TWI845771B - 液晶顯示裝置 - Google Patents

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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種傾斜方向之黑亮度足夠小之液晶顯示裝置。本發明之液晶顯示裝置具備：液晶單元，其具有視認側基板、背面側基板、及液晶層，該液晶層由視認側基板與背面側基板所夾持，且包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子；第1偏光元件，其配置於液晶單元之視認側；第2偏光元件，其配置於液晶單元之背面側；第1光學補償層，其配置於液晶單元與第1偏光元件之間；及第2光學補償層，其配置於液晶單元與第2偏光元件之間。視認側基板及該背面側基板之厚度方向相位差Rth(550)為-10 nm～100 nm，關於自液晶單元向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光，其偏光之方位角之最大值與最小值之差A(°)和該光之偏光之橢圓率之最大值與最小值之差E(°)的乘積A×E為300以下。

Description

液晶顯示裝置
本發明係關於一種液晶顯示裝置。
近年來，作為圖像顯示裝置，液晶顯示裝置之普及成效顯著。液晶顯示裝置所採用之液晶驅動模式各式各樣，作為代表例，已知有使用沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置。此種液晶顯示裝置存在傾斜方向之黑亮度不夠小(即，自傾斜方向觀察黑顯示時不夠黑)之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2009-139747號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述習知問題而完成者，其目的在於提供一種傾斜方向之黑亮度足夠小之液晶顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明之液晶顯示裝置具備：液晶單元，其具有視認側基板、背面側基板、及液晶層，該液晶層由該視認側基板與該背面側基板所夾持，且包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子；第1偏光元件，其配置於該液晶單元之視認側；第2偏光元件，其配置於該液晶單元之背面側；第1光學補償層，其配置於該液晶單元與該第1偏光元件之間；及第2光學補償層，其配置於該液晶單元與該第2偏光元件之間。該視認側基板及該背面側基板之厚度方向相位差Rth(550)為-10 nm～100 nm，關於自該液晶單元向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光，其偏光之方位角之最大值與最小值之差A(°)和該光之偏光之橢圓率之最大值與最小值之差E(°)的乘積A×E為300以下。 於一實施方式中，上述乘積A×E為100以下。 於一實施方式中，上述第1光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，上述第2光學補償層表現出nz＞nx＝ny之折射率特性。 於一實施方式中，上述第2光學補償層之厚度方向相位差Rth(550)為-70 nm以上且未達0 nm。 於一實施方式中，上述視認側基板及上述背面側基板滿足Rth(450)＞Rth(550)之關係。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中，把液晶單元之基板之厚度方向相位差考慮在內，將自液晶單元向傾斜方向出射之光之偏光方向與橢圓率組合起來加以控制，藉此可實現傾斜方向之黑亮度足夠小之液晶顯示裝置。
以下，參照圖式對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限於該等實施方式。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內折射率達到最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係利用23℃下波長達λ nm之光進行測定所得之面內相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Re(λ)可藉由式Re＝(nx－ny)×d而求出。例如，「Re(550)」係利用23℃下波長達550 nm之光進行測定所得之面內相位差。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係利用23℃下波長達λ nm之光進行測定所得之厚度方向之相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Rth(λ)可藉由式Rth＝(nx－nz)×d而求出。例如，「Rth(550)」係利用23℃下波長達550 nm之光進行測定所得之厚度方向之相位差。 (4)Nz係數 Nz係數可藉由Nz＝Rth/Re而求出。 (5)實質上正交或平行 「實質上正交」及「大致正交」之表述包含2個方向所成之角度為90°±10°之情形，較佳為90°±7°，進而較佳為90°±5°。「實質上平行」及「大致平行」之表述包含兩個方向所成之角度為0°±10°之情形，較佳為0°±7°，進而較佳為0°±5°。進而，於本說明書中僅表述為「正交」或「平行」時，有可能包含實質上正交或實質上平行之狀態。
A.液晶顯示裝置之整體構成 圖1係本發明之一實施方式之液晶顯示裝置之概略剖視圖。圖示例之液晶顯示裝置100具備：液晶單元10；第1偏光元件20，其配置於液晶單元10之視認側；第2偏光元件30，其配置於液晶單元10之背面側；第1光學補償層40，其配置於液晶單元10與第1偏光元件20之間；及第2光學補償層50，其配置於液晶單元10與第2偏光元件30之間。第1偏光元件20之吸收軸方向與第2偏光元件30之吸收軸方向具有代表性的是，實質上正交。液晶單元10具有視認側基板11、背面側基板11'、及液晶層12，該液晶層12由視認側基板11與背面側基板11'所夾持，且包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子。就實用性而言，液晶顯示裝置100進而具備背光單元。背光單元包含光源60及導光板70。背光單元可進而具備任意合適之其他構件(例如擴散片、稜鏡片)。於圖示例中，背光單元為邊緣照明方式，但背光單元亦可採用任意合適之其他方式(例如正下方型)。
本發明之實施方式中，關於自液晶單元10向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光，其偏光之方位角之最大值與最小值之差A(°)和該光之偏光之橢圓率之最大值與最小值之差E(°)的乘積A×E為300以下，較佳為200以下，更佳為150以下，進而較佳為100以下，尤佳為50以下。於本說明書中，所謂「橢圓率」係指表示光(偏光)是接近圓偏光還是接近直線偏光之指標。橢圓率為90°實質上意指圓偏光，橢圓率為0°實質上表示直線偏光。乘積A×E越小越佳。因此，乘積A×E較理想為零。即，本發明之實施方式中，關於自液晶單元10向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光(偏光)，較佳為其方位角之最大值與最小值之差為0(零)，及/或其為直線偏光。本發明人等對包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中傾斜方向之黑亮度之降低進行了努力研究，結果發現其原因在於，即將入射至光學補償層(於本實施方式中為第1光學補償層)之前之光之偏光狀態視該光是紅色(R)、綠色(G)還是藍色(B)而大不相同，且發現將該光之偏光狀態統一之有效方法是，關於自液晶單元10向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光，將其偏光之方位角之最大值與最小值之差A(°)和該光之偏光之橢圓率之最大值與最小值之差E(°)組合起來加以控制。藉由如上所述使乘積A×E為特定值以下，可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小(即，可於自傾斜方向觀察黑顯示時使其足夠黑)。
於本發明之實施方式中，視認側基板11及背面側基板11'之厚度方向相位差Rth(550)分別為-10 nm～100 nm。本發明人等發現，即將入射至上述光學補償層之前之光之偏光狀態視該光是R、G及B而大不相同之原因在於，基板之厚度方向相位差。即，基板之面內相位差多數情況下接近於零，而另一方面，基板之至少一者具有特定值以上之厚度方向相位差，已知此種厚度方向相位差會對上述光之偏光狀態(尤其是取決於R、G及B之色之偏光狀態)產生影響。於本發明之實施方式中，把此種基板之厚度方向相位差考慮在內，並且如上所述使乘積A×E為特定值以下，藉此可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小。
第1光學補償層40可根據目的表現出任意合適之折射率特性。於一實施方式中，第1光學補償層40表現出nx＞nz＞ny之折射率特性。藉由將表現出nx＞nz＞ny之折射率特性之第1光學補償層設置於液晶單元之視認側，可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中良好地改善傾斜方向之色相。於該情形時，第1光學補償層具有代表性的是，如圖1所示構成為單層。於該情形時，第1光學補償層之面內相位差Re(550)較佳為220 nm～320 nm，Nz係數較佳為0.3～0.7。第1光學補償層40之遲相軸方向與第1偏光元件20之吸收軸方向具有代表性的是，實質上正交或平行。於另一實施方式中，第1光學補償層亦可如圖2或圖3所示等同於第1光學補償層與第3光學補償層之積層體。於該情形時，第1光學補償層40具有代表性的是，可表現出nz＞nx＞ny之折射率特性，且第3光學補償層42具有代表性的是，可表現出nx＞ny≧nz之折射率特性。第1光學補償層40之Re(550)較佳為20 nm～50 nm，Nz係數較佳為-1.0以下。於圖2所示之例中，第3光學補償層42可配置於第1光學補償層40之視認側。於該情形時，第3光學補償層具有代表性的是，表現出nx＞ny＞nz之折射率特性，且第1光學補償層40之遲相軸方向與第3光學補償層42之遲相軸方向具有代表性的是，實質上平行。於圖3所示之例中，第3光學補償層42可配置於與第1光學補償層40之視認側相反側。於該情形時，第3光學補償層具有代表性的是，表現出nx＞ny＝nz之折射率特性，且第1光學補償層40之遲相軸方向與第3光學補償層42之遲相軸方向具有代表性的是，實質上正交。
第2光學補償層50具有代表性的是，表現出nz＞nx＝ny之折射率特性。第2光學補償層50之Rth(550)較佳為-70 nm以上且未達0 nm。藉由將此種第2光學補償層設置於液晶單元之背面側，可使上述乘積A×E為特定值以下，結果，可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小。
液晶顯示裝置可為所謂之O模式，亦可為所謂之E模式。所謂「O模式之液晶顯示面板」係指配置於液晶單元背面側之偏光元件(於本發明之實施方式中為第2偏光元件)之吸收軸方向與液晶單元之初始配向方向實質上平行。所謂「E模式之液晶面板」係指配置於液晶單元背面側之偏光元件之吸收軸方向與液晶單元之初始配向方向實質上正交。所謂「液晶單元之初始配向方向」係指在不存在電場之狀態下使液晶層中所含之液晶分子配向後所產生之液晶層之面內折射率達到最大之方向(即遲相軸方向)。液晶顯示裝置較佳為O模式。
液晶顯示裝置亦可進而具備任意合適之其他構件。例如，亦可進而配置其他光學補償層(相位差膜)。其他光學補償層之光學特性、數量、組合、配置位置等可根據目的及所需之光學特性等適當選擇。關於本說明書中未予記載之事項，可採用業內周知且慣用之液晶顯示裝置之構成。
以下，對構成液晶顯示裝置之各構件及光學膜進行說明。
B.液晶單元 如上所述，液晶單元10具有視認側基板11、背面側基板11'、及液晶層12，該液晶層12由視認側基板與背面側基板所夾持，且包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子。一般構成中，於一基板(具有代表性的是視認側基板11)設置有彩色濾光片及黑矩陣，於另一基板(具有代表性的是背面側基板11')設置有控制液晶之電光特性之開關元件、對該開關元件提供閘信號之掃描線及提供源信號之信號線、以及像素電極及對向電極。上述基板之間隔(單元間隙)藉由間隔件等進行控制。例如可於上述基板之與液晶層相接之側設置包含聚醯亞胺之配向膜等。
如上所述，視認側基板11及背面側基板11'之Rth(550)分別為-10 nm～100 nm。於一實施方式中，視認側基板11及背面側基板11'之至少一者之Rth(550)較佳為8 nm～90 nm，更佳為15 nm～80 nm，進而較佳為20 nm～70 nm，尤佳為30 nm～60 nm。於另一實施方式中，視認側基板11及背面側基板11'之至少一者之Rth(550)較佳為-0.1 nm以下，更佳為-5 nm～-50 nm。根據本發明之實施方式，於基板具有此種厚度方向相位差之情形時，藉由如上所述使乘積A×E為特定值以下，可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小。
於一實施方式中，視認側基板11及背面側基板11'之至少一者滿足Rth(450)＞Rth(550)之關係，較佳為視認側基板11及背面側基板11'兩者滿足Rth(450)＞Rth(550)之關係。更佳為視認側基板11及背面側基板11'之至少一者進而滿足Rth(550)＞Rth(650)之關係，進而較佳為視認側基板11及背面側基板11'兩者進而滿足Rth(550)＞Rth(650)之關係。根據本發明之實施方式，即便於基板具有此種波長分散特性之情形時，亦可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小。
如上所述，液晶層包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子。所謂「配向成沿面排列之液晶分子」係指經配向處理之基板與液晶分子之相互作用使得上述液晶分子之配向向量相對於基板平面平行且同樣地配向之狀態。此種液晶層(最終為液晶單元)具有代表性的是，表現出nx＞ny＝nz之折射率特性。此處，所謂「ny＝nz」，不僅包含ny與nz完全相同之情形，亦包含ny與nz實質上相同之情形。液晶層之Re(550)例如可為300 nm～400 nm。液晶層之Nz係數例如可為0.9～1.1。
作為使用表現出如上所述之折射率特性之液晶層的驅動模式之代表例，可列舉：面內切換(IPS)模式、邊緣場切換(FFS)模式等。再者，上述IPS模式包含採用了V字型電極或鋸齒狀電極等之超級面內切換(S-IPS)模式、或超高級面內切換(AS-IPS)模式。又，上述FFS模式包含採用了V字型電極或鋸齒狀電極等之高級邊緣場切換(A-FFS)模式、或超級邊緣場切換(U-FFS)模式。
於一實施方式中，液晶層之液晶分子具有預傾。即，液晶分子之配向向量相對於基板平面稍微傾斜。預傾角較佳為0.1°～1.0°，更佳為0.2°～0.7°。
C.偏光元件 作為第1偏光元件及第2偏光元件(以下，有時統一簡稱為偏光元件)，可採用任意合適之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層之樹脂膜所構成之偏光元件之具體例，可列舉：利用碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施染色處理及延伸處理而成者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用利用碘對PVA系膜進行染色並進行單軸延伸所獲得之偏光元件。
上述利用碘進行之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於延伸後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、清洗處理、乾燥處理等。例如藉由在染色之前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可清洗PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用如下積層體而獲得之偏光元件：樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中，延伸具有代表性的是，包括：使積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸。進而，延伸可進而包括：視需要於硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可將樹脂基材自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離，並視需要於該剝離面積層任意合適之保護層後使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。該等公報之所有記載係以參考之形式被引用至本說明書中。
偏光元件之厚度例如為1 μm～80 μm，較佳為1 μm～15 μm，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，尤佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲曲，且可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm中之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～46.0%，較佳為43.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
第1偏光元件20及第2偏光元件30亦可分別於至少一面設置有保護層(未圖示)。即，第1偏光元件20及第2偏光元件30亦可分別以偏光板之形式組入至液晶顯示裝置中。
保護層由可用作偏光元件之保護層之任意合適之膜所形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可列舉：矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物，例如可列舉具有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
於在第1偏光元件20之視認側設置保護層之情形時，可視需要對該保護層實施硬塗處理、抗反射處理、抗沾黏處理、防眩處理等表面處理。
保護層之厚度具有代表性的是5 mm以下，較佳為1 mm以下，更佳為1 μm～500 μm，進而較佳為5 μm～150 μm。再者，於實施了表面處理之情形時，保護層之厚度係包含表面處理層之厚度在內之厚度。
於在第1偏光元件20及/或第2偏光元件30之液晶單元側設置保護層(以下，稱為內側保護層)之情形時，該內側保護層較佳為在光學上為等向性。所謂「在光學上為等向性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。內側保護層只要在光學上為等向性，便可由任意合適之材料所構成。該材料例如可自上文中關於保護層所敍述之材料中適當地選擇。
內側保護層之厚度較佳為5 μm～200 μm，更佳為10 μm～100 μm，進而較佳為15 μm～95 μm。
D.第1光學補償層 D-1.由單層所構成之第1光學補償層 於第1光學補償層40構成為單層之情形時，如上所述，第1光學補償層具有代表性的是，表現出nx＞nz＞ny之折射率特性。藉由將表現出nx＞nz＞ny之折射率特性之第1光學補償層設置於液晶單元之視認側，可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中良好地改善傾斜方向之色相。
第1光學補償層之Re(550)較佳為220 nm～320 nm，更佳為240 nm～300 nm，進而較佳為250 nm～290 nm，尤佳為260 nm～280 nm。若第1光學補償層之Re(550)為此種範圍，則於龐加萊球上之移動距離較短，因此實現了優異之色相及亮度特性，且由TFT(thin-film transistor，薄膜電晶體)(開關元件)之相位差成分所引起之偏差變小。
第1光學補償層之Nz係數較佳為0.3～0.7，更佳為0.4～0.6，進而較佳為0.45～0.55。若Nz係數為此種範圍，則可進一步良好地改善傾斜方向之色相。
第1光學補償層可表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性，亦可表現出相位差值根據測定光之波長而變小之正波長分散特性，亦可表現出相位差值幾乎不根據測定光之波長而變化之平坦之波長分散特性。第1光學補償層較佳為表現出逆波長色散特性。藉由使第1光學補償層表現出逆波長色散特性，可實現優異之反射色相。於該情形時，第1光學補償層之面內相位差滿足Re(450)＜Re(550)之關係。Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。更佳為第1光學補償層之面內相位差亦滿足Re(550)＜Re(650)之關係。Re(550)/Re(650)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。
第1光學補償層之光彈性係數例如為10×10-12 m2 /N以上，較佳為1.0×10-10 m2 /N以上，更佳為1.0×10-10 m2 /N～3.0×10-10 m2 /N。第1光學補償層可以如下所述之較薄之厚度實現上述所需之面內相位差及Nz係數。於該情形時，光彈性係數在大多數情況如上所述般變大，但根據本發明之實施方式，即便使用光彈性係數較大之層，亦可實現具有良好之顯示特性之液晶顯示裝置。
第1光學補償層具有代表性的是由可實現上述特性之任意合適之樹脂所形成之相位差膜。作為形成該相位差膜之樹脂，例如可列舉：聚芳酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚芳醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺、聚乙烯醇、聚反丁烯二酸酯、聚醚碸、聚碸、降𦯉烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、纖維素樹脂及聚胺基甲酸酯。該等樹脂可單獨使用，亦可組合使用。較佳為聚芳酯或聚碳酸酯樹脂。
聚芳酯較佳為由下述式(1)表示。 [化1]
式(1)中，A及B分別表示取代基，且為鹵素原子、碳原子數1～6之烷基、經取代或未經取代之芳基，A及B可相同亦可不同。a及b表示所對應之A及B之取代數，且分別為1～4之整數。D為共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CZ3 )2 基(此處，Z為鹵素原子)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH2 CH3 )2 基、N(CH3 )基。R1為碳原子數1～10之直鏈或支鏈之烷基、經取代或未經取代之芳基。R2為碳原子數2～10之直鏈或支鏈之烷基、經取代或未經取代之芳基。R3、R4、R5及R6分別獨立地為氫原子、碳原子數1～4之直鏈或支鏈之烷基，R3、R4、R5及R6可相同亦可不同。p1為0～3之整數，p2為1～3之整數，n為2以上之整數。
作為聚碳酸酯樹脂，可使用任意合適之聚碳酸酯樹脂。較佳為聚碳酸酯樹脂包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元；以及源自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少一種二羥基化合物之結構單元。較佳為，聚碳酸酯樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或者源自二、三或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為，包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂亦可視需要包含源自其他二羥基化合物之結構單元。再者，聚碳酸酯樹脂之詳細內容例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報中，且該記載係以參考之形式被引用至本說明書中。
聚碳酸酯樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上180℃以下，更佳為120℃以上165℃以下。若玻璃轉移溫度過低，則有耐熱性變差之傾向，可能於膜成形後引起尺寸變化，又，存在使所獲得之液晶顯示裝置之圖像品質降低之情況。若玻璃轉移溫度過高，則存在膜成形時之成形穩定性變差之情況，又，存在損害膜之透明性之情況。再者，玻璃轉移溫度係依據JIS K 7121(1987)而求出。
聚碳酸酯樹脂之分子量可以比濃黏度表示。比濃黏度係使用二氯甲烷作為溶劑，將聚碳酸酯濃度精密地調製成0.6 g/dL，於溫度20.0℃±0.1℃下使用烏氏黏度管而測定。比濃黏度之下限通常較佳為0.30 dL/g，更佳為0.35 dL/g以上。比濃黏度之上限通常較佳為1.20 dL/g，更佳為1.00 dL/g，進而較佳為0.80 dL/g。若比濃黏度小於上述下限值，則存在產生如下問題之情況，即成形品之機械強度變小。另一方面，若比濃黏度大於上述上限值，則存在產生如下問題之情況，即成形時之流動性降低，生產性或成形性降低。
第1光學補償層例如可藉由如下方式而形成：使上述樹脂溶解或分散於任意合適之溶劑中而形成塗佈液，將該塗佈液塗佈於收縮性膜而形成塗膜，使該塗膜收縮。具有代表性的是，塗膜之收縮係對收縮性膜與塗膜之積層體進行加熱而使收縮性膜收縮，藉由此種收縮性膜之收縮而使塗膜收縮。塗膜之收縮率較佳為0.50～0.99，更佳為0.60～0.98，進而較佳為0.70～0.95。加熱溫度較佳為130℃～170℃，更佳為150℃～160℃。於一實施方式中，亦可於使塗膜收縮時在與該收縮方向正交之方向上將積層體進行延伸。於該情形時，積層體之延伸倍率較佳為1.01倍～3.0倍，更佳為1.05倍～2.0倍，進而較佳為1.10倍～1.50倍。作為構成收縮性膜之材料之具體例，可列舉：聚烯烴、聚酯、丙烯酸樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯、降𦯉烯樹脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、纖維素樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醯亞胺、聚丙烯酸、乙酸酯樹脂、聚芳酯、聚乙烯醇、液晶聚合物。該等可單獨使用，亦可組合使用。收縮性膜較佳為由該等材料所形成之延伸膜。
第1光學補償層之厚度較佳為30 μm以下，更佳為10 μm～25 μm，進而較佳為17 μm～20 μm。本發明之實施方式中所使用之第1光學補償層即便為此種較薄之厚度，亦可獲得上述所需之面內相位差及Nz係數，因此可為液晶顯示裝置之薄型化作出顯著貢獻。
D-2.構成為與第3光學補償層之積層體之同等物之第1光學補償層 D-2-1.第1光學補償層 如上所述，第1光學補償層亦可等同於第1光學補償層與第3光學補償層之積層體(圖2或圖3)。於該情形時，第1光學補償層40具有代表性的是，表現出nz＞nx＞ny之折射率特性。表現出此種折射率特性之層(膜)有時被稱為「正雙軸板」、「正B板」等。
第1光學補償層之面內相位差Re(550)較佳為20 nm～50 nm，更佳為25 nm～45 nm，進而較佳為30 nm～40 nm。第1光學補償層之Rth(550)較佳為-140 nm～-70 nm，更佳為-100 nm～-75 nm，進而較佳為-95 nm～-80 nm。第1光學補償層之Nz係數較佳為-1.0以下，更佳為-7.0～-2.0，進而較佳為-5.0～-2.3。藉由將具有此種光學特性之第1光學補償層與如下所述之第3光學補償層加以組合使用，可適宜地補償偏光元件之吸收軸，而使液晶顯示裝置之傾斜方向之黑亮度足夠小。又，可減少傾斜方向之色移。
第1光學補償層具有代表性的是，由樹脂膜所構成。作為樹脂膜之材料，具有代表性的是可列舉具有負雙折射之樹脂材料。作為樹脂材料之具體例，可列舉：丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、順丁烯二醯亞胺系樹脂、反丁烯二酸酯系樹脂。
第1光學補償層之厚度較佳為1 μm～50 μm，更佳為3 μm～35 μm。
D-2-2.第3光學補償層 如上所述，第3光學補償層42具有代表性的是，可表現出nx＞ny≧nz之折射率特性。於如圖2所示般在第1光學補償層40之視認側配置第3光學補償層42之情形時，第3光學補償層具有代表性的是，表現出nx＞ny＞nz之折射率特性，且第1光學補償層40之遲相軸方向與第3光學補償層42之遲相軸方向具有代表性的是，實質上平行。於如圖3所示般在與第1光學補償層40之視認側相反側配置第3光學補償層42之情形時，第3光學補償層具有代表性的是，表現出nx＞ny＝nz之折射率特性，且第1光學補償層40之遲相軸方向與第3光學補償層42之遲相軸方向具有代表性的是，實質上正交。於任一情形時，第3光學補償層之Re(550)均較佳為100 nm～200 nm，更佳為110 nm～180 nm，進而較佳為110 nm～160 nm，尤佳為110 nm～140 nm。第3光學補償層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。若第3光學補償層之Re(550)及Nz係數為此種範圍，則實現優異之色相及亮度特性，且可進一步良好地改善傾斜方向之色相。
第3光學補償層具有代表性的是，可由樹脂膜之延伸膜(相位差膜)所構成。作為構成膜之樹脂，可根據目的採用任意合適之樹脂。作為構成膜之樹脂之具體例，可列舉：聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如混合、共聚)而使用。作為相位差膜之形成方法，可採用業內周知之方法，故省略詳細說明。
E.第2光學補償層 如上所述，第2光學補償層50具有代表性的是，表現出nz＞nx＝ny之折射率特性。藉由將此種第2光學補償層設置於液晶單元之背面側，可將上述乘積A×E設為特定值以下，結果可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度足夠小。再者，表現出此種折射率特之層(膜)有時被稱為「正C板」。
第2光學補償層之Rth(550)較佳為-70 nm以上且未達0 nm，更佳為-60 nm以上且未達0 nm，進而較佳為-40 nm～-5 nm，尤佳為-30 nm～-10 nm。若第2光學補償層之Rth(550)為此種範圍，則可於包含沿面配向液晶單元之液晶顯示裝置中使傾斜方向之黑亮度進一步良好地變小。
第2光學補償層可由任意合適之材料所形成。第2光學補償層較佳為由含有被固定為垂直配向之液晶材料之膜所構成。可垂直配向之液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。作為該液晶化合物及該光學補償層之形成方法之具體例，可列舉日本專利特開2002-333642號公報之[0020]～[0028]中所記載之液晶化合物及該光學補償層之形成方法。於該情形時，第2光學補償層之厚度較佳為0.5 μm～10 μm，更佳為0.5 μm～8 μm，進而較佳為0.5 μm～5 μm。
F.背光單元 光源60配置於與導光板70之側面對應之位置。作為光源，例如可使用使複數個LED排列而構成之LED光源。作為導光板70，可使用任意合適之導光板。例如，可使用背面側形成有透鏡圖案之導光板、背面側及/或視認側形成有稜鏡形狀等之導光板，以可使來自橫向之光向厚度方向偏向。較佳為使用背面側及視認側形成有稜鏡形狀之導光板。於該導光板中，形成於背面側之稜鏡形狀、與形成於視認側之稜鏡形狀較佳為其稜線方向正交。若使用此種導光板，則可對稜鏡片(未圖示)入射更容易被聚光之光。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明具體地進行說明，但本發明不限於該等實施例。實施例中之評價項目如下所述。
(1)乘積A×E 使用光學模擬而算出。於光學模擬中，使用Shintech公司製造之液晶顯示器用模擬器「LCD MASTER Ver.8.1.0.3」，使用LCD Master之擴展功能算出方位角45°及極角60°之方向上之波長450 nm至650 nm之光之出射偏光之方位角，將其最大值與最小值之差設為A。又，算出方位角45°及極角60°之方向上之波長450 nm至650 nm之光之出射偏光之橢圓率，將其最大值與最小值之差設為E。 (2)最大黑亮度 於實施例及比較例中所獲得之液晶顯示裝置中顯示黑屏，使用亮度計(AUTRONIC-MELCHERS公司製造，商品名「Conoscope」)求出極角60°、全方位(以5°為單位)之亮度，將其最大值作為最大黑亮度(單位：cd/m2 )。
[製造例1：視認側偏光板之製作] 使用長條狀且Tg為約75℃之非晶質之間苯二甲基共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)作為熱塑性樹脂基材，對樹脂基材之單面實施電暈處理。 將聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER」)以9：1進行混合而形成PVA系樹脂，將向該PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份而成者溶於水中而製備PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並於60℃下進行乾燥，藉此形成厚度13 μm之PVA系樹脂層而製作積層體。 將所獲得之積層體於130℃之烘箱內沿縱向(長度方向)單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 繼而，將積層體於液溫40℃之不溶性浴(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶性處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份以1：7之重量比調配碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)中，一面以最終所獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)達到所需值之方式調整濃度一面浸漬60秒(染色處理)。 繼而，於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份調配3重量份之碘化鉀及5重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)中，一面在周速不同之輥間沿縱向(長度方向)以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫20℃之清洗浴(相對於水100重量份調配4重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中(清洗處理)。 然後，一面於保持為約90℃之烘箱中進行乾燥，一面使其與表面溫度保持為約75℃之SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)製之加熱輥接觸(乾燥收縮處理)。 如此，於樹脂基材上形成厚度約5 μm之偏光元件，獲得具有樹脂基材/第1偏光元件之構成之積層體。 於所獲得之積層體之第1偏光元件表面(與樹脂基材相反側之面)貼合HC-TAC(Hard Coating-Triacetyl Cellulose，硬塗層三乙醯纖維素)膜作為外側保護層。繼而，剝離樹脂基材而獲得具有外側保護層/第1偏光元件之構成之視認側偏光板。
[製造例2：背面側偏光板之製作] 以與製造例1相同之方式獲得具有樹脂基材/第2偏光元件之構成之積層體。於所獲得之積層體之偏光元件表面(與樹脂基材相反側之面)貼合TAC(Triacetyl Cellulose，三乙醯纖維素)膜(厚度20 μm)作為內側保護層。繼而，剝離樹脂基材，將反射型偏光元件(厚度26 μm)經由黏著劑層(厚度12 μm)貼合於該剝離面而獲得具有反射型偏光元件/第2偏光元件/內側保護層之構成之背面側偏光板。
[製造例3：由單層所構成之第1光學補償層之製作] 3-1.聚芳酯之合成 於具備攪拌裝置之反應容器中，使2,2-雙(4-羥基苯基)-4-甲基戊烷27.0 kg及氯化四丁基銨0.8 kg溶解於氫氧化鈉溶液250 L中。對於該溶液，將使對苯二甲醯氯13.5 kg及間苯二甲醯氯6.30 kg溶解於300 L之甲苯中而成之溶液一面攪拌一面一次性地添加至其中，於室溫下攪拌90分鐘而製成縮聚溶液。然後，將上述縮聚溶液進行靜置分離而分離出含有聚芳酯之甲苯溶液。繼而，利用乙酸水清洗上述分離液，進而利用離子交換水進行清洗後，投入至甲醇中使聚芳酯析出。過濾所析出之聚芳酯，並於減壓下使其乾燥，藉此獲得白色之聚芳酯34.1 kg(產率92%)。
3-2.相位差膜之製作 使上述所獲得之聚芳酯10 kg溶解於甲苯73 kg中而製備塗佈液。然後，將該塗佈液直接塗佈於收縮性膜(縱向單軸延伸聚丙烯膜，東京油墨(股)製造，商品名「Noblen」)上，將該塗膜於乾燥溫度60℃下乾燥5分鐘並於80℃下乾燥5分鐘而形成收縮性膜/雙折射層之積層體。對於所獲得之積層體，使用同時雙軸延伸機於延伸溫度155℃下沿MD(Machine Direction，縱向)方向以收縮倍率0.70進行延伸，並沿TD(Transverse Direction，橫向)方向延伸1.15倍，藉此於收縮性膜上形成相位差膜。繼而，將該相位差膜自收縮性膜剝離。相位差膜之厚度為17.0 μm，且為Re(550)＝270 nm、Rth(550)＝135 nm、Nz＝0.5。將該相位差膜作為構成為單層之第1光學補償層。
[製造例4：第1光學補償層與第3光學補償層之積層體之製作] 4-1.第1光學補償層之製作 使用單軸擠出機與T型模頭將苯乙烯-馬來酸酐共聚物(NOVA Chemicals Japan公司製造，商品名「DYLARK D232」)之顆粒狀樹脂於270℃下進行擠出，利用冷卻鼓對片狀之熔融樹脂進行冷卻而獲得厚度100 μm之膜。使用輥延伸機將該膜於溫度130℃、延伸倍率1.6倍之條件下沿搬送方向進行自由端單軸延伸，而獲得在搬送方向上具有進相軸之膜(縱延伸步驟)。使用拉幅延伸機於溫度135℃下將所獲得之膜以膜寬度成為上述縱延伸後之膜寬度之1.6倍之方式沿寬度方向進行固定端單軸延伸，而獲得厚度50 μm之雙軸延伸相位差膜(橫延伸步驟)。相位差膜為Re(550)＝36 nm、Rth(550)＝-90 nm、Nz＝-2.5。將該相位差膜作為第1光學補償層。
4-2.第3光學補償層之製作 根據慣例對市售之環烯烴(降𦯉烯)系樹脂膜進行延伸而獲得相位差膜。相位差膜之厚度為33 μm，且為Re(550)＝139 nm、Rth(550)＝139 nm、Nz＝1.0。將該相位差膜作為第3光學補償層。
4-3.積層體之製作 經由黏著劑而積層第1光學補償層與第3光學補償層。此時，以彼此之遲相軸實質上正交之方式進行積層。藉此獲得第1光學補償層與第3光學補償層之積層體1。
[製造例5：第1光學補償層與第3光學補償層之積層體之製作] 5-1.第1光學補償層之製作 變更延伸條件，除此以外，以與製造例4-1相同之方式獲得相位差膜。相位差膜之厚度為5 μm，且為Re(550)＝35 nm、Rth(550)＝-85 nm、Nz＝-2.4。將該相位差膜作為第1光學補償層。
5-2.第3光學補償層之製作 根據慣例對市售之環烯烴(降𦯉烯)系樹脂膜進行延伸而獲得相位差膜。相位差膜之厚度為18 μm，且Re(550)＝116 nm、Rth(550)＝139 nm、Nz＝1.2。將該相位差膜作為第3光學補償層。
5-3.積層體之製作 經由黏著劑而積層第1光學補償層與第3光學補償層。此時，以彼此之遲相軸實質上變得平行之方式進行積層。藉此獲得第1光學補償層與第3光學補償層之積層體2。
[製造例6：第2光學補償層之製作] 使下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，為了方便起見，以嵌段聚合物體表示：重量平均分子量5000)所表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、表現出向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名PaliocolorLC242)80重量份及光聚合起始劑(汽巴精化公司製造：商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份中而製備液晶塗佈液。然後，利用棒式塗佈機將該塗佈液塗佈於被實施了垂直配向處理之基材膜(降𦯉烯系樹脂膜：日本瑞翁(股)製造，商品名「ZEONEX」)後，於80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶配向。對該液晶層照射紫外線而使液晶層硬化，藉此於基材上形成表現出nz＞nx＝ny之折射率特性之第2光學補償層(厚度：1.10 μm)。改變垂直配向處理之條件而製作具有不同之Rth(550)之第2光學補償層。
[化2]
Figure 109134585-A0305-02-0027-1
[製造例7：負C板之製作]
使用市售之三乙醯纖維素(TAC)膜製作具有不同Rth(550)之負C板(nx=ny>nz)。
[製造例8：液晶單元之準備]
自IPS模式之液晶顯示裝置(Apple公司製造，商品名「iPad(註冊商標)」)中取出液晶單元。卸除貼附在該液晶單元之兩面之光學構件，對去除面(基板之外側表面)進行清洗。將其用作液晶單元1。液晶單元1之視認側基板為Rth(450)=31.9nm、Rth(550)=18.7nm、Rth(650)=22.6nm；背面側基板為Rth(450)=9nm、Rth(550)=0.3nm、Rth(650)=-6.2nm。
[製造例9：液晶單元之準備]
自IPS模式之液晶顯示裝置(Apple公司製造，商品名「iPhone(註冊商標)」)中取出液晶單元。卸除貼附在該液晶單元之兩面之光學構件，對去除面(基板之外側表面)進行清洗。將其用作液晶單元2。液晶單元2之視認側基板為Rth(450)=11.1nm、Rth(550)=9.1nm、Rth(650)=-0.1nm；背面側基板為Rth(450)=37.1nm、Rth(550)=18.4nm、Rth(650)=13.4nm。
[實施例1]
於製造例8之液晶單元1之視認側依序積層製造例3之相位差膜(第1光學補償層)及製造例1之視認側偏光板。另一方面，於液晶單元1之背面側轉印製造例6之第2光學補償層(Rth(550)＝-20 nm)，進而，積層製造例2之背面側偏光板。積層係以如下方式進行：視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與背面側偏光板之偏光元件之吸收軸方向實質上正交，且視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與第1光學補償層之遲相軸方向實質上正交。藉此製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於上述(2)之評價。將結果示於表1中。
[實施例2] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例3] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為210。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例1] 使用負C板(Rth(550)＝60 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為490。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例4] 以視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與第1光學補償層之遲相軸方向實質上變得平行之方式進行積層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例5] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例4相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例6] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例4相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為210。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例2] 使用負C板(Rth(550)＝60 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例4相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為490。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例7] 使用製造例9之液晶單元2代替液晶單元1，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為30。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例8] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例7相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例9] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例7相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例3] 使用負C板(Rth(550)＝40 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例7相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為520。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例4] 使負C板之Rth(550)成為60 nm，除此以外，以與比較例3相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為850。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例10] 以視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與第1光學補償層之遲相軸方向實質上變得平行之方式進行積層，除此以外，以與實施例7相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為30。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例11] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例10相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例12] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例10相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例5] 使用負C板(Rth(550)＝40 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例10相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為520。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例6] 使負C板之Rth(550)成為60 nm，除此以外，以與比較例5相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為850。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例13] 於製造例8之液晶單元1之視認側依序積層製造例4之積層體1及製造例1之視認側偏光板。此時，積層體1係以第1光學補償層成為視認側之方式積層。另一方面，於液晶單元1之背面側轉印製造例6之第2光學補償層(Rth(550)＝-20 nm)，進而積層製造例2之背面側偏光板。積層係以如下方式進行：視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與背面側偏光板之偏光元件之吸收軸方向實質上正交，且視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與第1光學補償層之遲相軸方向實質上變得平行。藉此製作如圖3所示之液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例14] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例13相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例15] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例13相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為210。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例7] 使用負C板(Rth(550)＝60 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例13相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為490。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例16] 於製造例8之液晶單元1之視認側依序積層製造例5之積層體2及製造例1之視認側偏光板。此時，積層體2係以第1光學補償層成為液晶單元側之方式積層。另一方面，於液晶單元1之背面側轉印製造例6之第2光學補償層(Rth(550)＝-20 nm)，進而積層製造例2之背面側偏光板。積層係以如下方式進行：視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與背面側偏光板之偏光元件之吸收軸方向實質上正交，且視認側偏光板之偏光元件之吸收軸方向與第1光學補償層之遲相軸方向實質上正交。藉此製作如圖2所示之液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例17] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例16相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例18] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例16相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為210。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例8] 使用負C板(Rth(550)＝60 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例16相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為490。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例19] 使用製造例9之液晶單元2代替液晶單元1，除此以外，以與實施例13相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為30。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例20] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例19相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例21] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例19相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例9] 使用負C板(Rth(550)＝40 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例19相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為520。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例10] 使負C板之Rth(550)成為60 nm，除此以外，以與比較例9相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為850。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例22] 使用製造例9之液晶單元2代替液晶單元1，除此以外，以與實施例16相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為30。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例23] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-40 nm，除此以外，以與實施例22相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為10。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[實施例24] 使第2光學補償層之Rth(550)成為-60 nm，除此以外，以與實施例22相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為80。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例11] 使用負C板(Rth(550)＝40 nm)代替第2光學補償層，除此以外，以與實施例22相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為520。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[比較例12] 使負C板之Rth(550)成為60 nm，除此以外，以與比較例11相同之方式製作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置之乘積A×E為850。將所獲得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1中。
[表1]
   液晶單元 第1光學補償層 Rth(550) 乘積A×E 最大黑亮度
實施例1 1 單層 -20 10 0.36
實施例2 1 單層 -40 80 0.38
實施例3 1 單層 -60 210 0.42
比較例1 1 單層 60 490 0.84
實施例4 1 單層 -20 10 0.36
實施例5 1 單層 -40 80 0.36
實施例6 1 單層 -60 210 0.58
比較例2 1 單層 60 490 1.12
實施例7 2 單層 -20 30 0.38
實施例8 2 單層 -40 10 0.34
實施例9 2 單層 -60 80 0.40
比較例3 2 單層 40 520 0.84
比較例4 2 單層 60 850 1.62
實施例10 2 單層 -20 30 0.40
實施例11 2 單層 -40 10 0.34
實施例12 2 單層 -60 80 0.70
比較例5 2 單層 40 520 1.22
比較例6 2 單層 60 850 2.04
實施例13 1 積層體1 -20 10 0.26
實施例14 1 積層體1 -40 80 0.40
實施例15 1 積層體1 -60 210 0.88
比較例7 1 積層體1 60 490 1.40
實施例16 1 積層體2 -20 10 0.32
實施例17 1 積層體2 -40 80 0.40
實施例18 1 積層體2 -60 210 0.84
比較例8 1 積層體2 60 490 1.82
實施例19 2 積層體1 -20 30 0.40
實施例20 2 積層體1 -40 10 0.38
實施例21 2 積層體1 -60 80 0.76
比較例9 2 積層體1 40 520 1.30
比較例10 2 積層體1 60 850 3.00
實施例22 2 積層體2 -20 30 0.30
實施例23 2 積層體2 -40 10 0.50
實施例24 2 積層體2 -60 80 0.86
比較例11 2 積層體2 40 520 1.68
比較例12 2 積層體2 60 850 2.80
[評價] 自表1明確可知，藉由將乘積A×E設為特定值以下(即，藉由將自液晶單元向傾斜方向出射之光之偏光方向與橢圓率組合起來加以控制)，不論液晶單元之種類如何，均可實現傾斜方向之黑亮度足夠小之液晶顯示裝置。 [產業上之可利用性]
本發明之液晶顯示裝置可用於如下各種用途，如攜帶型資訊終端(PDA)、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型遊戲機等攜帶型設備；電腦顯示器、筆記型電腦、影印機等OA(Office Automation，辦公自動化)設備；攝錄影機、液晶電視、微波爐等家用電氣設備；後部監視器、汽車導航系統用監視器、汽車音響等車用設備；商業店鋪用資訊用監視器等展示設備；監視用監視器等警備設備；護理用監視器、醫療用監視器等護理/醫療設備等。
10:液晶單元 11:視認側基板 11':背面側基板 12:液晶層 20:第1偏光元件 30:第2偏光元件 40:第1光學補償層 42:第3光學補償層 50:第2光學補償層 60:光源 70:導光板 100:液晶顯示裝置 101:液晶顯示裝置 102:液晶顯示裝置
圖1係本發明之一實施方式之液晶顯示裝置之概略剖視圖。 圖2係本發明之另一實施方式之液晶顯示裝置之概略剖視圖。 圖3係本發明之又一實施方式之液晶顯示裝置之概略剖視圖。
10:液晶單元
11:視認側基板
11':背面側基板
12:液晶層
20:第1偏光元件
30:第2偏光元件
40:第1光學補償層
50:第2光學補償層
60:光源
70:導光板
100:液晶顯示裝置

Claims (7)

  1. 一種液晶顯示裝置，其具備： 液晶單元，其具有視認側基板、背面側基板、及液晶層，該液晶層由該視認側基板與該背面側基板所夾持，且包含在不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子； 第1偏光元件，其配置於該液晶單元之視認側； 第2偏光元件，其配置於該液晶單元之背面側； 第1光學補償層，其配置於該液晶單元與該第1偏光元件之間；及 第2光學補償層，其配置於該液晶單元與該第2偏光元件之間； 該視認側基板及該背面側基板之厚度方向相位差Rth(550)為-10 nm～100 nm， 關於自該液晶單元向極角60°方向及方位角45°方向出射之450 nm至650 nm之光，其偏光之方位角之最大值與最小值之差A(°)和該光之偏光之橢圓率之最大值與最小值之差E(°)的乘積A×E為300以下。
  2. 如請求項1之液晶顯示裝置，其中上述乘積A×E為100以下。
  3. 如請求項1之液晶顯示裝置，其中上述第1光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，上述第2光學補償層表現出nz＞nx＝ny之折射率特性。
  4. 如請求項2之液晶顯示裝置，其中上述第1光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，上述第2光學補償層表現出nz＞nx＝ny之折射率特性。
  5. 如請求項3之液晶顯示裝置，其中上述第2光學補償層之厚度方向相位差Rth(550)為-70 nm以上且未達0 nm。
  6. 如請求項4之液晶顯示裝置，其中上述第2光學補償層之厚度方向相位差Rth(550)為-70 nm以上且未達0 nm。
  7. 如請求項1至6中任一項之液晶顯示裝置，其中上述視認側基板及上述背面側基板滿足Rth(450)＞Rth(550)之關係。
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