TWI831711B - 離子導入裝置、容置模組及操作控制電路之方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種離子導入裝置，包括主機、至少二個容置模組及處理器。主機包括殼體；開關機構，連接殼體；以及至少二個主機端電接點，設置於殼體之側面。二個容置模組各自包括槽體，具有相對設置之二個側板，其中凹槽定義於槽體內；電極片，設置於槽體之凹槽中；以及槽體端電接點，設置於二個側板之一者並電性連接電極片。二個槽體之二個前端板適於相互耦接，且二個容置模組藉由二個槽體端電接點與二個主機端電接點而耦接至主機。處理器經組態以當開關機構被觸發時，改變傳遞於主機與二個電極片之間之電流數值。

Description

離子導入裝置、容置模組及操作控制電路之方法

本揭露關於提供一種治療裝置及其方法，特別是一種離子導入裝置及其方法。

離子導入(或稱離子電泳)療法是一種將經解離之液體中所產生之離子附著於人體皮膚，以達到特定治療目的之一方法。在治療過程中，使用者身體的不同部位(例如：左手及右手)分別設置於二個充滿液體的水槽當中，並藉由向二個水槽中的液體通電而使其進行解離。

然而，目前所有適用於離子電泳療法的裝置都面臨著一個共同問題，即在治療過程中手/腳部位抽離時會產生電擊，給使用者帶來不適感。發生電擊的可能原因是由於累積的電荷在手/腳部位突然受到釋放(類似於電容放電效應)所導致。雖然現有的設備說明書中建議在治療過程中不要隨意抽離手/腳部位，或提醒用戶存在電擊的可能性，但並未從根本上解決電擊問題。

另一方面，目前用於離子電泳療法的裝置也無法提供足夠好的使用者體驗。舉例而言，由於現有設備之電流迴路是從一手/腳經由身體傳導至另一手/腳，因此使用者必須同時將雙手/腳放置於水槽中始能 導電。雖然療程可在20至30分鐘間結束，然治療期間使用者無法從事其他活動，造成感受上花費時間過久。再者，在對雙手進行治療時，較高的槽體常造成使用者必須將手腕抬高，不符合人體工學。

在造型設計上，複雜的配置將造成治療時需要空出較大的桌面或地面空間，並且不易收納。

為解決習知技術所產生之問題，本揭露之其一實施例提供一種離子導入裝置，包括一主機、至少二個容置模組及一處理器。主機包括一殼體，其具有一頂面及相鄰該頂面之一第一側面；一開關機構，連接該殼體；以及至少二個主機端電接點，設置於該第一側面。二個容置模組各自包括一槽體，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一前端板，其中一凹槽定義於該槽體內；一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及一槽體端電接點，設置於該槽體的該二個側板之一者，並電性連接該電極片。該二個槽體之該二個前端板適於相互耦接，且該二個容置模組適於藉由該二個槽體端電接點與該二個主機端電接點而耦接至該主機。處理器經組態以當一使用者在該展開狀態下觸發該開關機構時，改變傳遞於該主機與該二個電極片之間之電流數值。

在一些實施例中，該開關機構設置於該第一側面上，並相較於該二個主機端電接點更靠近該殼體之一頂表面，且該開關機構相對於該主機之底面的距離，大於該槽體之該二個側板之高度。

在一些實施例中，該處理器經構造以當接收到該開關機構之一觸發訊號時，逐漸降低傳遞至該二個電極片之電流數值至一預設電流值。

在一些實施例中，該離子導入裝置係用於治療一使用者之一身體部位，在該離子導入裝置位於該展開狀態時，該使用者之該身體部位跨設該二個槽體之該二個前端板，使該使用者之該身體部位之一部分位於該二個槽體之一者之該凹槽內，且使該使用者之該身體部位之另一部分位於該二個槽體之另一者之該凹槽內。

在一些實施例中，該主機更包括一控制電路，該處理器驅動該控制電路在一第一模式與一第二模式之間交替，以供應電流至該二個電極片，其中在該第一模式下電流通過該二個主機端電接點其中之一者之方向，相反於在該第二模式下電流通過該二個主機端電接點其中之該者之方向。

在一些實施例中，離子導入裝置更包括一導電介質，該導電介質包括依序排列之一第一吸水區段、一不吸水區段、以及一第二吸水區段，該導電介質適於跨設該二個槽體，其中該第一吸水區段與該第二吸水區段適於分別覆蓋該二個槽體內之該二個電極片，且該不吸水區段沿該二個槽體之該二個前端板延伸。

在一些實施例中，該二個槽體之每一者之該前端板具有一突起及一開口，該二個槽體之該二個突起適於可拆卸地與該二個開口接合。

在一些實施例中，該槽體之該凹槽之底面至少包括一傾斜區域，該傾斜區域之高度係朝遠離該前端板之方向逐漸降低。

在一些實施例中，該電極片固接於該凹槽之底面上。

在一些實施例中，該槽體之該前端板之上緣與該凹槽之底面相隔一高度差，該高度差係小於1.5公分。

在一些實施例中，每一該二個容置模組之該槽體包括相對該前端板並連接該二個側板的一後端板，該後端板之上緣與該凹槽之底面相隔一高度差，該高度差小於3公分。

在一些實施例中，該二個主機端電接點為二個第一磁性端子連接器，該二個槽體端電接點為二個第二磁性端子連接器，該二個主機端電接點係透過磁力與該二個槽體端電接點接合。

在一些實施例中，該主機更包括一檢測電路，該檢測電路經構造用於判斷該二個槽體端電接點與該二個主機端電接點之接合狀態。

在一些實施例中，該槽體之底面包括一腳墊。

在一些實施例中，該主機之該殼體更包括一第二側面，該第二側面相對該第一側面設置，該二個容置模組係可分離，當該二個容置模組之該二個槽體與該主機之該殼體彼此堆疊時，該主機之該第一側面與該第二側面各自與經堆疊之該二個容置模組之該等側板共平面。

在一些實施例中，該主機更包括一旋轉盤，該旋轉盤設置於該殼體之該頂面之一角隅，其中該殼體之該角隅具有一階梯結構，該旋轉盤之一部分穿設該階梯結構。

在一些實施例中，該主機之該殼體更包括一第二側面，該第二側面相對該第一側面設置，該離子導入裝置包括：四個主機端電接點，該四個主機端電接點其中二者設置於該第一側面，且該四個主機端電接點其中另二者設置於該第二側面；以及四個容置模組，其中在該離子導入裝置位於該展開狀態時，該四個容置模組其中二者之該等槽體端電接點接合於位於該第一側面之該四個主機端電接點其中該二者，且該四個容置模組其中另二者之該等槽體端電接點接合於位於該第二側面之該四個主機 端電接點其中另二者。

在離子導入裝置之另一替代實施例中，離子導入裝置包括：一主機，包括：一殼體，其具有一頂面及相鄰該頂面之一第一側面；一開關機構，連接該殼體；以及至少一主機端電接點，設置於該第一側面；至少一容置槽，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一中介板，該容置槽包括：二個容置模組，藉由該中介板相連接，其各自包括：一槽體，其中一凹槽定義於該槽體內；以及一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及一槽體端電接點，設置於該容置槽的該二個側板之一者，並電性連接該二個電極片，該容置槽適於藉由該槽體端電接點與該主機端電接點耦接至該主機；以及一處理器，經構造以當該開關機構被觸發時，改變傳遞於該主機與該二個電極片之間之電流數值。

本揭露之另一實施例提供一種容置模組，包括：一槽體，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一前端板，其中一凹槽定義於該槽體內，且該凹槽之底面至少包括一傾斜區域，該傾斜區域之高度係朝遠離該前端板之方向逐漸降低；一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及一槽體端電接點，設置於該槽體的該二個側板之一者，並電性連接該電極片。

在一些實施例中，該槽體端電接點包括磁性端子連接器。

在一些實施例中，該槽體該電極片之間的間隙為密封。

在一些實施例中，容置模組更包括一連接結構，該連接結構經構造以允許該容置模組與另一容置模組可拆卸的接合。

本揭露之又一實施例提供一種操作控制電路之方法，包括：執行一連接狀態判斷操作。該連接狀態判斷操作包括：開啟一第一開 關；自一測試訊號源經由經開啟之該第一開關傳送一測試訊號至一第一主機端電接點；以及藉由一檢測電路接收來自該第一主機端電接點之測試訊號，以判斷該第一主機端電接點是否耦接於一第一槽體端電接點。

在一些實施例中，該連接狀態判斷操作更包括：開啟該第一開關及一第二開關，該第二開關串接於該第一開關之下游；自該測試訊號源經由經開啟之該第一開關及該第二開關傳送一測試訊號至一第二主機端電接點；以及藉由該檢測電路接收來自該第二主機端電接點之測試訊號，以判斷該第二主機端電接點是否耦接於一第二槽體端電接點。

在一些實施例中，在該連接狀態判斷操作之前執行一錯誤判斷操作，該錯誤判斷操作包括：開啟一第二開關及一第三開關，其中該第二開關與該第三開關依序串接於該第一開關之下游；以及在該第二開關及該第三開關維持開啟的情況下，將該第一開關自一關閉狀態調整為一開啟狀態，並藉由一電流量測元接收來自該測試訊號源之測試訊號，以判斷該第一開關是否正常。

本揭露再一實施例提供一種執行離子電泳之方法，該方法包括提供如上所述之離子電泳治療裝置；供應傳遞於該主機與該等電極片間之電流，其中電流經由跨設該二個槽體之該使用者之一身體部位而傳送在該等電極片之間；判斷該使用者是否觸發該開關機構；以及當該使用者觸發該開關機構時，改變傳遞於該主機與該二個電極片之間之電流數值。

1:離子導入裝置

7:使用者

10:主機

11:殼體

12:階梯結構

13:開關機構

15:主機端電接點

17:旋轉盤

19:腳墊

20:容置槽

20a,20b,20c,20d:容置模組

21:槽體

22:凹槽

23:電極片

24:定位結構

25:槽體端電接點

26:中介板

27:連接結構

29:腳墊

30a,30b:織物

31:第一吸水區段

32:第二吸水區段

33:不吸水區段

40:液體

61:電源

62:檢測電路

63:控制電路

64:處理器

65:通訊模組

71:身體部位

72:身體部位

111:第一側面

112:第二側面

113:頂面

114:前側面

115:底面

121:豎立面

122:第一平面

123:圓弧面

124:第二平面

125:底面

211:側板

212:側板

213:前端板

214:後端板

215:底板

220:穿孔

221:底面

271:突起

272:開口

311:凸部

312:凹部

321:凸部

322:凹部

631:測試訊號源

632:恆流源元件

711:後半段

712:前半段

713:支撐部分

714:操作部分

721:後半段

722:前半段

723:支撐部分

2711:頸部

2712:頭部

2721:接收部

2722:固定部

C:中心

GND:接地

H1:高度差

H2:高度差

H3:高度差

S10:方法

S11,S12,S13,S14,S15,S16,S17,S18:步驟

U11:開關/第一開關

U12:開關/第二開關

U13:開關/第三開關

U14,U15,U16:開關

U17:開關/測試訊號開關

W:寬度

VBUS:電壓源

圖1顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置之元件分解展開圖。

圖2顯示本揭露之一實施例之主機之右側示意圖。

圖3顯示本揭露之一實施例之主機之左側示意圖。

圖4A顯示本揭露之一實施例之容置模組之示意圖。

圖4B顯示本揭露之一實施例之容置槽之示意圖。

圖5A顯示本揭露之一實施例之二個容置模組經組裝後之剖面示意圖。

圖5B顯示本揭露之一實施例之容置槽之剖面示意圖。

圖6顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置在展開狀態時之示意圖。

圖7顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置在展開狀之態時右側示意圖。

圖8A顯示本揭露之一實施例之導電介質之示意圖。

圖8B顯示本揭露之另一實施例之導電介質之示意圖。

圖9顯示本揭露之一實施例之二個容置模組在使用狀態下之剖面示意圖，其中織物設置於二個容置模組上且液體填充於二個容置模組中。

圖10顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置在收納狀之態下之示意圖。

圖11顯示本揭露之一實施例之主機之方塊圖。

圖12顯示本揭露之一實施例之主機之控制電路及檢測電路之電路圖。

圖13顯示本揭露之一實施例之執行離子導入之方法之流程圖。

圖14顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置在使用狀態下 之示意圖。

為更清楚了解本創作之特徵、內容與優點及其所能達成之功效，茲將本創作配合附圖，並以實施例之表達形式詳細說明如下，而其中所使用之圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，故不應就所附之圖式的比例與配置關係解讀、侷限本創作的申請專利範圍。

本文中的用語「一」或「一種」係用以敘述本創作之元件及成分。此術語僅為了敘述方便及給予本創作之基本觀念。此敘述應被理解為包括一種或至少一種，且除非明顯地另有所指，表示單數時亦包括複數。於申請專利範圍中和「包含」一詞一起使用時，該用語「一」可意謂一個或超過一個。此外，本文中的用語「或」其意同「及/或」。

除非另外規定，否則諸如「上方」、「下方」、「向上」、「左邊」、「右邊」、「向下」、「本體」、「底座」、「垂直」、「水平」、「側」、「較高」、「下部」、「上部」、「上方」、「下面」等空間描述係關於圖中所展示之方向加以指示。應理解，本文中所使用之空間描述僅出於說明之目的，且本文中所描述之結構之實際實施可以任何相對方向在空間上配置，此限制條件不會改變本揭露之實施例之優點。舉例來說，在一些實施例之描述中，提供「在」另一元件「上」之一元件可涵蓋前一元件直接在後一元件上(例如，與後一元件實體接觸)的狀況以及一或複數個介入元件位於前一元件與後一元件之間的狀況。

如本文中所使用，術語「大致」、「實質上」、「實質的」及「約」用以描述及考慮微小之變化。當與事件或情形結合使用時，該複數個術語可意指事件或情形明確發生之情況以及事件或情形極近似於 發生之情況。

圖1顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置1之元件分解展開圖(即爆炸圖)。本揭露其一實施例之離子導入裝置1包括一主機10及複數個容置模組(例如：四個容置模組20a、20b、20c、20d)。在一些實施例中，四個容置模組20a、20b、20c、20d是可自主機10分離，而在一展開狀態(圖6)與一收納狀態(圖10)之間進行轉換。在展開狀態下，四個容置模組20a、20b、20c、20d是藉由其上之槽體端電接點25與主機10側面之主機端電接點15之接合進而與主機10連結。在本實施例中，在收納狀態下，四個容置模組20a、20b、20c、20d可堆疊於主機10下方。在其他實施例，整體之容置模組20a、20b及整體之容置模組20c、20d可相互堆疊(圖未示)，主機10可堆疊於其一容置模組20a、20b、20c、20d之上方。進一步說明本揭露部分實施例之主機10與容置模組20a、20b、20c、20d之結構特徵如下：圖2顯示本揭露之一實施例之主機10之右側示意圖，圖3顯示本揭露之一實施例之主機10之左側示意圖。參照圖1至圖3，在一些實施例中，主機10具有一殼體11、一開關機構13、複數個主機端電接點15、一旋轉盤17、及複數個腳墊19。在一些實施例中，殼體11大致為一六面體且包括一第一側面111、一第二側面112、一頂面113及一前側面114。第一側面111與第二側面112分別位於殼體11之左右兩側，頂面113位於殼體11之上方並連結於第一側面111與第二側面112之間，前側面114位於殼體11之前方並連結於第一側面111與第二側面112之間。

開關機構13係經組態以供使用者透過按壓、觸碰或接近進而控制主機10輸出之電流。在一些實施例中，如圖2所示，開關機構13設 置於殼體11之第一側面111上。開關機構13可包括機械式按鈕，例如：薄膜開關按鈕或微動開關按鈕。或者，開關機構13可包括非機械式按鈕，例如：電容式觸摸感測器、電阻式觸摸感測器、彈簧式觸摸感測器、壓力感測器或光學感測器(例如遮光觸發)。非機械式按鈕可使殼體11上無需對外開設開孔以容納開關機構，故可避免濕氣進入殼體11內部。在一些實施例中，開關機構13包括殼體上設置的凹陷、凸起或圖案化標示之區域、以及對應設置於所述區域附近之非機械式按鈕。所述區域用於提示使用者按壓、觸碰或接近所述區域。舉例而言，將彈簧式觸摸感測器設置於殼體11之第一側面111的內側，而於第一側面111對應之外側以圖案化標示區域。

主機端電接點15係用於輸出主機10供應之電流或接收自容置模組20a、20b、20c、20d輸入之電流。主機端電接點15可以指包含一或多個電性接點(腳位)之端子連接器，亦可以指一或多個端子連接器內之電性接點(腳位)。在一實施例中，二個主機端電接點15設置於殼體11之第一側面111上，其中開關機構13相較於二個主機端電接點15更靠近殼體11之頂表面113。並且，在第一側面111之寬度方向上，與位於後側之主機端電接點15(圖2右方之主機端電接點15)相比，開關機構13更靠近位於前側之主機端電接點15(圖2左方之主機端電接點15)。具體而言，開關機構13可設置於第一側面111之寬度方向上之中心C，但位於第一側面111上之二個主機端電接點15之中點係自第一側面111之寬度方向上之中心C朝遠離前側面114之方向偏移。關於此特徵所產生之功效，將於圖14之實施例中進一步說明。

如圖3所示，在一實施例中，二個主機端電接點15設置於 殼體11之第二側面112上。在一實施例中，如圖2及圖3所示，位於第二側面112上之二個主機端電接點15可與位於第一側面111上之二個主機端電接點15對稱地設置在殼體11之左右二側。此外，旋轉盤17設置於殼體11之頂面113，且腳墊19設置於殼體11之底面115。旋轉盤17係經構造成為用於供使用者調整主機10輸出之電流、電壓或能量之強度。在一實施例中，腳墊19係經設置與構造以避免主機10相對於一平面(例如：桌面或地面)移動。

應當理解的是，主機10上之開關機構13及主機端電接點15設置數量及設置位置可依照需求進行調整，並不以圖1至3之實施例為限。舉例而言，位於第二側面112上之二個主機端電接點15可省略設置，僅第一側面111上設置有主機端電接點15。又舉例而言，位於第一側面111上之開關機構13可設置於第二側面112，或設置於第一側面111及第二側面112。在另一些示例性實施例中，殼體11之第一側面111與第二側面112上皆未直接設置開關機構13，開關機構13係設置於可遠離主機10之物件，而透過一訊號線連結至主機10。

圖4A顯示本揭露之一實施例之容置模組20a之示意圖，圖5A顯示本揭露之一實施例之二個容置模組20a、20b經組裝後之剖面示意圖。參照圖4A、圖5A，在一些實施例中，容置模組20a包括一槽體21、電極片23、至少一個槽體端電接點25、一連接結構27(圖4A)、及複數個腳墊29。槽體21具有一矩形結構，且包括二個側板211、212、一前端板213、一後端板214及一底板215。二個側板211、212分別位於槽體21之左右兩側，前端板213位於槽體21之前方並連結於二個側板211、212之間，後端板214相對前端板213設置並連結於二個側板211、212之間。一 凹槽22位於槽體21內，且凹槽22之底面221包括一傾斜區域。腳墊29設置於底板215下方，以避免容置模組20a相對於一平面(例如：桌面或地面)相對移動。

如圖5A所示，容置模組20a之凹槽22之底面221係相較於底板215傾斜設置，其中底面221相鄰前端板213之一端與前端板213之上緣具有高度差H1，且底面221相鄰後端板214之一端與後端板214之上緣具有高度差H2，高度差H2大於高度差H1。在一些實施例中，高度差H1係小於特定族群(例如根據人種、地域、性別、年齡範圍區分)之平均足弓尺寸，例如小於1.5公分。過大的高度差H1將導致腳部踩踏在容置模組20a及容置模組20b時造成足弓不適，甚至將前端板213踩斷。在一些實施例中，高度差H1係大於0公分，提升高度差H1有助於增加凹槽22內的液體存量且避免設置於凹槽22內之液體灑出，並防止相鄰二個容置模組20a及容置模組20b所容納液體或導電介質相互連通，而發生短路。在一些實施例中，高度差H2係小於特定族群(例如根據人種、地域、性別、年齡範圍區分)之平均手掌厚度，例如小於3公分。過大的高度差H2將導致手腕不舒適，源自手腕長時間抵住後端板214造成不適或必須將手腕抬起而易痠(實際雙手置放於裝置之使用方式可參考圖14)，且容易導致腳部碰撞後端板214而造成其破裂。過小的高度差H2可能會導致凹槽22用於容納液體或導電介質的空間不足。在一些實施例中，高度差H2係小於主機10之開關機構13相對於殼體11之底面115之高度。

應當理解的是，雖然在圖4A、5A之實施例中，凹槽22之底面221之全部區域皆相較底板215傾斜設置，但本揭露並不僅此為限。在其他示例性實施例中，凹槽22之底面221靠近前端板213之區域為傾 斜，但凹槽22之底面221靠近後端板214之區域為平坦。在另一些示例性實施例中，凹槽22之底面221具有多個傾斜角度不同的傾斜區域。將凹槽22之底面221設置為傾斜，可使容置模組具有充分的深度，使液體或潮濕之介質覆蓋使用者手部之弧口以實現治療之目的。在治療腳部之實施例中，凹槽22內傾斜的底面221則允許使用者腳部之足弓更貼合凹槽22之底面221設置，以提升舒適度。

在一實施例中，電極片23設置於凹槽22之底面221，例如固接於凹槽22之底面221。如圖5A所示，在一實施例中，凹槽22更包括用於定位電極片23的一定位結構24。在一實施例中，定位結構24係自凹槽22之底面221向下凹陷，且順應電極片23之形狀。在一實施例中，電極片23設置於定位結構24，使電極片23之上表面與底面221共面，從而防止使用者被電極片23之邊緣割傷，或防止使用者自行將電極片23拆除。此外，定位結構24下方更包括穿孔220，以供連結電極片23之線路通過。在一些實施例中，槽體21是採用密封的配置，以防止水滲入槽體21內部造成線路短路。舉例而言，電極片23與定位結構24間包括防水膠條(圖未示)，以防止液體透過電極片23與定位結構24之間隙滲入槽體21內部。在一些實施例中，前端板213係較後端板214更靠近定位結構24，使得電極片23設置於定位結構24時，電極片23係相鄰前端板213設置。由於使用者身體部位係跨設二個容置模組設置(如圖14所示)，將電極片23相鄰前端板213設置，可使電極片23所涵蓋範圍內的身體部位盡可能處於等電位，避免距離導致的電場衰減而提升治療之效率。舉例而言，將手掌中線對應於前端板213位置放置時，電極片23可涵蓋到大部分手掌及手指的受治療範圍。

在一實施例中，二個槽體端電接點25對稱地設置在槽體21之左右二側，並且前端板213係較後端板214更靠近二個槽體端電接點25。二個槽體端電接點25係電性連接於電極片23，以將電流自槽體端電接點25傳送至電極片23或將電流自電極片23傳送至槽體端電接點25。在一些實施例中，二個槽體端電接點25之形狀係對應於二個主機端電接點15之形狀。舉例而言，如圖3、4A所示，槽體端電接點25為一公頭結構，且主機端電接點15為一母頭結構。槽體端電接點25接合主機端電接點15時，槽體端電接點25插入主機端電接點15而達成電連接，且亦利於使用者組裝。在一些實施例中，二個主機端電接點15與二個槽體端電接點25內各自設置有磁性元件，而構成磁性端子連接器。如此一來，主機端電接點可透過磁力與槽體端電接點接合，藉此避免容置模組20a自主機10分離。在主機端電接點15與槽體端電接點25分別為磁性端子連接器的實施例中，主機10下方的腳墊19或容置模組20a下方的腳墊29其中之一者沒有止滑作用，以利主機或容置模組受主機端電接點15與槽體端電接點25間的磁力之吸引，而以滑動的方式使彼此接合。舉例而言，主機10的腳墊19沒有止滑作用，而容置模組20a的腳墊29有止滑作用。或者，主機的腳墊19有止滑作用，而容置模組的腳墊29沒有止滑作用。

在一些實施例中，容置模組20a內除連接槽體端電接點25與電極片23之線路外，無其他額外的電路配置或電子元件。藉由將控制電流所需之元件集中設置於主機10內部，可降低容置模組20a的生產成本，並有利將使用壽命將盡之容置模組20a更換為新的容置模組。此外，由於容置模組20a內無需設置複雜的電路元件，使容置模組20a的高度得以降低。如此一來，使用者在治療時手臂較可以平擺在桌面上，藉此提升使用 者的使用感受。在一些實施例中，將電極片23、連接槽體端電接點25與電極片23之線路集成於容置模組20a可提供的好處包括使用者無需自行將電極片額外連接轉接線，例如使用者必須將多條轉接線分別連接於各個電極片23，再將其一一連接至主機10。透過此配置可降低安裝的複雜度，提升使用體驗；此外，當電極片23氧化時，使用者可以將容置模組20a整體替換，避免拆裝過程導致損壞而影響產品安全性或功效性。在一實施例中，傾斜的底面221下方具有足夠之容納空間，例如接近前端板213附近之底面221下方(如圖5A所示)，以利於配置槽體端電接點25及線路，使槽體端電接點25電性連接於電極片23。

連接結構27係經構造以允許二個相鄰的容置模組可拆卸的接合。在一些實施例中，連接結構27設置於容置模組20a之前端板213之上，且包括一突起271及一開口272。突起271具有一T形之截面，且包括一頸部2711及一頭部2712。頸部2711固定於前端板213之外表面，頭部2712連接頸部2711之末端。頸部2711在垂直方向上之寬度小於頭部2712在垂直方向上之寬度。開口272相鄰突起271設置，且包括一接收部2721及一固定部2722。接收部2721相鄰突起271設置，固定部2722位於接收部2721之外側。固定部2722垂直方向上之寬度小於接收部2721在垂直方向上之寬度，且約略大於頸部2711在垂直方向上之寬度。在一些實施例中，容置模組20a、20b及容置模組20a、20b之連接結構27係由一樞轉機構(圖未示)取代。於此實施例，樞轉機構耦接兩個容置模組之前端板213，二個相互連接之容置模組可利用所述樞轉機構樞轉於一閉合狀態(二個容置模組之凹槽22(或底板215)彼此相對)與一開啟狀態(二個容置模組相鄰平放)之間。在另一些實施例中，容置模組20a、20b及容 置模組20a、20b亦可以採用磁吸或其他方式接合，例如透過設置於兩個容置模組之前端板213背面之成對磁鐵，使兩個容置模組之前端板213透過磁鐵之吸力相互耦接。

在另一些實施例中，請參照圖4B及圖5B，兩個容置模組之前端板213為共用而定義為中介板26，中介板26設置並連接於側板211及側板212之間。於本實施例，容置模組20a及容置模組20b藉由中介板26相連接而構成容置槽20，例如採用一體成形。容置模組20a及容置模組20b之側板211(或側板212)可以連接而構成容置槽20之側板，亦可以分隔設置而共同構成容置槽20之側板。中介板26可以僅設置於凹槽22之底面221之上(圖未示)，此時容置模組20a及容置模組20b各自的凹槽22被中介板26隔開，而各自底面221以下的容納空間聯通。或者，中介板26自凹槽22之底面221之上延伸至底板215(圖5B)，此時容置模組20a及容置模組20b各自底面221以下的容納空間被中介板26隔開。底面221以下的容納空間可以設置電性連接於電極片23及槽體端電接點25之線路。在一些實施例中，容置模組20a之線路穿過中介板26到達容置模組20b(圖未示)，而與容置模組20b之電極片23(或槽體端電接點25)電性連接。槽體端電接點25可以設置於容置模組20a(或容置模組20b)之側板211(或側板212)，並分別電性連接於容置模組20a及容置模組20b之電極片23。本實施例中，主機10之第一側面111可設置有一個多腳位之主機端電接點15，以與槽體端電接點25電性連接。對於本實施例之容置槽20，其容置模組20a、20b之細部結構特徵可以參考其他實施例進行配置。

在一些實施例中，容置模組20b、20c、20d之結構相同於容置模組20a之結構。為簡化說明，其結構特徵將不再重複，且在下方說 明中，容置模組20b、20c、20d之元件將施予與容置模組20a之元件之相同之標號。藉由將容置模組20a、20b、20c、20d採用相同的設計，可降低生產成本並減少組裝複雜度。此外，容置模組20a、20b、20c、20d的電極片因氧化而導電度下降時，可直接以相同規格之新的容置模組進行更換。然而，應當理解的是，容置模組20a、20b、20c、20d之結構外觀仍可依照不同的需求而適當進行調整。

根據本揭露之一實施例，組裝離子導入裝置1之方法說明如下：組裝離子導入裝置1之方法包括將容置模組20a、20b、20c、20d兩兩對接。舉例而言，如圖5A所示，在接合容置模組20a、20b時，首先將容置模組20a、20b之前端板213彼此相對，並將容置模組20a、20b之突起271插入另一容置模組20a、20b之開口272之接收部2721(圖4A)中。在突起271插入接收部2721後，橫向移動二個容置模組20a、20b，使突起271之頸部2711(圖4A)移動進入開口272之固定部2722(圖4A)。由於固定部2722(圖4A)垂直方向上之寬度約略大於或剛好等於頸部2711(圖4A)在垂直方向上之寬度，在突起271之頸部2711(圖4A)移動進入開口272之固定部2722(圖4A)後將穩固配合於固定部2722(圖4A)中，進而完成二個容置模組20a、20b之接合程序。容置模組20c、20d也可以類似之方式進行接合。

組裝離子導入裝置1之方法更包括將容置模組20a、20b、20c、20d接合至主機10。舉例而言，如圖6所示，容置模組20a、20b係藉由二個槽體端電接點25與第一側面111上之二個主機端電接點15之接合而耦接至主機10，且完成接合之容置模組20c、20d係藉由二個槽體端電接 點25與第二側面112上之二個主機端電接點15之接合而耦接至主機10。容置模組20a、20b、20c、20d接合至主機10後，離子導入裝置1處於展開狀態，使用者可在容置模組20a、20b、20c、20d中放置導電介質以及液體，以準備執行離子導入療程。

值得注意的是，在離子導入裝置1處於展開狀態，位於主機10側面上之開關機構13是不受容置模組20a、20b、20c、20d所遮蔽的，以利使用者按壓開關機構13。舉例而言，如圖7所示，在離子導入裝置1位於展開狀態時，開關機構13係高於二個容置模組20a、20b之槽體21。開關機構13與槽體21之側板(例如：圖4A顯示之側板211、212)之上緣之間具有一高度差H3。高度差H3係經選擇以利使用者利用手指按壓開關機構13。舉例而言，高度差H3係小於人體手指部平均厚度(約2公分)。此外，高度差H3之存在亦可防止或避免來自容置模組20a、20b、20c、20d之液體通過開關機構13之空隙而滲透主機10內部。

另一方面，雖然在圖6顯示之實施例中，容置模組20a、20b、20c、20d是同時接合至主機10，但本揭露並不僅此為限。使用者可因應自身之需求，僅在主機10之一側接合容置模組。例如，僅接合容置模組20a、20b至主機10之第一側面111，或僅接合容置模組20c、20d至主機10之第二側面112。如此一來，使用者可以自主選擇僅執行單手/腳治療而另一隻手在治療同時從事其他活動，例如操作滑鼠或使用手機；或選擇同時選擇執行雙手/腳治療，以減少總療程時間。

繼續參照圖6，在一實施例中，殼體11具有一階梯結構12形成於頂面113上並位於第一側面111與前側面114交會之一角隅。階梯結構12包括一豎立面121及一底面125。豎立面121位於頂面113與底面125之 間，並垂直於頂面113與底面125。在此實施例中，豎立面121係由一第一平面122、一圓弧面123及一第二平面124所組成，其中第一平面122連結前側面114並相對於前側面114傾斜，第二平面124連結第一側面111並相對於第一側面111傾斜，圓弧面123連結於第一平面122與第二平面124之間。第一平面122相對前側面114之傾斜角度可相同於第二平面124相對前側面114之傾斜角度，例如45度。

在一些實施中，旋轉盤17穿設階梯結構12之底面125，且其周向上的側表面至少部分受圓弧面123所覆蓋。藉此配置，使用者在轉動旋轉盤17時，使用者手部的旋轉角度將受到第一平面122與第二平面124限制，進而避免一次增加過多電流輸出量。在一示例性實施例中，治療腳部所需之電流量為治療手部所需之電流量的兩倍。使用者轉動旋轉盤17之單次幅度至多僅能調整至治療手部所需之電流量。若需治療腳部，則需要調整轉動旋轉盤17兩次，以允許主機10輸出需治療腳部所需之電流量。

圖8A顯示本揭露之一實施例之導電介質之示意圖，圖9顯示本揭露之一實施例之二個容置模組20a、20b在使用狀態下之剖面示意圖。導電介質包含可吸附液體之材料，例如織物、泡綿或水凝膠。在一些實施例中，導電介質為織物30a，其中織物30a可設置於二個容置模組20a、20b上且液體40(例如：自來水或美容保養液)可填充於二個容置模組20a、20b中。在一實施例中，如圖8A所示，織物30a包括第一吸水區段31、不吸水區段33(或稱拒水區段)、以及第二吸水區段32。第一吸水區段31與第二吸水區段32可由易於吸附液體之紡織物或由其他可吸附液體之非紡織材料製成。不吸水區段33則是由不吸水(拒水)之紡織物或 由其他不吸附液體之非紡織材料所製成，該不吸水(拒水)之材料亦可具有電絕緣性。不吸水區段33之寬度W可約等於高度差H1之兩倍，以減少使用時無法提供治療的面積。在一些實施例中，織物30a之底面由不吸附液體材料製成，其上方固定(例如縫紉、壓合或黏固)兩片易吸附液體材料而形成第一吸水區段31及第二吸水區段32，兩者保持寬度W使底面之不吸附液體材料露出而形成不吸水區段33。在另一些實施例中，兩片易吸附液體材料分別固定於一片不吸附液體材料之左右兩側。在一些實施例中，為避免第一吸水區段31及第二吸水區段32互相接觸，一片易吸附液體材料之上表面固定於不吸附液體材料之下表面，另一片易吸附液體材料之下表面固定於不吸附液體材料之上表面，因此第一吸水區段31及第二吸水區段32之邊界被不吸水區段33隔開。

圖8B顯示本揭露之另一實施例之導電介質之示意圖。參照圖8B，在一些實施例中，第一吸水區段31與第二吸水區段32之表面可以具有凸起結構，例如絨毛、皺褶或布塊，以利於涵蓋指側、掌側、虎口或足側，或提供使用者以指部夾持凸起結構。舉例而言，圖8B之織物30b的第一吸水區段31與第二吸水區段32具有皺褶、其分別具有複數個凸部311、321以及凹部312、322。使用者可將手指放置於凹部312、322而使凸部311、321位於指縫間、從而達到指側的治療。在一些實施例、將易吸附液體材料折出皺褶後、再將不吸附液體材料車縫於易吸附液體材料之邊界、從而將皺褶固定。或者、將凸部311、321以及凹部312、322之交界(圖8B之左右方向)車縫以固定皺褶。或者，將織物30a折出皺褶後，沿第二吸水區段32的左側邊界及第一吸水區段31的右側邊界(圖8B之上下方向)車縫以固定皺褶，而形成織物30b。在一些實施例中，不吸水區 段33之表面亦可以具有凸起結構。

如圖9所示，在離子導入裝置1位於展開狀態時，織物30a(或織物30b)跨設二個容置模組20a、20b之槽體21，其中第一吸水區段31與第二吸水區段32分別覆蓋二個槽體21內之二個電極片23，且不吸水區段33沿二個槽體21之二個前端板213延伸。藉由織物30a之第一吸水區段31與第二吸水區段32之設置，使用者之身體部位雖然可浸泡於液體中但不會直接接觸電極片23。同時，藉由織物30a之不吸水區段33之設置，第一吸水區段31與第二吸水區段32不致發生短路，確保電流可通過使用者身體部位。相較於設置二個分離的吸水織物於二個容置模組20a、20b之槽體21中之實施例，使用者可以更快速的將織物30a設置於二個容置模組20a、20b上，減少準備所需的時間。此外，亦可將整條織物30a一同清潔及晾乾。在一些實施例中，織物30a之厚度小於高度差H3(圖7)，以利使用者之身體部位放置於織物30a上仍可接觸開關機構13。在一些實施例中，織物30a之厚度大於人體手指或手掌之一半平均厚度(0.5至1公分)，以利於覆蓋指側或虎口。

圖10顯示本揭露之一實施例之離子導入裝置1在收納狀之態下之示意圖。在一些實施例中，各容置模組20a、20b、20c、20d及主機10之長寬尺寸相同，因此將容置模組20a、20b、20c、20d拆解後可將其堆疊於主機10下方，因此無須佔據較大的空間，以利於收納或攜帶。

圖11顯示本揭露之一實施例之主機10之方塊圖。在一實施例中，主機10更包括一電源61、一檢測電路62、一控制電路63、一處理器64、一通訊模組65。電源61經構造以供應主機10所需之電力。檢測電路62經構造以檢測容置模組20a、20b、20c、20d與主機10之連接狀態或 檢測控制電路63之作動是否正常。控制電路63經構造以控制主機端電接點15之電流輸出。處理器64經構造以處理及控制主機10之控制訊號及/或檢測訊號。舉例而言，處理器64經構造以操作檢測電路62與控制電路63。或者，處理器64經構造以接收來自開關機構13之驅動訊號，並根據此驅動訊號調整供應至控制電路63之電流流量。通訊模組65經構造以允許主機10透過無線訊號回傳資訊使用者終端裝置，或接收使用者終端裝置發送之控制指令，以透過物聯網完成遠端居家智慧醫療之目的。此外，允許終端裝置對主機10進行數據蒐集以追蹤使用狀況或設置參數，建立使用者治療紀錄的機器學習資料庫。應當理解的是，雖然在圖11之實施例中處理器64與通訊模組65分開設置，但本揭露之實施例並不僅此為限，處理器64與通訊模組65亦可整合於單一元件中。此外，處理器64亦可由二個以上之元件所構成。舉例而言，處理器64包括一處理器晶片及一微控制器晶片。

圖12顯示本揭露之一實施例之主機10之控制電路63及檢測電路62之電路圖。在一些實施例中，控制電路63包括複數個開關(例如：開關U11、U12、U13、U14、U15、U16、U17，其中開關U11、U12、U13及U17亦分別稱為第一開關U11、第二開關U12、第三開關U13、測試電路開關U17)、一測試訊號源631、一恆流源元件632、一電流量測元件633、及一電壓源VBUS。開關U11、U12、U13、U14、U15、U16構成一改良橋式電路，其中，開關U11、U12、U13疊接，開關U14、U15、U16疊接。藉由控制開關U11、U12、U13、U14、U15、U16之配置，可調整主機10通過主機端電接點15之何者輸出電流。如此一來，可實現僅透過主機10單一側邊之主機端電接點15輸出電流，或將等 值之電流透過不同側邊之主機端電接點15交替輸出，以及改變電流傳送方向。開關可以是電控開關，例如繼電器、光耦合開關、場效電晶體、雙極性電晶體、絕緣柵雙極電晶體。

測試訊號源631經由開關U17及開關U11、U12、U13、U14、U15、U16連接主機端電接點15。在一些實施例，主機端電接點15為端子連接器，且包含二個腳位，其一腳位適於電性連接測試訊號源631，另一腳位電性連接檢測電路62。槽體端電接點25也為端子連接器，且包含二個腳位，該二個腳位為短路(例如皆電性連接至電極片23)。於是，藉由控制開關U11、U12、U13、U14、U15、U16、U17的開啟與關閉，測試訊號源631所發送之訊號可以通過所選擇的主機端電接點15之其一腳位連接至槽體端電接點25，該訊號可經過槽體端電接點25及主機端電接點15之另一腳位傳送至檢測電路62。在一實施例中，檢測電路62可包括一電性連接於處理器64之比較器，比較器在接收訊號後切換為高電位或低電位。

在一些實施例中，測試訊號源631發出之測試訊號(例如：5V電位)係用於執行一連接狀態判斷操作。該連接狀態判斷操作之目的是判斷容置模組20a、20b、20c、20d與主機10之連接狀態。於測試模式下，處理器64控制開關U17導通以將測試訊號輸出至改良橋式電路，控制電路63控制改良橋式電路之開關依序開啟或關閉以控制測試訊號之輸出。舉例而言，開關U11開啟，開關U12、U13、U14、U15、U16關閉，則可將測試訊號輸出至容置模組20a；或者，開關U14開啟，開關U11、U12、U13、U15、U16關閉，則可將測試訊號輸出至容置模組20b；或者，開關U11、U12開啟，開關U13、U14、U15、U16關閉，則可將測試 訊號輸出至容置模組20c；或者，開關U14、U15開啟，開關U11、U12、U13、U16關閉，則可將測試訊號輸出至容置模組20d。當檢測電路62偵測到連接至容置模組20a、20b的電極片23皆回送測試訊號，但未偵測到連接至容置模組20c、20d的電極片23皆回送測試訊號，則判斷主機10之第一側面111連接有容置模組20a、20b，而主機10之第二側面112未連接有容置模組20c、20d(或容置模組20c、20d未正確連接，例如僅偵測到容置模組20c所回送之測試訊號，表示容置模組20d未正確安裝)。在另一些實施例中，測試訊號源631發出之測試訊號係用於執行一錯誤判斷操作。該錯誤判斷操作之目的是檢測開關U11、U12、U13、U14、U15、U16之功能是否正常。舉例而言，欲測試開關U11功能是否正常，先將開關U17、U12、U13開啟且開關U14、U15、U16關閉，當開關U11進行開關切換，電流量測元件633亦偵測到訊號隨之變化時，則判斷開關U11功能運作正常。

圖13顯示本揭露之一實施例之執行離子導入之方法S10之流程圖。為了清楚說明，將結合圖1-12中描述此流程圖。在不同實施例中，部分步驟可進行替換或刪除。

在步驟S11中，提供上述任一實施例所述之一離子導入裝置1，並使離子導入裝置1之容置模組20a、20b及/或容置模組20c、20d至少連接主機10之第一側面111或第二側面112上之主機端電接點15。

在步驟S12中，處理器64透過測試訊號源631發出之測試訊號(例如：5V電位)檢測容置模組20a、20b、20c、20d與主機10之連接狀態。上述檢測可在主機10開機後執行，並在測試完成後發出一指示訊號(例如：閃燈、聲音)以顯示測試結果。詳細而言，請一併參照圖11及圖 12，處理器64控制開關U17開啟以輸出測試訊號源631發出之測試訊號，並指示控制電路63調整測試訊號輸出至多個主機端電接點15之其中一者。例如，處理器64先對容置模組20a所對應之主機端電接點15發送第一測試訊號，再對容置模組20b所對應之主機端電接點15發送第二測試訊號。當處理器64判斷檢測電路62接收到第一測試訊號與第二測試訊號，則判斷容置模組20a、20b已連接；當處理器64判斷檢測電路62未接收到第一測試訊號或第二測試訊號之任一者，則判斷容置模組20a、20b未連接。在一些實施例，處理器64完成容置模組20a、20b、20c、20d連接狀態之檢測後，控制開關U17關閉並控制電壓源VBUS開啟。

在步驟S13中，根據步驟S12之檢測結果，決定電流供應模式並輸出電流(進入治療模式)。參照圖6、12、14，在一些實施例中，在判斷主機10之第一側面111(圖1)連接有容置模組20a、20b，而主機10之第二側面112未連接有容置模組20c、20d之情況中，則處理器64判斷為單邊治療模式。此時，控制電路63設定為第一模式：U11(開)、U12(關)、U13(關)、U14(關)、U15(開)、U16(開)，電流依序通過容置模組20a之電極片23、使用者之身體部位(例如：圖14之身體部位71)、容置模組20b之電極片23後回送主機10、或者，控制電路63設定為第二模式：U11(關)、U12(開)、U13(開)、U14(開)、U15(關)、U16(關)，電流依序通過容置模組20b之電極片23、使用者之身體部位(例如：圖14之身體部位71)、容置模組20a之電極片23後回送主機10。在一些實施例中，上述第一模式與第二模式交替設定，以避免電荷堆積而發生電擊或化學灼傷之風險。此外，在第一模式與第二模式中，未連接容置模組20c、20d之主機端電接點15不會有電流輸出，故可防止 使用者誤觸而發生觸電。

同樣的，在判斷主機10之第一側面111連接未容置模組20a、20b，而主機10之第二側面112有連接有容置模組20c、20d之情況中，則處理器64判斷為單邊治療模式。此時，控制電路63設定為第三模式：U11(開)、U12(開)、U13(關)、U14(關)、U15(關)、U16(開)，電流依序通過容置模組20c之電極片23、使用者之身體部位(例如：圖14之身體部位72)、容置模組20d之電極片23後回送主機10、或者，控制電路63設定為第四模式：U11(關)、U12(關)、U13(開)、U14(開)、U15(開)、U16(關)，電流依序通過容置模組20d之電極片23、使用者之身體部位(例如：圖14之身體部位72)、容置模組20c之電極片23後回送主機10。在一些實施例中，上述第三模式與第四模式交替設定，以避免電荷堆積而發生電擊或化學灼傷之風險。此外，在第三模式與第四模式中，未連接容置模組20a、20b之主機端電接點15不會有電流輸出，故可防止使用者誤觸而發生觸電。

另一方面，在判斷主機10之第一側面111與第二側面112皆連接有容置模組20a、20b、20c、20d之情況中，則處理器64判斷為雙邊治療模式。此時，控制電路63設定為第五模式：U11(開)、U12(關)、U13(開)、U14(關)、U15(開)、U16(關)，電流依序通過容置模組20a之電極片23、使用者右側之身體部位(例如：圖14之身體部位71)、容置模組20b之電極片23、容置模組20d之電極片23、使用者左側之身體部位(例如：圖14之身體部位72)、容置模組20c之電極片23後回送主機10。或者，控制電路63設定為第六模式：U11(關)、U12(開)、U13(關)、U14(開)、U15(關)、U16(開)，電流依序 通過容置模組20b之電極片23、使用者右側之身體部位(例如：圖14之身體部位71)、容置模組20a之電極片23、容置模組20c之電極片23、使用者左側之身體部位(例如：圖14之身體部位72)、容置模組20d之電極片23後回送主機10。在另一些實施例，第五模式可以包含第一模式與第三模式交替設定，第六模式可以包含第二模式與第四模式交替設定，例如以各50%之工作週期交替輸出。在一些實施例中，上述第五模式與第六模式交替設定，以避免電荷堆積而發生電擊或化學灼傷之風險。此外，藉由控制電路63之配置，在雙邊治療模式下，電流不會從使用者右(左)側所接觸之電極片23流向左(右)側所接觸之電極片23，其電流迴路範圍侷限於肢段末端(手或腳掌)，從而避免電流穿過心臟之風險。

在上述第一模式至第六模式中，由於各個電極片皆使用相同電流源，故施加至人體身體部位之電流值可維持相同。此外，本實施例中，恆流源元件632設置於改良橋式電路與接地GND之間作為電流汲取(Current sink)以限制流經使用者身體部位之定電流，電壓源VBUS則可依據使用者身體部位阻抗之變異調整電壓大小，進而維持電流穩定。在另一些實施例，恆流源元件632設置於電壓源VBUS與改良橋式電路之間作為電流源(Current source)。給定電流的其一好處在於，使用者可以在單邊治療模式時設置電流，例如以一隻手設置轉動旋轉盤17，另一隻手置於容置模組20a與容置模組20b之內以感受輸出電流是否舒適；完成電流設置後，採用雙邊治療模式時可以給予相同量值之定電流，而不因雙手阻抗差異而產生不同電流。然而，本揭露並不排斥以電壓源作為輸出供應，例如省略圖12中的恆流源元件632，而將電壓源VBUS作為恆壓源。

方法S10進一步包括步驟S14，判斷使用者是否觸發開關機 構13。如圖14所示，當使用者7採用雙邊治療模式同時對二個身體部位進行離子導入治療時，身體部位71(例如：右手)係跨設容置模組20a與容置模組20b之接合處，且身體部位72(例如：左手)係跨設容置模組20c與容置模組20d之接合處。具體而言，身體部位71之後半段711(例如：右手之手掌)與身體部位72之後半段721(例如：左手之手掌)係分別放置於容置模組20b與容置模組20d，且身體部位71之前半段712(例如：右手之手指)與身體部位72之前半段722(例如：左手之手指)係分別放置於容置模組20a容置模組20c。並且，身體部位71的支撐部分713(例如：右手之手腕)是抵持於容置模組20b的後端板214，而身體部位72的支撐部分723(例如：左手之手腕)是抵持於容置模組20b的後端板214。

當使用者在進行離子導入治療的過程中受若干原因而需停止治療時，可藉由碰觸開關機構13而使主機10停止輸出電流(步驟S15)。舉例而言，如圖14所示，使用者7可利用其操作部分714(例如：大拇指)觸發開關機構13。當開關機構13受觸發後，開關機構13發送一訊號至處理器64(圖11)，處理器64根據此觸發訊號逐漸降低輸出至控制電路63之電流至一預設電流值，以暫停離子導入治療程序。上述預設電流值可以是一預設之絕對數值，例如預設之安全電流數值，而與主機10當下輸出的電流數值無關。在一實施例，預設電流值為0mA。上述電流降低的速度可為0.5至1mA/s，透過緩慢釋放離子導入治療過程中所累積之電荷，以避免使用者遭受瞬間電擊。由於開關機構13之設置，當使用者的雙手在接受治療時，雙手無需離開容置模組20a、20b、20c、20d即可完成觸發開關機構之步驟，故可改善傳統裝置中使用者因身體部位離開水槽而遭受電擊之危險。此外，容置模組20a、20b之前端板213介於10主機之 第一側面111的兩個主機端電接點15之間，透過如圖2所示將二個主機端電接點15之中點相對開關機構13偏移設置之配置，開關機構13將位於使用者7操作部分714之鄰近處，故有利使用者進行操作。此種配置的其一好處在於，使用者7僅須小幅度的移動操作部分714，其餘部分可以維持在原本位置。因在治療情況下，只要使用者7主要累積電荷的的後半段711表面相對於容置模組20a、20b或織物30a移動或抬起而脫離，即可能發生放電現象。此問題在容置模組20a、20b容水量低或織物30a含水量少的情況下將更容易發生。透過前述配置，可以有效降低發生電擊的風險並允許使用較少的液體進行治療。

相似的，當使用者欲開始離子導入時，也可藉由碰觸開關機構13而使主機10開始輸出電流。此時，處理器64根據此觸發訊號逐漸增加輸出至控制電路63之電流，以開始離子導入程序。在一些實施例中，設定離子導入程序的電流值的程序是在步驟S12與步驟S13之間執行。使用者可透過旋轉盤17之旋轉位置而設定離子導入程序的電流值，並在透過觸發開關機構13而開始步驟S13。

繼續參照圖13，在步驟S14中，若判斷開關機構13並未遭觸發時，則主機10將持續根據設定之電流供應模式輸出電流(步驟S16)，以持續進行離子導入程序。在步驟S17中，判斷預定作動時間是否到達，若預定作動時間尚未到達則重複步驟S14，若預定作動時間已到達則停止供應電流(步驟S18)。在一些實施例中，在步驟S18中，處理器64係漸降低控制電路63所輸出之電流，以停止電泳治療程序。上述電流降低的速度可為0.5至1mA/s，以避免使用者遭受瞬間電擊。

本揭露之其一實施例提供一種離子導入裝置，其包括二組 可自主機拆卸之容置模組。在使用時，任一組容置模組與主機連結後即可開始進行離子導入程序，以解決使用者無法執行單手/腳治療之問題。再者，本揭露之其一實施例所提供之容置模組與主機，透過新穎且創新的結構設計，具有快速組裝、簡易收納的多重技術優點。此外，透過特殊的控制方法並搭配創新的電路設計，不但可避免臨床上長久以來無法解決使用者因電荷堆積而在脫離電擊或槽體時遭受電擊之風險，也可允許使用較少的液體進行治療，並加強液體解離之效率，促進離子導入的功效。容置模組符合人體工學的尺寸設計，亦可大幅提升使用者舒適性。

以上所述之實施例僅係為說明本創作之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本創作之內容並據以實施，當不能以之限定本創作之專利範圍，依本創作所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本創作之專利範圍內。

1:離子導入裝置

10:主機

11:殼體

15:主機端電接點

17:旋轉盤

20a,20b,20c,20d:容置模組

21:槽體

23:電極片

25:槽體端電接點

Claims (17)

1. 一種離子導入裝置，包括： 一主機，包括： 一殼體，其具有一頂面及相鄰該頂面之一第一側面； 一開關機構，連接該殼體；以及 至少二個主機端電接點，設置於該第一側面； 至少二個容置模組，其各自包括： 一槽體，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一前端板，其中一凹槽定義於該槽體內； 一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及 一槽體端電接點，設置於該槽體的該二個側板之一者，並電性連接該電極片，其中該二個槽體之該二個前端板適於相互耦接，且該二個容置模組適於藉由該二個槽體端電接點與該二個主機端電接點耦接至該主機；以及 一處理器，經構造以當該開關機構被觸發時，改變傳遞於該主機與該二個電極片之間之電流數值。
2. 如請求項1所述之離子導入裝置，其中該開關機構設置於該第一側面上，並相較於該二個主機端電接點更靠近該殼體之一頂表面，且該開關機構相對於該主機之底面的距離，大於該槽體之該二個側板之高度。
3. 如請求項1所述之離子導入裝置，其中該處理器經構造以當接收到該開關機構之一觸發訊號時，逐漸降低傳遞至該二個電極片之電流數值至一預設電流值。
4. 如請求項1所述之離子導入裝置，更包括一導電介質，該導電介質包括依序排列之一第一吸水區段、一不吸水區段、以及一第二吸水區段，該導電介質適於跨設該二個槽體，其中該第一吸水區段與該第二吸水區段適於分別覆蓋該二個槽體內之該二個電極片，且該不吸水區段沿該二個槽體之該二個前端板延伸。
5. 如請求項1至4任一項所述之離子導入裝置，其中該二個槽體之每一者之該前端板具有一突起及一開口，該二個槽體之該二個突起適於可拆卸地與該二個開口接合。
6. 如請求項1至4任一項所述之離子導入裝置，其中該槽體之該凹槽之底面至少包括一傾斜區域，該傾斜區域之高度係朝遠離該前端板之方向逐漸降低。
7. 如請求項1至4任一項所述之離子導入裝置，其中該二個主機端電接點為二個第一磁性端子連接器，該二個槽體端電接點為二個第二磁性端子連接器，該二個主機端電接點係透過磁力與該二個槽體端電接點接合。
8. 如請求項1至4任一項所述之離子導入裝置，其中該主機更包括一檢測電路，該檢測電路經構造用於判斷該二個槽體端電接點與該二個主機端電接點之接合狀態。
9. 如請求項1至4任一項所述之離子導入裝置，其中該主機之該殼體更包括一第二側面，該第二側面相對該第一側面設置，該二個容置模組係可分離，當該二個容置模組之該二個槽體與該主機之該殼體彼此堆疊時，該主機之該第一側面與該第二側面各自與經堆疊之該二個容置模組之該等側板共平面。
10. 一種離子導入裝置，包括： 一主機，包括： 一殼體，其具有一頂面及相鄰該頂面之一第一側面； 一開關機構，連接該殼體；以及 至少一主機端電接點，設置於該第一側面； 至少一容置槽，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一中介板，該容置槽包括： 二個容置模組，藉由該中介板相連接，其各自包括： 一槽體，其中一凹槽定義於該槽體內；以及 一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及 一槽體端電接點，設置於該容置槽的該二個側板之一者，並電性連接該二個電極片，該容置槽適於藉由該槽體端電接點與該主機端電接點耦接至該主機；以及 一處理器，經構造以當該開關機構被觸發時，改變傳遞於該主機與該二個電極片之間之電流數值。
11. 一種容置模組，包括： 一槽體，具有相對設置之二個側板及連結該二個側板之間的一前端板，其中一凹槽定義於該槽體內，且該凹槽之底面至少包括一傾斜區域，該傾斜區域之高度係朝遠離該前端板之方向逐漸降低； 一電極片，設置於該槽體之該凹槽中；以及 一槽體端電接點，設置於該槽體的該二個側板之一者，並電性連接該電極片。
12. 如請求項11所述之容置模組，其中該槽體端電接點包括磁性端子連接器。
13. 如請求項11所述之容置模組，其中該槽體該電極片之間的間隙為密封。
14. 如請求項11所述之容置模組，更包括一連接結構，該連接結構經構造以允許該容置模組與另一容置模組可拆卸的接合。
15. 一種操作控制電路之方法，包括： 執行一連接狀態判斷操作，該連接狀態判斷操作包括： 開啟一第一開關； 自一測試訊號源經由經開啟之該第一開關傳送一測試訊號至一第一主機端電接點；以及 藉由一檢測電路接收來自該第一主機端電接點之測試訊號，以判斷該第一主機端電接點是否耦接於一第一槽體端電接點。
16. 如請求項15所述之操作控制電路之方法，其中該連接狀態判斷操作更包括： 開啟該第一開關及一第二開關，該第二開關串接於該第一開關之下游； 自該測試訊號源經由經開啟之該第一開關及該第二開關傳送一測試訊號至一第二主機端電接點；以及 藉由該檢測電路接收來自該第二主機端電接點之測試訊號，以判斷該第二主機端電接點是否耦接於一第二槽體端電接點。
17. 如請求項15所述之操作控制電路之方法，更包括： 在該連接狀態判斷操作之前執行一錯誤判斷操作，該錯誤判斷操作包括： 開啟一第二開關及一第三開關，其中該第二開關與該第三開關依序串接於該第一開關之下游；以及 在該第二開關及該第三開關維持開啟的情況下，將該第一開關自一關閉狀態調整為一開啟狀態，並藉由一電流量測元接收來自該測試訊號源之測試訊號，以判斷該第一開關是否正常。

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