TWM264280U - Vacuum vapor deposition apparatus - Google Patents
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M264280 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係關於一種光學鍍膜裝置，尤其係關於一種具旋轉擋流板之光學錢 膜裝置。 χ 【先前技術】 目前，光學薄膜廣泛應用於光學儀器，如感測器、半導體雷射、干涉儀、 眼鏡以及光纖通訊元件等很多領域。光學薄膜通常係藉由干涉作用而達到其預 期效果，其係指於光學元件或獨立基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬'膜 來改變光波傳送特性。 、、 、 目如’光學薄膜製作通常以物理蒸艘法為主（phySics vapor deposition簡稱 PVD)，該方法為將薄膜材料由固態轉化為氣態或離子態，氣態或離子態之材 料，、由蒸發源穿越空間，抵達基板表面，材料抵達基板表面後，將沉積g逐漸 形成薄膜。通常，為了製作高純度之薄膜，鍍膜之製程須於高真空環境下完成。 鑛ί將基片以超音波洗淨機洗淨，洗淨後排上爽 二=入鑛膜機，進订加熱及抽真空。達到高真空後，開始鍍膜。麵 電=搶或電阻式加熱，將薄膜材料變成離子態，賴時關視層數及程 而有長短。鍍膜完畢後，待溫度冷卻後取出。 σ 沪範學中’㈣基板之承載機構通常為平板狀，由於μ 費且=平板狀承載機構在真 蒸鑛==嶋，.爾真空室内受 成本之膜ϊγ鋪縣圍針、每次可驗多個光學產品且降低鍍膜 【新型内容】 低鑛ϊΞϊϋίίίϊίΓ種驗範圍集巾、每次可驗多_絲板且降 一種光學鍍膜裝置，包括直* 系統，基板承載機構設置於真板承載機構、统以及加熱 板承載機構下部，加熱系統位於^ ^掛螞系統位於真空鍍膜室内基 載谢紅安裝有驅動裝置，可於板承载機構下部，其中基板承 相較習知技術，本創作光學鍍 备 、又’、*圓桶狀基板承載機構可容置大 M264280 量之鍍膜基板，且鍍膜時該圓桶狀基板承載機構可高速旋轉，蒸鍍範圍集中且 可同時對多片鍍膜基板進行鍍膜，從而降低了鍍膜成本。 【實施方式】 請參閱第一圖及第二圖，本創作光學鑛膜裝置1包括一真空鍍膜室、一 基板承載機構、一堆場系統30及一加熱系統4〇。 該真空鍍膜室10分為上蓋體102及下蓋體103，上蓋體102及下蓋體1〇3 相互緊密配合形成一密封之真空環境。該基板承載機構2〇呈圓桶狀，可拆卸的 安裝於真空鍍膜室10之上部，且該基板承載機構20上設有複數個基板固定位 202，該複數個基板固定位202於鍍膜時可將複數個基板固定於其上，該基板承 載機構上還設有驅動裝置(圖未示），該驅動裝置可帶動基板承載機構高速旋轉。 該坩堝系統30安裝於真空鍍膜室1〇之下部，係用來容置鍍膜時之蒗鍍源 302，加熱系統40安裝於基板承載機構20下部，可對基板承載機構2〇 I之欲 鍍膜基板進行加熱，使得基板溫度達到蒸鍍之最佳溫度。該光學鍍膜裝置i還 包括有電子槍激發系統(圖未示）、真空度測量系統(圖未示)及麟監測系統7〇， 電子搶激發系統係用來激發蒸鍍源，真空度測量系統係用來測量真空鍍膜室1〇 内之真空度，膜厚監測系統70係用來測量基板上鍍膜之厚度以控制鍍膜進度。 、鍍膜前，將欲鍍膜之基板固定於基板承載機構2〇上之基板固定位2〇2 ^， 然後將該基板承載機構20裝入真空鍍膜室1〇内，密封該真空鍍膜室1〇， ，空鍍膜室10進躲真^，制就之真^度後停止抽真^。織啟動基板承 載機構20上之驅動裝置使其以-定轉速旋轉，同時，利用加熱系統4〇對基 ，定位2〇2内之基板進行力，熱，達到預定溫度後啟動電子槍激發系統激發掛禍 土統30内之蒸鍍源302，開始鍵膜。通過膜厚測量系統對基板上之膜厚進行 ί，達到預定厚纟時停止鏟膜，冷卻後打開真空賴室1〇，取出基板 槿 20，將固定於其上之鍍膜基板取下即可得到鍍膜之光學元件。 ，本創作符合新型專利要件，爰依法提出專利中請。惟，以上所 ，僅為，作之較佳實施例，舉凡熟悉本案技藝之人士，在援依本 ^ 神所作之等效修飾或變化，皆應包含於以下之申請專利範圍内。-"月 【圖式簡單說明】 第一圖係本創作之光學鍍膜裝置分解圖； 第二圖係本創作之光學鍍膜裝置側視圖。 【主要元件符號說明】 6 M264280 光學鍍膜裝置 1 真空鍍膜室 10 基板承載機構 20 基板固定位 202 坩堝系統 30 蒸鍵源 302 加熱系統 40 膜厚監測系統 70
7
Claims (1)
- M264280 九、申請專利範圍： 1·一種光學鍍膜裝置，包括： 真空鍍膜室； 基板承載機構，其設置於真空鍍膜室之上部； 職系統，其健雜賴㈣紐承錢構下部；以及 ίί糸、L，其位於真空鑛膜室内基板承载機構下部； ，減旋 八土反承载機構上安裝有驅動裝置，可於鑛膜時驅動基板承載 轉。 =^專細_1項職之鮮鑛裝置，該紐承賴構包祕複數個基 專概㈣1顿叙辨賴H該絲賴裝置雜括一電子槍 測專利關第3項所述之光學鑛職置，該光學賴裝置還包括一真空度 ^申^專利細第4項所述之光物職置，該光⑽職置還包括-膜厚監 6·如申糊觸〗顧狀繼繼，_她峨圓桶狀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW93214883U TWM264280U (en) | 2004-09-17 | 2004-09-17 | Vacuum vapor deposition apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW93214883U TWM264280U (en) | 2004-09-17 | 2004-09-17 | Vacuum vapor deposition apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWM264280U true TWM264280U (en) | 2005-05-11 |
Family
ID=36370301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW93214883U TWM264280U (en) | 2004-09-17 | 2004-09-17 | Vacuum vapor deposition apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWM264280U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8663441B2 (en) | 2009-02-24 | 2014-03-04 | Industrial Technology Research Institute | Vacuum coating apparatus with mutiple anodes and film coating method using the same |
| TWI447247B (zh) * | 2008-10-24 | 2014-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 鍍膜治具、鍍膜裝置及鍍膜方法 |
| TWI486469B (zh) * | 2010-04-22 | 2015-06-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 鍍膜系統 |
-
2004
- 2004-09-17 TW TW93214883U patent/TWM264280U/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI447247B (zh) * | 2008-10-24 | 2014-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 鍍膜治具、鍍膜裝置及鍍膜方法 |
| US8663441B2 (en) | 2009-02-24 | 2014-03-04 | Industrial Technology Research Institute | Vacuum coating apparatus with mutiple anodes and film coating method using the same |
| TWI486469B (zh) * | 2010-04-22 | 2015-06-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 鍍膜系統 |
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|---|---|---|---|
| MK4K | Expiration of patent term of a granted utility model |