TWI838585B - 蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法及顯示裝置的製造方法 - Google Patents

Abstract

一種蒸鍍遮罩，係為金屬製的蒸鍍遮罩，其具備：表面，以和蒸鍍源相對向的方式構成；及複數個遮罩孔，分別包含具倒錐台狀的孔部。各遮罩孔的孔部具備：小開口，從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看，具有多角形的緣部，該多角形的緣部包含複數個角部、及分別位於鄰接的角部間的複數個線狀部；及大開口，位於表面，且從和表面相對向的視點來看，具有小開口之緣部的角部相對於小開口的緣部向外側突出之形狀的緣部。從和表面相對向的視點來看，大開口係圍繞著小開口。

Description

蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法及顯示裝置的製造方法

本發明係關於蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、及顯示裝置的製造方法。

有機EL顯示器具備的顯示元件係藉由使用蒸鍍遮罩的蒸鍍法所形成。蒸鍍遮罩具備有表面、背面、及貫通表面與背面之間的複數個遮罩孔。各遮罩孔係開設在表面及背面。遮罩孔的大開口係位於表面，遮罩孔的小開口則位於背面。蒸鍍遮罩用於對蒸鍍對象進行蒸鍍時，蒸鍍遮罩的表面係和蒸鍍源相對向，而且，蒸鍍遮罩的背面則和蒸鍍對象相對向(例如，參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2015-55007號公報

[發明欲解決之課題]

不過，蒸鍍遮罩的遮罩孔在順沿正交於蒸鍍遮罩之表面的平面的剖面中具有倒錐台狀。遮罩孔的小開口具有和顯示元件所要求之形狀對應的形狀。為了形成具有四角形等多角形的顯示元件，遮罩孔的小開口通常係在和蒸鍍遮罩之表面相對向的俯視中具有包含角部的形狀。

另一方面，從蒸鍍源飛到蒸鍍遮罩的蒸鍍材料中，蒸鍍材料飛行的方向與蒸鍍遮罩的表面所形成的角度即為蒸鍍材料的飛行角度。向蒸鍍遮罩飛行的蒸鍍材料中包含具有各種飛行角度的蒸鍍材料。從大開口的中央部附近進入遮罩孔的蒸鍍材料幾乎大部分不論蒸鍍材料的飛行角度如何，均可從大開口飛到小開口。

與此相對地，從大開口的緣部附近進入遮罩孔的一部分蒸鍍材料未能到達小開口，而是堆積於區劃遮罩孔的側面。特別是，即使在大開口的緣部中，從角部附近進入遮罩孔的蒸鍍材料中有許多會因區劃遮罩孔的側面而妨礙到達小開口。因此，經由蒸鍍材料通過小開口而形成的蒸鍍圖案中，會在蒸鍍圖案的膜厚產生偏差，結果，具備蒸鍍圖案的顯示元件內會產生亮度不均的情形。

另外，這種課題在遮罩孔具有倒錐台狀之外的形狀的情況也是同樣。例如，在遮罩孔包含具有從表面向背面之倒錐台形狀的大孔部、及從背面向表面具有錘台形狀的小孔部，且透過大孔部連通於小孔部而形成的開口發揮上述小開口之功能的情況也是同樣。

本發明之目的係在提供可抑制蒸鍍圖案之膜厚的偏差的蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、及顯示裝置的製造方法。 [用以解決課題之手段]

用於解決上述課題的蒸鍍遮罩係為金屬製的蒸鍍遮罩。具備：表面，以和蒸鍍源相對向的方式構成；及複數個遮罩孔，分別包含具倒錐台狀的孔部。各遮罩孔的前述孔部具備：小開口，從和前述蒸鍍遮罩之前述表面相對向的視點來看，具有多角形緣部，該多角形緣部包含複數個角部、及分別位於鄰接的前述角部間的線狀部；及大開口，位於前述表面，從和前述表面相對向的視點來看，具有前述小開口的前述緣部的前述角部具有相對於前述小開口的前述緣部向外側突出之形狀的緣部。從和前述表面相對向的視點來看，前述大開口係圍繞著前述小開口。

用於解決上述課題的蒸鍍遮罩的製造方法係包含：在金屬片的表面及背面的至少一者形成阻劑遮罩；及使用前述阻劑遮罩，在前述金屬片形成複數個遮罩孔的工序。前述複數個遮罩孔的形成，係將分別包含具有倒錐台狀之孔部的前述複數個遮罩孔形成在前述金屬片，使各遮罩孔的前述孔部具備：小開口，從和前述金屬片伸展的平面相對向的視點來看，具有包含複數個角部、及分別位於鄰接的前述角部間的複數個線狀部之多角形的緣部；及大開口，位於前述表面，從和前述表面相對向的視點來看，具有前述小開口之前述緣部的前述角部相對於前述小開口的前述緣部向外側突出之形狀的緣部；從和前述表面相對向的視點來看，前述大開口係圍繞著前述小開口。

用以解決上述課題的顯示裝置之製造方法係包含：準備利用上述蒸鍍遮罩的製造方法所形成的蒸鍍遮罩、及藉由使用前述蒸鍍遮罩的蒸鍍來形成圖案。

若依據上述蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、及顯示裝置的製造方法，因為位在和蒸鍍源相對向的表面的大開口之緣部具有多角形的角部向多角形的外側突出的形狀，故從大開口的角部的附近進入遮罩孔的蒸鍍材料較容易到達小開口。因此，可抑制蒸鍍圖案膜厚之偏差。

上述蒸鍍遮罩中，在和前述表面正交，並且順沿前述小開口之對角方向的剖面中，連結前述小開口之前述角部與對應前述大開口的前述角部的假想直線為第1假想直線，前述表面與前述第1假想直線形成的角度為第1角度；在和前述表面正交，並且順沿正交於前述小開口的1個前述線狀部之方向的剖面中，連結前述小開口之前述緣部與前述大開口之前述緣部的假想直線為第2假想直線，前述表面與前述第2假想直線形成的角度為第2角度；前述第2角度係較前述第1角度更大；從和前述表面相對向的視點來看，前述小開口的前述角部與前述大開口的前述角部之間的距離，係為前述表面與包含前述小開口之前述緣部的平面間之距離的1倍以上1.5倍以下；前述小開口之前述角部的曲率半徑為4.5μm以下。

上述蒸鍍遮罩的製造方法中，在和前述表面正交，並且順沿前述小開口之對角方向的剖面中，連結前述小開口的前述角部與前述大開口所對應的前述角部的假想直線為第1假想直線，前述表面與前述第1假想直線形成的角度為第1角度；在和前述表面正交，並且順沿正交於前述小開口之1個前述線狀部的方向的剖面中，連結前述小開口的前述緣部與前述大開口的前述緣部的假想直線為第2假想直線，前述表面與前述第2假想直線形成的角度為第2角度；前述複數個遮罩孔的形成係：前述第2角度係較前述第1角度更大；從和前述表面相對向的視點來看，前述小開口的前述角部與前述大開口的前述角部之間的距離，係為前述表面與包含前述小開口的前述緣部之平面間的距離的1倍以上1.5倍以下；以前述小開口的前述角部之曲率半徑為4.5μm以下的方式，將前述複數個遮罩孔形成在前述金屬片。

若依據上述蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩的製造方法，由於將小開口之緣部的角部與大開口之緣部的角部間的距離擴大，而且在區劃遮罩孔的側面，可將連結小開口之緣部的角部與大開口之緣部的角部的部分的傾斜角縮小，故蒸鍍材料容易通過小開口之緣部的角部。而且，透過小開口的緣部之角部具有曲率，蒸鍍材料得以更容易通過小開口之緣部的角部。結果，在蒸鍍圖案中，角部之膜厚小於中央部之膜厚的情形會受到抑制，故可抑制蒸鍍圖案的膜厚偏差。

上述蒸鍍遮罩中，前述蒸鍍遮罩又具備屬於前述表面相反側之面的背面，前述複數個小開口也可位在前述背面。若依據該蒸鍍遮罩，相較於具有和要形成在蒸鍍對象的蒸鍍圖案對應之形狀的小開口位於表面和背面之間的情況，在蒸鍍對象形成蒸鍍圖案之際，可將小開口和蒸鍍對象之間的距離縮小。因此，相較於小開口位在表面與背面之間的情況，可抑制形成於蒸鍍對象的蒸鍍圖案內的膜厚偏差。

上述蒸鍍遮罩中，前述蒸鍍遮罩也可具有1μm以上20μm以下的厚度。若依據該蒸鍍遮罩，相較於蒸鍍遮罩的厚度超過20μm的情況，能夠將可貫通蒸鍍遮罩形成用金屬片之大開口的大小縮小。因此，相較於蒸鍍遮罩的厚度超過20μm的情況，蒸鍍遮罩可以更高密度具備複數個遮罩孔。

上述蒸鍍遮罩中，形成前述蒸鍍遮罩的材料亦可為鐵鎳系合金或者鐵鎳鈷系合金。若依據該蒸鍍遮罩，使用蒸鍍遮罩對玻璃基板進行蒸鍍的情況中，可抑制伴隨著蒸鍍遮罩及玻璃基板的加熱，而使蒸鍍遮罩的膨脹程度和玻璃基板的膨脹程度之差過度變大。因此，使用蒸鍍遮罩形成於玻璃基板的蒸鍍圖案的精確度因蒸鍍遮罩的膨脹率和玻璃基板的膨脹率之差而降低的情形可獲得抑制。 [發明之效果]

若依據本發明，可抑制蒸鍍圖案之膜厚的偏差。

[用以實施發明的形態]

茲參照圖1至圖10，就蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、及顯示裝置的製造方法之一實施形態加以說明。以下依序說明蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、遮罩裝置、及實施例。

[蒸鍍遮罩] 繼參照圖1至圖5說明蒸鍍遮罩。 圖1係揭示蒸鍍遮罩所具備的圖案區域、及周邊區域的一部分。

圖1所示的蒸鍍遮罩10係為金屬製。蒸鍍遮罩10具備和蒸鍍源相對向的表面10F及背面10R。蒸鍍遮罩10具備包含具有倒錐台狀之孔部的複數個遮罩孔11。蒸鍍遮罩10中，形成有複數個遮罩孔11的區域為圖案區域R1，屬於圍繞圖案區域R1的區域且未形成遮罩孔11的區域為周邊區域R2。

本實施形態中，複數個遮罩孔11係交錯狀排列。另外，複數個遮罩孔11也可依交錯狀之外的配置規則排列。交錯狀之外的規則也可為例如正方格子。

蒸鍍遮罩10具有例如1μm以上20μm以下的厚度T。圖案區域R1的厚度也可較周邊區域R2的厚度更小。在此情況中，蒸鍍遮罩10的厚度係為周邊區域R2的厚度。形成蒸鍍遮罩10的材料係為鐵鎳系合金。鐵鎳系合金可為含有例如36質量%之鎳的合金，亦即恆範鋼(Invar)。換言之，蒸鍍遮罩10實質上係以鐵鎳系合金製成。

圖2係顯示從和蒸鍍遮罩10之表面10F相對向的視點來看的遮罩孔11之形狀。 如圖2所示，遮罩孔11包含小開口11S與大開口11L。小開口11S係為孔部的一方開口。從和表面10F相對向的視點來看，大開口11L係圍繞著小開口11S。本實施形態中，小開口11S係位於蒸鍍遮罩10的背面10R。從和蒸鍍遮罩10的表面10F相對向的視點來看，小開口11S具有多角形的緣部11SE，其包含複數個角部11SC、及位於角部11SC之間的線狀部11SL。

本實施形態中，小開口11S的緣部11SE具有四角形。小開口11S的緣部11SE係具備4個線狀部11SL、及4個角部11SC。4個線狀部11SL包含2組互相平行的一對線狀部11SL，各組所包含的線狀部11SL係順沿和另一組所包含的線狀部11SL成正交的方向延伸。各角部11SC係藉順沿互相正交的方向延伸的線狀部11SL包夾，並且，具有預定的曲率的線段。小開口11S中，互相平行的線狀部11SL間的距離為小開口寬度WS。

大開口11L係為各孔部之另一方開口。大開口11L具有緣部11LE，其係由小開口11S之緣部11SE所具有的多角形角部向多角形的外側突出的形狀。亦即，大開口11L具有小開口11S的緣部11SE的角部11SC相對於小開口11S的緣部11SE向外側突出之形狀的緣部11LE。大開口11L係位於蒸鍍遮罩10的表面10F。從和蒸鍍遮罩10的表面10F相對向的視點來看，大開口11L具有緣部11LE，其具有數量和小開口11S相同之角部11LC的形狀。從和表面10F相對向的視點來看，小開口11S的緣部11SE的角部11SC、與大開口11L的緣部11LE的角部11LC間的距離的最大值為角部間距離DC。

本實施形態中，從和蒸鍍遮罩10之表面10F相對向的視點來看，大開口11L的緣部11LE具備4個線狀部11LL、及4個角部11LC。4個線狀部11LL包含2組互相平行的一對線狀部，各組所包含的線狀部11LL係沿著和另一組所包含的線狀部11LL正交的方向延伸。從和蒸鍍遮罩10的表面10F相對向的視點來看，4個線狀部11LL係包含在具有和小開口11S大致相似形狀的假想緣部VE。

大開口11L的緣部11LE又具備4個從假想緣部VE朝離開小開口11S的方向突出的突出部11LP。各突出部11LP係被互相正交的2個線狀部11LL所包夾。從和蒸鍍遮罩10的表面10F相對向的視點來看，各突出部11LP所區劃的區域具有大致三角形。各角部11LC係屬於互不相同的1個突出部11LP。從和蒸鍍遮罩10之表面10F相對向的視點來看，各角部11LC在該角部11LC所屬的突出部11LP之中包含了自小開口11S起算的距離最大的部分。突出部11LP中，角部11LC具有的角度為第3角度θ3。第3角度θ3係為由包夾角部11LC的2個線狀部所形成的角度。詳細而言，該角度係為由假想緣部VE與突出部11LP相交部分的各個突出部11LP之切線所形成的角度。

區劃遮罩孔11的側面11SD係連結大開口11L與小開口11S。側面11SD具有使平行於蒸鍍遮罩10之表面10F的剖面的遮罩孔11之面積從大開口11L向小開口11S縮小的傾斜。亦即，遮罩孔11在和蒸鍍遮罩10之表面10F正交的剖面中具有倒錐台狀。依此方式，本實施形態中，各遮罩孔11係由具有倒錐台狀的1個孔部所形成。

以下參照顯示蒸鍍遮罩10之剖面構造的圖3及圖4，將遮罩孔11的形狀作更詳細的說明。另外，圖3為順沿圖2所示的III‐III線的剖面，其中顯示了蒸鍍遮罩10在順沿小開口11S之對角方向的剖面的構造。與此相對地，圖4為顯示蒸鍍遮罩10在順沿圖2所示的IV‐IV線的剖面，且為順沿和小開口11S之緣部11SE的1個線狀部11SL正交的方向之剖面的構造。

如圖3所示，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交，且順沿小開口11S之對角方向的剖面中，將小開口11S之緣部11SE的角部11SC與大開口11L之緣部11LE的角部11LC連結的假想直線為第1假想直線L1。第1假想直線L1為將小開口11S的角部11SC、與和該小開口11S的角部11SC對應的大開口11L的角部11LC連結的假想直線。亦即，第1假想直線L1為將小開口11S的角部11SC、與從和蒸鍍遮罩10的表面10F相對向的視點來看自該角部11SC起算的距離為最小的大開口11L的角部11LC連結的假想直線。 圖3所示的例子中，區劃遮罩孔11的側面11SD具有較第1假想直線L1更向背面10R凹窪的弧狀。另外，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交且順沿小開口11S之對角方向的剖面中，區劃遮罩孔11的側面11SD也可具有較第1假想直線L1更向表面10F突出的弧狀。或者，側面11SD也可和第1假想直線L1一致。

蒸鍍遮罩10的表面10F與第1假想直線L1形成的角度為第1角度θ1。另外，因蒸鍍遮罩10的表面10F與蒸鍍遮罩10的背面10R為大致平行，故背面10R與第1假想直線L1形成的角度係等於第1角度θ1。

角部間距離DC為蒸鍍遮罩10之表面10F與包含小開口11S之緣部11SE的平面間距離的1倍以上1.5倍以下。本實施形態中，蒸鍍遮罩10的表面10F與包含小開口11S之緣部11SE的平面間的距離係等於蒸鍍遮罩10的厚度T。如上所述，蒸鍍遮罩10的厚度T可為例如1μm以上20μm以下。因此，角部間距離DC可為例如包含在1μm以上30μm以下範圍的任意值。

如圖4所示，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交，且順沿正交於小開口11S之緣部11SE的1個線狀部11SL之方向的剖面中，將小開口11S之緣部11SE和大開口11L之緣部11LE連結的假想直線為第2假想直線L2。圖4所示的例子中，區劃遮罩孔11的側面11SD具有較第2假想直線L2更向背面10R凹窪的弧狀。另外，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交，且順沿正交於小開口11S之緣部11SE的1個線狀部11SL之方向的剖面中，區劃遮罩孔11的側面11SD也可具有較第2假想直線L2更向表面10F突出的弧狀。或者，側面11SD也可和第2假想直線L2一致。

蒸鍍遮罩10之表面10F和第2假想直線L2形成的角度為第2角度θ2。另外，因蒸鍍遮罩10之表面10F和蒸鍍遮罩10之背面10R為大致平行，故背面10R和第2假想直線L2形成的角度係等於第2角度θ2。第2角度θ2係較第1角度θ1更大。

圖5為將從和蒸鍍遮罩10之表面10F相對向的視點來看的小開口11S之一部分的放大顯示圖。 如圖5所示，且如上所述，小開口11S之緣部11SE的角部11SC具有曲率。角部11SC具有曲率中心C位於小開口11S內的曲率。角部11SC的曲率半徑R為4.5μm以下。

[蒸鍍遮罩的製造方法] 參照圖6至圖9，說明蒸鍍遮罩10的製造方法。 蒸鍍遮罩10的製造方法係包括：在金屬片之表面及背面的至少一者形成阻劑遮罩；及使用阻劑遮罩，在金屬片形成複數個遮罩孔。以下，參照附圖更詳細地說明蒸鍍遮罩10的製造方法。另外，圖6、圖7、及圖9中，在圖示的權宜上，形成於金屬片的遮罩孔係作示意性顯示。

如圖6所示，在製造蒸鍍遮罩10之際，首先係準備金屬片10M。形成金屬片10M的材料為例如鐵鎳系合金。鐵鎳系合金可為例如恆範鋼。金屬片10M具有例如1μm以上50μm以下的厚度。另外，在金屬片10M的厚度較蒸鍍遮罩10的厚度T更厚時，可在對金屬片10M形成阻劑層之前，透過將金屬片10M蝕刻，而將金屬片10M的厚度薄化到蒸鍍遮罩10所要求的厚度為止。

接著，在金屬片10M之表面10MF形成阻劑層RL。阻劑層RL可由正型的阻劑來形成，也可由負型的阻劑來形成。阻劑層RL可透過乾膜阻劑貼附於金屬片10M之表面10MF而形成於金屬片10M的表面。或者，阻劑層RL也可透過將含有阻劑層RL形成用材料的塗液塗布在金屬片10M之表面10MF所形成。

如圖7所示，透過對阻劑層RL進行曝光和顯影，即可從阻劑層RL形成阻劑遮罩RM。阻劑遮罩RM具有遮罩孔RMh，其具有和形成在金屬片10M的遮罩孔形狀相應的形狀。

圖8係顯示從和金屬片10M的表面10MF相對向的視點來看的阻劑遮罩RM的平面構造。另外，圖8所示的阻劑遮罩RM具有的遮罩孔RMh的形狀係為遮罩孔RMh可具有的一個形狀例。

如圖8所示，遮罩孔RMh具有區劃遮罩孔RMh的緣部RMhE。遮罩孔RMh的緣部RMhE具有多角形的假想緣部RMhV之角部向多角形的外側突出的形狀。圖8所示的例子中，遮罩孔RMh的緣部RMhE具有四角形的假想緣部RMhV之角部向四角形的外側突出的形狀。遮罩孔RMh的緣部RMhE具有的形狀大致等於用阻劑遮罩RM形成的大開口11L之緣部11LE所具有的形狀。而且，假想緣部RMhV具有的形狀係大致等於小開口11S之緣部11SE具有的形狀。

遮罩孔RMh之緣部RMhE具備4個突出部RMhP、及4個線狀部RMhL。在遮罩孔RMh的緣部RMhE中，1個突出部RMhP係被2個線狀部RMhL所包夾。假想緣部RMhV係包含4個線狀部RMhL。各突出部RMhP具有1個角部RMhC。從和金屬片10M之表面10MF相對向的視點來看，以各突出部RMhP區劃的區域係具有大致三角形。各突出部RMhP的形狀係大致等於大開口11L的緣部11LE所具有的突出部11LP之形狀。

遮罩孔RMh中，互相大致平行的2個線狀部RMhL間的距離為遮罩孔寬度WRMh。假想緣部RMhV的角部和從該角部突出的突出部RMhP的角部RMhC間的距離為角部修正值RMhDC。突出部RMhP中，角部RMhC所具有的角度為第4角度θ4。遮罩孔RMh中，透過將遮罩孔寬度WRMh、角部修正值RMhDC、及第4角度θ4的至少1個改變，形成於金屬片10M的遮罩孔的形狀就會改變。

如圖9所示，藉由使用阻劑遮罩RM的濕式蝕刻，即可在金屬片10M形成複數個遮罩孔11M。藉此方式，金屬片10M的表面10MF與背面10MR即可形成具有開口的遮罩孔11M。透過從金屬片10M除去阻劑遮罩RM，即可獲得上述的蒸鍍遮罩10。另外，金屬片10M中，表面10MF係對應於蒸鍍遮罩10的表面10F，背面10MR係對應於蒸鍍遮罩10的背面10R，而遮罩孔11M則對應於蒸鍍遮罩10的遮罩孔11。

[遮罩裝置] 接著，參照圖10說明遮罩裝置。 如圖10所示，遮罩裝置20具備有：框架21、及複數個蒸鍍遮罩10。圖10所示的例子中，遮罩裝置20雖具備3個蒸鍍遮罩10，但遮罩裝置20也可具備2個以下的蒸鍍遮罩10，也可具備4個以上的蒸鍍遮罩10。框架21具有可支撐複數個蒸鍍遮罩10的矩形框架狀。框架21係安裝於用以進行蒸鍍的蒸鍍裝置。框架21在各蒸鍍遮罩10位置所在的大致整個範圍具有貫通框架21的框架孔21H。

各蒸鍍遮罩10具有沿著1個方向延伸的帶狀。各蒸鍍遮罩10係具備：複數個圖案區域R1、及圍繞圖案區域R1的周邊區域R2。圖10所示的例子中，蒸鍍遮罩10係具有3個圖案區域R1，但蒸鍍遮罩10也可具有2個以下的圖案區域R1，也可具有4個以上的圖案區域R1。

各蒸鍍遮罩10的周邊區域R2中，在蒸鍍遮罩10延伸的方向上包夾複數個圖案區域R1的一對部位係分別固定於框架21。蒸鍍遮罩10係以黏接或熔接等手段固定於框架21。

使用蒸鍍遮罩10製造顯示裝置的方法係包含：藉上述蒸鍍遮罩10的製造方法準備蒸鍍遮罩10、及藉使用蒸鍍遮罩10的蒸鍍形成圖案。

顯示裝置的製造方法中，首先係將搭載有蒸鍍遮罩10的遮罩裝置20安裝在蒸鍍裝置的真空槽內。此時，以使玻璃基板等蒸鍍對象和背面10R相對向，並且使蒸鍍源和表面10F相對向的方式，將遮罩裝置20安裝於真空槽內。然後，將蒸鍍對象搬入蒸鍍裝置的真空槽，藉蒸鍍源使蒸鍍材料昇華。藉此，具有隨順小開口11S之形狀的圖案即可形成於蒸鍍對象中和小開口11S相對向的區域。本實施形態中，蒸鍍材料係為用以形成屬於顯示裝置之一例的有機EL顯示裝置之像素的有機發光材料。另外，蒸鍍材料也可為用以形成顯示裝置之像素電路所具有的像素電極的導電性材料。

[實施例] 參照表1至表3說明實施例。 [實施例1] 準備具有20μm厚度的恆範鋼製金屬片。藉由使用48%氯化鐵將金屬片蝕刻，使金屬片的厚度薄化至3.5μm為止。接著，使用正型阻劑(THMR‐iP5700，東京應化工業(股)製)(THMR為註冊商標)，在金屬片的表面形成阻劑層。然後，透過將阻劑層曝光，並將已經曝光的阻劑層顯影而形成阻劑遮罩。藉此方式，形成從和阻劑遮罩之表面相對向的視點來看具有和圖8所示的遮罩孔相同形狀之遮罩孔的阻劑遮罩。

實施例1中，如以下所示之表1所載，可確認為在1個遮罩孔中，遮罩孔寬度WRMh為18.3μm，角部修正值RMhDC為3.3μm，第4角度θ4的設計值為30.2°。藉此方式，係以蒸鍍遮罩之小開口寬度WS的目標值為20μm，且遮罩孔之節距的目標值為30μm之方式形成有複數個遮罩孔。

接著，藉由使用阻劑遮罩的濕式蝕刻在金屬片形成複數個遮罩孔。此時，係使用48%氯化鐵作為蝕刻液。在金屬片的蝕刻中，將形成於金屬片的孔部到達金屬片之背面的時間設為1時，係將蝕刻金屬片的時間設定為2。亦即，蝕刻時間係設定為和要施以濕式蝕刻的金屬片的厚度T相應的長度。最後，藉由將蝕刻後的金屬片浸漬在60℃的10%氫氧化鈉水溶液中2分鐘，使阻劑遮罩從金屬片除去。藉此方式，製得實施例1的蒸鍍遮罩。

[實施例2] 除了將實施例1中的金屬片之厚度從20μm薄化至4.0μm，遮罩孔寬度WRMh設為18.0μm，角部修正值RMhDC為3.0μm，並且，第4角度θ4設為30.1°之外，其他則依照和實施例1相同的方法製得實施例2的蒸鍍遮罩。

[實施例3] 除了將實施例1中的金屬片之厚度從20μm薄化至4.5μm，遮罩孔寬度WRMh設為17.8μm，角部修正值RMhDC為2.8μm，並且，第4角度θ4為30.2°之外，其他係依照和實施例1相同的方法製得實施例3的蒸鍍遮罩。

[實施例4] 除了將實施例2中的角部修正值RMhDC設為2.0μm，並且，將第4角度θ4設為30.3°之外，其他係依照和實施例2相同的方法製得實施例4的蒸鍍遮罩。

[實施例5] 除了將實施例2中的角部修正值RMhDC設為2.5μm，並且，將第4角度θ4設為29.9°之外，其他係藉由和實施例2相同的方法製得實施例5的蒸鍍遮罩。

[實施例6] 除了將實施例4中的角部修正值RMhDC設為1.5μm，並且，將第4角度θ4設為29.8°之外，其他係依照和實施例4相同的方法製得實施例6的蒸鍍遮罩。

[實施例7] 除了將實施例1中的角部修正值RMhDC設為4.3μm，並且，將第4角度θ4設為30.0°之外，其他係依照和實施例1相同的方法製得實施例7的蒸鍍遮罩。

[比較例1] 除了將實施例1中的角部修正值RMhDC設為0.8μm，並且，將第4角度θ4設為29.9°之外，其他係依照和實施例1相同的方法製得比較例1的蒸鍍遮罩。

[表1]

	遮罩孔寬度 WRMh(μm)	角部修正值 RMhDC(μm)	第4角度 θ4(°)
實施例1	18.3	3.3	30.2
實施例2	18.0	3.0	30.1
實施例3	17.8	2.8	30.2
實施例4	18.0	2.0	30.3
實施例5	18.0	2.5	29.9
實施例6	18.0	1.5	29.8
實施例7	18.3	4.3	30.0
比較例1	18.3	0.8	29.9

[測量結果] 針對實施例1至實施例7的蒸鍍遮罩及比較例1的蒸鍍遮罩，使用共焦點雷射顯微鏡(OLS‐4000，Olympus(股)製)來測量各種尺寸。各蒸鍍遮罩的測量結果係如以下表2所示。

[表2]

	小開口寬度 WS(μm)	第1角度θ1(°)	第2角度 θ2(°)	厚度T (μm)	角部間距離 DC(μm)	DC/T	曲率半徑 R(μm)	第3角度 θ3(°)
實施例1	20.4	30.2	45.1	3.5	4.9	1.4	3.0	51.6
實施例2	20.3	31.1	44.8	4.0	4.9	1.2	3.2	51.5
實施例3	19.9	30.5	44.7	4.5	5.1	1.1	3.9	51.6
實施例4	20.4	31.0	45.2	4.0	4.0	1.0	4.4	51.8
實施例5	20.1	30.1	45.3	4.0	4.6	1.2	3.8	51.1
實施例6	20.1	45.0	44.9	4.0	3.3	0.8	7.2	51.0
實施例7	20.4	29.9	44.7	3.5	6.2	1.8	-	51.3
比較例1	19.8	45.2	45.0	3.5	2.6	0.7	8.5	51.1

如表2所示，實施例1的蒸鍍遮罩中，藉由從和背面相對的方向拍攝的透射影像，可確認具有大致20μm的寬度，具有大致正方形的小開口係以大致10μm的間隔排列成正方格子狀。另外，將互相平行的一對線狀部間的距離作為小開口的寬度進行測定。此外，即使在實施例2至實施例6的蒸鍍遮罩、及比較例1的蒸鍍遮罩中，經確認具有大致20μm的寬度，且具有大致正方形的小開口係以大致10μm的間隔排列成正方格子狀。相對於此，實施例7的蒸鍍遮罩中，各小開口的寬度雖為大致20μm，但角部的蝕刻過度進行的結果，經確認各小開口的緣部在左右方向及上下方向兩方向均具有頸縮的四角形。

再者，在實施例1至實施例7的任一情況中，均經確認大開口的緣部具有四角形的角部向正方形的外側突出的形狀。相對於此，比較例1中，經確認大開口的緣部具有大致正方形，並且正方形的角部未向正方形的外側突出。

經確認第1角度θ1在實施例1中為30.2°，在實施例2中為31.1°，在實施例3中為30.5°。再者，經確認第1角度θ1在實施例4中為31.0°，在實施例5中為30.1°。而且，經確認第1角度θ1在實施例6中為45.0°，在實施例7中為29.9°，在比較例1中為45.2°。

經確認第2角度θ2在實施例1中為45.1°，在實施例2中為44.8°，在實施例3中為44.7°。再者，經確認第2角度θ2在實施例4中為45.2°，在實施例5中為45.3°。再者，經確認第2角度θ2在實施例6中為44.9°，在實施例7中為44.7°，在比較例1中為45.0°。

依此方式，實施例1至實施例5的蒸鍍遮罩及實施例7的蒸鍍遮罩中，經確認第2角度θ2係較第1角度θ1為大。相對於此，實施例6及比較例1中，經確認第1角度θ1係較第2角度θ2為大。

經確認角部間距離DC在實施例1及實施例2中為4.9μm，在實施例3中為5.1μm，在實施例4中為4.0μm，在實施例5中為4.6μm。再者，經確認角部間距離DC在實施例6中為3.3μm，在實施例7中為6.2μm，在比較例1中為2.6μm。

亦即，角部間距離DC相對於蒸鍍遮罩厚度T的比(DC/T)，經確認在實施例1中為1.4，在實施例2中為1.2，在實施例3中為1.1。再者，角部間距離DC相對於蒸鍍遮罩厚度T的比，經確認在實施例4中為1.0，在實施例5中為1.2。此外，角部間距離DC相對於蒸鍍遮罩之厚度T的比，經確認在實施例6中為0.8，在實施例7中為1.8，在比較例1中為0.7。如此，實施例1至實施例5的蒸鍍遮罩中，經確認角部間距離DC相對於蒸鍍遮罩厚度T的比係包含於1以上1.5以下的範圍內，另一方面，實施例6及實施例7的蒸鍍遮罩及比較例1的蒸鍍遮罩中，角部間距離DC相對於蒸鍍遮罩厚度T的比則未包含於1以上1.5以下的範圍。

再者，經確認小開口的緣部所具備的角部之曲率半徑R在實施例1中為3.0μm，在實施例2中為3.2μm，在實施例3中為3.9μm。此外，經確認曲率半徑R在實施例4中為4.4μm，在實施例5中為3.8μm，在實施例6中為7.2μm。而且，經確認曲率半徑R在比較例1中為8.5μm。如此，經確認實施例1至實施例5的蒸鍍遮罩中，曲率半徑R為4.5μm以下，另一方面，實施例6及比較例1的蒸鍍遮罩中，曲率半徑R超過4.5μm。另外，實施例7中，經確認小開口的緣部在左右方向及上下方向兩者均具有頸縮，且在角部中不具有曲率。

又，經確認第3角度θ3在實施例1中為51.6°，在實施例2中為51.5°，在實施例3中為51.6°。經確認第3角度θ3在實施例4中為51.8°，在實施例5中為51.1°，在實施例6中為51.0°。經確認第3角度θ3在實施例7中為51.3°，在比較例1中為51.1°。另外，比較例1中的第3角度θ3係設定在大開口所具有之角部的角度。

[評估結果] 使用實施例1至實施例7的各個蒸鍍遮罩、及比較例1的各個蒸鍍遮罩，在蒸鍍對象上形成蒸鍍圖案。此時，係使用玻璃基板作為蒸鍍對象，而且使用有機發光材料作為用以形成蒸鍍圖案的蒸鍍材料。

使用各蒸鍍遮罩來形成以15行且15列排列成格子狀的四角形蒸鍍圖案。然後，針對該蒸鍍圖案中位於中央的9行9列的蒸鍍圖案，計算膜厚的偏差。此時，將各蒸鍍圖案中央部的膜厚加以測量，並將該膜厚視為蒸鍍圖案膜厚中的最大值MM。此外，將各蒸鍍圖案之角部的膜厚加以測量，將該膜厚視為蒸鍍圖案膜厚中的最小值Mm。另外，使用表面形狀測定器(Dektak 6M，Veecо公司製)測量各蒸鍍圖案的膜厚。然後，將根據以下式(1)計算出的膜厚偏差為5%以下的情況設為「○」，10%以下的情況設為「△」，超過10%的情況設為「×」。 100×｛(MM-Mm)/(MM＋Mm)｝/2(%) …式(1) 根據上述式(1)計算的膜厚偏差係如下列表3所示。

[表3]

	膜厚偏差 (%)	評估
實施例1	4.1	○
實施例2	4.3	○
實施例3	4.9	○
實施例4	5.0	○
實施例5	4.7	○
實施例6	9.2	△
實施例7	4.0	○
比較例1	10.3	×

如表3所示，經確認評估實施例1至實施例5及實施例7的蒸鍍遮罩，結果為「○」。評估實施例6的蒸鍍遮罩的結果為「△」，另一方面，比較例1之蒸鍍遮罩的評估結果為「×」。依此方式，若依據實施例1至實施例7的蒸鍍遮罩，相較於比較例1，經確認蒸鍍圖案膜厚的偏差可獲得抑制。

再者，角部間距離DC相對於厚度T的比未達1的情況中，相較於1以上的情況，經確認蒸鍍圖案的膜厚的偏差有變大的傾向。相對於此，角部間距離DC相對於厚度T的比超過1.5的情況，經確認蒸鍍圖案膜厚的偏差很小，另一方面，蒸鍍圖案的緣部相對於所期望的多角形具有頸縮的形狀。依此方式，為了抑制蒸鍍圖案膜厚的偏差，並且提高蒸鍍圖案的形狀精確度，角部間距離DC相對於厚度T的比可說較佳為1以上1.5以下。

又，在曲率半徑R超過4.5μm的情況中，相較於4.5μm以下的情況，經確認蒸鍍圖案的膜厚的偏差有變大的傾向。意即，為了抑制蒸鍍圖案的膜厚的偏差，曲率半徑R可謂較佳為4.5μm以下。

如以上所說明，若依據蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法、及顯示裝置之製造方法的一個實施形態，可獲得下述的效果。 (1)從大開口11L的角部11LC附近進入遮罩孔11的蒸鍍材料由於變得更容易到達小開口11S，故蒸鍍圖案的膜厚偏差可受到抑制。

(2)蒸鍍圖案中，因角部的膜厚較中央部的膜厚更小的情形可受到抑制，故可將蒸鍍圖案的膜厚偏差加以抑制。

(3)相較於具有和形成在蒸鍍對象的蒸鍍圖案相應之形狀的小開口11S位在表面10F與背面10R之間的情況，小開口11S和蒸鍍對象之間的距離可以縮小，故形成於蒸鍍對象的蒸鍍圖案內之膜厚偏差可加以抑制。

(4)相較於蒸鍍遮罩10的厚度超過20μm的情況，因可將貫通金屬片10M的大開口11L之大小縮小，故蒸鍍遮罩10可具備更高密度的複數個遮罩孔11。

(5)由於伴隨著蒸鍍遮罩10及玻璃基板的加熱，蒸鍍遮罩10的膨脹程度與玻璃基板的膨脹程度差異變得過大的情形會受到抑制，故形成於玻璃基板之蒸鍍圖案的精確度因蒸鍍遮罩10的膨脹率與玻璃基板的膨脹率之差而降低的情形可受到抑制。

另外，上述的實施形態可依下述方式加以變更並實施。 [大開口] ・大開口11L的緣部11LE所包含的突出部11LP之形狀可如下述方式加以變更。亦即，如下文參照的各圖面所示，從和蒸鍍遮罩10之表面10F相對向的視點來看，突出部11LP所區劃的區域可具有多種樣式的形狀。

例如，如圖11所示，突出部11LP區劃的區域可具有大致長方形，也可如圖12所示，具有倒梯形。再者，如圖13所示，突出部11LP所區劃的區域可具有大致梯形，也可如圖14所示，具有大致長方形，而且，角部11LC可具有直線形。再者，或者，如圖15所示，突出部11LP區劃的區域可具有大致正方形，而且，突出部11LP具有的3個角部可位在較假想緣部VE更外側。再者，或者，如圖16所示，突出部11LP區劃的區域可具有大致圓形。

即使是突出部11LP所區劃的區域具有上述任一形狀的情況中，透過小開口11S的緣部11SE所具有的多角狀角部具有從多角狀向外側突出的形狀，大開口11L的緣部11LE可獲得依據上述(1)的效果。

再者，即使是突出部11LP區劃的區域具有上述任一形狀的情況，角部間距離DC也可為相對於蒸鍍遮罩10之厚度T的1倍以上1.5倍以下。藉此，在區劃遮罩孔11的側面11SD中，也可將連結小開口11S之緣部11SE的角部11SC、和大開口11L之緣部11LE的角部11LC之部位的傾斜角縮小。

[角部數量] ・小開口11S的緣部11SE也可具有四角形以外的多角形。小開口11S可具備例如具有5個以上角部11SC的多角形。大開口11L的緣部11LE可具有例如5個以上的角部11LC。

圖17顯示了小開口11S的緣部11SE所具有的形狀的1個變化例。 如圖17所示，小開口11S的緣部11SE具有大致正八角形。小開口11S的緣部11SE係包含8個線狀部11SL及8個角部11SC。各角部11SC的曲率半徑R係和上述實施形態同樣為4.5μm以下。

大開口11L的緣部11LE包含有8個線狀部11LL、8個角部11LC、及8個突出部11LP。各角部11LC係屬於互不相同的1個突出部11LP。各突出部11LP區劃的區域係和圖11所示的變化例同樣具有大致長方形，且角部11LC具有曲率。另外，關於各突出部11LP方面，亦可應用先前參照圖2及圖12至圖16說明的各突出部11LP。

另外，小開口11S的緣部11SE具有四角形之外的多角形時，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交且順沿包含小開口11S的1個角部11SC及和該角部11SC對應的大開口11L之角部11LC的平面的剖面中，可將第1假想直線L1加以定義。再者，小開口11S的緣部11SE具有四角形以外的多角形時，在和蒸鍍遮罩10的表面10F正交且順沿包含小開口11S的1個線狀部11SL、及與該線狀部11SL平行的大開口11L之線狀部11LL的平面的剖面中，可將第2假想直線L2加以定義。

[遮罩孔] ・遮罩孔也可具有2個孔部。 亦即，如圖18所示，蒸鍍遮罩30所具備的遮罩孔31也可包含屬於1個孔部的大孔部31a及屬於另一孔部的小孔部31b。在蒸鍍遮罩30之厚度方向的中途，大孔部31a係連通於小孔部31b。大孔部31a在表面30F具有大開口31L，並且具有屬於和大開口31L相反側之開口的小開口31S。小孔部31b係和大孔部31a一起共有小開口31S，並且具有屬於和小開口31S相反側之開口，且開設於背面30R的背面開口31R。另外，大孔部31a和小孔部31b連通的部位、與背面30R之間的距離為階梯差SH。在蒸鍍圖案中抑制因陰影效應而產生的亮度不均方面，階梯差SH以小為宜。在遮罩孔31具備2個孔部的情況中，可抑制蒸鍍遮罩30的解析度降低，同時能使蒸鍍遮罩30的厚度增厚。

再者，蒸鍍遮罩30的表面30F與包含小開口31S之緣部之平面間的距離D係和上述的實施形態同樣，角部間距離DC可具有該距離D的1倍以上1.5倍以下的大小。

在此情況中，蒸鍍遮罩30的大開口31L，透過小開口31S之緣部所具有的多角形角部具有從多角形突出的形狀，可獲得依據上述(1)的效果。

・蒸鍍遮罩10所具備的遮罩孔11也可不符下述條件中的至少一者。

(條件A)第2角度θ2係較第1角度θ1為大。 (條件B)角部間距離DC為蒸鍍遮罩10之表面與包含小開口11S之緣部11SE的平面間距離的1倍以上1.5倍以下。 (條件C)小開口11S之緣部11SE的角部11SC的曲率半徑R為4.5μm以下。

即使遮罩孔11在不符條件A至條件C之至少1項的情況中，透過大開口11L之緣部11LE具有小開口11S之緣部11SE所具有的多角形角部向多角形的外側突出的形狀，可獲得依據上述(1)的效果。

[形成蒸鍍遮罩的材料] ・形成蒸鍍遮罩10的材料也可為鐵鎳系合金以外的金屬。形成蒸鍍遮罩10的材料也可為鐵鎳鈷系合金，例如，包含32質量%的鎳及4質量%以上5質量%以下的鈷合金，亦即超恆範鋼等。形成蒸鍍遮罩10的材料也可為鐵鉻鎳系合金，亦即鉻鎳系不銹鋼。鉻鎳系不銹鋼可為例如SUS304。另外，相較於鐵鎳系合金及鐵鎳鈷系合金，鐵鉻鎳系合金的熱膨脹係數甚大。因此，在蒸鍍時，蒸鍍遮罩10的溫度上升度甚小的情況中，也可使用鐵鉻鎳系合金。再者，在蒸鍍遮罩10的溫度上升度更大的情況中，以使用鐵鎳系合金、或者鐵鎳鈷系合金為佳。

在該情況中，透過小開口11S之緣部11SE所具有的多角形角部具有從多角形向外側突出的形狀，大開口11L的緣部11LE也可獲得依據上述(1)的效果。

[蒸鍍遮罩的厚度] ・蒸鍍遮罩的厚度也可較20μm更厚。在該情況中，透過小開口11S的緣部11SE所具有的多角形角部具有向多角形的外側突出的形狀，大開口11L的緣部11LE也可獲得依據上述(1)的效果。

[蒸鍍遮罩] ・蒸鍍遮罩10也可具備相當於圖案區域R1的遮罩部、及相當於周邊區域R2的副框架。在此情況中，副框架和遮罩部係為各別件體，而且，副框架具有副框架孔。還有，各遮罩部係以將互不相同的副框架孔閉塞的方式安裝在副框架。結果，蒸鍍遮罩10中，遮罩部的數量和副框架孔的數量成為相同數量。遮罩部也可利用黏接安裝於副框架，也可藉熔接安裝於副框架。

另外，在此情況中，因可藉副框架支持遮罩部，相較於遮罩部和周邊部成為一體的情況，可將遮罩部的厚度薄化。在形成遮罩部之際，在遮罩孔形成在遮罩部之前，利用將遮罩部的兩面蝕刻，可將遮罩部的厚度薄化。另外，在形成薄遮罩部的情況中，基於提升遮罩部之操作性的目的，用以薄化遮罩部厚度的蝕刻及用以在遮罩部形成遮罩孔的蝕刻中，也可將遮罩部積層在支持遮罩部的支持層。支持層只要在遮罩部安裝於副框架後，從遮罩部取下即可。

10,30:蒸鍍遮罩 10F,10MF,30F:表面 10M:金屬片 10MR,10R,30R:背面 11,11M,31,RMh:遮罩孔 11L,31L:大開口 11LC,11SC,RMhC:角部 11LE,11SE,RMhE:緣部 11LL,11SL,RMhL:線狀部 11LP,RMhP:突出部 11S,31S:小開口 R:曲率半徑 L1:第1假想直線 L2:第2假想直線 θ1:第1角度 θ2:第2角度

圖1為一實施形態之蒸鍍遮罩構造的立體圖。 圖2為從和蒸鍍遮罩之表面相對向的視點觀看之遮罩孔形狀的俯視圖。 圖3為順沿圖2的III‐III線的剖面圖。 圖4為順沿圖2的IV‐IV線的剖面圖。 圖5為將遮罩孔具備的小開口一部分放大顯示的俯視圖。 圖6為用以說明一實施形態之蒸鍍遮罩的製造方法的製程圖。 圖7為用以說明蒸鍍遮罩的製造方法的製程圖。 圖8為和金屬片表面相對向之平面視圖中的阻劑遮罩所具備的遮罩孔形狀的俯視圖。 圖9為用以說明蒸鍍遮罩的製造方法的製程圖。 圖10為應用蒸鍍遮罩的遮罩裝置之構造的俯視圖。 圖11為從和蒸鍍遮罩之表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀之第1變化例的部分俯視圖。 圖12為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第2變化例的局部俯視圖。 圖13為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第3變化例的局部俯視圖。 圖14為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第4變化例的局部俯視圖。 圖15為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第5變化例的局部俯視圖。 圖16為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第6變化例的局部俯視圖。 圖17為從和蒸鍍遮罩的表面相對向的視點來看的遮罩孔形狀的第7變化例的俯視圖。 圖18為蒸鍍遮罩具有的遮罩孔形狀的第8變化例的剖面圖。

10F:表面

11:遮罩孔

11L:大開口

11LC,11SC:角部

11LE,11SE:緣部

11LL,11SL:線狀部

11LP:突出部

11S:小開口

11SD:遮罩孔側面

θ3:第3角度

DC:角部間距離

VE:緣部

Claims (6)

1. 一種蒸鍍遮罩，係為金屬製的蒸鍍遮罩，其具備：表面，以和蒸鍍源相對向的方式構成；及複數個遮罩孔，分別包含具有倒錐台狀的孔部，各遮罩孔的前述孔部具備：小開口，從和前述蒸鍍遮罩之前述表面相對向的視點來看，具有多角形緣部，該多角形緣部包含複數個角部、及分別位於鄰接的前述角部間的複數個線狀部；及大開口，位於前述表面，前述大開口的緣部從和前述表面相對向的視點來看，具有僅與前述小開口的前述緣部相似的形狀的角部相對於與前述小開口的前述緣部相似的形狀向外側突出之形狀的緣部，從和前述表面相對向的視點來看，前述大開口係圍繞著前述小開口，在和前述表面正交，並且順沿前述小開口之對角方向的剖面中，連結前述小開口之前述角部與前述大開口之對應的角部的假想直線為第1假想直線，前述表面與前述第1假想直線形成的角度為第1角度，在和前述表面正交，並且順沿正交於前述小開口的1個前述線狀部之方向的剖面中，連結前述小開口之前述緣部與前述大開口之前述緣部的假想直線為第2假想直線，前述表面與前述第2假想直線形成的角度為第2角度，前述第2角度係較前述第1角度更大， 從和前述表面相對向的視點來看，前述小開口的前述角部與前述大開口之對應的前述角部之間的距離，係為前述表面與包含前述小開口之前述緣部的平面間之距離的1倍以上1.5倍以下，前述小開口之前述角部的曲率半徑為4.5μm以下。
2. 如請求項1之蒸鍍遮罩，其中，前述蒸鍍遮罩又具備背面，其係前述表面之相反側的面，前述複數個小開口係位於前述背面。
3. 如請求項1或2之蒸鍍遮罩，其中，前述蒸鍍遮罩具有1μm以上20μm以下的厚度。
4. 如請求項1或2之蒸鍍遮罩，其中，形成前述蒸鍍遮罩的材料係為鐵鎳系合金、或者鐵鎳鈷系合金。
5. 一種蒸鍍遮罩的製造方法，係包含：在金屬片的表面及背面的至少一者形成阻劑遮罩；及使用前述阻劑遮罩，在前述金屬片形成複數個遮罩孔，前述複數個遮罩孔的形成，係將分別包含具有倒錐台狀之孔部的前述複數個遮罩孔形成在前述金屬片，使各遮罩孔的前述孔部具備：小開口，從和前述金屬片伸展的平面相對向的視點來看，具有包含複數個角部、及分別位於鄰接的前述角部間的複數個線狀部之多角形的緣部；及 大開口，位於前述表面，前述大開口的緣部從和前述表面相對向的視點來看，具有僅與前述小開口之前述緣部相似的形狀的角部相對於與前述小開口的前述緣部相似的形狀向外側突出之形狀的緣部，從和前述表面相對向的視點來看，前述大開口係圍繞著前述小開口，在和前述表面正交，並且順沿前述小開口之對角方向的剖面中，連結前述小開口的前述角部與前述大開口所對應的角部的假想直線為第1假想直線，前述表面與前述第1假想直線形成的角度為第1角度，在和前述表面正交，並且順沿正交於前述小開口之1個前述線狀部的方向的剖面中，連結前述小開口的前述緣部與前述大開口的前述緣部的假想直線為第2假想直線，前述表面與前述第2假想直線形成的角度為第2角度，前述複數個遮罩孔的形成係：前述第2角度較前述第1角度更大，從和前述表面相對向的視點來看，前述小開口的前述角部與前述大開口所對應的前述角部之間的距離，係為前述表面與包含前述小開口的前述緣部之平面間的距離的1倍以上1.5倍以下，以前述小開口的前述角部之曲率半徑為4.5μm以下的方式，在前述金屬片形成前述複數個遮罩孔。
6. 一種顯示裝置的製造方法，包含：準備利用如請求項5之蒸鍍遮罩的製造方法所形成 的蒸鍍遮罩；及藉由使用前述蒸鍍遮罩的蒸鍍，形成圖案。

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