TWI845014B - 包括移動限制特徵的光罩盒及其組裝方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 35
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 48
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 101100233916 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) KAR5 gene Proteins 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000827703 Homo sapiens Polyphosphoinositide phosphatase Proteins 0.000 description 2
- 102100023591 Polyphosphoinositide phosphatase Human genes 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67353—Closed carriers specially adapted for a single substrate
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
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Abstract
光罩盒包括內盒,其中移動限制特徵限制蓋及底板相對於彼此之平移移動。該等移動限制特徵係對包括於該內盒中之粗略對準特徵之補充。該等移動限制特徵在該等粗略對準特徵將抵抗該平移移動之前抵抗該移動。移動限制特徵可包括提供抵靠接觸表面之摩擦之彈性本體,或接納於彈性接觸表面上或隔板或移動限制杯中之銷。
Description
本發明係關於光罩盒,特別是包括精細以及粗略對準特徵之光罩盒。
光罩盒可用來固持光罩,例如以在諸如光微影術,包括極紫外(EUV)程序之處理期間固定光罩。光罩盒可包括外盒及一內盒,其中該內盒包括一蓋及一底板。該蓋及底板可由硬質材料,諸如金屬製成。該蓋及底板之相對移動可能導致硬質材料之摩擦,繼而導致在該蓋及底板之表面抵著彼此摩擦之處因磨損而產生粒子。
本發明係關於光罩盒,特別是包括精細以及粗略對準特徵之光罩盒。
根據實施例之光罩盒可用於諸如舉例而言極紫外(EUV)程序之程序中。可提供移動限制特徵以改良該光罩盒之蓋及底板之相對定位。該等移動限制特徵可限制該蓋及該底板之較小相對移動,從而減少該蓋及底板之摩擦以繼而減少在該等光罩盒之使用期間之粒子產生。此可改良使用該等光罩盒進行之程序之純度,從而增加良率且減少因粒子污染、盒組件未對準及類似者所致之損失。
在一實施例中,一種光罩盒包括一內盒,該內盒包括一底板及一蓋。該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵。該複數個移動限制特徵之各者包括形成於該蓋或該底板之一者中之一對準保持切口及安置於該對準保持切口中之一彈性本體。該彈性本體經構形以在該內盒被組裝時接觸該底板及該蓋兩者。該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
在一實施例中,一種光罩盒包括一內盒,該內盒包括一底板及一蓋。該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵。該複數個移動限制特徵之各者包括自該蓋或該底板之一者延伸之一插接銷及設置於該蓋或該底板之另一者上之一彈性接觸表面。該插接銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該等彈性接觸表面。該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
在一實施例中,該彈性接觸表面設置於一彈性本體上,該彈性本體包括與其中該插接銷經構形以接觸該彈性接觸表面之一表面相對之一中空部分。
在一實施例中,該等插接銷之各者安置於一插接銷通道中,各插接銷通道形成於該蓋或該底板之該一者中。
在一實施例中,一種光罩盒包括一內盒,該內盒包括一底板及一蓋。該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵。該複數個移動限制特徵之各者包括:一隔板,其安置於該蓋或該底板之一者中;及一銷,其自該蓋或該底板之另一者延伸,該銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該隔板。該隔板具有在與該蓋或該底板共面之一方向上的大於在垂直於該蓋或該底板之一平面之一方向上的一變形阻力之一變形阻力。該等銷之各者在經構形以接觸該複數個隔板之一者之一端處具有一錐度。該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
在一實施例中,該等移動限制特徵之各者包括經構形以容納該隔板之一對準保持切口及經構形以將該隔板保持於該對準保持切口中之一保持環。
在一實施例中,該銷安置於形成於該蓋或該底板之該一者中之一銷通道中。
在一實施例中,一種光罩盒包括一內盒,該內盒包括一底板及一蓋。該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵。該複數個移動限制特徵之各者包括:一移動限制銷,其自該蓋或該底板之一者延伸;及一移動限制杯,其設置於該蓋或該底板之另一者中。該移動限制銷經構形以在該內盒被組裝時由該移動限制杯之複數個相異表面接觸。該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
在一實施例中,該移動限制杯直接形成於該蓋或該底板之一者中。
在一實施例中,該移動限制杯形成於一插入物中,該插入物經構形以接納於形成於該蓋或該底板之一者中之一凹槽中。
在一實施例中,一種固定一光罩盒之一內盒之方法包括:將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;及將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合。該複數個移動限制特徵包括複數個對準保持切口及複數個彈性本體。各彈性本體安置於該等對準保持切口之一者中,且該複數個彈性本體之各者經構形以在該內盒被組裝時接觸該底板及該蓋兩者。當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。在一實施例中,一光罩定位於該內盒內,且該方法進一步包括:將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及使該內盒經受一極紫外程序。
在一實施例中,一種固定一光罩盒之一內盒之方法包括:將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;及將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合。該複數個移動限制特徵包括自該蓋或該底板之一者延伸之複數個插接銷及該蓋或該底板之該另一者上之複數個彈性接觸表面。該複數個插接銷之各者經構形以接觸該等彈性接觸表面之一者。當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。在一實施例中,一光罩定位於該內盒內,且該方法進一步包括:將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及使該內盒經受一極紫外程序。
在一實施例中,一種固定一光罩盒之一內盒之方法包括:將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;及將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合。該複數個移動限制特徵包括:複數個隔板,該複數個隔板之各者安置於該蓋或該底板之一者中;及複數個銷,其等自該蓋或該底板之該另一者延伸。該複數個銷之各者經構形以在該內盒被組裝時接觸該複數個隔板之一者。該複數個隔板之各者具有在與該蓋或該底板共面之一方向上的大於在垂直於該蓋或該底板之一平面之一方向上的一變形阻力之一變形阻力。該等銷之各者在經構形以接觸該複數個隔板之一者之一端處具有一錐度。當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。在一實施例中,一光罩定位於該內盒內,且該方法進一步包括:將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及使該內盒經受一極紫外程序。
在一實施例中,一種固定一光罩盒之一內盒之方法包括:將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;及將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合。該複數個移動限制特徵包括自該蓋或該底板之一者延伸之複數個移動限制銷及設置於該蓋或該底板之該另一者中之複數個移動限制杯。該複數個移動限制銷之各者經構形以在該內盒被組裝時由該複數個移動限制杯之一者之複數個相異表面接觸。當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。在一實施例中,一光罩定位於該內盒內,且該方法進一步包括:將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及使該內盒經受一極紫外程序。
在一實施例中,一種光罩盒包括一內盒,該內盒包括一底板及一蓋。該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵。該複數個移動限制特徵之各者包括:一銷,其在該蓋之一側上自該蓋延伸,該側經構形以在該內盒被組裝時面向該底板;一狹槽,其形成於該底板中,該狹槽經構形以接納該銷;及一撓性構件,其經構形以在該內盒被組裝時在該底板之與該蓋相對之一側上覆蓋該狹槽。該撓性構件包括經構形以由該銷之一端接觸之一接觸表面,該撓性構件經構形使得該接觸表面可藉由與該銷接觸而偏轉。
在一實施例中,該內盒包括該等移動限制特徵之至少三者。在一實施例中,各狹槽之一主軸在不同於所有其他狹槽之主軸之一方向上延伸。
在一實施例中,該光罩盒進一步包括形成於該底板中之一底板保持特徵,且該撓性構件包括經構形以與該底板保持特徵接合之一撓性構件保持特徵。
優先權
本發明主張申請日為2021年11月9日之美國臨時專利第63/277,188號之優先權。該優先權文獻以引用的方式併入本文中。
本發明係關於光罩盒,特別是包括精細以及粗略對準特徵之光罩盒。
圖1展示根據一實施例之一光罩盒。光罩盒100經構形以容納一光罩102。光罩盒100包括一外盒104,該外盒包括盒圓頂106及盒門108。光罩盒100進一步包括內盒110,該內盒包括底板112及蓋114。內盒110進一步包括粗略對準特徵116。
光罩盒100係經構形以在運輸、裝卸及處理期間儲存一光罩,特別是用於諸如光微影術,包括例如極紫外(EUV)之處理之一盒。光罩例如係用於一半導體晶圓之一光微影術遮罩。光罩102係可裝納於光罩盒100內,例如用於運輸、裝卸或處理,諸如藉由諸如EUV之光微影術之處理之一光罩。
光罩盒100包括一外盒104。外盒104經構形以容納內盒110。外盒104可包括盒圓頂106及盒門108。外盒104可由例如聚合物材料製成。盒圓頂106及盒門108可經構形使得其等可固定在一起以例如憑藉一閂鎖機構(未展示)界定一經封閉空間。
內盒110經構形以容納光罩102。內盒110可經定大小使得其可被放置至外盒104中。內盒110可包括一金屬材料,例如由金屬製成,由具有一塗層之金屬製成,包括一或多種金屬組分或類似物。內盒110包括底板112及蓋114。底板112及蓋114經構形以被放置在一起以將光罩102封閉於內盒110內。底板112及蓋114可包括用於對準底板112及蓋114之特徵,如下文所論述及圖2至圖6中所展示。用於對準之特徵可經構形以減少底板112及蓋114相對於彼此之相對移動以減少其中底板112及蓋114彼此相遇之接觸表面處之摩擦。用於對準之特徵可為對用來引導內盒110之組裝之粗略對準特徵116之補充。在一實施例中,用於對準之特徵可設置於粗略對準特徵116上,諸如在粗略對準特徵116之至少一部分上提供一肩部、凸緣或其他此特徵。
粗略對準特徵116可設置於底板112及蓋114之一者或兩者上以促進內盒110之恰當組裝。該等粗略對準特徵可為用於在內盒110被組裝時引導或管控底板112及蓋114之相對對準之任何合適特徵。在圖1中所展示之實施例中,粗略對準特徵116係蓋114在蓋114之周邊之部分處之延伸部,其等在內盒110被組裝時相對於蓋114之面向底板112之一表面向外突出。在圖1中所展示之實施例中,粗略對準特徵116界定在內盒110被組裝時在其中接納底板112之一區域。在一實施例中,粗略對準特徵116可設置於底板112或蓋114之邊角處。在一實施例中,粗略對準特徵116可設置於底板112或蓋114之周邊之部分處,而非底板112或蓋114之邊角處。在一實施例中,粗略對準特徵116可包括在內盒110被組裝時彼此接合之第一及第二粗略對準特徵。作為一非限制性實例,可使用之其他粗略對準特徵116包括銷及對應通道,例如如圖6中所展示及下文所描述。
圖2展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。內盒200包括蓋202。蓋202包括接觸表面204。光罩盒200進一步包括底板206。底板206包括一對準保持切口208。一彈性本體210可安置於對準保持切口208中。
內盒200係一光罩盒之一內盒,諸如圖1中所展示及上文所描述之光罩盒100之一內盒。內盒200可經定大小以配合於光罩盒之一外盒內。內盒200可進一步經構形以界定能夠裝納一光罩,諸如上文所描述及圖1中所展示之光罩102之一內部空間。
蓋202係一光罩盒之一蓋,諸如如上文所描述及圖1中所展示之光罩盒100之蓋114。蓋202包括一接觸表面204,其中蓋202經構形以在蓋202及底板206經組裝以形成內盒200時接觸底板206及/或彈性本體210之至少一部分。在一實施例中,接觸表面204係蓋202之裸露材料。在一實施例中,接觸表面204可包括蓋202之材料上之一塗層。在一實施例中,接觸表面204係蓋202之一平坦表面。在一實施例中,接觸表面204係一實質上光滑的表面。在一實施例中,接觸表面204可包括紋理,其中紋理之非限制性實例包括溝槽、粗糙化區段、相對凸起的凸塊、其等組合或類似者。
底板206係內盒200之一底板。底板206經構形以與蓋202結合以形成內盒200,其中內盒200提供能夠裝納一光罩,諸如上文所描述及圖1中所展示之光罩102之一內部空間。底板206包括複數個對準保持切口208。雖然圖2中展示一個代表性對準保持切口208,但一底板206可具有複數個此保持切口208。在一實施例中,底板206包括至少三個對準保持切口208。在一實施例中,底板206包括四個對準保持切口208。在一實施例中,該等對準保持切口可圍繞底板206之一周邊分佈。在一實施例中,該等對準保持切口可定位於底板206之邊角附近。對準保持切口208各係形成於底板206之一表面中之一開口,該表面在內盒200被組裝時面向蓋202。對準保持切口208可各具有用於容納彈性本體210之任何合適形狀,使得彈性本體210可保持於對準保持切口208中,其中彈性本體210之一部分自底板206之表面凸出。在一實施例中,設置於底板206上之所有對準保持切口208具有相同形狀。在一實施例中,設置於底板206上之對準保持切口208之至少一些可具有彼此不同之形狀。
彈性本體210係由彈性材料製成之一本體且經構形以被放置至對準保持切口208之一者中,使得彈性本體210之一部分在底板206之表面上方延伸,使得該部分在內盒被組裝時可在接觸表面204處接觸蓋202。基於對準保持切口208之形狀,彈性本體210可具有任何合適形狀。在一實施例中,彈性本體210可為一球形形狀。在實施例中,一內盒200中使用之彈性本體210可各具有相同形狀。在實施例中,具有不同形狀之彈性本體210可用於一個內盒200中。彈性本體210可包括任何合適彈性或可壓縮材料。該彈性或可壓縮材料可為能夠承受在處理裝納於內盒200內之光罩期間之狀況之一材料。作為一非限制性實例,該彈性或可壓縮材料可為諸如一含氟彈性體之一彈性體。
雖然圖2展示接觸表面204設置於蓋202上且對準保持切口208設置於底板206上,但應理解,該接觸表面及該對準保持切口可顛倒,使得接觸表面204被包括於底板206中且對準保持切口208設置於蓋202中,其中彈性本體210放置於自蓋202之一表面向外延伸之對準保持切口208中,該表面在內盒200被組裝時面向底板206。
當內盒200被組裝時,接觸表面204接觸及壓縮彈性本體210。接觸表面204與彈性本體210之間的摩擦可提供抵抗蓋202及底板206相對於彼此之相對移動之力,其中該相對移動包括與蓋202或底板206共面之一分量。此可減少蓋202與底板206之間的摩擦及對應粒子產生。
接觸表面204及對準保持切口208以及彈性本體210可形成保持蓋202及底板206之移動限制特徵。該等移動限制特徵可與亦被包括於內盒200中之第一及第二粗略對準特徵分開且相異,諸如圖6中所展示及下文所論述之第一及第二粗略對準特徵,諸如設置於蓋202或底板206之一者上之粗略對準銷及蓋202或底板206之另一者上之對應粗略對準通道,其中該等粗略對準通道接納該等粗略對準銷。
圖3展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。內盒300包括蓋302。蓋302包括一插接銷304。在圖3中所展示之實施例中,插接銷304安置於一插接銷通道306中。內盒300進一步包括底板308。底板308包括一彈性接觸表面310。在圖3中所展示之實施例中,彈性接觸表面310被包括於一彈性本體312中。彈性本體312可安置於形成於底板308中之一對準保持切口314中。
內盒300係一光罩盒之一內盒,諸如圖1中所展示及上文所描述之光罩盒100之一內盒。內盒300可經定大小以配合於光罩盒之一外盒內。內盒300可進一步經構形以界定能夠裝納一光罩,諸如上文所描述及圖1中所展示之光罩102之一內部空間。
蓋302係一光罩盒之一蓋,諸如如上文所描述及圖1中所展示之光罩盒100之蓋114。蓋302包括複數個插接銷304。各插接銷304係在蓋302之一側上自蓋302延伸之一銷,該側在內盒300被組裝時面向底板308。插接銷304之各者經構形以接觸設置於底板308上之一彈性接觸表面310。在一實施例中,插接銷304與蓋302一體地形成。在一實施例中,插接銷304係與蓋302分開之一組件,其安置於形成於蓋302中之一插接銷通道306中。在一實施例中,一些或所有插接銷304係與蓋302分開地形成且插入至插接銷通道306中之插接銷。在一實施例中,安置於插接銷通道306中之插接銷304可藉由插接銷304與插接銷通道306之間的一機械連接來固定。在一實施例中,該機械連接可為一壓入配合。在一實施例中,插接銷通道306係延伸穿過蓋302之整個厚度之通孔。在一實施例中,該等插接銷通道自蓋302之一表面形成至一預定深度,該表面在內盒300被組裝時面向底板308。
底板308係光罩盒之一底板。底板308經構形使得彈性接觸表面310可經提供以在內盒300被組裝時接觸蓋302之插接銷304之各者。彈性接觸表面310可為設置於底板308上之由一彈性材料製成之表面,該等表面在內盒300被組裝時面向蓋302,使得彈性接觸表面310係由設置於蓋302上之插接銷304來接觸。彈性接觸表面310可為相對於底板308之一表面凸起、齊平或凹入之表面,該表面在內盒300被組裝時面向蓋302。在一實施例中,至少三個彈性接觸表面310可設置於底板308上。在一實施例中,四個彈性接觸表面310可設置於底板308上。在一實施例中,彈性接觸表面310可設置於底板308之邊角附近。
彈性接觸表面310可使用安置於形成於底板308上之一對準保持切口314中之彈性本體312來提供。彈性本體312可為包括彈性接觸表面之具有任何合適形狀之一本體且經構形以保持於對準保持切口314中。對準保持切口314可具有任何合適形狀以接受彈性本體312之至少一部分。彈性本體312可由任何合適彈性或可壓縮材料製成,諸如作為一非限制性實例,諸如一含氟彈性體之一彈性體。彈性本體312係由一彈性材料製成之一本體。在一實施例中,彈性本體312係可插入至對準保持切口314之一塞子。在一實施例中,彈性本體312包括具有大於對準保持切口314之一周邊的一周邊之一唇部。在一實施例中,彈性本體312包括具有對應於對準保持切口314之一形狀之一插入部分,使得可在彈性本體312與底板308之間形成一壓入配合。在一實施例中,彈性本體係實心的。在一實施例中,彈性本體312包括與彈性本體312之由插接銷304接觸之部分相對之一中空區段。
當內盒300被組裝時,插接銷304各接觸彈性接觸表面310之一對應者。插接銷304按壓至彈性接觸表面310中,其中此接觸限制蓋302及底板308之相對移動,其中存在與蓋302或底板308共面之一分量。插接銷304及彈性接觸表面310可形成除包括於蓋302及/或底板308中之粗略對準特徵之外且相異於該等粗略對準特徵之移動限制特徵,諸如移動限制銷及通道。該等移動限制特徵可限制底板308及蓋302相對於彼此之橫向移動或平移移動。例如下文論述及圖6中展示此等粗略對準特徵之實例。當內盒300被組裝時,蓋302及底板308可彼此接觸。在實施例中,諸如製造容限之表面差異可能致使在蓋302及底板308之彼此對應之區中一些區域脫離接觸。
雖然圖3中所展示之實施例在底板308上提供彈性接觸表面310且在蓋302上提供插接銷304,但應理解,此等特徵可顛倒,使得插接銷304設置於底板308上且彈性接觸表面設置於蓋302上,其中插接銷通道306、彈性本體312及對準保持切口314之位置對應地變化。
圖4展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。內盒400包括蓋402。蓋402包括一銷404。在圖4中所展示之實施例中,銷404可安置於形成於蓋402中之一銷通道406中。內盒400進一步包括底板408。底板408可包括隔板開口410。一隔板412可設置於隔板開口410之各者中。一保持環414可經提供以將各隔板412固定於其各自隔板開口410中。
內盒400係一光罩盒之一內盒,諸如圖1中所展示及上文所描述之光罩盒100之一內盒。內盒400可經定大小以配合於光罩盒之一外盒內。內盒400可進一步經構形以界定能夠裝納一光罩,諸如上文所描述及圖1中所展示之光罩102之一內部空間。
蓋402係包括於內盒400中之一蓋。蓋402包括自蓋402之一表面延伸之複數個銷404,該表面在內盒400被組裝時面向底板408。銷404可具有帶有一錐度或曲線之一尖端,使得該等銷在被接納於設置於隔板412中之一開口中時可插入至一預定深度。在一實施例中,銷404可與蓋402一體地形成。在一實施例中,銷404各安置於形成於蓋402中之一銷通道406中。銷404可藉由任何合適連接固定於銷通道406中,諸如作為一非限制性實例,各銷404與其各自銷通道406之間的壓入配合。在一實施例中,三個或更多個銷404可設置於蓋402上。在一實施例中,四個銷404可設置於蓋402上。在一實施例中,銷404可安置於蓋402之邊角附近。在一實施例中,銷通道406係自蓋402之表面凹陷至一預定深度之開口,該表面在內盒400被組裝時面向底板408。在一實施例中,銷通道406可為延伸穿過蓋402之整個厚度之通孔。
底板408係包括於內盒400中之底板。底板408包括形成於對應於蓋402上之銷404之位置的位置中之複數個隔板開口410,使得銷404在蓋402及底板408經組裝以形成內盒400時可被接納於隔板412中。隔板開口410係底板408中之各經構形以裝納一隔板412之開口。在一實施例中,隔板開口410包括自底板408之表面凹陷之一階部、肩部或凸緣,該表面在內盒被組裝時面向蓋402。在一實施例中,隔板開口410之一部分係延伸穿過底板408之整個厚度之一通孔。在一實施例中,隔板開口410未完全延伸穿過底板408之厚度。
一隔板412安置於隔板開口410之各者中。隔板412經構形以在蓋402經組裝至底板408時接納銷404之一者之一端。隔板412經構形使得接納銷404之端之部分可在實質上垂直於隔板412之平面之一方向上移位。隔板412可提供對接納銷404之端之部分在平行於隔板412之平面的方向上之移動之實質上更大阻力。隔板412可由任何合適材料,諸如舉例而言鋼材料製成。圖5中展示及下文進一步詳細地描述一隔板412之一實例。
保持環414經構形以將隔板412保持於隔板開口410中。保持環414可為例如一扣環。保持環414可由任何合適材料製成,包括聚合物或金屬材料。保持環414可抵靠設置於隔板開口410中之階部、肩部或凸緣固持隔板412。保持環414可具有用於與隔板開口410接合且將隔板412保持於隔板開口410內之適當位置之任何合適形狀。在一實施例中,保持環414可具有對應於隔板開口410之形狀之一形狀。
當藉由將蓋402及底板408放置在一起來組裝內盒400時,銷404之錐形端各與隔板412之一者接合。隔板412之接納一銷404之端之部分可在垂直於隔板412之一方向上移動,使得內盒400可以很小阻力組裝。隔板412及銷404之接合可限制蓋402及底板408之與蓋402或底板408共面之相對移動,此係歸因於隔板412之性質及其平面內變形阻力與垂直於隔板412之平面之變形阻力之差異。據此,蓋402及底板408之具有與蓋402或底板408共面之一分量之相對移動受限制,從而在內盒400被組裝時限制蓋402抵靠底板408之摩擦。銷404及隔板412可形成與形成於蓋402及底板408中之第一及第二粗略對準特徵分開且相異之移動限制特徵,諸如圖6中所展示及下文所描述之粗略對準特徵。
雖然圖4展示自蓋402延伸之銷404及安置於形成於底板408中之一隔板開口410中之隔板412,但應理解,此等特徵可顛倒,使得銷404代替地自底板408延伸且隔板412安置於代替地形成於蓋402中之一隔板開口410中,其中諸如銷通道406及保持環414之其他特徵之位置對應地變化。
圖5展示根據一實施例之一光罩盒之一底板中的一隔板之一平面視圖。隔板500包括一中央開口環502、複數個彈簧樑504,該等彈簧樑可包括彈簧樑開口506。隔板500經安裝至形成於底板510中之隔板開口508中。隔板500可藉由一保持環512固定於隔板開口508中。
隔板500係如上文所論述之隔板412之一實施例。隔板500經構形以在垂直於隔板500之平面之一方向上可變形,且在平行於隔板500之平面之方向上提供實質上更大的變形阻力。隔板500包括經構形以接納一銷,諸如上文所描述及圖4中所展示之銷404之一尖端之一中央開口環502。中央開口環502可經構形以沿著一錐形或彎曲部分接合銷之尖端。中央開口環502可具有用於接納及接合銷之任何合適形狀,諸如圖5中所展示之圓形開口。中央開口環502係由彈簧樑504支撐。彈簧樑504可繞中央開口環502徑向地分佈。彈簧樑504可具有用於允許垂直於隔板500之平面移動中央開口環502之變形之任何合適形狀。在一實施例中,彈簧樑504各包括其等本身的各自彈簧樑開口506。該等彈性樑可各連接至隔板500之一周邊(未展示;被保持環512覆蓋)。
隔板開口508係形成於底板510上之一開口。隔板開口508可為用於容納隔板500之任何合適形狀。在一實施例中,隔板開口508包括自光罩盒510之一表面凹陷之一階部、肩部或凸緣且經定大小使得隔板500可擱置於該階部或凸緣上。在一實施例中,隔板開口508係自光罩盒510之一表面具有一預定深度之一凹槽。在一實施例中,隔板開口508包括鑽穿底板510之整個厚度之至少一部分。
保持環512經構形以將隔板500保持於隔板開口508內。保持環512可具有任何合適形狀以對應於隔板500之周邊且配合於隔板開口508之至少一部分內。在一實施例中,保持環512係一扣環。在一實施例中,保持環512可抵靠形成於隔板開口508中之一階部、肩部或凸緣按壓該隔板以將隔板500之位置固定於適當位置。
圖6展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。光罩盒600包括蓋602。蓋602包括移動限制銷604。移動限制銷604可安置於設置於蓋602中之一移動限制通道606中。光罩盒404進一步包括一底板608。底板608包括一移動限制杯610。在圖6中所展示之實施例中,移動限制杯610設置於一插入物612上,其中該插入物設置於形成於底板608中之凹槽614中。亦可提供一補充接觸表面616。在圖6中所展示之實施例中,亦可見一第一粗略對準特徵618及一第二粗略對準特徵620。
內盒600係一光罩盒之一內盒,諸如圖1中所展示及上文所描述之光罩盒100之一內盒。內盒600可經定大小以配合於光罩盒之一外盒內。內盒600可進一步經構形以界定能夠裝納一光罩,諸如上文所描述及圖1中所展示之光罩102之一內部空間。
蓋602係包括於內盒600中之一蓋。蓋602包括移動限制銷604。在一實施例中,蓋602包括至少3個移動限制銷604。在一實施例中,蓋602包括4個移動限制銷604。在一實施例中,蓋602包括蓋602之各邊角附近之一移動限制銷604。移動限制銷604自蓋602之一表面突出,該表面在內盒600被組裝時面向底板608。移動限制銷604可各具有一錐形或彎曲尖端。在一實施例中,移動限制銷604可與蓋602一體地形成。在一實施例中,移動限制銷604可安置於移動限制通道606中。移動限制銷604可藉由任何合適方法保持於移動限制通道606中。在一實施例中,移動限制銷604壓入配合於移動限制通道606內。在一實施例中,移動限制通道606自蓋602之表面凹陷。在一實施例中,移動限制通道606係延伸穿過蓋602之整個厚度之一通孔。
底板608係內盒600之一底板。底板608包括各經構形以接納設置於蓋602上之移動限制銷604之一者之移動限制杯610。移動限制杯610可經定位使得其等相對位置對應於該等移動限制銷之位置。在一實施例中,移動限制杯之特徵在於形成於底板608自身中,例如係來自底板608之經塑形切口。在一實施例中,移動限制杯610各經構形以當移動限制銷604在內盒600被組裝時,被接納於移動限制杯610中時提供與移動限制銷604之複數個離散接觸點。在一實施例中,移動限制杯610可包括經構形以提供與對應移動限制銷604之接觸點之複數個傾斜部分。在一實施例中,移動限制杯610可各在底板608之表面處具有一矩形形狀。在一實施例中,移動限制杯610形成於插入物612中,該等插入物經構形以放置至形成於底板608中之凹槽614中。凹槽614經構形以接納及保持插入物612。在一實施例中,凹槽614憑藉一壓入配合保持該等插入物。插入物612可由任何合適材料製成,包括金屬、經塗佈金屬、聚合物材料及類似者,只要插入物612可限制移動限制銷之移動且承受內盒600將被使用之任何處理即可。凹槽614及插入物612可具有大致上矩形的形狀。在一實施例中,此等矩形形狀之主軸可相對於蓋602或底板608之側成角度,使得凹槽614及插入物612之主軸不與蓋602或底板608之側之任一者平行。
補充接觸表面616可設置於底板608上以提供與移動限制銷604之進一步接觸。在一實施例中,補充接觸表面616在底板608之一表面上方延伸。在一實施例中,補充接觸表面616可與底板608成一體。在一實施例中,補充接觸表面616被包括於插入物612中。補充接觸表面616可各經構形以接觸移動限制銷604之一者之一側。
圖6進一步展示包括於內盒600中之粗略對準特徵。雖然在圖1至圖4之特定視圖中不可見,但應理解,內盒110、200、300及400亦包括第一及第二粗略對準特徵,諸如圖6中可見之第一及第二粗略對準特徵618、620。第一及第二粗略對準特徵618及620經構形以彼此介接以引導內盒600之組裝且輔助將蓋602固定至底板608。在一實施例中,第一及第二粗略對準特徵618、620在諸如移動限制銷604及移動限制杯610之移動限制特徵接合之前彼此接合。在一實施例中,第一及第二粗略對準特徵618、620在諸如移動限制銷604及移動限制杯610之移動限制特徵接合之後彼此接合。在一實施例中,第一及第二粗略對準特徵618、620在諸如移動限制銷604及移動限制杯610之移動限制特徵接合的同時彼此接合。
第一粗略對準特徵618可為一突起,例如自蓋602延伸之一突起。第一粗略對準特徵618可與蓋602一體地形成,或如圖6中所展示,可為安置於形成於蓋602中之一通道中且自該通道延伸之一銷。
第二粗略對準特徵620可為經構形以接納第一粗略對準特徵618之一通道。該第二粗略對準特徵可經構形使得存在比接納第一粗略對準特徵618所必需之空間更大的空間,使得第一及第二粗略對準特徵618及620之接合允許蓋602及底板608之與蓋602或底板608共面之相對移動。第一及第二粗略對準特徵618、620可視情況顛倒,使得第一粗略對準特徵618自底板608突出且第二粗略對準特徵620形成於蓋602中。第一粗略對準特徵618及對應第二粗略對準特徵620之介面可使得在第一及第二粗略對準特徵618、620之介面禁止進一步移動之前可允許與該蓋或底板共面之高達0.2毫米(mm)之相對移動。
當藉由將蓋602結合至底板608來組裝內盒600時,移動限制銷604之各者與由移動限制杯610及補充接觸表面616提供之多個接觸表面之各者介接。移動限制銷604之各者與彼等多個接觸表面之接合可限制蓋602相對於底板608之移動,使得與蓋602或底板608共面之相對移動受限制。
雖然圖6中所展示之內盒600包括蓋602中之移動限制銷604且移動限制杯610設置於底板608上,但應理解,此等特徵可顛倒,使得移動限制銷604代替地自底板608突出且該移動限制杯設置於蓋602上,其中諸如移動限制通道606、凹槽614及補充接觸表面616之任何對應特徵自蓋602對應地顛倒至底板608且反之亦然。
雖然分別在圖2、圖3、圖4及圖6中之內盒200、300、400及600中個別地展示移動限制特徵,但應理解,可組合彼等圖中所展示之個別移動限制特徵,例如包括來自另一內盒之蓋及底板中之內盒200、300、400及/或600之兩者或更多者之對應移動限制特徵。
圖7展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一底板。底板700包括形成於面向內盒之一蓋的表面704上之複數個狹槽702。狹槽702各由設置於底板700之一相對側上且具有一接觸表面708之一撓性構件706支撐。
狹槽702形成於底板700上。狹槽702延伸穿過底板700之本體。狹槽702經定大小以接納設置於與底板700一起使用之一蓋上之銷以形成一內盒,諸如具有如下文所描述及圖8中所展示之銷804之蓋802。狹槽702經定位使得在一光罩儲存於包括底板700之內盒中時,各狹槽之至少一部分延伸出該光罩所定位之一區域。狹槽702之各者具有一主軸。在一實施例中,底板700包括三個狹槽702。狹槽702可具有任何合適二維形狀,例如一圓孔、一矩形、一橢圓、一球場或膠囊形狀或類似者。在一實施例中,狹槽702包括垂直於底板700之一平面之筆直側。在一實施例中,狹槽702具有相對於底板平面成角度之側,使得狹槽702隨著其等延伸穿過底板700而漸縮。狹槽702可包括一導入部(lead-in)以促進將銷插入至狹槽702之各者中。在一實施例中,狹槽702包括在狹槽702之面向與底板702一起使用的蓋之一側上的一斜面及/或圓角。在一實施例中,狹槽702之各者之主軸在一不同方向上延伸。在一實施例中,狹槽702經定位使得狹槽702經配置成與形成於底板700之與表面700相對之一側中之運動耦合溝槽成鏡像。在一實施例中,底板700包括四個或更多個狹槽702。在一實施例中,狹槽702之至少兩者之主軸係共線或平行的。在一實施例中,設置於底板700上之狹槽702之主軸在底板700之一中心處相交。
撓性構件706經設置使得插入至狹槽702中之銷各在行進穿過底板700之本體之後接觸一撓性構件706,狹槽702延伸穿過該本體。撓性構件706可包括一彈性聚合物材料、一金屬彈簧臂或任何其他合適撓性材料,從而允許該撓性構件之一接觸表面708在一銷接觸接觸表面708時偏轉。接觸表面708係撓性構件706之一部分,其經構形以與一蓋之一銷接合以限制該銷沿著該撓性構件所支撐之狹槽702之延伸方向之移動,因此限制包括該銷之蓋之移動。撓性構件706可偏轉使得接觸表面708在形成於該銷上之一錐度、一成角度端或任何其他此其他合適表面處與該銷接合。撓性構件706可具有經選擇使得在包括底板700之內盒被組裝時控制接觸表面708之偏轉以匹配該銷凸出穿過狹槽702之一深度之一可撓性。
圖8展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。內盒800包括蓋802,該蓋包括銷804。銷804包括一端806。內盒800進一步包括底板808,該底板包括狹槽810。一撓性構件812設置於狹槽810之各者處。各撓性構件包括一接觸表面814及一撓性構件保持特徵816。撓性構件保持特徵816經構形以與形成於底板808中之一底板保持特徵818接合。
蓋802係一光罩盒之一蓋,其經構形以在與底板808組合時形成內盒800,該內盒包括經構形以容納一光罩之一內部空間。蓋802包括銷804。銷804可經定位使得銷804不在當光罩儲存於內盒800內時可能存在光罩之位置處延伸穿過內盒。銷804延伸一長度使得在內盒800被組裝時銷804可延伸穿過狹槽810以接觸接觸表面814。可為包括於對應底板808中之狹槽810之各者設置一或多個銷804,諸如三個銷804設置於一蓋802中以與具有三個狹槽702之底板700一起使用,如上文所描述及圖7中所展示。
銷804之各者包括端806。端806可經塑形以在各自狹槽810處與由撓性構件812提供之接觸表面814接合。在一實施例中,端806係錐形的。在一實施例中,端806包括非平行或垂直於銷804之一延伸方向之一成角度表面。在一實施例中,端806成為一點。當端806與接觸表面814接合時,銷804沿著狹槽810之移動可能受端806或其一部分與接觸表面814之接觸限制。
底板808係內盒800之一底板。底板808包括形成於底板808中之狹槽810。狹槽810延伸穿過底板808之厚度。各狹槽810經構形以接納設置於蓋802上之一對應銷804。該等狹槽可包括任何合適數目及配置,如上文針對圖7中展示之狹槽702所描述。當內盒800被組裝時,一撓性構件812設置於底板808之與蓋802相對之一側上。撓性構件812可經塑形以覆蓋由狹槽810形成之開口之至少一部分。撓性構件812覆蓋由狹槽810在與蓋802相對之側上形成之一開口。撓性構件812提供一接觸表面814,該接觸表面經構形以與銷804接合以便限制蓋802沿著狹槽810延伸之一方向移動。撓性構件812經構形使得接觸表面814可藉由與銷804接觸而偏轉。接觸表面814及其偏轉可經構形使得該接觸表面與銷804之端806之特徵,諸如一成角度表面、一錐度或類似者接合以限制銷804沿著狹槽810之平移移動且因此將蓋802保持於一特定位置處。藉由銷804與狹槽810及接觸表面814之接合來保持蓋802可因此限制蓋802相對於底板808之平移移動,使得維持對準且減少蓋802及底板808之接觸表面處之滑動及粒子產生。
撓性構件812包括撓性構件保持特徵816且底板808包括底板保持特徵818。撓性構件保持特徵816及底板保持特徵818可為用於將撓性構件812固定至底板808之任何合適對應特徵。在一實施例中,底板保持特徵818可為經構形以接納設置於撓性構件812上作為撓性構件保持特徵816之一突起之一溝槽或孔。在一實施例中,該撓性構件保持特徵可壓入配合至底板保持特徵818中。在一實施例中,該溝槽或孔可接納經構形以接納來自撓性構件保持特徵816之一凸緣、突片或其他此突起之一底切。在一實施例中,可提供一粘合劑以將撓性構件保持特徵816固定至底板保持特徵818。
態樣:
應理解,以下態樣之任一者可與以下態樣之任何其他者組合。
態樣1. 一種光罩盒,其包含:
一內盒,其包括一底板及一蓋,其中:
該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括:
形成於該蓋或該底板之一者中之一對準保持切口及安置於該對準保持切口中之一彈性本體,其中該彈性本體經構形以在該內盒被組裝時接觸該底板及該蓋兩者,且
其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
態樣2. 一種光罩盒,其包含:
一內盒,其包括一底板及一蓋,其中:
該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括:
自該蓋或該底板之一者延伸之一插接銷及設置於該蓋或該底板之另一者上之一彈性接觸表面,其中該插接銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該等彈性接觸表面,且
其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
態樣3. 根據態樣2之光罩盒,其中該彈性接觸表面設置於一彈性本體上,該彈性本體包括與其中該插接銷經構形以接觸該彈性接觸表面之一表面相對之一中空部分。
態樣4. 根據態樣2至3中任一態樣之光罩盒,其中該等插接銷之各者安置於一插接銷通道中,各插接銷通道形成於該蓋或該底板之該一者中。
態樣5. 一種光罩盒,其包含:
一內盒,其包括一底板及一蓋,其中:
該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括:
一隔板,其安置於該蓋或該底板之一者中;
一銷,其自該蓋或該底板之另一者延伸,該銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該隔板;
其中該隔板具有在與該蓋或該底板共面之一方向上的大於在垂直於該蓋或該底板之一平面之一方向上的一變形阻力之一變形阻力,且
該等銷之各者在經構形以接觸該複數個隔板之一者之一端處具有一錐度,
其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
態樣6. 根據態樣5之光罩盒,其中該等移動限制特徵之各者包括經構形以容納該隔板之一對準保持切口及經構形以將該隔板保持於該對準保持切口中之一保持環。
態樣7. 根據態樣5至6中任一態樣之光罩盒,其中該銷安置於形成於該蓋或該底板之該一者中之一銷通道中。
態樣8. 一種光罩盒,其包含:
一內盒,其包括一底板及一蓋,其中:
該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括:
一移動限制銷,其自該蓋或該底板之一者延伸;及
一移動限制杯,其設置於該蓋或該底板之另一者中,
其中該移動限制銷經構形以在該內盒被組裝時由該移動限制杯之複數個相異表面接觸,
其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
態樣9. 根據態樣8之光罩盒,其中該移動限制杯直接形成於該蓋或該底板之一者中。
態樣10. 根據態樣8至9中任一態樣之光罩盒,其中該移動限制杯形成於一插入物中,該插入物經構形以接納於形成於該蓋或該底板之一者中之一凹槽中。
態樣11. 一種固定一光罩盒之一內盒之方法,其包含:
將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;
將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合,其中該複數個移動限制特徵包括複數個對準保持切口及複數個彈性本體,其中各彈性本體安置於該等對準保持切口之一者中,且該複數個彈性本體之各者經構形以在該內盒被組裝時接觸該底板及該蓋兩者,
其中當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。
態樣12. 根據態樣11之方法,其中一光罩定位於該內盒內,該方法進一步包含:
將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及
使該內盒經受一極紫外程序。
態樣13. 一種固定一光罩盒之一內盒之方法,其包含:
將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;
將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合,其中該複數個移動限制特徵包括自該蓋或該底板之一者延伸之複數個插接銷及該蓋或該底板之該另一者上之複數個彈性接觸表面,其中該複數個插接銷之各者經構形以接觸該等彈性接觸表面之一者,
其中當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。
態樣14. 根據態樣13之方法,其中一光罩定位於該內盒內,該方法進一步包含:
將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及
使該內盒經受一極紫外程序。
態樣15. 一種固定一光罩盒之一內盒之方法,其包含:
將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;
將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合,其中該複數個移動限制特徵包括
複數個隔板,該複數個隔板之各者安置於該蓋或該底板之一者中;
複數個銷,其等自該蓋或該底板之該另一者延伸,該複數個銷之各者經構形以在該內盒被組裝時接觸該複數個隔板之一者;
其中該複數個隔板之各者具有在與該蓋或該底板共面之一方向上的大於在垂直於該蓋或該底板之一平面之一方向上的一變形阻力之一變形阻力;
該等銷之各者在經構形以接觸該複數個隔板之一者之一端處具有一錐度,
其中當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。
態樣16. 根據態樣15之方法,其中一光罩定位於該內盒內,該方法進一步包含:
將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及
使該內盒經受一極紫外程序。
態樣17. 一種固定一光罩盒之一內盒之方法,其包含:
將包括於一蓋及一底板之一者上之一或多個粗略對準特徵與該蓋及該底板之另一者接合;
將設置於該蓋或該底板之一者上之複數個移動限制特徵之各者與該蓋或底板之該另一者接合,其中該複數個移動限制特徵包括:
複數個移動限制銷,其等自該蓋或該底板之一者延伸;及
複數個移動限制杯,其等設置於該蓋或該底板之該另一者中,
其中該複數個移動限制銷之各者經構形以在該內盒被組裝時由該複數個移動限制杯之一者之複數個相異表面接觸,
其中當具有與該蓋或該底板共面之一分量之一力作用於該內盒上時,該等移動限制特徵之該接合在該等蓋粗略對準特徵與該等底板粗略對準特徵之接合提供對該力之該分量之阻力之前提供對該力之該分量之阻力。
態樣18. 根據態樣17之方法,其中一光罩定位於該內盒內,該方法進一步包含:
將該內盒放置於該光罩盒之一外盒內且固定該外盒以封閉該光罩盒;及
使該內盒經受一極紫外程序。
態樣19. 一種光罩盒,其包含:
一內盒,其包括一底板及一蓋,其中:
該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括:
一銷,其在該蓋之一側上自該蓋延伸,該側經構形以在該內盒被組裝時面向該底板;
一狹槽,其形成於該底板中,該狹槽經構形以接納該銷;及
一撓性構件,其經構形以在該內盒被組裝時在該底板之與該蓋相對之一側上覆蓋該狹槽,該撓性構件包括經構形以由該銷之一端接觸之一接觸表面,該撓性構件經構形使得該接觸表面可藉由與該銷接觸而偏轉。
態樣20. 根據態樣19之光罩盒,其中該內盒包括該等移動限制特徵之至少三者。
態樣21. 根據態樣20之光罩盒,其中各狹槽之一主軸在不同於所有其他狹槽之主軸之一方向上延伸。
態樣22. 根據態樣19之光罩盒,其進一步包含形成於該底板中之一底板保持特徵,其中該撓性構件包括經構形以與該底板保持特徵接合之一撓性構件保持特徵。
本申請案中所揭示之實例應被視為在所有方面皆係繪示性的且非限制性的。本發明之範疇係由所附發明申請專利範圍而非前文描述來指示;且在發明申請專利範圍之等效物之含義及範圍內之所有變化意欲於涵蓋於本發明中。
100: 光罩盒
102: 光罩
104: 外盒
106: 盒圓頂
108: 盒門
110: 內盒
112: 底板
114: 蓋
116: 粗略對準特徵
200: 內盒
202: 蓋
204: 接觸表面
206: 底板
208: 對準保持切口
210: 彈性本體
300: 內盒
302: 蓋
304: 插接銷
306: 插接銷通道
308: 底板
310: 彈性接觸表面
312: 彈性本體
314: 對準保持切口
400: 內盒
402: 蓋
404: 銷
406: 銷通道
408: 底板
410: 開口
412: 隔板
414: 保持環
500: 隔板
502: 中央開口環
504: 彈簧樑
506: 彈簧樑開口
508: 隔板開口
510: 底板
512: 保持環
600: 光罩盒
602: 蓋
604: 移動限制銷
606: 移動限制通道
608: 底板
610: 移動限制杯
612: 插入物
614: 凹槽
616: 補充接觸表面
618: 第一粗略對準特徵
620: 第二粗略對準特徵
700: 底板
702: 狹槽
704: 表面
706: 撓性構件
708: 接觸表面
800: 內盒
802: 蓋
804: 銷
806: 端
808: 底板
810: 狹槽
812: 撓性構件
814: 接觸表面
816: 撓性構件保持特徵
818: 底板保持特徵
圖1展示根據一實施例之一光罩盒。
圖2展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。
圖3展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。
圖4展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。
圖5展示根據一實施例之一光罩盒之一底板中的一隔板之一平面視圖。
圖6展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。
圖7展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一底板。
圖8展示根據一實施例之一光罩盒之一內盒之一截面視圖。
100:光罩盒
102:光罩
104:外盒
106:盒圓頂
108:盒門
110:內盒
112:底板
114:蓋
116:粗略對準特徵
Claims (10)
- 一種光罩盒,其包含: 一內盒,其包括一底板及一蓋,其中: 該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括: 形成於該蓋或該底板之一者中之一對準保持切口及安置於該對準保持切口中之一彈性本體,其中該彈性本體經構形以在該內盒被組裝時接觸該底板及該蓋兩者,且 其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
- 一種光罩盒,其包含: 一內盒,其包括一底板及一蓋,其中: 該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括: 自該蓋或該底板之一者延伸之一插接銷及設置於該蓋或該底板之另一者上之一彈性接觸表面,其中該插接銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該等彈性接觸表面,且 其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
- 如請求項2之光罩盒,其中該彈性接觸表面設置於一彈性本體上,該彈性本體包括與其中該插接銷經構形以接觸該彈性接觸表面之一表面相對之一中空部分。
- 如請求項2之光罩盒,其中該等插接銷之各者安置於一插接銷通道中,各插接銷通道形成於該蓋或該底板之該一者中。
- 一種光罩盒,其包含: 一內盒,其包括一底板及一蓋,其中: 該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括: 一隔板,其安置於該蓋或該底板之一者中; 一銷,其自該蓋或該底板之另一者延伸,該銷經構形以在該內盒被組裝時接觸該隔板; 其中該隔板具有在與該蓋或該底板共面之一方向上的大於在垂直於該蓋或該底板之一平面之一方向上的一變形阻力之一變形阻力,且 該等銷之各者在經構形以接觸該複數個隔板之一者之一端處具有一錐度, 其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
- 如請求項5之光罩盒,其中該等移動限制特徵之各者包括經構形以容納該隔板之一對準保持切口及經構形以將該隔板保持於該對準保持切口中之一保持環。
- 如請求項5之光罩盒,其中該銷安置於形成於該蓋或該底板之該一者中之一銷通道中。
- 一種光罩盒,其包含: 一內盒,其包括一底板及一蓋,其中: 該內盒包括至少一個粗略對準特徵及複數個移動限制特徵,該複數個移動限制特徵之各者包括: 一移動限制銷,其自該蓋或該底板之一者延伸;及 一移動限制杯,其設置於該蓋或該底板之另一者中, 其中該移動限制銷經構形以在該內盒被組裝時由該移動限制杯之複數個相異表面接觸, 其中該複數個移動限制特徵經構形使得在具有平行於該底板或該蓋之一平面之一分量之一力被施加至該內盒時,該複數個移動限制特徵之至少一者在該至少一個粗略對準特徵提供對該力之阻力之前提供對該力之阻力。
- 如請求項8之光罩盒,其中該移動限制杯直接形成於該蓋或該底板之一者中。
- 如請求項8之光罩盒,其中該移動限制杯形成於一插入物中,該插入物經構形以接納於形成於該蓋或該底板之一者中之一凹槽中。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202163277188P | 2021-11-09 | 2021-11-09 | |
US63/277,188 | 2021-11-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202329308A TW202329308A (zh) | 2023-07-16 |
TWI845014B true TWI845014B (zh) | 2024-06-11 |
Family
ID=86228872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111142720A TWI845014B (zh) | 2021-11-09 | 2022-11-09 | 包括移動限制特徵的光罩盒及其組裝方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US12013648B2 (zh) |
EP (1) | EP4430659A1 (zh) |
KR (1) | KR20240096805A (zh) |
CN (1) | CN118382921A (zh) |
TW (1) | TWI845014B (zh) |
WO (1) | WO2023086297A1 (zh) |
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JP3076497B2 (ja) | 1994-08-08 | 2000-08-14 | キヤノン株式会社 | 原版および原版保持装置ならびにこれを用いた露光装置 |
KR101442451B1 (ko) * | 2005-09-27 | 2014-09-22 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클 포드 |
KR20150067375A (ko) | 2012-10-19 | 2015-06-17 | 인티그리스, 인코포레이티드 | 베이스플레이트 정렬 시스템에 대한 커버를 갖는 레티클 포드 |
US11442370B2 (en) * | 2019-10-16 | 2022-09-13 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | Reticle retaining system |
-
2022
- 2022-11-07 EP EP22893502.9A patent/EP4430659A1/en active Pending
- 2022-11-07 US US17/982,176 patent/US12013648B2/en active Active
- 2022-11-07 WO PCT/US2022/049137 patent/WO2023086297A1/en active Application Filing
- 2022-11-07 CN CN202280081801.8A patent/CN118382921A/zh active Pending
- 2022-11-07 KR KR1020247019030A patent/KR20240096805A/ko unknown
- 2022-11-09 TW TW111142720A patent/TWI845014B/zh active
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KR20240096805A (ko) | 2024-06-26 |
WO2023086297A1 (en) | 2023-05-19 |
US12013648B2 (en) | 2024-06-18 |
US20240302757A1 (en) | 2024-09-12 |
US20230148165A1 (en) | 2023-05-11 |
CN118382921A (zh) | 2024-07-23 |
EP4430659A1 (en) | 2024-09-18 |
TW202329308A (zh) | 2023-07-16 |
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