lapping)是—種修整物件型態與表面的精密 加工技術。 研磨之目的疋為去除物件表面原本的—些輕微刮痕、毛刺及尖銳角等 缺陷，並保證物件得到想要的幾何形狀'準確的尺寸和最有利進行抛光的 表面狀態，而抛細使物件研磨後的毛面重新成為光滑、透明、具有光澤 的狀態’研磨拋光技術常被應祕電子粒件、硬脆金屬、_、玻璃及 晶圓等材料及物件。 目前常用㈣磨/拋域具杨巾錢轉利公錢腿號「滾筒 j研磨機」者，其結構概包括—機台、—主轴、—第—馬達、—第二馬達、 ^衰筒、-第-皮帶與-第二皮帶，其令該滚筒包括一母筒、至少一子筒 ^至少-谓軸，各伽設於各子_轴上，該子筒糧以一子筒 軸偏心地福設於該母筒上，該滚筒框設於該主軸上； 读第_“套設於轉二馬達與魅軸之間該第二馬達可連動該子 I轅丁自轉運動’該第一馬達搭配該第—馬達可使該子筒進行單獨自轉或 镡力D該第二馬達驅動的加成自轉運動。 X種研磨拋光機雖可有效提昇研磨效率與品質、增加研磨運動選擇性 M394874 並解決機台肋、安全性差或噪音_題，㈣鱗該些子筒通常係以金 屬材料製成，其㈣養在研糾敬接與加工巾的物件或練顆粒碰撞 摩擦’如此料造成制壁雜速磨損，並導致子制壁面㈣而發生破 裂或破孔； 此外，在拋光作業時子制必須填注拋光_，而有些拋歧料係屬 強酸性，長期使用下筒内壁面除容易生鏽外，更會遭到強酸的魏。 疋以4α於目Μ研磨拋錢具容置欲加玉物件的容器純為金屬材質製 成，其金屬筒内壁面易因直接受到磨料顆粒的摩擦或拋光漿料的侵钱而造 成子筒的損壞，故實有加以改良的必要。 【新型内容】 本創作係提供-種研磨拋光將H，以魏避免容關受研磨抛光材 料的碰撞或健而造賴壞’並使容H能回收翻肋延長其使用壽命。 為達成前述目的，本創作係包括： -内筒，制筒㈣内壁⑽呈圓形或多邊賴合，且該關係從筒 内壁面至筒口周緣佈設-加工覆層’該内筒係蓋設—封蓋，該封蓋對應内 筒的-側亦佈設-加工覆層，該内筒舆封蓋之加卫覆層係以氨基甲酸乙醋 所構成’朗筒可容置欲研磨拋光的物件以及研磨抛光用的材料； 套茼，該套茼係具有一開口並在筒内形成一容置空間，以供該内筒 從開口置入套鸿内，该套筒於開口周邊係設有—定位組，以該定位組將内 筒固定於套筒内； 該套筒底部設有一枢軸，以該樞軸與機具組裝並受其驅動而樞轉，樞 轉過耘中以内筒及封蓋所佈設的加工覆層接觸物件及研磨拋光材料，以達 M394874 到研磨拋光的效果。 根據上述結構，本創作之技術内容可進一步包括： -、該定位組係包括從該開口相對的兩側向上延伸出二耳夹，= 失係剖有1溝，-栓條兩端分職人麟内，以跨於開口上方的 止内筒，防靖蝴⑽ά，且繼可財―螺孔，以—調整^ 螺孔貫穿栓條並抵住封蓋形成定位作用。 幻口 二、該内筒於筒口周緣相對的兩側係水平延伸出二耳扣，該封蓋則對 應各該耳扣延伸出-耳蓋，該内筒與封蓋蓋合則各該耳扣與耳蓋對合並 各以-螺絲螺人對合料扣與耳蓋將㈣與聽鎖合； ” 而該套筒於開口周緣相對的兩側各剖出—穴槽，以各該穴槽供對應的 耳扣及耳蓋狀，並藉此防止内筒於套筒内不當偏轉。 是以’本創作之特點在於·· ，一、内筒及封蓋於研磨拋光作業時，係以加工覆層供物件及磨料顆粒 碰撞摩擦’以及與拋光㈣接觸，由於内筒的筒内壁面及封蓋對庫内筒的 :側並不直接與物件及研磨拋光材料接觸，故可避免受其碰撞或侵麵損 壤。 ' -、以氨基曱酸乙S旨構成的加卫覆層不會錢，耐久性佳，且一旦加 工覆層因仙的研雜光健_耗綠時，可將㈣啊重新佈咖工 覆層洗可再次利用’藉此有效延長内筒的使用壽命。 因此’本案誠可謂-種極具實用性與進步性之創作， 推廣應用並公諸於世。 芥力 【實施方式】 M394874 本創作係有關一種研磨拋光用容器，請參閱第— 圖至第二圖所示，其 係本創作較佳實施例之例圖’於本實施例中係包括. ’ -内筒卜該内筒1係呈圓柱狀’筒内壁面1G則呈圓形圍合，可容置 欲研磨拋光加工的物件以及研磨拋光用的材料，誃 令 同1係從筒内壁面1〇 至筒口周緣U佈設-加工覆層12，以該加工覆層12接觸物件及研磨抛光 材料，並於筒口周緣11相對的兩側係水平延伸出二耳扣U . 該内筒1係蓋設-圓形的封蓋2,該封蓋2對應内筒i的_側亦佈哎一 加工覆層20，該内筒i與封蓋2的加工覆層12、2Q係為氨基甲酸乙醋^ PU材質）所構成’且該封蓋2對應各該耳扣13延伸出一耳蓋Μ，該_ 與封蓋2蓋合時鮮料扣13與耳蓋21對合，並各以—螺絲a螺入對合 的耳扣13與耳蓋21將内筒1與封蓋2鎖合； 、〇 -套筒3，該套筒3係具有-開口 3〇並在筒内形成_容置空_，以 供該内筒i從開口 3()置入套筒3内，該套筒3於開口 3〇周緣相對的兩側 各剖出-穴槽測，以各該穴槽謝供對應的耳扣13及耳蓋Μ嵌入，並藉

由突出的耳扣13及耳蓋21會受穴槽3〇1卡抵防止内筒ι於套筒3内不: 偏轉； S 又，該套筒3於開口 30周邊係設有一定位組32，以該定位組犯將内 筒1固定於套筒3内，該定位組32係包括彳_口 3G姆的兩側向上延 伸出二耳夾321，各該耳夾321係剖有一嵌溝，一检條卿兩端分別 後入嵌溝3211内而設於該二耳夾321間，以跨於開口 3〇上方的检條微 擋止内筒1’防止内^從套筒3内脫出，且該栓條微係開有一螺孔咖， 一調整检323 #螺孔3221貫穿栓條322並抵住封蓋2形成定位作用，· M394874 此外，配合參照第四圖與第五圖所示，該套筒3底部設有一樞轴33， 以該樞軸33與研磨拋光機具組裝，於本實施例中係將複數研磨拋光用容器 設於馬達轉盤4上，當啟動磨拋光機具時，馬達轉盤4將進行第一方向轉 動並驅動各套筒3以植軸33在馬達轉盤4上做不同向的第二方向樞轉， 樞轉過程中内筒1裡的物件會因離心力作用，而在内筒丨及封蓋2的加工 •覆層12、20間碰撞並與磨料顆粒不斷摩擦，或者是受到拋光漿料的拋洗， 以達到對物件表面研磨或拋光的效果，而當内筒i或封蓋2的加工覆層12、 雜20因長期使用而即將消耗殆盡時，可以全新的内筒】與封蓋2作為替換， 並將原本之内筒1與封蓋2回收，待重新佈設加工覆層12、2〇後便可再次 使用。 本創作之内筒1的筒内壁面1〇除可為_圍合外，亦可為多邊形圍合 態樣’例如參照第六圖所示，該内筒丨的筒内壁面1()係呈六角形圍合，使 佈設的加工覆層12呈現六綠，藉由六角狀的加工覆層12提升物件碰撞 摩擦的程度，以提升研磨拋光的效果。

由上所述者僅為用以解釋本創作之較佳實施例，並非企圖據以對本創 作做任何形式上之_，是以，凡有在相同之創作精神下所做有關本創作 之任何修飾或變更者，皆仍應包括在本創作意圖保護之範嘴内。 综上所述，本創作「研磨拋絲容器」在結構設計、使用實用性及成 本效益上’確實技全符合麵上發顧f，且賴露之結_作亦是且 有前所未有的_構造’所以其具有「新難」應無疑慮又本創作可較 之習知結構更具功效之增進，因此亦具有「進步性」，其完全符合我國專利 法有關新财歡申請餅的蚊，腿雜鱗利申請錄請釣局 M394874 早曰審查，並給予肯定。 【圖式簡單說明】 第一圖係為本創作研磨拋光用容器之立體分解圖 第二圖係為本創作組合後之外觀立體圖。 第三圖係為第二圖M’線段之結構剖面圖。 第四圖係為本創作組裝於機具上之結構示意圖。 第五圖係為本創作進行研磨拋光時之結構剖面圖 第六圖係為本創作第二實施例之結構示意圖。 【主要元件符號說明】 内筒1 筒内壁面10 加工覆層12 耳扣13 加工覆層20 耳蓋21 套筒3 開口 30 容置空間31 定位組32 嵌溝3211 栓條322 調整栓323 樞軸33 筒口周緣11 封蓋2 螺絲22 穴槽301 耳夾321 螺孔3221 馬達轉盤4

Claims (1)

1. M394874 ^ 六、申請專利範圍： 1·一種研磨拋光用容器，係包括： 一内筒，該内筒係從筒内壁面至筒口周緣佈設一加工覆層，該内筒係 蓋設一封蓋，該封蓋對應内筒的一側亦佈設一加工覆層該内筒可容置欲 研磨拋光的物件； —套筒，該套筒係具有—開口並在筒内形成-容置㈣，以供該内筒 .從開口置人套筒内，該套筒於開σ周邊係設有—定位組，以該定位組將内 • 筒固定於套筒内； 該套筒底部設有-姉，以雜軸與機具組裝並受其驅動而枢轉，枢 轉過財以㈣及封蓋所佈設的加工襲接觸物件及研_光材料，以達 到研磨拋光的效果。 2根據申凊專利範圍第丄項所述之研磨抛光用容器，其中該定位 係包括從關口婦的_向上延伸出二耳夾，各該耳线剖有一嵌溝 —检條兩端_从溝内，以跨_上方的栓储止㈣，防止内 從套筒内脫出。

   3 .根據申請專利範圍第2項所述之研磨拋錢容器 開有-螺孔，-調整栓沿螺孔貫穿拴條並抵住封蓋形成定位作^她 4•根據申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之研磨抱光用. 盗，其中該内筒於筒口周緣相對的兩側係水平延伸出二耳扣，^ ^各該耳㈣m，㈣娜鋼= 各以一螺絲螺入對合的耳扣與耳蓋將内筒與封蓋鎖合。為 5根據申凊專利範圍第4項所述之研磨搬光用容器，其中該套） 9 M394874 的耳扣及耳蓋嵌 開口周緣相對的兩側各剖出一穴槽，以各該穴槽供對應 入，並藉此防止内筒於套筒内不當偏轉。 6 .根據巾請專利項至第3項中任—項所述之研磨抛光用容 器，其中該加工覆層係為氨基曱酸乙酯所構成。 7 ·根據申請專利範圍第4項所述之研磨拋光用容器，其中該加工覆 層係為氨基曱酸乙酯所構成。 8 .根據申請專利範圍第5項所述之研磨拋光用容器，其中該加工覆 層係為氨基曱酸乙酯所構成。