TWI840669B - 一種金屬絡合物及其應用 - Google Patents

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Abstract

本發明涉及一種金屬絡合物及其應用,所述金屬絡合物具Ir(La)(Lb)(Lc)的通式,包含有具有式(1)所示結構作為配體La。本發明提供的金屬絡合物具有光、電穩定性好,發光效率高,壽命長,色飽和度高等優點,可用於有機發光器件中,特別是作為紅色發光磷光材料,具有應用於AMOLED產業的可能。

Description

一種金屬絡合物及其應用
本發明涉及有機電致發光技術領域,尤其涉及一種用作有機電致發光器件用的有機發光材料,特別涉及一種金屬絡合物及其在有機電致發光器件上的應用。
目前,作為新一代顯示技術的有機電致發光器件(OLED)在顯示和照明技術方面都獲得了越來越多的關注,應用前景十分廣泛。但是,和市場應用要求相比,OLED器件的發光效率、驅動電壓、使用壽命等性能還需要繼續加強和改進。
一般來說,OLED器件基本結構為在金屬電極中間夾雜各種不同功能的有機功能材料薄膜,猶如一個三明治的結構,在電流的驅動下,從陰陽兩極分別注入空穴和電子,空穴和電子在移動一段距離後,在發光層得到複合,並以光或熱的形式進行釋放,從而產生了OLED的發光。
然而,有機功能材料是有機電致發光器件的核心組成部分,材料的熱穩定性、光化學穩定性、電化學穩定性、量子產率、成膜穩定性、結晶性、色飽和度等都是影響器件性能表現的主要因素。一般地,有機功能材料包括螢光材料和磷光材料。螢光材料通常為有機小分子材料,一般只能利用25%單重態發光,所以發光效率比較低。而磷光材料由於重原子效應引起地自旋軌 道耦合作用,除了利用25%單重態之外,還可以利用75%三重態激子的能量,所以發光效率可以得到提升。但是相較於螢光材料,磷光材料起步較晚,且材料的熱穩定性、壽命、色飽和度等都有待提升,是一個具有挑戰性的課題。已經有人開發各種有機金屬化合物作為這種磷光材料。例如發明專利文獻CN107973823公開了一類喹啉類的銥化合物,但是該類化合物的色飽和度以及器件性能尤其是發光效率和器件壽命都有待改善;發明專利文獻CN106459114公開了一類β-二酮配位基配位的銥化合物,但是該類化合物的昇華溫度高,色飽和度不佳,特別的,器件性能表現不理想,有待進一步改進;發明專利CN109721628公開了芴基噻吩並嘧啶結構化合物以及包含該化合物有機電致發光器件和化合物。
然而,仍然期望能開發出進一步改善有機電致發光器件的性能的新型材料。
本發明的目的在於提供高性能的有機電致發光器件及可實現這樣的有機電致發光器件的新型材料。
本發明人為了達成前述目的而反復進行了深入的研究,結果發現,通過使用包含下述式(1)表示的結構作為配體的金屬絡合物,可以得到高性能的有機電致發光器件。
本發明的目的之一在於提供一種金屬絡合物,該類金屬絡合物具有光、電化學穩定性高,色飽和度高,發光效率高,器件壽命長等優點,可用於有機電致發光器件中。特別是作為紅色發光參雜體,具有應用於OLED產業的可能。
一種金屬絡合物,其具有Ir(La)(Lb)(Lc)的通式,其包含由式(1)所表示的配體La,
Figure 110117386-A0305-02-0005-1
其中A1-A4中的一個為C-C鍵與E環相連,一個為C-金屬鍵與金屬相連,一個為CR4,另一個為CR0或者N;A5-A8中一個為CR3,另外三個獨立的表示為CR0或者N;其中R1-R2的個數為最大取代個數;其中R0-R4獨立的選自氫、氘、鹵素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20環烷基、取代的或未取代的C1-C10雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C1-C10烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C2-C20的烯基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C3-C30雜芳基、取代的或未取代的C6-C30芳基矽基、取代或未取代的C0-C20的胺基、氰基、腈、異腈、膦基,其中,且其中R3,R4至少有一個不為氫,當A7為CR0時,R0不為F;其中X獨立地選自O,S,Se,C(R)2,Si(R)2,NR,BR,POR;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C3- C30的環烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C18雜芳基;所述取代為被氘、F、Cl、Br、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環烷基、C1-C4烷基取代的胺基、氰基、腈、異腈、膦基所取代;所述雜烷基或雜芳基中的雜原子為S、O、N中的至少一個;其中虛線為與金屬銥連接的鍵;其中,La,Lb和Lc三者互不相同,三者中任意的相互兩兩連接形成多齒配體,或者三者通過一個基團連接;其中Lb和Lc均為單陰離子型雙齒配體;所述互不相同為母核結構不相同或母核結構相同但取代基不同或母核結構相同取代基相同但取代基位置不相同。
優選:具有以下式(2)的結構:
Figure 110117386-A0305-02-0006-2
其中A為CR0或者N,其中R0-R4獨立的選自氫、氘、鹵素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20環烷基、取代的或未取代的C1-C10雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C1-C10烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C2-C20的烯基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的 或未取代的C3-C30雜芳基、取代的或未取代的C6-C30芳基矽基、取代或未取代的C0-C20的胺基、氰基、腈、異腈、膦基;且其中R3,R4至少有一個不為氫;X、Lb、Lc的定義與前述相同。
更優選:其中A為CH或N。
更優選:其中A為N,R3取代基位於N的相鄰位置。
進一步優選:其中R3為D、C1-C4烷基或至少含有一個D的C1-C4烷基。
最優選:其中R3為CD3
優選:其中R4取代基的位置為金屬Ir-碳鍵的相鄰位置或者為金屬Ir-碳鍵的相對位置。
優選:金屬化合物具有如下結構之一:
Figure 110117386-A0305-02-0007-3
其中R1、R2有最大取代個數,R1-R2獨立的選自氫、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6環烷基、取代的或未取代的C7-C20芳烷基、取代的或未取代的C3-C30雜芳基、或取代的或未取代的C6-C30芳基,且R1、R2中至少有一個不為氫;R3,R4獨立的選自氫、取代的或未取代的C1-C6烷基,取代的或未取代的C3-C10環烷基,且其中R3,R4至少有一個不為氫; 其中X獨立地選自O,S,Se,C(R)2,Si(R)2,NR;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C3-C30的環烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基;所述取代為被氘、F、Cl、Br或C1-C4烷基所取代。
優選:其中X為O、S、Se、NR、C(R)2;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C8的烷基。
優選:其中La獨立地選自以下結構式之一或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物;
Figure 110117386-A0305-02-0008-4
Figure 110117386-A0305-02-0009-5
Figure 110117386-A0305-02-0010-6
Figure 110117386-A0305-02-0011-8
Figure 110117386-A0305-02-0012-9
Figure 110117386-A0305-02-0013-10
Figure 110117386-A0305-02-0014-11
Figure 110117386-A0305-02-0015-12
Figure 110117386-A0305-02-0016-13
Figure 110117386-A0305-02-0017-14
Figure 110117386-A0305-02-0018-15
Figure 110117386-A0305-02-0019-16
其中所述Lb、Lc獨立地選自請求項10中的La1-La1307中的任一個或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物,且La、Lb和Lc不同時為相同編號的結構。
其中所述Lb、Lc獨立地選自以下式(a)-式(k)結構之一:
Figure 110117386-A0305-02-0019-17
其中虛線為與金屬銥連接的鍵;其中Ra,Rb,Rc的個數為最大取代個數,Ra,Rb,Rc獨立的選自氫、氘、鹵素、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C3-C30環烷 基、取代的或未取代的C1-C30雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C2-C20的烯基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C3-C30雜芳基、取代的或未取代的C6-C30芳基矽基、取代或未取代的C0-C20的胺基、氰基、腈、異腈、膦基、或者兩個相鄰的取代基能任選地連接形成環或稠合結構;其中,所述取代為被氘、F、Cl、Br、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C3-C10環烷基、C1-C10烷基取代的胺基、C6-C30芳基、C7-C30芳烷基、氰基、腈、異腈、膦基所取代;所述雜烷基或雜芳基中的雜原子中S、O、N中的至少一個。
優選:其中Lb與Lc獨立選自以下結構式或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物,且Lb和Lc不同時為相同編號的配體;
Figure 110117386-A0305-02-0020-18
Figure 110117386-A0305-02-0021-19
Figure 110117386-A0305-02-0022-20
Figure 110117386-A0305-02-0023-21
Figure 110117386-A0305-02-0024-22
Figure 110117386-A0305-02-0025-23
一種電致發光器件,其包括:陰極,陽極以及設置在陰極與陽極之間的有機層,所述有機層至少一層包含前述的金屬絡合物。
本發明的另一發明目的還在於,提供一種電致發光器件,其中所述有機層為發光層,所述金屬絡合物作為發光材料,特別是作為紅色發光材料。
本發明的另一發明目的還在於,提供一種電致發光器件,其中所述有機層為空穴注入層,所述金屬絡合物作為空穴注入材料。
本發明的材料不但具有昇華溫度較低,光、電化學穩定性高,色飽和度高,發光效率高,器件壽命長等優點。本發明的材料作為磷光材料,可以將三重激發態轉換成光,所以能夠提高有機電致發光器件的發光效率,從而降低能耗。
下述實施例僅僅是為了便於理解技術發明,不應視為本發明的具體限制。
本發明中的化合物合成中涉及的原物料和溶劑等均購自於Alfa、Acros等本領域技術人員熟知的供應商。
實施例1 化合物A1的合成
配體L50、La385的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0026-24
化合物L50的合成:
將化合物L1-1(36.0g,155.3mmol,1.0eq)、L1-2(23.3g,155.3mmol,1.0eq)、碳酸鉀(42.9g,310.7mmol,2.0eq)以及二氯二叔丁基-(4-二甲基氨基苯基)磷鈀(II) (1.02g,1.5mmol,0.01eq)放入一個1L三口燒瓶中,加入甲苯(360ml)、乙醇(96ml)、去離子水(96ml),真空、氮氣置換3次,在氮氣保護下升溫至80℃攪拌反應6小時。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/10),原料L1-1幾乎消耗完畢。冷卻到室溫,分液,有機相使用水洗滌(3*180ml),再用乙酸乙酯(150ml)萃取水相1次,進行矽膠抽濾,用乙酸乙酯沖洗至無明顯產品殘留,濃縮得到黃色黏稠液體,進行柱層析分離(洗脫劑:乙酸乙酯/正己烷=1/20),濃縮乾燥得到白色糖狀固體化合物L50(41.2g,收率87.8%)。質譜:302.4(M+H)。
化合物La385的合成:
將化合物L1-1(28.7g,123.8mmol,1.0eq)、L1-3(28.5g,126.3mmol,1.02eq)、K2CO3(34.2g,247.7mmol,2.0eq)以及二氯二叔丁基-(4-二甲基氨基苯基)磷鈀(II)(0.81g,1.24mmol,O.01eq)放入一個1L三口燒瓶中,加入甲苯(290ml)、乙醇(90ml)、H2O(90ml),真空、氮氣置換3次,在氮氣保護下升溫至80℃攪拌反應3小時。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/8),原料L1-1幾乎消耗完畢。冷卻到室溫,分液,有機相使用水洗滌(3*180ml),再用乙酸乙酯(150ml)萃取水相1次,進行矽膠抽濾,用乙酸乙酯沖洗至無明顯產品殘留,濃縮得到黃色黏稠液體,進行柱層析分離(洗脫劑:乙酸乙酯/正己烷=1/20),濃縮乾燥得到白色糖狀固體化合物La385(36.8g,收率78.9%)。質譜:378.4(M+H)。
化合物A1的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0028-25
化合物A1-1的合成:
在一個250ml的三口燒瓶中,加入化合物L50(6.7g,22.2mmol,2.0eq)、氧化銀(2.58g,11.1mmol,1.0eq),再加入4A分子篩(2.5g)和二氯甲烷(130ml),真空、氮氣置換3次,室溫攪拌2h,溶液變為棕黑色懸濁液。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/8),原料L50幾乎消耗完畢。再向反應中加入1,5-環辛二烯氯化銥二聚體(7.47g,11.1mmol,1.0eq),繼續室溫攪拌8h,溶液變為棕紅色。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/3),有大極性產物生成,停止反應。過濾,用少量二氯甲烷淋洗濾餅,收集濾液濃縮至剩餘約60ml,加入正己烷(100ml),攪拌1h析出固體,用少量正己烷淋洗固體,過濾,乾燥得到橙紅色固體化合物A1-1(12.9g,收率91.8%)。質譜:635.2(M+H)。
化合物A1-2的合成:
在一個250ml的三口燒瓶中,加入化合物A1-1(4.2g,6.61mmol,1.0eq)、化合物La385(7.48g,19.8mmol,3.0eq),再加入乙二醇乙醚(63ml),真空、氮氣置換3次,加熱至120℃攪拌16h。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/3),原料A-1幾乎消耗完畢。反應降至室溫,再向反應中加入甲醇(63ml),繼續攪拌2h,過濾,用少量甲醇淋洗濾餅,乾燥得到橙紅色固體化 合物A1-2(3.8g,收率53.2%)。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A1的合成:
在一個250ml的三口燒瓶中,加入化合物A1-2(5.18g)、化合物L5(4.91g,23.1mmol,3.5eq),再加入碳酸鈉(3.5g,33.0mmol,5.0eq)乙二醇乙醚(103ml),真空、氮氣置換3次,加熱至40℃攪拌16h。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/5),原料A1-2幾乎消耗完畢。再向反應中加入甲醇(103ml),繼續室溫攪拌1h,過濾,用少量甲醇淋洗濾餅。所得固體採用二氯甲烷(150ml)攪拌溶清後,進行矽膠過濾,用少量二氯甲烷進行淋洗濾餅。所得濾液加入去離子水水洗3次(80ml/次),分液收集有機相旋乾。粗產品用四氫呋喃/甲醇(1g/7v/10v)進行重結晶3次,乾燥得到紅色固體化合物A1(3.8g,收率53.2%)。將3.8克A1粗品昇華純化後得到昇華純A1(2.78g,73.1%)。質譜:1081.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,J=15.0Hz,2H),8.07(d,J=2.9Hz,2H),7.98(dd,J=14.6,3.4Hz,1H),7.77(d,J=15.0Hz,2H),7.54(dd,J=14.7,3.4Hz,1H),7.47(dd,J=14.9,3.0Hz,2H),7.38(tt,J=9.2,4.5Hz,3H),7.31(td,J=14.8,3.4Hz,2H),6.92(d,J=3.1Hz,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),2.02-1.82(m,4H),1.81-1.55(m,12H),1.42-1.15(m,8H),1.11-0.97(m,5H),0.94(t,J=13.2Hz,12H)。
實施例2 化合物A2的合成
配體La193、La769的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0029-26
化合物L4的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:366.2(M+H)。
化合物L5的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:414.5(M+H)。
化合物A2的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0030-27
化合物A2-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:712.3(M+H)。
化合物A2-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A2的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A2(2.95g,48.9%)。將2.95克A2粗品昇華純化後得到昇華純A2(2.08g,70.5%)。質譜:1181.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.38(d,J=20.0Hz,2H),7.98(dd,2H),7.78(m,J=5.0Hz,2H),7.53(d, J=15.0Hz,4H),7.47(m,2H),7.39(m,4H),7.31(m,4H),2.43(d,2H),2.34(s,6H),1.88(m,1H),1.81(m,J=7.2Hz,2H),1.69(m,J=37.5Hz,2H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,7H),0.94(m,12H),0.87(d,5H)。
實施例3 化合物A3的合成
Figure 110117386-A0305-02-0031-29
化合物A3的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A3(3.11g,50.2%)。將3.11克A3粗品昇華純化後得到昇華純A3(2.17g,69.7%)。質譜:1193.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.38(d,J=20.0Hz,2H),7.94(dd,2H),7.72(m,J=5.0Hz,2H),7.55(d,J=15.0Hz,4H),7.46(m,2H),7.39(m,4H),7.31(m,4H),2.34(s,6H),1.88(m,3H),1.77(t,J=18.8Hz,3H),1.66(m,J=2.2Hz,5H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,8H),0.94(m,12H)。
實施例4 化合物A4的合成
配體La1306的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0031-28
化合物La1306的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:406.4(M+H)。
化合物A4的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0032-30
化合物A4-1的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A4的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A4(2.71g,47.7%)。將2.71克A4粗品昇華純化後得到昇華純A4(1.95g,71.9%)。質譜:1173.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.41(d,J=20.0Hz,2H),7.96(dd,2H),7.75(m,J=5.0Hz,2H),7.56(d,J=15.0Hz,4H),7.47(m,2H),7.40(m,4H),7.33(m,4H),2.63(t,2H),2.43(d,1H),2.34(s,6H),1.85(m,J=32.9Hz,2H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,5H),0.94(m,12H),0.87(m,6H).
實施例5 化合物A5的合成
配體La1的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0033-31
化合物La1的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:352.4(M+H)。
化合物A5的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0033-32
化合物A5-1的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A5的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A5(2.88g,49.2%)。將2.88克A5粗品昇華純化後得到昇華純A5(2.03g,70.4%)。質譜:1135.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,J=15.0Hz,2H),8.07(d,J=2.9Hz,2H),7.98(dd,J=14.6,3.4Hz,1H),7.77(d,J=15.0Hz,2H),7.54(dd,J=14.7,3.4Hz,1H),7.47(dd,J=14.9,3.0Hz,2H),7.38(tt,J=9.2,4.5Hz,3H),7.31(td,J=14.8,3.4Hz,2H),6.92(d,J=3.1Hz,2H),2.87(m,J=6.5Hz,1H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.76(m,2H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.52(m,J=30.0Hz,8H),1.39(m,4H),1.27(d,J =30.0Hz,3H),1.20(m,6H),1.00(m,5H),0.87(s,12H)。
實施例6 化合物A6的合成
化合物A6的合成
Figure 110117386-A0305-02-0034-33
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A6(3.61g,54.2%)。將3.61克A6粗品昇華純化後得到昇華純A6(2.61g,72.0%)。質譜:1121.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,J=15.0Hz,2H),8.07(d,J=2.9Hz,2H),7.98(dd,J=14.6,3.4Hz,1H),7.77(d,J=15.0Hz,2H),7.54(dd,J=14.7,3.4Hz,1H),7.47(dd,J=14.9,3.0Hz,2H),7.38(tt,J=9.2,4.5Hz,3H),7.31(td,J=14.8,3.4Hz,2H),6.92(d,J=3.1Hz,2H),2.87(m,1H),2.54(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(d,J=5.4Hz,4H),1.83-1.73(m,8H),1.67(m,J=16.1,6.1Hz,10H),1.31(m,4H),1.20(m,J=2.6Hz,8H),1.11(m,2H),1.01(m,J=15.0Hz,6H)。
實施例7 化合物A7的合成
配體L221的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0034-34
化合物L112的合成:
將化合物L10-1(14.2g,82.5mmol,1.0eq)、L10-2(25.5g,82.5mmol,1.0eq)、磷酸三鉀(35.0g,165.0mmol,2.0eq)、三(二亞苄基丙酮)二鈀(1.51g,1.65mmol,0.02eq)以及2-雙環己基膦-2',6'-二甲氧基聯苯(1.36g,3.3mmol,0.04eq)放入一個500ml三口燒瓶中,加入甲苯(150ml)、去離子水(30ml),真空、氮氣置換3次,在氮氣保護下升溫至回流攪拌反應過夜。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/5),原料L10-2幾乎消耗完畢。冷卻到室溫,分液,收集有機相。再用乙酸乙酯(60ml)萃取水相1次,合併有機相濃縮得到黃色黏稠液體,進行柱層析分離(洗脫劑:乙酸乙酯/正己烷=1/15),濃縮乾燥得到類白色固體化合物L112(16.1g,收率71.5%)。質譜:275.3(M+H)。
化合物L221的合成:
將化合物L112(16.1g,58.6mmol,1.0eq)、氫化鈉(4.23g,176.0mmol,3.0eq)、氘代乙醇(160ml)加入至一個500ml三口燒瓶中,真空、氮氣置換3次,在氮氣保護下升溫至回流攪拌反應48h。冷卻到室溫,加入重水(100ml),攪拌0.5h後,加入二氯甲烷(250ml)萃取兩次,收集下層有機相,旋乾。再用乙酸乙酯(60ml)萃取水相1次,合併有機相濃縮得到黃色黏稠液體,進行柱層析分離(洗脫劑:乙酸乙酯/正己烷=1/15),濃縮乾燥得到類白色固體化合物L221(10.1g,收率62.1%)。質譜:278.3(M+H)。
化合物A7的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0036-35
在一個250ml三口燒瓶中,,加入化合物A5-1(8.2g,4.7mmol,1.0eq)和二氯甲烷(205ml),攪拌溶解,再將三氟甲磺酸銀(2.66g,10.3mmol,2.2eq)溶解於異丙醇(66.5ml)中,並在氮氣氣氛下滴加到三口燒瓶中,室溫攪拌反應18h。將反應懸濁液用矽藻土過濾,除去銀鹽,旋乾濾液得橙紅色固體,無須純化直接用於下一步反應。將所得固體加入到乾淨的250ml的三口燒瓶中,加入化合物化合物L221(3.91g,14.1mmol,3.0eq),再加入乙醇(117ml),真空、氮氣置換3次,加熱至回流攪拌過夜。TLC監控(展開劑:乙酸乙酯/正己烷=1/5),有新產物生成。反應降至室溫,過濾,用少量乙醇淋洗濾餅。所得固體採用二氯甲烷(160ml)攪拌溶清後,進行矽膠過濾,用少量DCM進行淋洗濾餅。所得濾液加入去離子水水洗3次(80ml/次),分液收集有機相旋乾。粗產品用四氫呋喃/甲醇(1g/8v/15v)進行重結晶4次,乾燥得到紅色固體化合物A7(2.54g,收率48.3%)。將2.54克A7粗品昇華純化後得到昇華純A7(1.49g,58.6%)。質譜:1195.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,2H),8.30(d,J=0.6Hz,2H),8.23(s,1H),8.07(d,1H),7.98(dd,1H),7.84-7.67(m,4H),7.56(m,J=23.7Hz,2H),7.46(m,J=5.2Hz,3H),7.39(m,2H),7.35-7.23(m,4H),7.01(d,1H),6.92(d,1H),2.87(m,1H),2.34(m,J=27.4,17.4Hz,13H),1.97(m,J=6.9Hz,2H),1.72(m,J=28.4,21.6Hz,6H),1.20(d,3H)。
實施例8 化合物A8的合成
配體La199的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0037-36
化合物La199的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:380.5(M+H)。
化合物A8的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0037-37
化合物A8-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:714.2(M+H)。
化合物A8-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A8的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變 更即可,得到目標化合物A8(3.77g,56.2%)。將3.77克A8粗品昇華純化後得到昇華純A8(2.41g,63.9%)。質譜:1195.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.37(d,J=20.0Hz,2H),7.95(dd,2H),7.77(m,J=5.0Hz,2H),7.54(d,J=15.0Hz,4H),7.46(m,2H),7.37(m,3H),7.30(m,4H),2.43(d,2H),2.35(d,J=10.0Hz,9H),1.88(m,1H),1.86-1.68(m,3H),1.66(m,1H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,6H),0.94(m,12H),0.87(d,6H)。
實施例9 化合物A9的合成
配體La235的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0038-38
化合物La235的合成:
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:380.5(M+H)。
化合物A9的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0038-39
化合物A9-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:714.2(M+H)。
化合物A9-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A9的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A9(3.02g,49.7%)。將3.02克A9粗品昇華純化後得到昇華純A9(2.15g,71.1%)。質譜:1195.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.39(d,J=20.0Hz,2H),7.94(dd,2H),7.75(m,J=5.0Hz,2H),7.53(d,J=15.0Hz,4H),7.45(m,2H),7.36(m,4H),7.32(m,3H),2.69(s,3H),2.43(s,2H),2.34(s,6H).,1.88(m,1H),1.86-1.68(m,3H),1.66(m,1H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,6H),0.94(m,12H),0.87(d,6H).
實施例10 化合物A10的合成
配體La457的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0039-40
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:468.6(M+H)。
化合物A10的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0039-41
化合物A10-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A10的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A10(2.88g,42.1%)。將2.88克A10粗品昇華純化後得到昇華純A10(1.77g,61.4%)。質譜:1171.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,2H),8.07(d,2H),7.98(dd,3H),7.83(d,1H),7.77(m,1H),7.54(m,2H),7.47(d,2H),7.39(m,2H),7.31(m,2H),7.15(d,2H),6.92(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,12H),1.88(m,4H),1.76(m,4H),1.66(m,J=2.2Hz,7H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,5H),0.94(m,12H)。
實施例11 化合物A11的合成
配體La397的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0040-42
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:420.6(M+H)。
化合物A11的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0041-43
化合物A11-1的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A11的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A11(2.57g,40.6%)。將2.88克A11粗品昇華純化後得到昇華純A11(1.65g,64.2%)。質譜:1123.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,2H),8.07(d,2H),7.98(dd,2H),7.77(m,2H),7.50(m,J=35.0Hz,2H),7.35(m,J=40.0Hz,4H),6.92(d,2H),2.87(m,1H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,4H),1.82-1.55(m,12H),1.27(m,J=35.0Hz,7H),1.17(m,6H),1.08-1.02(m,2H),1.01-0.89(m,16H)。
實施例12 化合物A12的合成
配體L144的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0041-44
參照化合物L50的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:317.4(M+H)。
化合物A12的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0042-45
化合物A12-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:714.2(M+H)。
化合物A12-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A12的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A12(2.93g,51.3%)。將2.93克A12粗品昇華純化後得到昇華純A12(1.86g,63.4%)。質譜:1196.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,2H),7.98(d,2H),7.77(d,2H),7.65(m,J=25.0Hz,3H),7.50(m,J=35.0Hz,3H),7.35(m,J=40.0Hz,1H),6.92(s,2H),2.44(s,9H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,4H),1.69(t,J=26.1Hz,12H),1.27(m,J=35.0Hz,8H),1.10-0.86(m,17H)。
實施例13 化合物A13的合成
配體L222的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0043-46
參照化合物L50的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:224.3(M+H)。
化合物A13的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0043-47
化合物A13-1的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A13的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A13(2.76g,41.2%)。將2.76克A13粗品昇華純化後得到昇華純A13(1.79g,64.8%)。質譜:1003.3(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.13(d,2H),8.07(d,2H),7.98(dd,1H),7.77(d,1H),7.66(m,1H),7.50(m,J=35.0Hz,2H),7.40(m,J=15.0Hz,4H),7.31(m,1H),6.92(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.76(m,2H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.31(m,4H),1.24(m,4H),1.01(m,J=5.7Hz,4H),0.94(m,12H)。
實施例14 化合物A14的合成
配體L174的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0044-48
參照化合物L50的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:392.5(M+H)。
化合物A14的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0044-49
化合物A14-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:741.4(M+H)。
化合物A14-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A14的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A14(2.67g,43.1%)。將2.67克A14粗品昇華純化後得到昇華純A14(1.68g,62.9%)。質譜:1213.6(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.32(d,2H),8.07(d,2H),7.98(dd,2H),7.80(dd,J=25.0Hz,2H),7.51(m,J=25.0Hz,4H),7.35(m,J=40.0Hz,3H),7.16(d,2H),6.92(d,2H),2.87 (m,1H),2.32(d,J=15.0Hz,12H),1.88(m,4H),1.76(m,4H),1.66(m,J=2.2Hz,8H),1.27(m,J=35.0Hz,8H),1.17(d,6H),1.01(m,J=5.7Hz,5H),0.94(m,12H)。
實施例15 化合物A15的合成
化合物A15的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0045-50
化合物A15的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A15(2.71g,44.2%)。將2.71克A15粗品昇華純化後得到昇華純A15(1.62g,59.7%)。質譜:1109.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,J=15.0Hz,2H),8.07(d,J=2.9Hz,2H),7.98(dd,J=14.6,3.4Hz,1H),7.77(d,J=15.0Hz,2H),7.54(dd,J=14.7,3.4Hz,1H),7.47(dd,J=14.9,3.0Hz,2H),7.38(tt,J=9.2,4.5Hz,3H),7.31(td,J=14.8,3.4Hz,2H),6.92(d,J=3.1Hz,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,4H),1.81-1.59(m,12H),1.00(m,J=5.0Hz,18H),0.89(m,9H),0.86(t,J=3.5Hz,2H)。
實施例16 化合物A16的合成
化合物A16的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0046-51
化合物A16的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A16(2.83g,43.9%)。將2.83克A16粗品昇華純化後得到昇華純A16(1.82g,64.3%)。質譜:1137.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.36(d,J=15.0Hz,2H),8.07(d,J=2.9Hz,2H),7.98(dd,J=14.6,3.4Hz,1H),7.77(d,J=15.0Hz,2H),7.54(dd,J=14.7,3.4Hz,1H),7.47(dd,J=14.9,3.0Hz,2H),7.38(tt,J=9.2,4.5Hz,3H),7.31(td,J=14.8,3.4Hz,2H),6.92(d,J=3.1Hz,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,4H),1.76(m,4H),1.66(m,J=2.2Hz,8H),1.00(m,15H),0.89(m,18H)。
實施例17 化合物A17的合成
配體L65的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0046-52
參照化合物L50的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:290.4(M+H)。
化合物A17的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0047-53
化合物A17-1的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A17的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A17(3.16g,46.1%)。將3.16克A17粗品昇華純化後得到昇華純A17(2.23g,70.5%)。質譜:1097.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.36(d,1H),8.07(d,1H),7.96(m,J=15.0Hz,2H),7.77(dd,2H),7.66(m,2H),7.50(dd,J=35.0Hz,2H),7.44-7.26(m,3H),7.19(dd,2H),6.92(s,1H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,3H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.88(m,J=15.0Hz,18H)。
實施例18 化合物A18的合成
配體La493的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0047-54
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:434.6(M+H)。
化合物A18的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0048-55
化合物A18-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:768.4(M+H)。
化合物A18-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A18的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A18(3.41g,43.8%)。將3.41克A18粗品昇華純化後得到昇華純A18(2.33g,68.3%)。質譜:1153.6(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.07(d,1H),7.96(m,J=15.0Hz,2H),7.89(dd,2H),7.66(t,1H),7.54(dd,2H),7.42-7.27(m,4H),7.19(dd,2H),6.92(d,1H),2.47(d,4H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,4H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.88(m,J=15.0Hz,24H)。
實施例19 化合物A19的合成
配體La529的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0049-56
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:434.6(M+H)。
化合物A19的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0049-57
化合物A19的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A19(3.03g,41.4%)。將3.03克A19粗品昇華純化後得到昇華純A19(1.83g,60.3%)。質譜:1153.6(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.39(d,1H),8.07(d,1H),7.96(m,J=15.0Hz,2H),7.66(m,4H),7.54(dd,2H),7.44-7.24(m,3H),7.21(dd,1H),6.91(d,1H),2.43(d,4H),2.35(d,J=15.0Hz,9H),2.06-1.55(m,10H),1.03(m,J=5.0Hz,16H),0.86(m,J=15.0Hz,24H)。
實施例20 化合物A20的合成
配體La1267的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0049-58
參照化合物L112的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:393.5(M+H)。
化合物A20的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0050-59
化合物A20-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:727.3(M+H)。
化合物A20-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A20的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A20(2.96g,39.8%)。將2.96克A20粗品昇華純化後得到昇華純A20(1.84g,62.1%)。質譜:1112.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,2H),8.36(d,2H),8.07(d,2H),7.95(dd,1H),7.71(m,J=55.0Hz,2H),7.41(m,J=60.0Hz,2H),7.19(dd,2H),7.01(d,1H),6.92(d,1H),2.68(s,3H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.99-1.56(m,9H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.94-0.80(m,18H)。
實施例21 化合物A21的合成
配體La1307的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0051-60
參照化合物L221的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:396.5(M+H)。
化合物A21的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0051-61
化合物A21-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:730.3(M+H)。
化合物A21-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A21的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A21(2.53g,38.1%)。將2.53克A21粗品昇華純化後得到昇華純A21(1.62g,64.0%)。質譜:1115.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.62(d,2H),8.35(d,2H),8.10(d,2H),7.94(dd,1H),7.72(m,J=55.0Hz,2H),7.41(m,J=60.0Hz,2H),7.19(dd,2H),7.01(d,1H),6.92(d,1H), 2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.99-1.56(m,9H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.94-0.80(m,18H)。
實施例22 化合物A22的合成
配體La386的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0052-62
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:394.5(M+H)。
化合物A22的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0052-63
化合物A22-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:728.4(M+H)。
化合物A22-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A22的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A22(2.66g,40.1%)。將2.66克A22粗品昇華純化後得到昇華純A22(1.84g,69.1%)。質譜:1113.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.45(dd,1H),8.36(dd,1H),8.07(d,1H),7.95(dd,1H),7.86(dd,1H),7.77(dd,1H),7.66(m,2H),7.56(m,2H),7.47(m,2H),7.33(m,J=20.0Hz,2H),7.19(dd,1H),6.92(d,1H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,3H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.88(m,J=15.0Hz,18H)。
實施例23 化合物A23的合成
配體La387的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0053-64
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:441.4(M+H)。
化合物A23的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0053-65
化合物A23-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變 更即可。質譜:775.3(M+H)。
化合物A23-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A23的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A23(2.31g,36.1%)。將2.31克A23粗品昇華純化後得到昇華純A23(1.38g,59.7%)。質譜:1160.4(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.45(dd,1H),8.36(dd,1H),8.07(d,1H),7.95(dd,1H),7.86(dd,1H),7.77(dd,2H),7.66(m,2H),7.58-7.38(m,3H),7.35(d,2H),7.19(d,1H),6.92(d,1H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,3H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.88(m,J=15.0Hz,18H)。
實施例24 化合物A24的合成
配體La388的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0054-66
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:441.4(M+H)。
化合物A24的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0055-67
化合物A24-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:738.4(M+H)。
化合物A24-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A24的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A24(2.41g,40.3%)。將2.41克A24粗品昇華純化後得到昇華純A24(1.55g,64.3%)。質譜:1123.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.36(d,1H),8.07(d,1H),7.92(m,J=25.0Hz,3H),7.77(d,2H),7.66(m,3H),7.47(d,2H),7.35(d,2H),7.19(dd,1H),6.92(d,1H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,3H),1.72-1.57(m,10H),1.00(m,J=5.0Hz,16H),0.88(m,J=15.0Hz,18H)。
實施例25 化合物A25的合成
配體La389的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0056-68
參照化合物La385的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:391.5(M+H)。
化合物A25的合成:
Figure 110117386-A0305-02-0056-69
化合物A25-1的合成:
參照化合物A1-1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。質譜:725.5(M+H)。
化合物A25-2的合成:
參照化合物A1-2的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可。得到的化合物不經純化直接使用於下一步。
化合物A25的合成:
參照化合物A1的合成過程及後處理純化方法,只需要將對應的原物料變更即可,得到目標化合物A25(2.53g,38.1%)。將2.61克A25粗品昇華純化後得到昇華純A25(1.72g,65.9%)。質譜:1110.5(M+H).1H NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.60(d,1H),8.52(d,1H),8.35(m,J=10.0Hz,2H),8.07(d,1H),7.95(dd,2H),7.77(d,2H),7.66(m,2H),7.52-7.31(m,3H),7.16(m,J=25.0Hz,2H),6.92(d,1H),3.82(s,3H),2.47(d,2H),2.32(d,J=15.0Hz,9H),1.88(m,2H),1.78(m,J=20.0Hz,3H),1.66(m,J=2.2Hz,4H),1.00(m,J=5.0Hz,15H),0.88 (m,J=15.0Hz,18H)。
選取對應的材料,用同樣類似的方法可以用於合成、昇華得到其他化合物。
應用例:有機電致發光器件的製作
將50mm*50mm*1.0mm的具有ITO(100nm)透明電極的玻璃基板在乙醇中超聲清洗10分鐘,再150度烘乾後經過N2 Plasma處理30分鐘。將洗滌後的玻璃基板安裝在真空蒸鍍裝置的基板支架上,首先再有透明電極線一側的面上按照覆蓋透明電極的方式蒸鍍化合物HATCN,形成膜厚為5nm的薄膜,緊接著蒸鍍一層HTM1形成膜厚為60nm的薄膜,再在HTM1薄膜上蒸鍍一層HTM2形成膜厚為10nm的薄膜,然後,在HTM2膜層上再採用共蒸鍍的模式蒸鍍主體材料CBP和摻雜化合物(對比化合物X、本發明的化合物AX),膜厚為30nm,主體材料和摻雜材料比例為90%:10%。在發光層上再依次蒸鍍ETL膜層(25nm)LiQ膜層(1nm),最後蒸鍍一層金屬Al(100nm)作為電極。
Figure 110117386-A0305-02-0057-70
Figure 110117386-A0305-02-0058-71
評價:
將上述器件進行器件性能測試,在各實施例和比較例中,使用恒定電流電源(Keithley 2400),使用固定的電流密度流過發光元件,使用分光輻射計(CS 2000)測試發光波譜。同時測定電壓值以及測試亮度為初始亮度的90%的時間(LT90)。結果如下:
Figure 110117386-A0305-02-0058-72
Figure 110117386-A0305-02-0059-73
由上面表格中的資料對比可知,使用本發明的化合物作為參雜劑的有機電致發光器件,相較於對比化合物在驅動電壓、發光效率、器件壽命都表現出更加優越的性能。
上述結果表明本發明的化合物具有光、電化學穩定性高,色飽和度高,發光效率高,器件壽命長等優點,可用於有機電致發光器件中。特別是作為紅色發光摻雜體,具有應用於OLED產業的可能。

Claims (12)

  1. 一種金屬絡合物,其具有Ir(La)(Lb)(Lc)的通式,其包含由式(1)所表示的配體La,
    Figure 110117386-A0305-02-0060-74
    其中A1-A4中的一個為C-C鍵與E環相連,一個為C-金屬鍵與金屬相連,一個為CR4,另一個為CR0或者N;A5-A8中一個為CR3,另外三個獨立的表示為CR0或者N;其中R1-R2的個數為最大取代個數;其中R0-R4獨立的選自氫、氘、鹵素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20環烷基、取代的或未取代的C1-C10雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C1-C10烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C2-C20的烯基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C3-C30雜芳基、取代的或未取代的C3-C30芳基矽基、取代或未取代的C0-C20的胺基、氰基、腈、異腈、膦基,其中,且其中R3,R4至少有一個不為氫,當A7為CR0時,R0不為F;其中X獨立地選自O,S,Se,C(R)2,Si(R)2,NR,BR,POR;其中R獨 立地選自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C2-C30的環烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C18雜芳基;所述取代為被氘、F、Cl、Br、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環烷基、C1-C4烷基取代的胺基、氰基、腈、異腈、膦基所取代;所述雜烷基或雜芳基中的雜原子為S、O、N中的至少一個;其中虛線為與金屬銥連接的鍵;其中,La,Lb和Lc三者互不相同,三者中任意的相互兩兩連接形成多齒配體,或者三者通過一個基團連接;其中Lb和Lc均為單陰離子型雙齒配體;所述互不相同為母核結構不相同或母核結構相同但取代基不同或母核結構相同取代基相同但取代基位置不相同;且所述金屬絡合物具有以下式(2)的結構:
    Figure 110117386-A0305-02-0061-75
    其中A為CR0,其中R0、R3-R4獨立的選自氫、氘、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20環烷基、取代的或未取代的C1-C10雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、 取代的或未取代的C6-C30的芳基矽基;且其中R3,R4至少有一個不為氫,R1-R2獨立的選自氫、氘、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20環烷基、取代的或未取代的C1-C10雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳基矽基;其中R1-R2的個數為最大取代個數;其中X獨立地選自O,S,Se,C(R)2,Si(R)2,NR;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C10的烷基、取代的或未取代的C3-C30的環烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C18雜芳基;所述取代為被氘、F、Cl、Br、C1-C4烷基、C3-C6環烷基所取代;所述雜烷基或雜芳基中的雜原子為S、O、N中的至少一個;其中虛綫為與金屬銥連接的鍵;其中,La,Lb和Lc三者互不相同;其中Lb和Lc均為單陰離子型雙齒配體;所述互不相同為母核結構不相同或母核結構相同但取代基不同或母核結構相同取代基相同但取代基位置不相同;其中所述Lb、Lc獨立地選自以下式(a)-式(k)結構之一:
    Figure 110117386-A0305-02-0062-76
    Figure 110117386-A0305-02-0063-77
    其中虛線為與金屬銥連接的鍵;其中Ra,Rb,Rc的個數為最大取代個數,Ra,Rb,Rc獨立的選自氫、氘、鹵素、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C3-C30環烷基、取代的或未取代的C1-C30雜烷基、取代的或未取代的C7-C30芳烷基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C2-C20的烯基、取代的或未取代的C3-C30烷基矽基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C3-C30雜芳基、取代的或未取代的C6-C30芳基矽基、取代或未取代的C0-C20的胺基、氰基、腈、異腈、膦基、或者兩個相鄰的取代基能任選地連接形成環或稠合結構;其中,所述取代為被氘、F、Cl、Br、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C3-C10環烷基、C1-C10烷基取代的胺基、C6-C30芳基、C7-C30芳烷基、氰基、腈、異腈、膦基所取代;以及所述雜烷基或雜芳基中的雜原子中S、O、N中的至少一個。
  2. 如請求項1所述的金屬絡合物,其中A為CH。
  3. 如請求項2所述的金屬絡合物,其中R3為D、C1-C4烷基或至少含有一個D的C1-C4烷基。
  4. 如請求項3所述的金屬絡合物,其中R3為CD3
  5. 如請求項1所述的金屬絡合物,其中R4取代基的位置為金屬Ir-碳鍵的相鄰位置或者為金屬Ir-碳鍵的相對位置。
  6. 如請求項1所述的金屬絡合物,具有如下結構:
    Figure 110117386-A0305-02-0064-78
    其中R1、R2有最大取代個數,R1-R2獨立的選自氫、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6環烷基、取代的或未取代的C7-C20芳烷基、或取代的或未取代的C6-C30芳基,且R1、R2中至少有一個不為氫;R3,R4獨立的選自氫、取代的或未取代的C1-C6烷基,取代的或未取代的C3-C10環烷基,且其中R3,R4至少有一個不為氫;其中X獨立地選自O,S,Se,C(R)2,Si(R)2,NR;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C10的烷基、取代的或未取代的C3-C30的環烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基;以及所述取代為被氘、F、Cl、Br或C1-C4烷基所取代。
  7. 如請求項1至6中任一項所述的金屬絡合物,其中X為O、S、Se、NR、C(R)2;其中R獨立地選自取代的或未取代的C1-C8的烷基。
  8. 如請求項1所述的金屬絡合物,其中La獨立地選自以下結構式之一或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物,
    Figure 110117386-A0305-02-0064-79
    Figure 110117386-A0305-02-0065-80
    Figure 110117386-A0305-02-0066-82
    Figure 110117386-A0305-02-0067-83
    Figure 110117386-A0305-02-0068-84
    Figure 110117386-A0305-02-0069-85
    Figure 110117386-A0305-02-0070-86
    Figure 110117386-A0305-02-0071-87
    Figure 110117386-A0305-02-0072-88
  9. 如請求項1所述的金屬絡合物,其中所述Lb、Lc獨立地選自請求項8中的La1-La1200、La1306中的任一個或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物,且La、Lb和Lc不同時為相同編號的結構。
  10. 如請求項1至8中任一項所述的金屬絡合物,其中Lb與Lc獨立選自以下結構式或者他們對應的部分或完全氘代物或者他們對應的部分或完全氟代物,且Lb和Lc不同時為相同編號的配體;
    Figure 110117386-A0305-02-0073-89
    Figure 110117386-A0305-02-0074-90
    Figure 110117386-A0305-02-0075-91
    Figure 110117386-A0305-02-0076-92
    Figure 110117386-A0305-02-0077-93
    Figure 110117386-A0305-02-0078-94
  11. 一種電致發光器件,其包括:陰極,陽極以及設置在陰極與陽極之間的有機層,所述有機層至少一層包含請求項1至10中任一項所述的金屬絡合物。
  12. 如請求項11所述的電致發光器件,其中所述有機層為發光層,所述請求項1至10中任一項所述的金屬絡合物作為發光層的紅色發光摻雜材料;或者其中所述有機層為空穴注入層,所述請求項1至10中任一項所述的金屬絡合物作為空穴注入層中的空穴注入材料。
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