TWI826590B - 光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜 - Google Patents

光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜 Download PDF

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Abstract

本發明為光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜。本發明之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物含有: (甲基)丙烯酸系共聚物(A),包含來自n-BA的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,Tg為-40℃以下並且Mw為20萬~200萬, (甲基)丙烯酸系共聚物(B),包含來自n-BMA的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,Tg為0℃~45℃並且Mw為1萬~20萬,及 異氰酸酯系交聯劑; (甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,為1質量份~70質量份。

Description

光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜
本發明關於光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜。
為了保護各種物品的表面,廣泛使用具備有黏著劑層之保護薄膜。尤其以偏光板為代表之各種光學構件,常使用保護薄膜。
例如,日本特開2005-146151號公報揭示一種保護片用感壓黏接劑,係使交聯性組成物以凝膠分率成為80%以上的方式進行交聯反應而成,該交聯性組成物含有:(A)至少由(甲基)丙烯酸烷基酯及含官能基之單體共聚合而成之玻璃轉移溫度為-40℃以下之(甲基)丙烯酸系聚合物、(B)以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分之玻璃轉移溫度為80℃以上之(甲基)丙烯酸系聚合物、及(C)交聯劑;上述(B)相對於上述(A)100重量份,摻合5~20重量份。 又,日本特開2013-216769號公報揭示一種黏著劑組成物,含有:玻璃轉移溫度未達0℃之聚合物(A)100質量份、重量平均分子量為1000以上且未達50000並且玻璃轉移溫度為30~300℃之(甲基)丙烯酸系聚合物(B)0.05~3質量份、具有聚氧伸烷基鏈之特定結構之有機基聚矽氧烷化合物(C)。 又,日本特開2017-128636號公報揭示一種黏著劑組成物,含有:具有羥基且酸價為0mgKOH/g以上且未達16mgKOH/g之(甲基)丙烯酸系聚合物、酸價為0.1mgKOH/g以上且40mgKOH/g以下之含環氧烷(alkylene oxide)鏈之(甲基)丙烯酸系寡聚物、具有反應性基之聚醚改性聚矽氧、交聯劑、及離子性化合物。
[發明所欲解決之課題]
光學構件使用的保護薄膜所使用的黏著劑組成物(以下也稱為「光學構件保護薄膜用黏著劑組成物」)要求可形成一種黏著劑層,其係將保護薄膜貼附於光學構件之表面後,在需要保護的期間,不易發生從光學構件剝落、偏移等功能不良,且在不需要保護的階段,可有效地從光學構件剝離。在此,不易發生從光學構件剝落、偏移等功能不良之黏著劑層可利用將保護薄膜從光學構件以低速(0.3m/分鐘)剝離時測得的黏著力(所謂低速剝離力)來評價。又,可有效地從光學構件剝離之黏著劑層可利用將保護薄膜從光學構件以高速(30m/分鐘)剝離時測得的黏著力(所謂高速剝離力)來評價。
另外,將保護薄膜從光學構件剝離時,會有發生無法平順地剝離而發出叭哩叭哩的聲響即被稱為拉鍊(zipping)之現象(以下也稱為「拉鍊現象」)的情況。發生拉鍊現象的話,在將保護薄膜剝離後之光學構件的表面有時會觀察到條紋狀的缺陷。因此,光學構件保護薄膜用黏著劑組成物也要求可形成能抑制拉鍊現象之黏著劑層。
此外,光學構件保護薄膜用黏著劑組成物要求可形成透明性高的黏著劑層,俾使在貼附著保護薄膜的狀態下可確認光學構件之外觀。
但是,欲控制保護薄膜所具備之黏著劑層的低速剝離力及高速剝離力時,由於兩者表現出同樣的行為,故調整低速剝離力與高速剝離力之平衡係為困難。 又,近年,考慮使作業性更加改善之觀點,會有使保護薄膜從光學構件剝離之剝離速度更高速化之傾向。此外,隨著光學構件之薄型化,會有因保護薄膜剝離時的拉鍊現象所致之光學構件的表面缺陷更容易產生之傾向。拉鍊現象據認為係由於黏著劑層之黏著力的強弱所導致。通常,黏著劑層之黏著力會表現剝離速度愈快黏著力愈高的傾向,故拉鍊現象在將保護薄膜從光學構件以高速進行剝離時較容易發生。 因此,欲實現可形成兼具低速剝離力與高速剝離力之平衡良好、以高速剝離時不易造成拉鍊現象、及透明性優良之黏著劑層之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物係為困難。
本發明所欲解決的課題係提供光學構件保護薄膜用黏著劑組成物及光學構件保護薄膜,該光學構件保護薄膜用黏著劑組成物可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好、會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象並且透明性優良的黏著劑層。 [解決課題之手段]
用以解決課題之具體方法包含下列態樣。 >1>一種光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,含有: (甲基)丙烯酸系共聚物(A),包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度為-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍, (甲基)丙烯酸系共聚物(B),包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度落在0℃以上且45℃以下之範圍並且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍,及 異氰酸酯系交聯劑; 上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍。 >2>如>1>所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度落在-70℃以上且-40℃以下之範圍。 >3>如>1>或>2>所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的上述來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元的含有率相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,為50質量%以上。 >4>如>1>~>3>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的上述來自丙烯酸正丁酯的構成單元的含有率相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,為50質量%以上。 >5>如>1>~>4>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的上述來自具有羥基之單體的構成單元的含有率相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍。 >6>如>1>~>5>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的上述來自具有羥基之單體的構成單元的含有率相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍。 >7>如>1>~>6>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在3質量份以上且60質量份以下之範圍。 >8>如>1>~>7>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量落在1萬以上且15萬以下之範圍。 >9>如>1>~>8>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,上述異氰酸酯系交聯劑為六亞甲基二異氰酸酯。 >10>一種光學構件保護薄膜,具備: 基材,及 黏著劑層,設置於上述基材上,且利用如>1>~>9>中任一項所記載之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物形成而得。 [發明之效果]
根據本發明係提供能形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好、會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象並且透明性優良的黏著劑層之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,以及提供光學構件保護薄膜。
以下,針對本發明之具體實施形態進行詳細地說明。惟,本發明不限於下列實施形態,在本發明之目的的範圍內可添加適當地變化來實施。
本說明書中,使用「~」來表示的數值範圍意指包含「~」之前後所記載之數值分別作為最小值及最大值之範圍。 本說明書中,階段性記載之數值範圍內,以某數值範圍記載之上限值或下限值也可置換成另一階段性記載之數值範圍的上限值或下限值。又,本說明書中所記載的數值範圍內,以某數值範圍記載之上限值或下限值也可置換成實施例所示之值。 本說明書中,2種以上之理想態樣的組合為更理想之態樣。 本說明書中,各成分的量若存在多種屬於各成分之物質時,除非特別限定,否則意指多種物質之合計量。
本說明書中,「(甲基)丙烯酸系共聚物」意指來自具有(甲基)丙烯醯基之單體之構成單元的含有率為全部構成單元(亦即(甲基)丙烯酸系聚合物之全部構成單元)之50質量%以上的共聚物。
本說明書中,「(甲基)丙烯酸系」係包含「丙烯酸系」及「甲基丙烯酸系」兩者之用語,「(甲基)丙烯酸酯」係包含「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」兩者之用語,「(甲基)丙烯醯基」係包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者之用語。
本說明書中,「n-」意指正(normal),「i-」意指異(iso),「s-」意指二級(secondary),「t-」意指三級(tertiary)。
本說明書中,「黏著劑組成物」意指交聯反應結束前之液狀或糊狀之物質。 本說明書中,「黏著劑層」意指由黏著劑組成物的交聯反應結束後之物質構成的膜。 本說明書中,「被黏著體」意指光學構件。
本說明書中,「低速剝離力」意指將貼附於被黏著體之保護薄膜從被黏著體沿保護薄膜之縱向以低速(亦即0.3m/分鐘)進行180°剝離時所測得的黏著力。另外,詳細的測定方法如後述實施例所示。 本說明書中,「適當的低速剝離力」意指不易發生從被黏著體剝落、偏移等功能不良之強度的黏著力。
本說明書中,「高速剝離力」意指將貼附於被黏著體之保護薄膜從被黏著體沿保護薄膜之縱向以高速(亦即30m/分鐘)進行180°剝離時所測得的黏著力。另外,詳細的測定方法如後述實施例所示。 本說明書中,「適當的高速剝離力」意指可有效地從被黏著體剝離之強度的黏著力。
本說明書中,「低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層」意指具有不易發生從被黏著體剝落、偏移等功能不良,且可有效地從被黏著體剝離之強度的黏著力之黏著劑層。
本說明書也將「光學構件保護薄膜」簡稱為「保護薄膜」。
[光學構件保護薄膜用黏著劑組成物] 本發明之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物(以下也簡稱為「黏著劑組成物」)含有: (甲基)丙烯酸系共聚物(A),包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度為-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍[以下也稱為特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)」], (甲基)丙烯酸系共聚物(B),包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度落在0℃以上且45℃以下之範圍並且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍[以下也稱為特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)」],及 異氰酸酯系交聯劑; 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍。 根據本發明之黏著劑組成物,可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好、會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象並且透明性優良的黏著劑層。 關於本發明之黏著劑組成物可發揮如此效果之理由尚未闡明,但本發明人們推測如下。惟,下列推測並非用以限定性解釋本發明之黏著劑組成物,僅作為一例進行說明。
本發明之黏著劑組成物所含的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度為0℃以上,且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍。又,本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍。因此據認為利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層中,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)會適度地往表面附近(所謂和被黏著體之界面附近)集中。據推測黏著劑層中,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)適度地集中於和被黏著體之界面附近的話,黏著劑層對被黏著體的濡濕不會過度,故黏著劑層會展現適當的高速剝離力。又,據認為特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度為45℃以下,故黏著劑層對被黏著體的濡濕適當。因此據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層會抑制黏著劑層對被黏著體的濡濕不足所導致的拉鍊現象。
本發明之黏著劑組成物所含的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度落在-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍。因此據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層會展現適當的低速剝離力。又,據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。
本發明之黏著劑組成物含有不同單體組成的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)。 通常,利用含有不同單體組成之2種以上之共聚物的黏著劑組成物形成的黏著劑層,容易造成透明性降低(所謂霧度上昇)的問題。 本發明之黏著劑組成物所含的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元。特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)由於均包含來自具有正丁基之單體的構成單元,故會展現相容性良好的傾向。因此,據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層之透明性優良。
本發明之黏著劑組成物所含的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)由於均包含來自具有羥基之單體的構成單元,故會和異氰酸酯系交聯劑適當地進行交聯反應。因此,據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層之低速剝離力與高速剝離力之平衡良好。又,據推測利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。
相對於本發明之黏著劑組成物,日本特開2005-146151號公報所記載之保護片用感壓黏接劑含有2種(甲基)丙烯酸系聚合物,但成分(B)之(甲基)丙烯酸系聚合物的玻璃轉移溫度(Tg)為80℃以上,故形成的黏著劑層對被黏著體之濡濕不足,例如在剝離速度為30m/分鐘之高速剝離時不能充分抑制拉鍊現象。 日本特開2013-216769號公報所記載之黏著劑組成物含有2種共聚物,但(甲基)丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)為59℃以上,故據認為會和日本特開2005-146151號公報所記載之保護片用感壓黏接劑同樣,所形成的黏著劑層對被黏著體之濡濕不足,例如在剝離速度為30m/分鐘之高速剝離時不能充分抑制拉鍊現象。而且,日本特開2013-216769號公報所記載之黏著劑組成物所含的2種共聚物,由於單體組成大不相同,故黏著劑層之透明性不足。 日本特開2017-128636號公報所記載之黏著劑組成物含有2種(甲基)丙烯酸系共聚物,惟,屬於寡聚物之(甲基)丙烯酸系共聚物中含有環氧烷鏈,故據認為會過度促進所形成的黏著劑層對被黏著體之濡濕,高速剝離力會變得過高。因此,利用日本特開2017-128636號公報所記載之黏著劑組成物形成的黏著劑層之低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳(例如參照後述比較例16)。
以下,本說明書將「特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)」統稱為「特定(甲基)丙烯酸系共聚物」。
[特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)] 本發明之黏著劑組成物含有包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度為-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍之(甲基)丙烯酸系共聚物(A)[亦即,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)]。
>來自丙烯酸正丁酯的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元。 本說明書中,「來自丙烯酸正丁酯的構成單元」意指丙烯酸正丁酯經加成聚合而形成的構成單元。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率(所謂含有比例;以下皆同)並無特別限制。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜為40質量%以上,為45質量%以上更佳,為50質量%以上再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為40質量%以上的話,和(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之相容性會變得更好,故會有可形成霧度更受到抑制之黏著劑層的傾向。 又,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜為70質量%以下。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為70質量%以下的話,會有可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡更良好的黏著劑層之傾向。
>來自具有羥基之單體的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自具有羥基之單體的構成單元。 本說明書中,「來自具有羥基之單體的構成單元」意指具有羥基之單體經加成聚合而形成的構成單元。
具有羥基之單體的種類並無特別限制。 具有羥基之單體之具體例可列舉:(甲基)丙烯酸-2-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸-10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-1,1-二甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-1,3-二甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2,2,4-三甲基-3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基-3-羥基己酯、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯;1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯、二己內酯-2-丙烯醯氧基乙醚等。 它們之中,具有羥基之單體例如考慮和丙烯酸正丁酯之共聚合性良好的觀點,宜為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。 (甲基)丙烯酸羥基烷基酯例如考慮和丙烯酸正丁酯之相容性及共聚合性良好的觀點、以及和異氰酸酯系交聯劑之反應性良好的觀點,宜為具有碳數為1~5之羥基烷基之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯,為具有碳數為2~4之羥基烷基之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯更佳。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)可僅含1種來自具有羥基之單體的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率並無特別限制,例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜落在0.1質量%以上且20質量%以下之範圍,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍更佳,落在1質量%以上且10質量%以下之範圍再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為0.1質量%以上意指特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)積極地包含來自具有羥基之單體的構成單元。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為20質量%以下的話,會有可形成更充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象之黏著劑層的傾向。而且會有可形成透明性更優良的黏著劑層之傾向。
>來自和丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體之構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)宜包含來自和丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體[以下也稱為其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)」]之構成單元。 來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元對於黏著劑層之黏著力的調整有所貢獻。
本說明書中,「來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元」意指其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)經加成聚合而形成的構成單元。
其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)若為和丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體,則其種類並無特別限制。 其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)宜為無取代之(甲基)丙烯酸烷基酯單體。 其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)之烷基為直鏈狀、支鏈狀、或環狀中任一均可。 又,烷基之碳數考慮所形成的黏著劑層之對被黏著體的黏著力及和保護薄膜之基材的黏合性之觀點,宜為1~18,為1~12更佳。
其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯等。 它們之中,其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)例如考慮輕易將特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)調整至-40℃以下之觀點,宜為丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元時,可僅含1種來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元時,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜落在10質量%以上且59.9質量%以下之範圍,落在15質量%以上且50質量%以下之範圍更佳,落在20質量%以上且40質量%以下之範圍再更佳。
>來自具有羧基之單體的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)也可包含來自具有羧基之單體的構成單元。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自具有羧基之單體的構成單元的話,會有形成的黏著劑層之高速剝離力降低、低速剝離力與高速剝離力之平衡變得更良好之傾向。
本說明書中,「來自具有羧基之單體的構成單元」意指具有羧基之單體經加成聚合而形成的構成單元。
具有羧基之單體的種類並無特別限制。 具有羧基之單體之具體例可列舉:丙烯酸(AA)、甲基丙烯酸(MAA)、巴豆酸、馬來酸酐、富馬酸、伊康酸、戊烯二酸、檸康酸、ω-羧基-聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯[例如ω-羧基-聚己內酯(n≒2)單丙烯酸酯]、琥珀酸酯(例如2-丙烯醯氧乙基-琥珀酸)等。 它們之中,具有羧基之單體例如考慮和異氰酸酯系交聯劑之反應性良好的觀點,宜為丙烯酸(AA)。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自具有羧基之單體的構成單元時,可僅含1種來自具有羧基之單體的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自具有羧基之單體的構成單元時,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜落在0.1質量%以上且5質量%以下之範圍,落在0.3質量%以上且3質量%以下之範圍更佳,落在0.5質量%以上且1.5質量%以下之範圍再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為0.1質量%以上的話,會有形成的黏著劑層之高速剝離力更為降低之傾向。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元為5質量%以下的話,會有可形成更充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象之黏著劑層的傾向。
>其它構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)在會發揮本發明之效果的範圍內,也可含有前述構成單元以外的構成單元(所謂其它構成單元),該前述構成單元亦即必要構成單元之來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元、以及任意構成單元之來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)的構成單元及來自具有羧基之單體的構成單元。
構成其它構成單元之單體若為可和構成前述構成單元之單體進行共聚合者,則無特別限制。 構成其它構成單元之單體可列舉例如:以(甲基)丙烯酸苄酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯為代表之具有環狀基之(甲基)丙烯酸酯;以(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯及(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯為代表之(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯;以苯乙烯、α-甲基苯乙烯、三級丁基苯乙烯、對氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、及乙烯基甲苯為代表之芳香族單乙烯系單體;以丙烯腈及甲基丙烯腈為代表之氰化乙烯系單體;以及以甲酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、及叔碳酸(versatic acid)乙烯酯為代表之乙烯酯。也可列舉這些單體的各種衍生物。 惟,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)包含來自具有環狀基之(甲基)丙烯酸酯的構成單元時,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的來自具有環狀基之(甲基)丙烯酸酯的構成單元之含有率,例如考慮形成的黏著劑層之透明性的觀點,相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,宜為10質量%以下,為5質量%以下更佳,為1質量%以下再更佳,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)不含來自具有環狀基之(甲基)丙烯酸酯的構成單元亦即為0質量%特佳。
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度>> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)為-40℃以下,宜為-50℃以下,為-55℃以下更佳,為-60℃以下再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)為-40℃以下的話,高速剝離力不會變太高,可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層。又,可形成會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象之黏著劑層。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)的下限並無特別限制,例如考慮對被黏著體之黏著力的觀點,宜為-70℃以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)係將由下述式1計算求得的絕對溫度(單位:K;以下皆同)換算成攝氏溫度(單位:℃;以下皆同)而成的值。 1/Tg=m1/Tg1+m2/Tg2+...+m(k-1)/Tg(k-1)+mk/Tgk (式1)
式1中,Tg1、Tg2、...、Tg(k-1)、及Tgk分別表示將構成特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之各單體製成均聚物時以絕對溫度(K)表示之玻璃轉移溫度(Tg)。m1、m2、...、m(k-1)、及mk分別表示構成特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之各單體的莫耳分率,且m1+m2+...+m(k-1)+mk=1。 另外,藉由從絕對溫度(K)減去273可將絕對溫度(K)換算成攝氏溫度(℃),藉由從攝氏溫度(℃)加上273可將攝氏溫度(℃)換算成絕對溫度(K)。
本說明書中,「製成均聚物時以絕對溫度(K)表示之玻璃轉移溫度(Tg)」意指將該單體單獨進行聚合而製得的均聚物之以絕對溫度(K)表示之玻璃轉移溫度(Tg)。 均聚物之玻璃轉移溫度(Tg)係使用差示掃描熱量測定裝置(DSC)[型號:EXSTAR6000,Seiko Instruments(股)製],以氮氣流中、測定樣本10mg、昇溫速度10℃/分鐘之條件進行測定,並令得到的DSC曲線之反曲點作為均聚物之玻璃轉移溫度(Tg)。
就具代表性之單體的「製成均聚物時以攝氏溫度(℃)表示之玻璃轉移溫度(Tg)」而言,丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)為-76℃,甲基丙烯酸-2-乙基己酯(2EHMA)為-10℃,丙烯酸正丁酯(n-BA)為-57℃,甲基丙烯酸正丁酯(n-BMA)為21℃,丙烯酸三級丁酯(t-BA)為41℃,甲基丙烯酸三級丁酯(t-BMA)為107℃,甲基丙烯酸異丁酯(i-BMA)為48℃,丙烯酸甲酯(MA)為5℃,甲基丙烯酸甲酯(MMA)為103℃,甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)為155℃,丙烯酸異莰酯(IBXA)為96℃,甲基丙烯酸環己酯(CHMA)為56℃,丙烯酸乙酯(EA)為-27℃,甲基丙烯酸乙酯(EMA)為42℃,甲基丙烯酸為185℃,丙烯酸-4-羥基丁酯(4HBA)為-39℃,丙烯酸-2-羥基乙酯(2HEA)為-15℃,甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(2HEMA)為55℃,丙烯酸(AA)為163℃,丙烯酸異辛酯(i-OA)為-75℃,甲基丙烯酸二甲基胺基乙酯(DM)為18℃,ω-羧基-聚己內酯(n≒2)單丙烯酸酯為-30℃,及2-丙烯醯氧乙基-琥珀酸為-40℃。
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量>> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)落在20萬以上且200萬以下之範圍,宜落在25萬以上且100萬以下之範圍,落在30萬以上且80萬以下之範圍更佳,落在35萬以上且55萬以下之範圍再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)為20萬以上的話,會有容易獲得凝聚力的傾向。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)為200萬以下的話,會有塗覆性容易優化的傾向。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)係利用下述方法測得的值。具體而言,係依循下述(1)~(3)進行測定。 (1)將特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之溶液塗佈於剝離紙,並於100℃乾燥1分鐘,獲得薄膜狀之特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)。 (2)使用上述(1)得到的薄膜狀之特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與四氫呋喃,獲得固體成分濃度為0.2質量%之樣本溶液。 (3)使用凝膠滲透層析法(GPC),利用下述條件,以標準聚苯乙烯換算值的形式,測定特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)。
~條件~ 測定裝置:高速GPC[型號:HLC-8220 GPC,東曹(股)製] 檢測器:差示折射率計(RI)[組裝於HLC-8220,東曹(股)製] 管柱:將TSK-GEL GMHXL[東曹(股)製]串聯連接4支 管柱溫度:40℃ 移動相:四氫呋喃 樣本濃度:0.2質量% 注射量:100μL 流量:0.6mL/分鐘
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之含有率>> 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之含有率無特別限制,例如相對於黏著劑組成物中之全部固體成分量,宜落在50質量%以上且99質量%以下之範圍,落在60質量%以上且90質量%以下之範圍更佳,落在70質量%以上且80質量%以下之範圍再更佳。 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之含有率相對於黏著劑組成物中之全部固體成分量為50質量%以上的話,會有可形成更充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象之黏著劑層的傾向。 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之含有率相對於黏著劑組成物中之全部固體成分量為99質量%以下的話,會有可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡更良好的黏著劑層之傾向。 本說明書中,「黏著劑組成物中之全部固體成分量」在黏著劑組成物不含溶劑等揮發性成分時,意指黏著劑組成物之總質量,在黏著劑組成物含有溶劑等揮發性成分時,意指從黏著劑組成物去除溶劑等揮發性成分後得到之殘渣的質量。
[特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)] 本發明之黏著劑組成物含有包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度落在0℃以上且45℃以下之範圍並且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍之(甲基)丙烯酸系共聚物(B)[亦即特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)]。 又,本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍。
>來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元。 本說明書中,「來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元」意指甲基丙烯酸正丁酯經加成聚合而形成的構成單元。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率並無特別限制。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,宜為40質量%以上,為50質量%以上更佳,為60質量%以上再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為40質量%以上的話,由於和(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之相容性變得更良好,故會有可形成霧度更受到抑制之黏著劑層的傾向。 又,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,宜為99.9質量%以下,為98質量%以下更佳,為97質量%以下再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為99.9質量%以下的話,由於會和異氰酸酯系交聯劑更適當地交聯,故會有可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡更良好的黏著劑層之傾向。
>來自具有羥基之單體的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自具有羥基之單體的構成單元。 本說明書中,「來自具有羥基之單體的構成單元」意指具有羥基之單體經加成聚合而形成的構成單元。
具有羥基之單體的種類並無特別限制。 具有羥基之單體的具體例和特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的具有羥基之單體的具體例同樣,故在此省略其記載。 具有羥基之單體例如考慮和甲基丙烯酸正丁酯之共聚合性良好的觀點,宜為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。 (甲基)丙烯酸羥基烷基酯例如考慮和甲基丙烯酸正丁酯之相容性及共聚合性良好的觀點、以及和異氰酸酯系交聯劑之反應性良好的觀點,宜為具有碳數為1~5之羥基烷基之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯,為具有碳數為2~4之羥基烷基之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯更佳。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)可僅含1種來自具有羥基之單體的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率並無特別限制,例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,宜落在0.1質量%以上且20質量%以下之範圍,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍更佳,落在1質量%以上且10質量%以下之範圍再更佳為。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為0.1質量%以上意指特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)積極地包含來自具有羥基之單體的構成單元。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羥基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為20質量%以下的話,會有可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡更良好的黏著劑層之傾向。
>來自和甲基丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體之構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)宜包含來自和甲基丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體[以下也稱為其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)」]之構成單元。 來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元對所形成的黏著劑層之黏著力的調整有所貢獻。
本說明書中,「來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元」意指其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)經加成聚合而形成的構成單元。
其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)若為和甲基丙烯酸正丁酯不同的(甲基)丙烯酸烷基酯單體,則其種類並無特別限制。 其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)宜為無取代之(甲基)丙烯酸烷基酯單體。 其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)之烷基為直鏈狀、支鏈狀、或環狀中任一均可。 又,烷基之碳數考慮所形成的黏著劑層之對被黏著體的黏著力及和保護薄膜之基材的黏合性之觀點,宜為1~18,為1~12更佳。
其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯(n-BA)、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等。 它們之中,其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)例如考慮和甲基丙烯酸正丁酯(n-BMA)之共聚合性良好並且由於玻璃轉移溫度(Tg)適當故輕易獲得期望的黏著性能之觀點,宜為甲基丙烯酸乙酯(EMA)。又,其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)例如考慮和特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之相容性的觀點,宜為丙烯酸正丁酯(n-BA)。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元時,可僅含1種來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元時,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元之含有率例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,宜落在0.1質量%以上且59.9質量%以下之範圍。
>來自具有羧基之單體的構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)也可包含來自具有羧基之單體的構成單元。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自具有羧基之單體的構成單元的話,會有形成的黏著劑層之高速剝離力降低、低速剝離力與高速剝離力之平衡變得更良好之傾向。
具有羧基之單體的種類並無特別限制。 具有羧基之單體的具體例和特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的具有羧基之單體的具體例同樣,故在此省略其記載。 具有羧基之單體例如考慮和異氰酸酯系交聯劑之反應性良好的觀點,宜為丙烯酸(AA)。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自具有羧基之單體的構成單元時,可僅含1種來自具有羧基之單體的構成單元,也可包含2種以上。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)包含來自具有羧基之單體的構成單元時,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,宜落在0.1質量%以上且5質量%以下之範圍,落在0.3質量%以上且3質量%以下之範圍更佳,落在0.5質量%以上且1.5質量%以下之範圍再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為0.1質量%以上的話,會有可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡更良好的黏著劑層之傾向。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的來自具有羧基之單體的構成單元之含有率相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元為5質量%以下的話,會有可形成更充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象之黏著劑層的傾向。
>其它構成單元> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)在會發揮本發明之效果的範圍內,也可含有前述構成單元以外的構成單元(所謂其它構成單元),該前述構成單元亦即必要構成單元之來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元、以及任意構成單元之來自其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)的構成單元及來自具有羧基之單體的構成單元。
構成其它構成單元之單體若為可和構成前述構成單元之單體進行共聚合者,則無特別限制。 構成其它構成單元之單體的具體例和特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的構成其它構成單元之單體的具體例同樣,故在此省略其記載。
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度>> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)落在0℃以上且45℃以下之範圍,宜落在5℃以上且40℃以下之範圍,落在10℃以上且35℃以下之範圍更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)為0℃以上的話,可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)為45℃以下的話,可形成會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象的黏著劑層。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)同樣的方法計算而得的值。
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量>> 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)落在1萬以上且20萬以下之範圍,宜落在1萬以上且15萬以下之範圍,落在1.5萬以上且15萬以下之範圍更佳,落在2萬以上且10萬以下之範圍再更佳。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)為1萬以上的話,可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)為20萬以下的話,可形成會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象的黏著劑層。又,和特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之相容性會改善,故可形成透明性優良的黏著劑層。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)同樣的方法測得的值。
>>特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量>> 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍,宜落在3質量份以上且60質量份以下之範圍,落在10質量份以上且60質量份以下之範圍更佳,落在10質量份以上且50質量份以下之範圍再更佳。 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份為1質量份以上的話,可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層。 本發明之黏著劑組成物中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份為70質量份以下的話,可形成會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象的黏著劑層。又,可形成透明性優良的黏著劑層。
[特定(甲基)丙烯酸系共聚物之製造方法] 特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)[亦即特定(甲基)丙烯酸系共聚物]之製造方法並無特別限制。 特定(甲基)丙烯酸系共聚物例如可利用以溶液聚合法、乳化聚合法、懸浮聚合法、及塊狀聚合法為代表的公知聚合方法將上述單體進行聚合而製造。
特定(甲基)丙烯酸系共聚物之玻璃轉移溫度(Tg)例如可藉由使用2種以上之製成均聚物時之玻璃轉移溫度(Tg)不同的單體來適當地調整。 又,特定(甲基)丙烯酸系共聚物的重量平均分子量(Mw)可藉由調整聚合溫度、聚合時間、有機溶劑的使用量、聚合起始劑的種類、聚合起始劑的使用量等來選出期望的值。
就聚合方法而言,考量在製造後當調製本發明之黏著劑組成物時,處理步驟較簡單且可在短時間內實施的觀點,宜為溶液聚合法。 溶液聚合法通常係將預定的有機溶劑、單體、聚合起始劑、及因應需要使用的鏈轉移劑進料於聚合槽內,並在氮氣流中及/或有機溶劑的回流溫度條件下,邊攪拌邊使其加熱反應數小時。此時,也可將有機溶劑、單體、聚合起始劑及/或鏈轉移劑中之至少一部分予以逐次添加。
聚合反應時所使用的有機溶劑可列舉:芳香族烴化合物、脂肪族系或脂環族系烴化合物、酯化合物、酮化合物、二醇醚化合物、醇化合物等。 就聚合反應時所使用的有機溶劑更具體而言,可列舉例如:以苯、甲苯、乙苯、正丙苯、三級丁苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、四氫萘、十氫萘、及芳香族石腦油為代表之芳香族烴化合物;以正己烷、正庚烷、正辛烷、異辛烷、正癸烷、二戊烯、石油精、石油石腦油、及松節油為代表之脂肪族系或脂環族系烴化合物;乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸-2-羥基乙酯、乙酸-2-丁氧基乙酯、乙酸-3-甲氧基丁酯、及苯甲酸甲酯為代表之酯化合物;以丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、異佛爾酮、環己酮、及甲基環己酮為代表之酮化合物;以乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、及二乙二醇單丁醚為代表之二醇醚化合物;以及以甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、及三級丁醇為代表之醇化合物。 聚合反應時,這些有機溶劑可僅使用1種,也可將2種以上混合使用。
在製造特定(甲基)丙烯酸系共聚物時,宜使用芳香族烴化合物、酯化合物、酮化合物、醇化合物等在聚合反應中不易發生鏈轉移的有機溶劑,尤其考慮特定(甲基)丙烯酸系共聚物的溶解性、聚合反應的容易度等觀點,宜使用甲苯、乙酸乙酯、甲乙酮、三級丁醇等。
聚合起始劑可列舉通常在溶液聚合法使用的有機過氧化物、偶氮化合物等。 有機過氧化物可列舉例如:三級丁基過氧化氫、異丙苯過氧化氫、過氧化二異丙苯、過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧化己醯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、2,2-雙(4,4-二(三級丁基)過氧環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二(三級戊基)過氧環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二(三級辛基)過氧環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-α-異丙苯基過氧環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二(三級丁基)過氧環己基)丁烷、及2,2-雙(4,4-二(三級辛基)過氧環己基)丁烷。 偶氮化合物可列舉例如:2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(ABVN)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、及2,2’-偶氮雙(異丁酸)二甲酯。 聚合反應時,這些聚合起始劑可僅使用1種,也可將2種以上混合使用。
製造特定(甲基)丙烯酸系共聚物時,宜使用在聚合反應中不會造成接枝反應的聚合起始劑,使用偶氮雙(azobis)系的聚合起始劑特佳。
聚合起始劑的使用量並無特別限制,係因應作為目的之特定(甲基)丙烯酸系共聚物的分子量而適當地設定。
在製造特定(甲基)丙烯酸系共聚物時,若在不損及本發明的目的及效果之範圍內,也可因應需要使用鏈轉移劑。 鏈轉移劑可列舉例如:氰乙酸、氰乙酸的碳數1~8之烷基酯化合物、溴乙酸、溴乙酸的碳數1~8之烷基酯化合物;以α‐甲基苯乙烯、蒽、菲、茀、及9-苯基茀為代表之芳香族化合物;以對硝基苯胺、硝基苯、二硝基苯、對硝基苯甲酸、對硝基酚、及對硝基甲苯為代表之芳香族硝基化合物;苯醌及以2,3,5,6-四甲基對苯醌為代表之苯醌衍生物;以三丁基硼烷為代表之硼烷衍生物;四溴化碳、四氯化碳、1,1,2,2-四溴乙烷、三溴乙烯、三氯乙烯、溴三氯甲烷、三溴甲烷、及3-氯-1-丙烯為代表之鹵化烴化合物;以氯醛及呋喃甲醛為代表之醛化合物;以碳數1~18之烷基硫醇化合物、硫代酚及甲苯硫醇為代表之芳香族硫醇化合物;巰基乙酸、巰基乙酸的碳數1~10之烷基酯化合物、碳數1~12之羥基烷基硫醇化合物;以及以蒎烯及萜品油烯為代表之萜烯化合物。
製造特定(甲基)丙烯酸系共聚物時,在使用鏈轉移劑的情況下,鏈轉移劑的使用量並無特別限制,係因應作為目的之特定(甲基)丙烯酸系共聚物的分子量而適當地設定。
聚合溫度並無特別限制,係因應作為目的之特定(甲基)丙烯酸系共聚物的分子量而適當地設定。
[異氰酸酯系交聯劑] 本發明之黏著劑組成物含有異氰酸酯系交聯劑。 本說明書中,「異氰酸酯系交聯劑」意指分子內具有2個以上之異氰酸酯基的化合物(所謂多異氰酸酯化合物)。惟,本說明書中的異氰酸酯系交聯劑不包含具有異氰酸酯基、聚矽氧烷結構及環氧烷結構的化合物。本說明書將具有異氰酸酯基、聚矽氧烷結構及環氧烷結構的化合物稱為「聚矽氧系異氰酸酯化合物」,詳細內容如後述。
異氰酸酯系交聯劑可列舉:伸二甲苯基二異氰酸酯(XDI)、二苯甲烷二異氰酸酯、三苯甲烷三異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯(TDI)等芳香族多異氰酸酯化合物;六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)、五亞甲基二異氰酸酯(PDI)、異佛爾酮二異氰酸酯、芳香族多異氰酸酯化合物的氫化物等脂肪族或脂環族多異氰酸酯化合物等。 又,異氰酸酯系交聯劑還可列舉上述多異氰酸酯化合物的二聚物、上述多異氰酸酯化合物的三聚物、上述多異氰酸酯化合物的五聚物、上述多異氰酸酯化合物與多元醇化合物(例如三羥甲基丙烷)的加成物、上述異氰酸酯化合物的縮二脲體等。 它們之中,異氰酸酯系交聯劑例如考量容易使期望的黏著力展現的觀點及考慮可更抑制霧度的觀點,宜為六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)。
多異氰酸酯化合物可使用市售品。 多異氰酸酯化合物的市售品之例可列舉:「CORONATE(註冊商標)HX」、「CORONATE(註冊商標)HL-S」、「CORONATE(註冊商標)L」、「CORONATE(註冊商標)L-45E」、「CORONATE(註冊商標)2031」、「CORONATE(註冊商標)2030」、「CORONATE(註冊商標)2234」、「CORONATE(註冊商標)2785」、「AQUANATE(註冊商標)200」、及「AQUANATE(註冊商標)210」[以上為東曹(股)製];「SUMIDUR(註冊商標)N-3300」、「DESMODUR(註冊商標)N-3400」、及「SUMIDUR(註冊商標)N-75」[以上為Sumika Covestro Urethane(股)製];「DURANATE(註冊商標)E-405-80T」、「DURANATE(註冊商標)AE700-100」、「DURANATE(註冊商標)24A-100」、及「DURANATE(註冊商標)TSE-100」[以上為旭化成(股)製];以及「TAKENATE(註冊商標)D-110N」、「TAKENATE(註冊商標)D-120N」、「TAKENATE(註冊商標)M-631N」、「MT-OLESTER(註冊商標)NP1200」、及「STABiO(註冊商標)XD-340N」[以上為三井化學(股)製]。
本發明之黏著劑組成物中,異氰酸酯系交聯劑可僅含1種,也可含有2種以上。
本發明之黏著劑組成物中的異氰酸酯系交聯劑之含量並無特別限制,相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物100質量份,宜落在0.1質量份以上且10.0質量份以下之範圍,落在0.3質量份以上且7.0質量份以下之範圍更佳,落在0.5質量份以上且6.0質量份以下之範圍再更佳,落在1.0質量份以上且5.0質量份以下之範圍特佳。 本發明之黏著劑組成物中的異氰酸酯系交聯劑之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物100質量份為0.1質量份以上意指本發明之黏著劑組成物積極地含有異氰酸酯系交聯劑。 本發明之黏著劑組成物中的異氰酸酯系交聯劑之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物100質量份為10.0質量份以下的話,會有不會過度造成形成的黏著劑層對被黏著體的濡濕降低,而黏著劑層會展現更適當的低速剝離力之傾向。又,會有更充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象的傾向。
[有機溶劑] 本發明之黏著劑組成物也可含有有機溶劑。 有機溶劑對黏著劑組成物的塗佈性之改善有所貢獻。 有機溶劑可列舉例如和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物之聚合反應時所使用的有機溶劑同樣者。
本發明之黏著劑組成物在含有有機溶劑時,有機溶劑可僅含1種,也可含有2種以上。
本發明之黏著劑組成物含有有機溶劑時,有機溶劑之含量並無特別限制,可因應目的而適當地設定。
[其它成分] 本發明之黏著劑組成物在不損及本發明之效果的範圍內,也可因應需要含有前述成分之外的成分(所謂其它成分)。 其它成分可列舉:聚矽氧系異氰酸酯化合物、和聚矽氧系異氰酸酯化合物不同的聚矽氧系化合物(以下也稱為「其它聚矽氧化合物」)、離子性化合物、特定(甲基)丙烯酸系共聚物以外的聚合物、異氰酸酯系交聯劑以外的交聯劑(例如金屬螯合物系交聯劑)、交聯觸媒、賦黏劑、抗氧化劑、著色劑(例如染料及顏料)、光安定劑(例如紫外線吸收劑)等。
>聚矽氧系異氰酸酯化合物> 本發明之黏著劑組成物除了含有前述異氰酸酯系交聯劑之外,也可含有具有異氰酸酯基、聚矽氧烷結構及環氧烷結構的化合物(亦即聚矽氧系異氰酸酯化合物)。 聚矽氧系異氰酸酯化合物由於具有異氰酸酯基,故會和特定(甲基)丙烯酸系共聚物中的交聯性官能基反應並形成交聯結構,並以錨定狀態輕易保持在黏著劑層中。因此,將保護薄膜予以剝離時,會抑制污染成分轉移附著到被黏著體表面。因此,本發明之黏著劑組成物含有聚矽氧系異氰酸酯化合物的話,會有可形成耐污染性優良的黏著劑層之傾向。 又,聚矽氧系異氰酸酯化合物由於在分子中具有聚矽氧烷結構,故會有不易和特定(甲基)丙烯酸系共聚物相容,並集中於黏著劑層的表面附近之傾向。此外,聚矽氧系異氰酸酯化合物由於在分子中具有環氧烷結構,故會有和使用作為抗靜電助劑之具有環氧烷結構的聚矽氧化合物同樣,以配位於抗靜電劑的狀態集中於黏著劑層的表面附近之傾向。因此,聚矽氧系異氰酸酯化合物相對於形成的黏著劑層,以少量即可賦予優良的抗靜電性能。 本說明書中,「聚矽氧烷結構」意指矽氧烷基(-Si-O-)連結而成的結構。 聚矽氧系異氰酸酯化合物中的聚矽氧烷結構所含的矽原子之數量宜落在1~100之範圍內。
聚矽氧系異氰酸酯化合物可利用具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物與異氰酸酯化合物之反應(以下也稱為「預反應」)來獲得。
具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物中的反應性基可列舉:羥基、羧基、有取代或無取代之醯胺基、有取代或無取代之胺基、環氧基、巰基、含矽之基等反應性基。 它們之中,反應性基例如考慮可有效地促進反應性基與異氰酸酯化合物中的異氰酸酯基(NCO基)的反應,且可有效地抑制對被黏著體之污染的發生之觀點,宜為羥基。 將反應性基導入到具有環氧烷結構的聚矽氧化合物之兩末端、一末端、及側鏈中之何一者均可。 在此,「一末端」意指例如具有具矽氧烷基之重複單元的聚矽氧烷鏈(所謂主鏈)之聚矽氧化合物的上述主鏈的一側末端。「兩末端」意指例如具有具矽氧烷基之重複單元的分子鏈(所謂主鏈)之聚矽氧化合物的上述主鏈的兩側末端。
具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物可列舉例如:環氧烷結構接枝狀地鍵結於聚矽氧鏈(所謂聚矽氧烷主鏈)而成的化合物、或環氧烷結構嵌段狀地鍵結於聚矽氧鏈(所謂聚矽氧烷主鏈)而成的化合物。 具有環氧烷結構的化合物可列舉具有反應性基之聚環氧乙烷、聚環氧丙烷等,也可為將環氧乙烷與環氧丙烷予以嵌段狀或無規地加成而成的聚環氧烷。
具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物例如考慮展現優良的抗靜電性,且有效地抑制對被黏著體之污染的觀點,宜為含有環氧烷結構與於環氧烷結構之末端鍵結有羥基的結構之聚矽氧化合物(以下也稱為「含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物」)。 含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物具有於環氧烷結構之末端鍵結有羥基的結構的話,可發揮更優良的耐污染性。 具有環氧烷鏈的聚矽氧化合物會有和後述抗靜電劑交互作用並集中於黏著劑層的表面附近之傾向。推測其結果會使黏著劑層的表面之表面電阻值降低。黏著劑組成物含有聚矽氧系異氰酸酯化合物的話,可減少黏著劑組成物中的抗靜電劑之摻合量。
考慮賦予抗靜電性,且降低對被黏著體之污染性的觀點,含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物宜為含有來自二烷基矽氧烷的構成單元與來自烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷的構成單元之聚矽氧烷化合物。 二烷基矽氧烷中的烷基之碳數宜為1~4,為1更佳。 又,烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷中的環氧烷鏈之碳數宜為2~4,為2~3更佳。 烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷中的環氧烷鏈之含有數量宜為1~100,為10~100更佳。 烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷中的烷基之碳數宜為1~4。
含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物含有來自二烷基矽氧烷的構成單元與來自烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷的構成單元時,來自二烷基矽氧烷的構成單元之含有數量宜為100以下,為1~80更佳。又,來自烷基(羥基聚伸烷基氧基烷基)矽氧烷的構成單元之含有數量宜為2~100,為2~80更佳。
考慮黏著性、抗靜電性及降低對被黏著體之污染性的觀點,含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物宜為下述通式(3)或通式(4)表示之化合物。
[化1]
通式(3)中,p為二甲基矽氧烷結構單元的重複數,表示0~100之整數。q為具有聚環氧乙烷鏈之甲基伸丙基矽氧烷結構單元的重複數,表示2~100之整數。a為環氧乙烷結構單元的重複數,表示1~100之整數。 在此,通式(3)表示之化合物為多種化合物的集合體時,p、q、及a為化合物之集合體形式的平均值,為有理數。
環氧乙烷結構單元的重複數a為1~100之整數,宜為10~100之整數。a為1以上的話,會有可得到充分的導電性,抗靜電效果更為改善的傾向。又,a為100以下的話,會更容易集中於黏著劑層的表面附近。
二甲基矽氧烷結構單元的重複數p為0~100之整數,宜為1~80之整數。p為0以上時,會有改善抗靜電效果的傾向。又,p為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並更為改善黏著劑層的透明性之傾向。 甲基伸丙基矽氧烷結構單元的重複數q為2~100之整數,宜為2~80之整數。q為2以上的話,會有可輕易獲得充分的導電性,並使抗靜電效果改善的傾向。又,q為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並更為改善黏著劑層的透明性之傾向。
通式(3)表示之化合物之具體例可列舉:「SF-8428」、「FZ-2162」、「SH-3773M」、「FZ-77」、「FZ-2104」、「FZ-2110」、「L-7001」、「L-7002」、「SH-3749」等[以上為東麗道康寧(股)製]。
[化2]
通式(4)中,R1 及R2 分別獨立地表示碳數1~6之伸烷基,c表示10~80之整數,d為環氧乙烷(EO)構成單元的重複數,表示1以上之整數,e為環氧丙烷(PO)構成單元的重複數,表示0以上之整數,d+e表示1~30之整數。環氧乙烷及環氧丙烷的順序也可為隨機。
通式(4)表示之化合物之具體例可列舉:「BY-16-201」、「SF-8427」等[以上為東麗道康寧(股)製]。
含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物的重量平均分子量(Mw)並無特別限制,例如宜落在0.1萬以上且2萬以下之範圍,落在0.3萬以上且1.5萬以下之範圍更佳。 含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物的重量平均分子量(Mw)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)同樣的方法測得的值。
含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物的HLB值並無特別限制。 含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物的HLB值例如考慮和特定(甲基)丙烯酸系共聚物的相容性、局部化的容易性、及適於保護薄膜之黏接性的觀點,宜落在5以上且未達16之範圍,落在7以上且15以下之範圍更佳。
HLB值係表示具有環氧烷結構的聚矽氧化合物之親水性與疏水性的平衡之指標。本說明書中係遵循按下式進行計算的格里芬(Griffin)法之定義。另外,具有環氧烷結構的聚矽氧為市售品時,優先採用市售品的型錄資料。 HLB=[(親水性基部分的化學式量之總和)/(具有環氧烷結構的聚矽氧化合物之分子量)]×20
含有特定環氧烷結構之聚矽氧化合物可從前述市售品中選擇,也可利用矽氫化(hydrosilylation)反應使具有不飽和鍵及聚環氧乙烷鏈的有機化合物接枝到具有氫化矽之二甲基聚矽氧烷主鏈來獲得。
聚矽氧系異氰酸酯化合物之預反應所使用的異氰酸酯化合物若為可和上述具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物反應者,則無特別限制。 如此的異氰酸酯化合物可列舉例如前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物,具體例和異氰酸酯系交聯劑之具體例同樣。
例如考慮預反應中的反應性之觀點,預反應所使用的異氰酸酯化合物宜為選自於異佛爾酮二異氰酸酯或伸二甲苯基二異氰酸酯、及六亞甲基二異氰酸酯與多元醇之異氰尿酸酯改性物中之至少1種,考慮特別抑制後述預反應時的凝膠化之觀點,為異佛爾酮二異氰酸酯及伸二甲苯基二異氰酸酯中之至少一者更佳。
例如考慮抗靜電性的觀點,預反應所使用的異氰酸酯化合物宜為和前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物不同的異氰酸酯化合物。 前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物和聚矽氧系異氰酸酯化合物之預反應所使用的異氰酸酯化合物不同的話,在黏著劑層中,前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物與聚矽氧系異氰酸酯化合物不易相容,聚矽氧系異氰酸酯化合物會更容易往黏著劑層表面集中,故會有可獲得更優良的抗靜電性之傾向。
預反應所使用的異氰酸酯化合物可僅使用1種,也可使用2種以上。例如合併使用異佛爾酮二異氰酸酯與伸二甲苯基二異氰酸酯時,會有更可抑制預反應時的凝膠化之傾向。
聚矽氧系異氰酸酯化合物宜包含下述結構式(1)表示之結構。
[化3]
結構式(1)中,r表示1~100之整數,b表示1~100之整數,X表示含有異氰酸酯基的1價有機基。
甲基伸丙基矽氧烷結構單元的重複數r為1~100之整數,宜為2~80之整數。r為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,r為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
環氧乙烷結構單元的重複數b為1~100之整數,宜為10~100之整數。b為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,b為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
X表示之1價有機基可列舉從前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物(亦即雙官能以上之異氰酸酯化合物)去除1個異氰酸酯基(NCO基)而得的1價基。 它們之中,X表示之1價有機基,例如考慮和特定(甲基)丙烯酸系共聚物的反應性之觀點,宜為從選自於鏈狀或環狀之脂肪族多異氰酸酯化合物、鏈狀或環狀之脂肪族多異氰酸酯化合物的二聚物、及包含鏈狀或環狀之脂肪族多異氰酸酯化合物的異氰尿酸酯改性物之三聚物或五聚物中之至少1種多異氰酸酯化合物去除1個異氰酸酯基而得的1價基,為從選自於異佛爾酮二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、或六亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯的二聚物、及包含六亞甲基二異氰酸酯的異氰尿酸酯改性物之三聚物或五聚物中之至少1種多異氰酸酯化合物去除1個異氰酸酯基而得的1價基更佳,為從異佛爾酮二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、及包含六亞甲基二異氰酸酯的異氰尿酸酯改性物之三聚物中之至少一者去除1個異氰酸酯基而得的1價基再更佳,為從異佛爾酮二異氰酸酯及伸二甲苯基二異氰酸酯中之至少一者去除1個異氰酸酯基而得的1價基特佳。 又,X表示之1價有機基,例如考慮抗靜電性的觀點,宜為從和前述異氰酸酯系交聯劑即多異氰酸酯化合物不同的其它雙官能以上之異氰酸酯化合物去除1個異氰酸酯基(NCO基)而得的1價基。
上述結構式(1)表示之結構的具體例如下所示。另外,結構式(1)表示之結構並不限於如下例示之結構,例如若為包含結構式(1)表示之結構的結構,則無特別限制。
[化4]
[化5]
[化6]
[化7]
[化8]
聚矽氧系異氰酸酯化合物,例如考慮耐污染性的觀點,宜為選自於由通式(1-1)及通式(2)表示之化合物構成之群組中之至少1種,為通式(1-1)表示之化合物更佳。
[化9]
通式(1-1)中,p表示0~100之整數,q及r分別獨立地表示1~100之整數,a表示1~100之整數,b表示1~100之整數。又,X表示含有異氰酸酯基的1價有機基。 在此,通式(1-1)表示之化合物為多種化合物的集合體時,p、q、r、a、及b為化合物之集合體形式的平均值,為有理數。
環氧乙烷結構單元的重複數a為1~100之整數,宜為10~100之整數。a為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,a為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
二甲基矽氧烷結構單元的重複數p為0~100之整數,宜為1~80之整數。p為0以上時,會有改善抗靜電性的傾向。又,p為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。 甲基伸丙基矽氧烷結構單元的重複數q為1~100之整數,宜為2~80之整數。q為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,q為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
通式(1-1)中,r及b和結構式(1)中的r及b同義,理想範圍也同樣。
[化10]
通式(2)中,R1 及R2 分別獨立地表示碳數1~6之伸烷基,c表示10~80之整數,d為環氧乙烷(EO)結構單元的重複數,表示1以上之整數,e為環氧丙烷(PO)結構單元的重複數,表示0以上之整數,d+e表示1~30之整數。環氧乙烷結構單元及環氧丙烷結構單元的順序也可為隨機。
通式(2)中,R1 或R2 表示之碳數1~6之伸烷基無特別限制,例如可列舉:亞甲基、伸乙基、伸丙基、及伸丁基。
環氧乙烷結構單元的重複數d宜為1~100之整數,為10~100之整數更佳。d為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,d為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
環氧丙烷結構單元的重複數e宜為1~100之整數,為10~100之整數更佳。e為1以上的話,會有可獲得充分的導電性,並改善抗靜電性之傾向。又,e為100以下的話,會有改善和構成黏著劑組成物之其它成分的相容性,並改善黏著劑層的透明性之傾向。
環氧乙烷結構單元的重複數d與環氧丙烷結構單元的重複數e之和為1~50之整數更佳。
聚矽氧系異氰酸酯化合物的具體例如下所示。另外,聚矽氧系異氰酸酯化合物不限於如下例示之化合物,若為包含含有前述結構式(1)表示之結構的化合物之化合物,則無特別限制。
[化11]
[化12]
[化13]
[化14]
[化15]
[化16]
[化17]
[化18]
[化19]
[化20]
[化21]
[化22]
[化23]
[化24]
[化25]
[化26]
聚矽氧系異氰酸酯化合物之製造方法並無特別限制,可使用公知的製造方法。 例如,藉由將各別之預定量的具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物與異氰酸酯化合物投入反應容器中,並均勻地攪拌使其反應(預反應),可獲得聚矽氧系異氰酸酯化合物。
預反應的溫度宜為40℃~100℃,為45℃~95℃更佳,為50℃~95℃再更佳。
本發明之黏著劑組成物含有聚矽氧系異氰酸酯化合物時,黏著劑組成物中的聚矽氧系異氰酸酯化合物之含量例如相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,宜為0.1質量份以上,為0.2質量份~3質量份更佳,為0.3質量份~2質量份再更佳。 聚矽氧系異氰酸酯化合物之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份為0.1質量份以上的話,會有可形成耐污染性優良的黏著劑層之傾向。
本發明之黏著劑組成物含有聚矽氧系異氰酸酯化合物時,聚矽氧系異氰酸酯化合物相對於異氰酸酯系交聯劑之質量比[聚矽氧系異氰酸酯化合物/異氰酸酯系交聯劑]宜為1/1~1/20,為1/2~1/15更佳,為1/3~1/10再更佳。 質量比[聚矽氧系異氰酸酯化合物/異氰酸酯系交聯劑]為1/1以上的話,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與異氰酸酯系交聯劑可充分反應並形成交聯結構,故會有對黏著劑層賦予更適當的黏著力之傾向。 質量比[聚矽氧系異氰酸酯化合物/異氰酸酯系交聯劑]為1/20以下的話,黏著劑組成物中所含的異氰酸酯系交聯劑不會變得過多,且聚矽氧系異氰酸酯化合物會適度地存在,故會有可形成耐污染性優良的黏著劑層之傾向。
>其它聚矽氧化合物> 本發明之黏著劑組成物在不損及本發明之效果的範圍內,也可含有至少1種聚矽氧系異氰酸酯化合物以外的聚矽氧系化合物(亦即其它聚矽氧化合物)。 其它聚矽氧化合物可作為抗靜電助劑而發揮功能。
其它聚矽氧化合物可列舉例如聚矽氧系異氰酸酯化合物之預反應所使用的具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物。 其它聚矽氧化合物之具體例和前述具有反應性基且具有環氧烷結構的聚矽氧化合物之具體例同樣,理想範圍也同樣。
>離子性化合物> 本發明之黏著劑組成物也可含有至少1種離子性化合物。 離子性化合物可作為抗靜電劑而發揮功能。
離子性化合物並無特別限制。 離子性化合物可列舉:鹼金屬鹽、有機鹽等。 離子性化合物,例如考慮離子解離性高,且少量仍會輕易展現優良的抗靜電性之觀點,宜為選自於由鹼金屬鹽及有機鹽構成之群組中之至少1種。
鹼金屬鹽若為以鋰離子(Li+ )、鈉離子(Na+ )、鉀離子(K+ )、銣離子(Rb+ )等作為陽離子之金屬鹽,則無特別限制。 鹼金屬鹽宜為由例如選自於由Li+ 、Na+ 、及K+ 構成之群組中之至少1種陽離子、與選自於由Cl- 、Br- 、I- 、BF4 - 、PF6 - 、SCN- 、ClO4 - 、CF3 SO3 - 、(FSO2 )2 N- 、(CF3 SO2 )2 N- 、(C2 F5 SO2 )2 N- 、及(CF3 SO2 )3 C- 構成之群組中之至少1種陰離子構成之金屬鹽。 其中,鹼金屬鹽,例如考慮抗靜電性的觀點,宜為LiBr、LiI、LiBF4 、LiPF6 、LiSCN、LiClO4 、LiCF3 SO3 (所謂LiTFS)、Li(FSO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C等鋰鹽,為選自於由LiClO4 、LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、及Li(CF3 SO2 )3 C構成之群組中之至少1種鋰鹽更佳。
有機鹽含有有機陽離子及其相對離子。 有機鹽包含例如熔點為30℃以上之離子性固體、與熔點未達30℃之離子性液體。 有機鹽宜為熔點為30℃以上之離子性固體。有機鹽之熔點為30℃以上的話,由於朝被黏著體的轉移較少,污染性較低,故較理想。 有機陽離子可列舉:咪唑鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、烷基吡咯啶鎓陽離子、具有有機基作為取代基之銨陽離子、具有有機基作為取代基之鋶陽離子、具有有機基作為取代基之鏻陽離子等。 它們之中,例如考慮抗靜電性的觀點,有機陽離子宜為吡啶鎓陽離子或咪唑鎓陽離子。
成為有機陽離子之相對離子的陰離子部並無特別限制,為無機陰離子或有機陰離子中之任一均可。成為有機陽離子之相對離子的陰離子部,考慮抗靜電性優良的觀點,宜為含有氟原子之含氟陰離子,為六氟磷酸根陰離子(PF6 - )更佳。
有機鹽之例可列舉:吡啶鎓鹽、咪唑鎓鹽、烷基銨鹽、烷基吡咯啶鎓鹽、烷基鏻鹽等。 它們之中,有機鹽宜為吡啶鎓鹽或咪唑鎓鹽,為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子與含氟陰離子的鹽更佳。
>交聯觸媒> 本發明之黏著劑組成物也可含有交聯觸媒。 交聯觸媒並無特別限制,可使用公知者。 交聯觸媒可列舉例如:以二月桂酸二辛基錫(DOTDL)及1,3-二乙醯氧基四丁基錫氧烷(1,3-diacetoxytetrabutyl stannoxane)為代表之有機金屬化合物、以及三伸乙二胺及以N-甲基𠰌啉為代表之三級胺化合物。
[用途] 本發明之黏著劑組成物宜使用於用以保護光學構件之保護薄膜(所謂光學構件保護薄膜)。 本發明之黏著劑組成物由於可形成低速剝離力與高速剝離力之平衡良好、會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象並且透明性優良的黏著劑層,故適合於光學構件貼附保護薄膜之用途。
光學構件可列舉:構成圖像顯示裝置、輸入裝置等設備(所謂光學設備)之構件或這些設備所使用的構件。 光學構件之具體例可列舉:偏光板、AG(Anti-Glare)偏光板、包含波長板、1/2、1/4等波長板之相位差板、視角補償薄膜、光學補償薄膜、增亮薄膜、導光板、反射薄膜、抗反射薄膜、ITO(Indium-Tin Oxide)薄膜等透明導電薄膜、稜鏡片、透鏡片、散射板等。 光學構件的材質可列舉例如:聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、氯乙烯系樹脂、ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene)樹脂、氟系樹脂等樹脂。
[光學構件保護薄膜] 本發明之光學構件保護薄膜具備:基材、及設置於上述基材上,且利用前述本發明之黏著劑組成物形成而得的黏著劑層。亦即,本發明之保護薄膜係疊層有基材與利用本發明之黏著劑組成物形成而得的黏著劑層。 本發明之保護薄膜由於具備利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層,故貼附於被黏著體的表面後,在需要保護的期間,不易發生從被黏著體剝落、偏移等功能不良,且在不需要保護,並從被黏著體剝離時,可有效率地剝離。換言之,低速剝離力與高速剝離力之平衡良好。 又,本發明之保護薄膜由於具備利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層,故從被黏著體以高速剝離時不易造成拉鍊現象,於被黏著體的表面不易產生條紋狀的缺陷。 此外,本發明之保護薄膜由於具備利用本發明之黏著劑組成物形成的黏著劑層,故透明性優良。
就本發明之保護薄膜中的基材而言,若可在該基材上形成黏著劑層,則無特別限制。 基材可列舉例如含有聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂(例如三乙醯纖維素樹脂)、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、氯乙烯系樹脂、ABS樹脂、氟系樹脂等樹脂之薄膜。 例如考慮利用透視所為之光學構件的檢查及管理之觀點,基材宜為含有選自於由聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、及丙烯酸系樹脂構成之群組中之至少1種樹脂之薄膜。 又,例如考慮表面保護性能的觀點,宜為含有聚酯系樹脂之薄膜,考慮實用性的話,為含有聚對苯二甲酸乙二酯(PET)之薄膜特佳。
基材也可含有塑化劑、著色劑(例如染料及顏料)、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑、阻燃劑等各種添加劑。 又,基材也可在一部分或整體施加花紋。
基材的厚度通常為500μm以下,宜為300μm以下,為200μm以下更佳。 基材之厚度的下限例如考慮保護薄膜的強度之觀點,宜為5μm以上,為10μm以上更佳。
基材的單面或雙面也可設置抗靜電層。又,基材之設有黏著劑層之側的表面,考慮使基材與黏著劑層之黏合性改善之觀點,也可施予電暈放電處理、電漿放電處理等表面處理。
黏著劑層的形成方法並無特別限制,可採用通常使用的方法。 於基材上形成黏著劑層的方法,例如可採用如下方法。 將本發明之黏著劑組成物以其本身的狀態或因應需要利用溶劑進行稀釋的狀態,塗佈於基材上,並於基材上形成塗佈膜。然後,將形成的塗佈膜予以乾燥來將溶劑去除後,實施熟成,藉此於基材上形成黏著劑層。 另外,露出的黏著劑層之表面也可利用剝離薄膜予以保護。剝離薄膜若為可輕易實施從黏著劑層的表面剝離者,則無特別限制,例如可列舉於單面或雙面有施以利用剝離劑所為之表面處理的紙、樹脂薄膜等。樹脂薄膜可列舉例如以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜為代表之聚酯薄膜。剝離劑可列舉氟系樹脂、石蠟、聚矽氧、長鏈烷基化合物等。 剝離薄膜係在將保護薄膜供於實際使用前的期間內保護黏著劑層的表面,並於使用時予以剝離。
於基材上形成黏著劑層的另一方法,例如可採用如下方法。 將本發明之黏著劑組成物以其本身的狀態或因應需要利用溶劑予以稀釋後的狀態,塗佈於有施以利用剝離劑所為之表面處理的紙、樹脂薄膜等剝離薄膜上,並於剝離薄膜形成塗佈膜。然後,將形成的塗佈膜予以乾燥來去除溶劑。然後,使剝離薄膜之形成有黏著劑層之側的面與基材接觸並加壓,將黏著劑層轉印於基材,藉此於基材上形成黏著劑層。然後,實施熟成。
於基材上或剝離薄膜上塗佈黏著劑組成物的方法並無特別限制,例如可列舉使用凹版輥塗機、逆式輥塗機、吻合式輥塗機、浸漬式輥塗機、刀塗機、噴塗機、塗佈棒、塗佈器(applicator)等的公知方法。 塗佈到基材上或剝離薄膜上之黏著劑組成物的量係因應形成的黏著劑層之厚度而適當地設定。
黏著劑層的厚度可因應保護薄膜所要求的黏著力、被黏著體的種類(例如材質及形狀)、被黏著體的表面粗糙度等而適當地設定。 黏著劑層的厚度通常落在1μm以上且100μm以下之範圍,宜落在5μm以上且50μm以下之範圍,落在10μm以上且30μm以下之範圍更佳。
使已形成於基材上或剝離薄膜上之塗佈膜乾燥的方法並無特別限制,例如可列舉自然乾燥、加熱乾燥、熱風乾燥、真空乾燥等方法。 塗佈膜的乾燥溫度及乾燥時間並無特別限制,係因應塗佈膜的厚度、塗佈膜中之有機溶劑的量等而適當地設定。
熟成例如於23℃、50%RH之環境下實施1天~10天。 經由熟成,黏著劑組成物的交聯反應會結束並形成黏著劑層。
將已貼附於被黏著體的保護薄膜進行180°剝離時之黏著劑層的黏著力(所謂剝離力),在剝離速度為0.3m/分鐘(亦即低速剝離)的情況,宜為0.10N/25mm以上,為0.15N/25mm以上更佳,為0.20N/25mm以上再更佳。 低速剝離時的黏著力(所謂低速剝離力)為0.10N/25mm以上的話,會有更抑制保護薄膜發生剝落或偏移的傾向。
將已貼附於被黏著體的保護薄膜進行180°剝離時之黏著劑層的黏著力(所謂剝離力),在剝離速度為30m/分鐘(亦即高速剝離)的情況,宜未達1.50N/25mm,未達1.00N/25mm更佳,未達0.50N/25mm再更佳。 高速剝離時的黏著力(所謂高速剝離力)未達1.50N/25mm的話,由於可更有效率地從被黏著體剝離保護薄膜,故可更改善作業性。
本說明書中,低速剝離力與高速剝離力之平衡良好的黏著劑層係基於低速剝離力之值除以高速剝離力之值而得的值(低速剝離力/高速剝離力)來進行評價。 (低速剝離力/高速剝離力)宜為0.10以上,為0.20以上更佳,為0.30以上再更佳。 [實施例]
以下,利用實施例更具體地說明本發明。本發明只要不超越其主旨,則不限於下列實施例。
[(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之製造] [製造例A-1] 將乙酸乙酯171.0質量份及三級丁醇249.0質量份放入具備溫度計、攪拌機、氮氣導入管、及回流冷卻器之反應容器內。 又,將丙烯酸正丁酯(n-BA)360.0質量份、丙烯酸-2-乙基己酯[2EHA;其它丙烯酸烷基酯單體(a)]217.8質量份、丙烯酸-4-羥基丁酯(4HBA;具有羥基之單體)18.0質量份、及丙烯酸(AA;具有羧基之單體)4.2質量份放入另一個容器中,進行混合製成單體混合物。 將該單體混合物中之20.0質量%添加於上述反應容器內。然後,將該反應容器內之空氣以氮氣進行置換後,添加2,2’-偶氮雙異丁腈[AIBN;聚合起始劑]0.08質量份,於氮氣環境下邊攪拌邊將反應容器內之內容物溫度昇溫至85℃,並使初始反應開始。 邊歷時約2小時將剩餘的單體混合物80.0質量%、與乙酸乙酯88.0質量份及AIBN 0.80質量份之混合物逐次添加到初始反應已大致結束後的反應容器內,邊使反應容器內之內容物反應,於添加結束後,再使其反應2小時,獲得反應產物(a1)。 其後,歷時1小時將使過氧化三甲基乙酸三級丁酯(聚合起始劑)0.60質量份溶解於乙酸乙酯132.0質量份而製得的溶液滴加到反應容器內之反應產物(a1)中,於滴加結束後,再使其反應1.5小時,獲得反應產物(a2)。得到的反應產物(a2)使用乙酸乙酯進行稀釋,獲得固體成分為45質量%之(甲基)丙烯酸系共聚物A-1的溶液。 在此所謂「固體成分」意指從(甲基)丙烯酸系共聚物A-1之溶液去除溶劑等揮發性成分後所剩餘的成分。針對如下(甲基)丙烯酸系共聚物A-2~A-10之溶液亦同樣。
[製造例A-2~A-10] 將製造例A-1中,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的單體組成變更為如表1所示之單體組成,以及調整有機溶劑的使用量及聚合起始劑的使用量中之至少一者,藉此將(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)變更為如表1所示之重量平均分子量(Mw),除此之外,實施和製造例A-1同樣的操作,獲得固體成分為45質量%之(甲基)丙烯酸系共聚物A-2~A-10之各溶液。
(甲基)丙烯酸系共聚物A-1~A-10的單體組成(單位:質量%)、玻璃轉移溫度(Tg,單位:℃)、及重量平均分子量[Mw,單位:萬(表中標記為「×104 」)]如表1所示。 (甲基)丙烯酸系共聚物A-1~A-10之玻璃轉移溫度(Tg)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)同樣的方法計算而得。又,(甲基)丙烯酸系共聚物A-1~A-10的重量平均分子量(Mw)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)同樣的方法測得。
上述所得到的(甲基)丙烯酸系共聚物A-1~A-10之中,(甲基)丙烯酸系共聚物A-1~A-7相當於本發明中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)。
[表1]
  (甲基)丙烯酸系共聚物(A)
單體組成[質量%] Tg [℃] Mw [×104 ]
n-BA 2EHA MA 4HBA AA
A-1 60.0 36.3 - 3.0 0.7 -63.0 45.1
A-2 60.0 39.1 - 0.2 0.7 -64.1 39.9
A-3 60.0 38.8 - 0.5 0.7 -64.0 40.2
A-4 60.0 24.3 - 15.0 0.7 -57.9 47.9
A-5 60.0 22.3 - 17.0 0.7 -57.1 36.6
A-6 40.0 56.3 - 3.0 0.7 -66.8 37.7
A-7 60.0 37.0 - 3.0 - -63.8 38.5
A-8 - 96.3 - 3.0 0.7 -74.1 33.0
A-9 60.0 39.3 - - 0.7 -64.2 38.1
A-10 33.3 - 63.0 3.0 0.7 -19.7 39.2
表1所記載之各單體的詳細內容如下所示。 「n-BA」:丙烯酸正丁酯 >其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(a)> 「2EHA」:丙烯酸-2-乙基己酯 「MA」:丙烯酸甲酯 >具有羥基之單體> 「4HBA」:丙烯酸-4-羥基丁酯 >具有羧基之單體> 「AA」:丙烯酸
表1中,「-」意指未使用該欄之單體。 表1將「玻璃轉移溫度(Tg)」簡記為「Tg」,並將「重量平均分子量(Mw)」簡記為「Mw」。
[(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之製造] [製造例B-1] 將乙酸乙酯350.0質量份及三級丁醇150.0質量份放入具備溫度計、攪拌機、氮氣導入管、及回流冷卻器之反應容器內。 又,將甲基丙烯酸正丁酯(n-BMA)577.8質量份、丙烯酸-4-羥基丁酯(4HBA;具有羥基之單體)18.0質量份、及丙烯酸(AA;具有羧基之單體)4.2質量份放入另一個容器中,進行混合製成單體混合物。 將該單體混合物中之20.0質量%添加於上述反應容器內。然後,將該反應容器內之空氣以氮氣進行置換後,添加2,2’-偶氮雙異丁腈[AIBN;聚合起始劑]1.80質量份,於氮氣環境下邊攪拌邊將反應容器內之內容物溫度昇溫至85℃,並使初始反應開始。 邊歷時約2小時將剩餘的單體混合物80.0質量%、與乙酸乙酯80.0質量份及AIBN 8.0質量份之混合物逐次添加到初始反應已大致結束後的反應容器內,邊使反應容器內之內容物反應,於添加結束後,再使其反應1小時,獲得反應產物(b1)。 其後,歷時1小時將使過氧化三甲基乙酸三級丁酯(聚合起始劑)0.60質量份溶解於乙酸乙酯132.0質量份而製得的溶液滴加到反應容器內之反應產物(b1)中,於滴加結束後,再使其反應2小時,獲得反應產物(b2)。得到的反應產物(b2)使用乙酸乙酯進行稀釋,獲得固體成分為45質量%之(甲基)丙烯酸系共聚物B-1的溶液。 在此所謂「固體成分」意指從(甲基)丙烯酸系共聚物B-1之溶液去除溶劑等揮發性成分後所剩餘的成分。針對如下(甲基)丙烯酸系共聚物B-2~B-21之溶液亦同樣。
[製造例B-2~B-6、B-10~B-12、及B-15~B-21] 將製造例B-1中,(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的單體組成變更為如表2所示之單體組成,以及調整有機溶劑的使用量及聚合起始劑的使用量中之至少一者,藉此將(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)變更為如表2所示之重量平均分子量(Mw),除此之外,實施和製造例B-1同樣的操作,獲得固體成分為45質量%之(甲基)丙烯酸系共聚物B-2~B-6、B-10~B-12、及B-15~B-21之各溶液。
[製造例B-7~B-9、B-13、及B-14] 將製造例B-1中,有機溶劑的使用量及聚合起始劑的使用量中之至少一者進行調整,藉此將(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量(Mw)變更為如表2所示之重量平均分子量(Mw),除此之外,實施和製造例B-1同樣的操作,獲得固體成分為45質量%之(甲基)丙烯酸系共聚物B-7~B-9、B-13、及B-14之各溶液。
(甲基)丙烯酸系共聚物B-1~B-21的單體組成(單位:質量%)、玻璃轉移溫度(Tg,單位:℃)、及重量平均分子量[Mw,單位:萬(表中標記為「×104 」)]如表2所示。 (甲基)丙烯酸系共聚物B-1~B-20之玻璃轉移溫度(Tg)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)同樣的方法計算而得。另外,(甲基)丙烯酸系共聚物B-21之玻璃轉移溫度(Tg)並未計算。 又,(甲基)丙烯酸系共聚物B-1~B-21的重量平均分子量(Mw)係利用和前述特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的重量平均分子量(Mw)同樣的方法測得。
上述所得到的(甲基)丙烯酸系共聚物B-1~B-21之中,(甲基)丙烯酸系共聚物B-1~B-12相當於本發明中的特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)。
[表2]
  (甲基)丙烯酸系共聚物(B)
單體組成[質量%] Tg [℃] Mw [×104 ]
n-BMA EMA i-BMA MMA 2EHMA CHMA MePEGMA 4HBA 2HEA 2HEMA AA
B-1 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 3.1
B-2 89.0 - - - - - - 0.2 - - 0.7 21.3 4.0
B-3 96.3 - - - - - - 0.5 - - 0.7 21.5 13.9
B-4 88.3 - - - - - - 15.0 - - 0.7 12.2 3.8
B-5 92.0 - - - - - - 17.0 - - 0.7 11.0 2.3
B-6 40.0 56.3 - - - - - 3.0 - - 0.7 31.1 3.0
B-7 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 1.1
B-8 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 13.9
B-9 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 18.2
B-10 96.3 - - - - - - - 3.0 - 0.7 20.4 2.9
B-11 96.3 - - - - - - - - 3.0 0.7 22.6 3.2
B-12 97.0 - - - - - - 3.0 - - - 19.1 2.4
B-13 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 25.4
B-14 96.3 - - - - - - 3.0 - - 0.7 19.7 0.5
B-15 - 96.3 - - - - - 3.0 - - 0.7 39.7 5.8
B-16 99.3 - - - - - - - - - 0.7 21.7 3.1
B-17 - - 40.0 - - 60.0 - - - - - 59.0 0.4
B-18 - - - 95.0 - - - - - 5.0 - 96.0 2.0
B-19 46.3 - - 50.0 - - - 3.0 - - 0.7 55.4 2.9
B-20 21.3 - - - 75.0 - - 3.0 - - 0.7 -3.9 2.8
B-21 89.7 - - - - - 10.0 - - - 0.3 - 0.7
表2所記載之各單體的詳細內容如下所示。 「n-BMA」:甲基丙烯酸正丁酯 >其它(甲基)丙烯酸烷基酯單體(b)> 「EMA」:甲基丙烯酸乙酯 「i-BMA」:甲基丙烯酸異丁酯 「MMA」:甲基丙烯酸甲酯 「2EHMA」:甲基丙烯酸-2-乙基己酯 「CHMA」:甲基丙烯酸環己酯 >其它單體> 「MePEGMA」:甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯(環氧烷基之平均加成莫耳數:23) >具有羥基之單體> 「4HBA」:丙烯酸-4-羥基丁酯 「2HEA」:丙烯酸-2-羥基乙酯 「2HEMA」:甲基丙烯酸-2-羥基乙酯 >具有羧基之單體> 「AA」:丙烯酸
表2中,單體組成之欄所記載之「-」意指未使用該欄之單體。 表2將「玻璃轉移溫度(Tg)」簡記為「Tg」,並將「重量平均分子量(Mw)」簡記為「Mw」。
[聚矽氧系異氰酸酯化合物之製造] 將TAKENATE(註冊商標)500[商品名,伸二甲苯基二異氰酸酯(XDI),三井化學(股)製]118.0質量份與SH-3773M[商品名,聚醚改性聚矽氧化合物,東麗道康寧(股)製]82.0質量份進料於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、回流冷卻器、及滴液漏斗之四口燒瓶中,將燒瓶內之空氣以氮氣進行置換後,使內溫昇溫至50℃。邊將內溫保持在50℃,邊攪拌燒瓶內的內容物6小時,獲得聚矽氧系異氰酸酯化合物。
[黏著劑組成物之調製] [實施例1] 將(甲基)丙烯酸系共聚物A-1的溶液222.2質量份(固體成分為100質量份)、(甲基)丙烯酸系共聚物B-1的溶液66.6質量份(固體成分為30質量份)、SH-3773M[商品名,聚醚改性聚矽氧化合物,東麗道康寧(股)製]0.30質量份、LiTFS[LiCF3 SO3 ,森田化學工業(股)製]0.25質量份進料於具備攪拌葉片、溫度計、冷卻器、及滴液漏斗之四口燒瓶中,邊將燒瓶內之液溫保持在25℃附近邊攪拌4小時。 然後,於燒瓶內添加作為異氰酸酯系交聯劑之SUMIDUR(註冊商標)N-3300[商品名,六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)的三聚物之稀釋物,Sumika Covestro Urethane(股)製]12.0質量份(固體成分為3.00質量份),充分地攪拌,獲得黏著劑組成物。
[實施例2~18] 實施例2~18係將黏著劑組成物之組成變更為如表3所示之組成,除此之外,實施和實施例1同樣的操作,獲得黏著劑組成物。
[實施例19~34] 實施例19~34係將黏著劑組成物之組成變更為如表4所示之組成,除此之外,實施和實施例1同樣的操作,獲得黏著劑組成物。
[比較例1~16] 比較例1~16係將黏著劑組成物之組成變更為如表5所示之組成,除此之外,實施和實施例1同樣的操作,獲得黏著劑組成物。
[表3]
  黏著劑組成物之組成
(甲基)丙烯酸系 共聚物(A) (甲基)丙烯酸系 共聚物(B) 異氰酸酯系交聯劑 其它成分
SH-3773M LiTFS DOTDL
種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份]
實施例1 A-1 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例2 A-2 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例3 A-3 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例4 A-4 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例5 A-5 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例6 A-6 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例7 A-7 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 0.02
實施例8 A-1 100 B-2 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例9 A-1 100 B-3 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例10 A-1 100 B-4 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例11 A-1 100 B-5 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例12 A-1 100 B-6 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例13 A-1 100 B-7 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例14 A-1 100 B-8 10 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例15 A-1 100 B-9 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例16 A-1 100 B-10 30 N-3300 6.00 0.30 0.25 -
實施例17 A-1 100 B-11 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
實施例18 A-1 100 B-12 30 N-3300 6.00 0.30 0.25 0.02
[表4]
  黏著劑組成物之組成
(甲基)丙烯酸系 共聚物(A) (甲基)丙烯酸系 共聚物(B) 異氰酸酯系交聯劑 其它成分
SH-3773M LiTFS 聚矽氧系 異氰酸酯化合物 ALUMICHELATE
種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份]
實施例19 A-1 100 B-1 1 N-3300 3.00 0.30 0.25 - -
實施例20 A-1 100 B-1 5 N-3300 1.50 0.30 0.25 - -
實施例21 A-1 100 B-1 10 N-3300 3.00 0.30 0.25 - -
實施例22 A-1 100 B-1 60 N-3300 3.00 0.30 0.25 - -
實施例23 A-1 100 B-1 70 N-3300 3.00 0.30 0.25 - -
實施例24 A-1 100 B-1 30 N-3300 0.50 0.30 0.25 - -
實施例25 A-1 100 B-1 30 N-3300 10.00 0.30 0.25 - -
實施例26 A-1 100 B-1 30 L-45E 3.00 0.30 0.25 - -
實施例27 A-1 100 B-1 30 N-3400 3.00 0.30 0.25 - -
實施例28 A-1 100 B-1 30 D-120 3.00 0.30 0.25 - -
實施例29 A-1 100 B-1 30 N-3300 /N-3400 2.97 /0.03 0.30 0.25 - -
實施例30 A-1 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 - 0.10
實施例31 A-1 100 B-1 30 N-3300 6.00 - - - -
實施例32 A-1 100 B-1 30 N-3300 6.00 - 3.00 - -
實施例33 A-1 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 - - -
實施例34 A-1 100 B-1 30 N-3300 6.00 - 0.25 0.45 -
[表5]
  黏著劑組成物之組成
(甲基)丙烯酸系 共聚物(A) (甲基)丙烯酸系 共聚物(B) 異氰酸酯系交聯劑 其它成分
SH-3773M LiTFS TETRAD-X
種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 種類 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份] 摻合量 [質量份]
比較例1 A-1 100 - - N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例2 A-8 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例3 A-9 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例4 A-10 100 B-1 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例5 A-1 100 B-13 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例6 A-1 100 B-14 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例7 A-1 100 B-15 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例8 A-1 100 B-16 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例9 A-1 100 B-17 1 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例10 A-1 100 B-18 5 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例11 A-1 100 B-19 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例12 A-1 100 B-20 30 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例13 A-1 100 B-1 80 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例14 A-1 100 B-1 0.5 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
比較例15 A-1 100 B-1 30 - - 0.30 0.25 3.00
比較例16 A-1 100 B-21 2 N-3300 3.00 0.30 0.25 -
表3~5中,「-」意指不含該成分。
表3~5所記載之成分之詳細內容如下所述。 >異氰酸酯系交聯劑> 「N-3300」[商品名:SUMIDUR(註冊商標)N-3300,Sumika Covestro Urethane(股)製]:六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)之三聚物的4倍稀釋物,固體成分:25質量% 「L-45E」[商品名:CORONATE(註冊商標)L-45E,東曹(股)製]:甲苯二異氰酸酯(TDI)與三羥甲基丙烷(TMP)的加成物,固體成分:45質量% 「N-3400」[商品名:DESMODUR(註冊商標)N-3400,Sumika Covestro Urethane(股)製]:六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)之二聚物的4倍稀釋物,固體成分:25質量% 「D-120」[商品名:TAKENATE(註冊商標)D-120,三井化學(股)製]:伸二甲苯基二異氰酸酯(XDI)與三羥甲基丙烷(TMP)的加成物,固體成分:75質量%
>其它成分> 「SH-3773M」[商品名,東麗道康寧(股)製]:聚醚改性聚矽氧化合物(於聚伸烷基氧基的末端具有羥基作為反應性基),其它聚矽氧化合物 「LiTFS」[森田化學工業(股)製]:三氟甲磺酸鋰[LiCF3 SO3 ],離子性化合物 「DOTDL」:二月桂酸二辛基錫,交聯觸媒 「ALUMICHELATE」[川研精密化學(股)]:參乙醯丙酮鋁,金屬螯合物系交聯劑 「TETRAD-X」[商品名:TETRAD(註冊商標)-X,三菱瓦斯化學(股)製]:環氧系交聯劑
[評價] 使用上述所製得的黏著劑組成物,實施下列評價。 結果如表6~8所示。
1.剝離力 >剝離力評價用保護薄膜之製作> 於作為基材之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜[商品名:TEIJIN(註冊商標)TETORON(註冊商標)薄膜,型號:G2,厚度:38μm,Teijin Film Solutions(股)製]上塗佈黏著劑組成物,使其乾燥後之塗佈量成為15g/m2 ,並形成塗佈膜。然後,使用熱風循環式乾燥機使已形成的塗佈膜於100℃乾燥60秒。 然後,將已乾燥之黏著膜的露出面疊合於已利用聚矽氧系剝離劑予以表面處理之剝離薄膜[商品名:FILMBYNA(註冊商標)100E-0010N023,厚度:100μm,藤森工業(股)製]的表面處理面,製成疊層體。將該疊層體通過加壓夾輥對進行壓接並貼合後,於環境溫度23℃、50%RH之環境條件下熟成96小時以使交聯反應進行,獲得具有基材/黏著劑層/剝離薄膜之疊層結構的剝離力評價用保護薄膜。
(1)低速剝離力 將上述所製得的剝離力評價用保護薄膜裁切成25mm×150mm之大小,製備剝離力評價用保護薄膜片。 然後,從製備好的剝離力評價用保護薄膜片將剝離薄膜予以剝離,並將因剝離而露出的黏著劑層之面疊合於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜[商品名:COSMOSHINE(註冊商標)A4300,厚度:300μm,東洋紡(股)製]之面後,使用桌上型層合機進行壓接,製成試驗樣本。 將該試驗樣本於環境溫度23℃、50%RH之環境條件下放置24小時。然後,使用單柱式材料試驗機[型號:STA-1225,A&D(股)製]作為測定裝置,以環境溫度23℃、50%RH之環境下、剝離速度0.3m/分鐘之條件,測定從PET薄膜將剝離力評價用保護薄膜片(黏著劑層/基材)沿長邊(150mm)方向進行180°剝離時的剝離力(單位:N/25mm)。然後,依循下述評價基準來評價低速剝離力。 評價結果若為「AA」、「A」、或「B」,則判定為低速剝離力優良。
-評價基準- AA:剝離力為0.20N/25mm以上。 A:剝離力為0.15N/25mm以上且未達0.20N/25mm。 B:剝離力為0.10N/25mm以上且未達0.15N/25mm。 C:剝離力未達0.10N/25mm。
(2)高速剝離力 利用和上述「(1)低速剝離力」同樣的程序獲得試驗樣本。 將該試驗樣本於環境溫度23℃、50%RH之環境條件下放置24小時。然後,使用剝離試驗機[型號:橫式TE-720,TESTER SANGYO(股)製]作為測定裝置,以環境溫度23℃、50%RH之環境下、剝離速度30m/分鐘之條件,測定從PET薄膜將剝離力評價用保護薄膜片(黏著劑層/基材)沿長邊(150mm)方向進行180°剝離時的剝離力(單位:N/25mm)。然後,依循下述評價基準來評價高速剝離力。 評價結果若為「AA」、「A」、或「B」,則判定為高速剝離力優良。
-評價基準- AA:剝離力未達0.50N/25mm。 A:剝離力為0.50N/25mm以上且未達1.00N/25mm。 B:剝離力為1.00N/25mm以上且未達1.50N/25mm。 C:剝離力為1.50N/25mm以上。
(3)低速剝離力與高速剝離力之平衡 基於上述「(1)低速剝離力」所測得的低速剝離力之值與上述「(2)高速剝離力」所測得的高速剝離力之值來評價低速剝離力與高速剝離力之平衡。 具體而言,係基於將低速剝離力之值除以高速剝離力之值,並將小數點以下第3位數四捨五入而得之值,依循下述評價基準來評價低速剝離力與高速剝離力之平衡。 評價結果若為「AA」、「A」、或「B」,則判定為低速剝離力與高速剝離力之平衡良好。
-評價基準- AA:「低速剝離力/高速剝離力」為0.30以上。 A:「低速剝離力/高速剝離力」為0.20以上且未達0.30。 B:「低速剝離力/高速剝離力」為0.10以上且未達0.20。 C:「低速剝離力/高速剝離力」未達0.10。
2.拉鍊現象的抑制 確認在上述「(2)高速剝離力」中,從PET薄膜將剝離力評價用保護薄膜片(黏著劑層/基材)予以剝離時是否有拉鍊音及其程度。然後,依循下述評價基準來評價拉鍊現象的抑制。 評價結果若為「AA」、「A」、或「B」,則判定為以高速剝離時可能造成的拉鍊現象被充分抑制。
-評價基準- AA:完全聽不到聲音。 A:隱約地聽到聲音。 B:略微聽到聲音。 C:聽到較大的聲音。
3.透明性 >透明性評價用保護薄膜之製作> 於作為基材之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜[商品名:COSMOSHINE(註冊商標)A4100,厚度:100μm,東洋紡(股)製]上塗佈黏著劑組成物,使其乾燥後之塗佈量成為40g/m2 ,並形成塗佈膜。然後,使用熱風循環式乾燥機使已形成的塗佈膜於100℃乾燥60秒,而於PET薄膜上形成黏著膜。 然後,將已形成於PET薄膜上之黏著膜的露出面疊合於已利用聚矽氧系剝離劑予以表面處理之剝離薄膜[商品名:FILMBYNA(註冊商標)100E-0010N023,厚度:100μm,藤森工業(股)製]的表面處理面,製成疊層體。將該疊層體通過加壓夾輥對進行壓接並貼合後,於環境溫度23℃、50%RH之環境條件下熟成96小時以使交聯反應進行,獲得具有基材/黏著劑層/剝離薄膜之疊層結構的透明性評價用保護薄膜。
將上述所製得的透明性評價用保護薄膜裁切成25mm×150mm之大小,製成透明性評價用保護薄膜片。從該透明性評價用保護薄膜片將剝離薄膜予以剝離,並使黏著劑層露出,供於霧度的測定。霧度的測定使用日本電色工業(股)製之霧度計(型號:NDH 5000SP)。 基於測得的霧度值(單位:%),依循下述評價基準來評價透明性。 評價結果若為「AA」、「A」、或「B」,則判定為透明性優良。
-評價基準- AA:霧度值未達1.0%。 A:霧度值為1.0%以上且未達1.5%。 B:霧度值為1.5%以上且未達2.0%。 C:霧度值為2.0%以上。
[表6]
  評價
剝離力 拉鍊現象的抑制[剝離速度:30m/分鐘] 透明性
低速 [剝離速度:0.3m/分鐘 高速 [剝離速度:30m/分鐘] 低速剝離力與高速剝離力之平衡[低速剝離力/高速剝離力]
測定值 [N/25mm] 評價結果 測定值 [N/25mm] 評價結果 計算值 評價結果 評價結果 霧度值 [%] 評價結果
實施例1 0.21 AA 0.49 AA 0.43 AA AA 0.71 AA
實施例2 0.22 AA 1.39 B 0.16 B AA 0.72 AA
實施例3 0.19 A 1.11 B 0.17 B AA 0.81 AA
實施例4 0.12 B 0.49 AA 0.24 A A 0.92 AA
實施例5 0.11 B 0.41 AA 0.27 A B 1.10 A
實施例6 0.11 B 0.56 A 0.20 A A 1.21 A
實施例7 0.26 AA 0.69 A 0.37 AA AA 1.03 A
實施例8 0.20 AA 1.34 B 0.15 B AA 0.75 AA
實施例9 0.21 AA 1.22 B 0.17 B AA 0.71 AA
實施例10 0.15 A 0.48 AA 0.31 AA A 0.86 AA
實施例11 0.12 B 0.47 AA 0.26 A A 0.94 AA
實施例12 0.23 AA 0.55 A 0.42 AA A 1.61 B
實施例13 0.13 B 1.23 B 0.11 B A 0.73 AA
實施例14 0.23 AA 0.41 AA 0.56 AA A 1.35 A
實施例15 0.22 AA 0.35 AA 0.63 AA B 1.89 B
實施例16 0.18 A 0.89 A 0.20 A A 0.98 AA
實施例17 0.16 A 0.69 A 0.23 A A 0.82 AA
實施例18 0.21 AA 0.98 A 0.21 A AA 0.78 AA
[表7]
  評價
剝離力 拉鍊現象的抑制[剝離速度:30m/分鐘] 透明性
低速 [剝離速度:0.3m/分鐘 高速 [剝離速度:30m/分鐘] 低速剝離力與高速剝離力之平衡[低速剝離力/高速剝離力]
測定值 [N/25mm] 評價結果 測定值 [N/25mm] 評價結果 計算值 評價結果 評價結果 霧度值 [%] 評價結果
實施例19 0.10 B 0.93 A 0.11 B AA 0.73 AA
實施例20 0.12 B 0.71 A 0.17 B AA 0.71 AA
實施例21 0.15 A 0.64 A 0.23 A AA 0.76 AA
實施例22 0.22 AA 0.37 AA 0.60 AA A 1.42 A
實施例23 0.22 AA 0.31 AA 0.72 AA B 1.67 B
實施例24 0.45 AA 1.38 B 0.33 AA AA 0.80 AA
實施例25 0.11 B 0.28 AA 0.39 AA B 1.09 A
實施例26 0.22 AA 1.10 B 0.20 A AA 0.89 AA
實施例27 0.20 AA 0.46 AA 0.43 AA AA 0.88 AA
實施例28 0.24 AA 0.93 A 0.26 A AA 0.81 AA
實施例29 0.16 A 0.52 A 0.31 AA AA 0.79 AA
實施例30 0.17 A 0.72 A 0.24 A A 0.78 AA
實施例31 0.19 A 1.47 B 0.13 B A 0.71 AA
實施例32 0.19 A 1.24 B 0.15 B A 0.79 AA
實施例33 0.23 AA 0.90 A 0.26 A A 0.80 AA
實施例34 0.32 AA 1.17 B 0.27 A A 0.75 AA
[表8]
  評價
剝離力 拉鍊現象的抑制[剝離速度:30m/分鐘] 透明性
低速 [剝離速度:0.3m/分鐘 高速 [剝離速度:30m/分鐘] 低速剝離力與高速剝離力之平衡[低速剝離力/高速剝離力]
測定值 [N/25mm] 評價結果 測定值 [N/25mm] 評價結果 計算值 評價結果 評價結果 霧度值 [%] 評價結果
比較例1 0.08 C 1.80 C 0.04 C AA 0.69 AA
比較例2 0.09 C 0.49 AA 0.18 B AA 5.04 C
比較例3 0.19 A 2.23 C 0.09 C AA 0.85 AA
比較例4 0.26 AA 2.75 C 0.09 C B 1.89 B
比較例5 0.22 AA 0.49 AA 0.45 AA C 2.31 C
比較例6 0.09 C 1.65 C 0.05 C AA 0.81 AA
比較例7 0.16 A 0.43 AA 0.37 AA B 3.11 C
比較例8 0.16 A 1.78 C 0.09 C AA 0.92 AA
比較例9 0.23 AA 0.89 A 0.26 A C 2.34 C
比較例10 0.25 AA 0.73 A 0.34 AA C 2.70 C
比較例11 0.32 AA 0.47 AA 0.68 AA C 2.94 C
比較例12 0.08 C 1.72 C 0.05 C AA 1.23 A
比較例13 0.21 AA 0.49 AA 0.43 AA C 2.17 C
比較例14 0.09 C 1.53 C 0.06 C AA 0.70 AA
比較例15 1.10 AA 1.21 B 0.91 AA C 1.65 B
比較例16 0.23 AA 4.50 C 0.05 C AA 0.81 AA
如表6及表7所示,確認利用含有包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度為-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍之(甲基)丙烯酸系共聚物(A)[亦即特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)]、包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度落在0℃以上且45℃以下之範圍且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍之特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)[亦即特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)]、及異氰酸酯系交聯劑,特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍之實施例1~實施例34的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,均為低速剝離力與高速剝離力之平衡良好,並會充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象,且透明性優良。
另一方面,如表8所示,確認利用不含特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之比較例1的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其低速剝離力明顯較低,且高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(A)不含來自丙烯酸正丁酯的構成單元之比較例2的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(A)不含來自具有羥基之單體的構成單元之比較例3的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度(Tg)超過-40℃之比較例4的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。
確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量超過20萬之比較例5的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。又,確認利用比較例5的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量未達1萬之比較例6的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其低速剝離力明顯較低,且高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)不含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元之比較例7的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)不含來自具有羥基之單體的構成單元之比較例8的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。
確認利用含有不含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元、玻璃轉移溫度(Tg)超過45℃且重量平均分子量未達1萬之(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之比較例9的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。又,確認利用比較例9的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用含有不含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元且玻璃轉移溫度(Tg)超過45℃之(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之比較例10的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。又,確認利用比較例10的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)超過45℃之比較例11的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。又,確認利用比較例11的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)未達0℃之比較例12的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其低速剝離力明顯較低,且高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。
確認利用特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份係超過70質量份之比較例13的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。又,確認利用比較例13的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其霧度明顯較高,透明性不良。 確認利用特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於特定(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份係未達1質量份之比較例14的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其低速剝離力明顯較低,且高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。 確認利用不含異氰酸酯系交聯劑之比較例15的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其無法充分抑制以高速剝離時可能造成的拉鍊現象。 確認利用特定(甲基)丙烯酸系共聚物(B)含有環氧烷鏈且不含來自具有羥基之單體的構成單元之比較例16的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,其高速剝離力明顯較高,低速剝離力與高速剝離力之平衡不佳。

Claims (9)

  1. 一種光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,含有:(甲基)丙烯酸系共聚物(A),包含來自丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度為-40℃以下並且重量平均分子量落在20萬以上且200萬以下之範圍,(甲基)丙烯酸系共聚物(B),包含來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元及來自具有羥基之單體的構成單元,玻璃轉移溫度落在0℃以上且45℃以下之範圍並且重量平均分子量落在1萬以上且20萬以下之範圍,及異氰酸酯系交聯劑;該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的該來自丙烯酸正丁酯的構成單元的含有率相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,為50質量%以上,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的該來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元的含有率相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,為40質量%以上,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在1質量份以上且70質量份以下之範圍。
  2. 如請求項1之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度落在-70℃以上且-40℃以下之範圍。
  3. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的該來自甲基丙烯酸正丁酯的構成單元的含有率相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,為50質量%以上。
  4. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的該來自具有羥基之單體的構成單元的含有率相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之全部構成單元,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍。
  5. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)中的該來自具有羥基之單體的構成單元的含有率相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之全部構成單元,落在0.7質量%以上且15質量%以下之範圍。
  6. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)之含量相對於該(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,落在3質量份以上且60質量份以下之範圍。
  7. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該(甲基)丙烯酸系共聚物(B)的重量平均分子量落在1萬以上且15萬以下之範圍。
  8. 如請求項1或2之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物,其中,該異氰酸酯系交聯劑為六亞甲基二異氰酸酯。
  9. 一種光學構件保護薄膜,具備:基材,及黏著劑層,設置於該基材上,且利用如請求項1至8中任一項之光學構件保護薄膜用黏著劑組成物形成而得。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118005837A (zh) * 2024-04-09 2024-05-10 广州慧谷功能材料有限公司 一种低温响应的丙烯酸酯共聚物、胶黏剂、光学膜及制备方法与应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017179096A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物および粘着シート

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4381686B2 (ja) * 2003-01-22 2009-12-09 日本カーバイド工業株式会社 偏光フィルム用感圧接着剤組成物
US8445597B2 (en) 2006-07-20 2013-05-21 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Pressure-sensitive adhesive composition for PDP front filter and use thereof
JP5328103B2 (ja) 2007-01-16 2013-10-30 ソマール株式会社 冷却剥離型粘着剤組成物及びこれを用いた冷却剥離型粘着シート
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JP6062270B2 (ja) 2013-01-31 2017-01-18 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物及び光学部材表面保護フィルム
JP6386408B2 (ja) * 2015-03-30 2018-09-05 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
JP6673621B2 (ja) 2016-01-19 2020-03-25 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物及び光学部材表面保護フィルム
JP6738622B2 (ja) 2016-03-11 2020-08-12 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
JP6811564B2 (ja) * 2016-08-10 2021-01-13 日本カーバイド工業株式会社 粘着シート

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017179096A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物および粘着シート

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