TWI817396B - 控制器及氣化供給裝置 - Google Patents

控制器及氣化供給裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI817396B
TWI817396B TW111109997A TW111109997A TWI817396B TW I817396 B TWI817396 B TW I817396B TW 111109997 A TW111109997 A TW 111109997A TW 111109997 A TW111109997 A TW 111109997A TW I817396 B TWI817396 B TW I817396B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
valve seat
controller
diaphragm
main body
nickel
Prior art date
Application number
TW111109997A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202241582A (zh
Inventor
日高敦志
田中一輝
中谷貴紀
森崎和之
北野真史
平田薰
永瀬正明
西野功二
池田信一
Original Assignee
日商富士金股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商富士金股份有限公司 filed Critical 日商富士金股份有限公司
Publication of TW202241582A publication Critical patent/TW202241582A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI817396B publication Critical patent/TWI817396B/zh

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • F16K7/14Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat
    • F16K7/17Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat the diaphragm being actuated by fluid pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J7/00Apparatus for generating gases
    • B01J7/02Apparatus for generating gases by wet methods
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K25/00Details relating to contact between valve members and seats
    • F16K25/005Particular materials for seats or closure elements
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17CVESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/03Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/0367Localisation of heat exchange
    • F17C2227/0388Localisation of heat exchange separate
    • F17C2227/0393Localisation of heat exchange separate using a vaporiser
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Lift Valve (AREA)
  • Fluid-Driven Valves (AREA)
  • Feeding And Controlling Fuel (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)
  • Vehicle Body Suspensions (AREA)

Abstract

為了提供可將隔膜之合成樹脂被膜的耐消失性提高之控制器、及具備前述控制器之氣化供給裝置。 控制器(3)係具備:具有流入路(6)及流出路(7)之主體(8)、設置在流入路(6)和流出路(7)之間的閥座(9)、可對於閥座(9)進行就離座之隔膜(10)、以及讓隔膜(10)對於閥座(9)進行就離座之致動器(11),閥座(9)的材質是以鎳為基材,隔膜(10)是在與閥座(9)抵接的一側之面具備合成樹脂被膜(27)。

Description

控制器及氣化供給裝置
本發明係關於控制流體的控制器、及將在氣化器氣化後之氣體的流動藉由前述控制器控制而進行供應之氣化供給裝置。
在半導體製造裝置、化學工廠等中,控制流體之控制器及氣化供給裝置是已知的(專利文獻1、2等)。前述控制器係具備:具有流路的主體(body)、介於前述流路中之閥座、對於前述閥座進行抵接或離開的隔膜、及讓前述隔膜對於前述閥座進行抵接或離開之致動器。前述氣化供給裝置係具備:將液體原料加熱而使其氣化的氣化器、及用於控制氣化後的氣體之前述控制器。
前述隔膜是由極薄金屬板所形成。這種隔膜,為了謀求其與閥座之密封性提高,又為了防止其與某種氣體接觸所造成的腐蝕,是在與閥座抵接之一側的面具備合成樹脂被膜。作為前述合成樹脂被膜是使用例如氟樹脂。又主體的材質,一般是採用耐蝕性優異的不鏽鋼。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2011/067891號公報
[專利文獻2]國際公開第2016/174832號公報
然而,在組裝於前述氣化供給裝置之一部分的控制器,前述合成樹被膜的一部可能會消失。前述合成樹脂被膜之消失,是在與閥座接觸的部分之一部分發生。
本案發明人等,經苦心研究的結果發現了,在前述控制閥所控制之流體(原料氣體)中本來不應包含的氧、水蒸氣有可能存在,當原料氣體含有本來不應包含的氧、水蒸氣的情況會使前述合成樹脂被膜的分解起始溫度降低,及藉由改變閥座的材質可將前述合成樹脂被膜的分解起始溫度提高。
例如,在配置有氣化供給裝置之半導體生產線,在氣化供給裝置的下游側是透過氣體供應管線連接著處理室,從氣化供給裝置的上游側透過原料液供應管線將TEOS(Tetraethyl orthosilicate)等的液體原料供應給氣化供給裝置。在前述氣體供應管線,會有連接著供應氧氣之氧供應管線的情況,被供應的氧氣可能通過前述氣體供應管線往上游側逆流而到達氣化供給裝置的控制器。又在前述 原料液供應管線有可能讓水分混入。在這樣的情況,在控制器所控制之原料氣體中本來不應包含的氧、水蒸氣有可能存在。
為了解決上述問題,依據本發明的一態樣,控制器係具備:具有流入路及流出路之主體、設置在前述流入路和前述流出路之間的閥座、可對於前述閥座進行抵接或離開之隔膜、及讓前述隔膜對於前述閥座進行抵接或離開之致動器,前述閥座的材質係鎳系材料,前述隔膜係在與前述閥座抵接之一側的面具備合成樹脂被膜。
依據本發明的另一態樣,前述閥座的材質係包含鎳或鎳合金。
依據本發明的另一態樣,前述閥座係前述主體的一部分。
依據本發明的另一態樣,進一步具備組裝於前述主體之閥座體,前述閥座係前述閥座體的一部分,前述主體的材質係不鏽鋼。
依據本發明的另一態樣,進一步具備將前述閥座體保持於前述主體之保持體,前述保持體及前述主體的材質係不鏽鋼。
依據本發明的另一態樣,前述閥座係在鎳以外的基材鍍鎳。
依據本發明的另一態樣,前述合成樹脂被膜係氟樹脂被膜。
依據本發明的另一態樣,前述閥座的材質, 比起不鏽鋼,係使前述合成樹脂被膜的分解起始溫度提高的材質。
依據本發明的另一態樣,係在含氧原子的流體與前述合成樹脂被膜接觸的狀態下驅動前述隔膜。
依據本發明的另一態樣,前述含氧原子的流體係含有氧及水蒸氣。
又依據本發明的一態樣,氣化供給裝置係具備:將原料加熱而讓其氣化的氣化器、及控制藉由前述氣化器氣化後之氣體的流動之本發明的前述控制器。
依據本發明,閥座的材質是鎳系材料,比起以往之不鏽鋼的閥座,能將合成樹脂被膜的分解起始溫度提高。因此,在像氣化供給裝置那樣之處理高溫流體的控制器,可控制更高溫的流體。
1:氣化供給裝置
2:氣化器
3:控制器
6:流入路
7:流出路
8:主體
9:閥座
10:隔膜
11:致動器
12:閥桿
14:按壓部
16:閥座體
17:第1收容部
18:保持體
19,20:段部
21:第2收容部
22:中央孔
23:周圍孔
24:環狀墊圈
25:閥帽
27:合成樹脂被膜
[圖1]係顯示本發明的氣化供給裝置之一實施形態的概略構成圖。
[圖2]係顯示本發明的控制器之一實施形態的局部放大部分剖面圖。
[圖3]係圖2的部分放大圖。
[圖4]係顯示PFA(全氟烷氧基烷烴)的熱分解舉動之曲 線圖。
[圖5]係顯示在含有氧及水蒸氣之流體中的PFA的熱分解舉動之曲線圖。
[圖6]係顯示氟系氣體(NF3)的熱分解舉動之曲線圖。
[圖7]係顯示本發明的控制器之其他實施形態的局部放大部分剖面圖。
[圖8]係顯示本發明的控制器之其他實施形態的局部放大部分剖面圖。
[圖9]係顯示本發明的控制器之其他實施形態的局部放大部分剖面圖。
針對本發明的實施形態,以下參照圖1~圖9做說明。又在全部圖式及全部實施形態中,對同一或類似的構成要素是賦予相同符號。
圖1是顯示氣化供給裝置的一實施形態之概略構成圖,圖2是顯示控制器的一實施形態之部分放大圖,圖3是圖2的部分放大圖。
氣化供給裝置1具備:氣化器2、及連接於氣化器2之控制器3。氣化器2,是將被供應的液體原料L加熱而使其氣化。氣化器2可將液體原料L按照其種類而加熱至氣化所需的溫度。氣化後的原料氣體G,是由控制器3控制而供應給連接於氣化器2的下游側之處理室4等。圖中的符號5表示真空泵。
控制器3具備:具有流入路6及流出路7之主體8、設置在流入路6和流出路7之間的閥座9、可對於閥座9進行抵接或離開的隔膜10、讓隔膜10對於閥座9進行抵接或離開之致動器11。
致動器11具備:可在軸向往復動地被支承之閥桿12、讓閥桿12作動之驅動源13。驅動源13,在圖示例雖是內設有氣缸之空氣驅動源,可採用具備油壓缸之油壓驅動源、具備電磁鐵之電磁式驅動源、具備壓電元件之壓電式驅動源等之公知驅動源。閥桿12具備:與隔膜10抵接之按壓部14。螺旋彈簧15是將閥桿12朝向圖的下方彈壓。
隔膜10是由極薄金屬板形成為圓形的盤狀。隔膜10之基材的材質是SPRON(註冊商標)等的金屬(包含合金)。隔膜10是例如直徑5~50mm、厚度20~400μm。
圖3所示的閥座9,是組裝於主體8之閥座體16的一部分。具體而言,閥座體16的頂部成為供隔膜10就座的閥座9。閥座體16具有圓環形狀。閥座體16收容於主體8的第1收容部17,且藉由保持體18保持。閥座體16和保持體18具備互相卡合的段部19、20。
保持體18收容於主體8的第2收容部21。保持體18具備:中央孔22、複數個周圍孔23。在中央孔22的內周面讓閥座體16卡合。複數個周圍孔23是與流入路6連通。
隔膜10之周緣部被夾在保持體18和環狀墊圈24之間。環狀墊圈24是藉由閥帽25按壓於主體8。閥帽25 是藉由螺合於主體8的螺帽26來固定於主體8。保持體18還具有作為墊圈的功能。
隔膜10,在與閥座9抵接之一側的面具備合成樹脂被膜27。合成樹脂被膜27較佳為耐熱性、耐藥品性、耐摩耗性、非黏著性、絕緣性、耐候性等優異的氟樹脂。氟樹脂是例如PFA(全氟烷氧基烷烴)、PTFE樹脂(聚四氟乙烯)或FEP樹脂(四氟乙烯-六氟丙烯共聚物)。
合成樹脂被膜27的厚度是例如20~50μm左右,較佳為30~35μm。合成樹脂被膜27,例如可在氟樹脂被膜的下層設置其與隔膜10的基材金屬之接著層。前述接著層,例如可將厚度5~10μm的PAI(聚醯胺-醯亞胺)層藉由時效(aging)熱處理來設置。
圖4是關於PFA的熱分解舉動,是顯示評價其對於PFA所接觸的表面之材質的相依性之試驗結果的曲線圖。曲線圖的橫軸為溫度,縱軸為吸光度。在評價試驗,是讓PFA試片在惰性氣體(氬氣)氛圍中與4種材質接觸,利用傅立葉轉換紅外分光光度計測定藉由PFA的熱分解所產生之氣體成分(C2F4,C2F3-O-Rf)。從圖4的曲線圖可知,與讓PFA和不鏽鋼(SUS316L)及Al2O3接觸的情況相比,在讓PFA和Ni或NiF2接觸的情況之PFA的分解起始溫度較高。
接下來,將上述評價試驗在含有氧濃度20%及水蒸氣1%的空氣氛圍中進行,其結果如圖5之曲線圖所示。與圖4的曲線圖相比,圖5的曲線圖之PFA的熱分解起 始溫度降低。這應是基於氧及水蒸氣對PFA樹脂的氧化分解反應促進作用而促進了PFA的熱分解。又圖5的曲線圖顯示,縱使是在含有氧及水蒸氣的氛圍中,與不鏽鋼的情況相比,在Ni的情況之PFA的分解起始溫度仍較高。
圖6是顯示氟系氣體(NF3)的熱分解舉動之接觸表面相依性的曲線圖。曲線圖的橫軸為溫度,縱軸為NF3氣體濃度。在圖6的曲線圖中,讓氟系氣體接觸之表面的材質為Ni、赫史特合金、及不鏽鋼(SUS316L)。赫史特合金(HASTELLOY-C22)的組成(質量%)係含有Fe:4.0、Cr:21.2、Ni:54.7、Mo:13.5、Co:2.5以下、W:4.5。不鏽鋼(SUS316L-EP)的組成(質量%)係含有Cr:17.2、Ni:15.1、Mo:2.8,剩餘部分為Fe。從圖6的曲線圖可知,Ni含量越多,氟系氣體(NF3)的分解起始溫度越高。這應是因為,與其他金屬相比,Ni和氟原子的反應性較低。
根據上述說明,在本發明中,作為和合成樹脂被膜27接觸之閥座9的材質,與不鏽鋼相比,是使用使合成樹脂被膜27的分解起始溫度提高的材質,亦即使用鎳系材料。特別是,作為閥座9的材質較佳為,縱使在和含有氧及水蒸氣之至少任一者的流體接觸的狀態下,與不鏽鋼相比,仍使合成樹脂被膜27的分解起始溫度提高的材質。在本說明書中,「鎳系材料」包含鎳、鎳合金。作為鎳合金,是包含赫史特合金、恆範鋼(Invar)、SPRON510、英高鎳(Inconel)等的鎳基合金。
在圖3所示的實施形態,閥座體16的材質是 鎳系材料。因為鎳、鎳合金的價格比不鏽鋼高非常多,較佳為保持體18及主體8的材質採用不鏽鋼。
圖7是顯示包含閥座體的其他實施形態之控制器的部分剖面圖。閥座體16嵌入保持體18的環狀凹部,藉由填隙(Caulking)等而由保持體18保持。在本例也是,閥座體16的材質是鎳系材料,較佳為保持體18及主體8的材質採用不鏽鋼。
圖8是顯示包含閥座體的其他實施形態之控制器的部分剖面圖。圖8的閥座體16,不是如圖7所示般與保持體18成為不同個體,而是使圖7的保持體18和閥座體16成為一體。因此,圖8的閥座體16具備中央孔22及周圍孔23。又閥座體16的周緣部,是與第2收容部21及隔膜10抵接,藉此固定於主體8。又閥座體16之中央孔22的周緣部載置於第1收容部17。在本例,閥座體16的材質是鎳系材料,較佳為主體8的材質採用不鏽鋼。
在圖3、圖7及圖8所示的構成中,閥座體16亦可為,基材是不鏽鋼,且在該基材實施鍍鎳。前述基材亦可為銅、鐵、或其他之鎳以外的金屬。
圖9所示的實施形態,閥座9是主體8的一部分。因此,主體8的材質是鎳系材料。在圖9所示的構成也是,主體8亦可為,基材是不鏽鋼,且在該基材實施鍍鎳。前述基材亦可為銅、鐵、或其他之鎳以外的金屬。
具備上述構成的控制器3,縱使在高溫下控制含有氧、水分的流體的情況,比起不鏽鋼製的閥座,仍 使合成樹脂被膜27的分解起始溫度提高。因此,在像氣化供給裝置那樣處理高溫流體的控制器,可控制更高溫的流體。
特別是半導體生產線的氣化供給裝置,是讓TEOS(Tetraethyl orthosilicate)等的液體原料氣化,將氣化後的原料氣體供應給處理室4。縱使在將本來不包含氧、水蒸氣之原料氣體從氣化供給裝置供應給處理室的情況,通過控制器的氣體中仍會有包含氧、水分的疑慮。例如,在連接氣化供給裝置和處理室之氣體供應管線的途中,會有連接氧供應管線的情況。在那樣的情況,有氧在前述氣體供應管線逆流而到達氣化供給裝置的疑慮。又對氣化供給裝置供給液體原料之原料液供應管線,也有讓水分混入的疑慮。基於氧、水蒸氣對PFA樹脂之氧化分解反應促進作用而使隔膜之合成樹脂被膜的分解起始溫度降低。縱使在那樣的狀況下,本發明如上述所說明般,比起以往之不鏽鋼製的閥座,使前述合成樹脂被膜的分解起始溫度提高。因此,可供應更高溫的流體。
本發明不應限定解釋為上述實施形態,在不脫離本發明的趣旨之範圍內可進行各種變更。
3:控制器
6:流入路
7:流出路
8:主體
9:閥座
10:隔膜
11:致動器
12:閥桿
14:按壓部
16:閥座體
17:第1收容部
18:保持體
19,20:段部
21:第2收容部
22:中央孔
23:周圍孔
24:環狀墊圈
25:閥帽
27:合成樹脂被膜

Claims (11)

  1. 一種控制器,係具備:具有流入路及流出路之主體、設置在前述流入路和前述流出路之間的閥座、可對於前述閥座進行抵接或離開之隔膜、及讓前述隔膜對於前述閥座進行抵接或離開之致動器,前述閥座的材質係鎳系材料,前述隔膜,係在與前述閥座抵接之一側的面具備合成樹脂被膜。
  2. 如請求項1所述之控制器,其中,前述閥座的材質係包含鎳或鎳合金。
  3. 如請求項1所述之控制器,其中,前述閥座係前述主體的一部分。
  4. 如請求項1所述之控制器,其係進一步具備組裝於前述主體之閥座體,前述閥座係前述閥座體的一部分,前述主體的材質係不鏽鋼。
  5. 如請求項4所述之控制器,其係進一步具備將前述閥座體保持於前述主體之保持體,前述保持體及前述主體的材質係不鏽鋼。
  6. 如請求項1所述之控制器,其中,前述閥座係在鎳以外的基材鍍鎳。
  7. 如請求項1所述之控制器,其中, 前述合成樹脂被膜係氟樹脂被膜。
  8. 如請求項1所述之控制器,其中,前述閥座的材質,比起不鏽鋼,係使前述合成樹脂被膜的分解起始溫度提高的材質。
  9. 如請求項1所述之控制器,其中,係在含氧原子的流體與前述合成樹脂被膜接觸的狀態下驅動前述隔膜。
  10. 如請求項9所述之控制器,其中,前述含氧原子的流體係含有氧及水蒸氣。
  11. 一種氣化供給裝置,係具備:將原料加熱而讓其氣化之氣化器、及控制藉由前述氣化器氣化後之氣體的流動之如請求項1至10之任一項所述之控制器。
TW111109997A 2021-04-01 2022-03-18 控制器及氣化供給裝置 TWI817396B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021063133 2021-04-01
JP2021-063133 2021-04-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202241582A TW202241582A (zh) 2022-11-01
TWI817396B true TWI817396B (zh) 2023-10-01

Family

ID=83458858

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111109997A TWI817396B (zh) 2021-04-01 2022-03-18 控制器及氣化供給裝置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240167577A1 (zh)
JP (1) JP7461686B2 (zh)
KR (1) KR20230145432A (zh)
TW (1) TWI817396B (zh)
WO (1) WO2022209639A1 (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI243881B (en) * 2003-02-13 2005-11-21 Fujikin Kk Valve for vacuum discharge system
TW202045843A (zh) * 2019-03-08 2020-12-16 美商應用材料股份有限公司 隔膜閥及操作隔膜閥的方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4119275B2 (ja) * 2003-02-18 2008-07-16 忠弘 大見 真空排気系用のダイヤフラム弁
JP5669384B2 (ja) 2009-12-01 2015-02-12 株式会社フジキン 圧電駆動式バルブ及び圧電駆動式流量制御装置
JP6578125B2 (ja) 2015-04-30 2019-09-18 株式会社フジキン 気化供給装置
US10006564B2 (en) * 2016-08-10 2018-06-26 Ckd Corporation Corrosion resistant coating for process gas control valve
JP7143161B2 (ja) * 2018-09-14 2022-09-28 Ckd株式会社 流体制御弁

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI243881B (en) * 2003-02-13 2005-11-21 Fujikin Kk Valve for vacuum discharge system
TW202045843A (zh) * 2019-03-08 2020-12-16 美商應用材料股份有限公司 隔膜閥及操作隔膜閥的方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW202241582A (zh) 2022-11-01
KR20230145432A (ko) 2023-10-17
WO2022209639A1 (ja) 2022-10-06
JPWO2022209639A1 (zh) 2022-10-06
JP7461686B2 (ja) 2024-04-04
US20240167577A1 (en) 2024-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5837869B2 (ja) 原料気化供給装置
JP4119275B2 (ja) 真空排気系用のダイヤフラム弁
Boeltken et al. Fabrication and testing of a planar microstructured concept module with integrated palladium membranes
CN109899555B (zh) 流体控制阀和流体控制阀的组装方法
US20100012026A1 (en) Evaporation supply apparatus for raw material and automatic pressure regulating device used therewith
JP2012092861A (ja) 流体制御弁の弁座構造
USRE34303E (en) Metal diaphragm valve
TWI817396B (zh) 控制器及氣化供給裝置
US9304517B2 (en) Flow control device
US7370672B2 (en) Diverter valve
JP2018096473A (ja) 制御弁
KR102513246B1 (ko) 실린더 밸브, 및 실린더와 실린더 밸브에서 오염물의 형성을 억제하기 위한 방법
TWI760774B (zh) 隔膜閥
JP2017053405A (ja) アクチュエータ付きバルブ
TWI835023B (zh) 壓力感測器
JP2005140260A (ja) 真空比例開閉弁
US20080116411A1 (en) Valve with high temperature rating
JP2005265032A (ja) シート部構造
KR20220002430A (ko) 다이어프램, 밸브, 및 다이어프램의 제조 방법