TW202045843A - 隔膜閥及操作隔膜閥的方法 - Google Patents
隔膜閥及操作隔膜閥的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202045843A TW202045843A TW109107424A TW109107424A TW202045843A TW 202045843 A TW202045843 A TW 202045843A TW 109107424 A TW109107424 A TW 109107424A TW 109107424 A TW109107424 A TW 109107424A TW 202045843 A TW202045843 A TW 202045843A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- diaphragm
- reciprocating member
- valve seat
- coupling member
- valve
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K7/00—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
- F16K7/12—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
- F16K7/14—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/126—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a diaphragm, bellows, or the like
- F16K31/1262—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a diaphragm, bellows, or the like one side of the diaphragm being spring loaded
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/02—Construction of housing; Use of materials therefor of lift valves
- F16K27/0236—Diaphragm cut-off apparatus
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
- F16K31/1221—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston one side of the piston being spring-loaded
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
- F16K31/1226—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston the fluid circulating through the piston
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/16—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid with a mechanism, other than pulling-or pushing-rod, between fluid motor and closure member
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/02—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
- F16K31/06—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid
- F16K31/0686—Braking, pressure equilibration, shock absorbing
- F16K31/0693—Pressure equilibration of the armature
Abstract
隔膜閥包括入口埠、出口埠及靠近入口埠或出口埠中之一者的閥座。隔膜相對於閥座來定位並且具有打開狀態,其中隔膜與閥座間隔開,以致能在入口埠與出口埠之間的流體路徑。隔膜具有關閉狀態,其中隔膜位於閥座上,以阻擋流體路徑。耦合構件耦合在隔膜與可往復運動構件之間,並且配置成當可往復運動構件處於打開位置時,將隔膜保持在打開狀態。當可往復運動構件處於關閉位置時,耦合構件可相對於可往復運動構件具有間隙。還揭示了其他隔膜閥和操作隔膜閥的方法。
Description
本揭示的實施例涉及閥和操作閥的方法,並且更具體地涉及隔膜閥。
閥用於控制在各種應用中的流體流動。一些閥包括具有柔性隔膜的入口埠和出口埠,該柔性隔膜位於埠之間並且鄰近閥座定位。在操作中,隔膜抵靠閥座彎曲至關閉狀態,以防止流體在入口埠與出口埠之間流動。隔膜遠離閥座彎曲至打開狀態,以使流體能夠在埠之間流動。
一些在真空下操作的閥可能包括不良的流動特性。因此,尋求用於在真空環境中提供流體流動控制的改進的閥和方法。
在一實施例中,提供了一種隔膜閥。隔膜閥包括:入口埠;出口埠;閥座,閥座靠近入口埠或出口埠中之一個;隔膜,隔膜相對於閥座來定位,隔膜具有打開狀態,其中隔膜與閥座間隔開,以致能在入口埠與出口埠之間的流體路徑,並且隔膜具有關閉狀態,其中隔膜位於閥座上,以阻擋流體路徑;可往復運動構件,可往復運動構件耦合至隔膜並且配置成在打開位置與關閉位置之間轉換,打開位置將隔膜移動到打開狀態,並且關閉位置將隔膜移動到關閉狀態;及耦合構件,耦合構件耦合在隔膜與可往復運動構件之間。
在另一實施例中,提供了一種隔膜閥。隔膜閥包括:入口埠;出口埠;閥座,閥座靠近入口埠或出口埠中之一個;隔膜,隔膜相對於閥座來定位,隔膜具有打開狀態,其中隔膜與閥座間隔開,以致能在入口埠與出口埠之間的流體路徑,並且隔膜具有關閉狀態,其中隔膜位於閥座上,以阻擋流體路徑;可往復運動構件,可往復運動構件耦合至隔膜並且配置成在打開位置與關閉位置之間轉換,打開位置將隔膜移動到打開狀態,並且關閉位置將隔膜移動到關閉狀態;耦合構件,耦合構件耦合在隔膜與可往復運動構件之間;及插入件,插入件位於可往復運動構件與隔膜之間,插入件具有通道,其中耦合構件穿過通道。
在另一態樣中,提供了一種操作隔膜閥的方法。方法包括以下步驟:將可往復運動構件移動到打開位置;響應於將可往復運動構件移動到打開位置,將隔膜拉動到打開狀態,其中藉由用耦合構件拉動隔膜,來執行拉動步驟,耦合構件耦合在可往復運動構件與隔膜之間;及將可往復運動構件移動到關閉位置,其中響應於將可往復運動構件移動到關閉位置,將隔膜移動到關閉狀態。
根據本揭示的這些和其他實施例,提供了許多其他態樣和特徵。從以下詳細描述、申請專利範圍及附圖,本揭示的實施例的其他特徵和態樣將變得更加明顯。
現在將詳細參考在附圖中示出的所提供的示例實施例。除非另外特別指出,否則本文所述的各種實施例的特徵可彼此結合。
一些在高溫和高真空下操作的閥已展示了埠之間的流導減小。這種流導減小可能是由閥座與隔膜之間的運動引起的。在真空條件下,由埠中的流體在隔膜上施加的真空壓力可能低於環境壓力,而因此可能將隔膜拉向閥座。當隔膜處於打開狀態時,藉由真空壓力來減小閥座與隔膜之間的距離,而因此可減小穿過閥的流導。
以下揭示內容描述了超高純度(UHP)隔膜閥,但是本文揭示的概念和特徵可應用於其他類型的閥,諸如其他類型的隔膜閥。UHP隔膜閥和其他閥可在低溫或高溫條件下、高真空條件下、或高溫和高真空條件下操作。隔膜閥可包括入口埠和出口埠。入口埠和出口埠中的一個或兩個可耦合至管線,該管線相對於隔膜閥的環境條件在真空下操作。
隔膜閥可包括位於腔室中的隔膜。入口埠和出口埠兩者可流體耦合至腔室。閥座可位於隔膜附近,並且可包圍入口埠或出口埠中之一個。隔膜可抵靠閥座密封,以關閉由閥座包圍的埠,這阻擋了流體在入口埠與出口埠之間流動。在隔膜的該密封位置中,隔膜和隔膜閥被稱為處於「關閉狀態」。在另一位置中,隔膜可定位在離閥座一定距離的位置,以使流體能夠在入口埠與出口埠之間流動。在隔膜的該位置中,隔膜和隔膜閥被稱為處於「打開狀態」。
當閥在高真空下操作時,入口埠和出口埠中之一個或兩個耦合至真空源,該真空源相對於大氣處於負壓或真空。該壓差在隔膜上施加力,以將隔膜拉向閥座。當隔膜處於打開狀態時,力可使隔膜變形,從而可能阻礙流體在入口埠與出口埠之間流動。阻礙的流動在本文被稱為閥的導通性(Cv)的減小。在一些情況下,在打開狀態下施加在隔膜上的力足夠大,以至於力可使隔膜變形或移動,從而抵靠閥座密封並且阻擋流體在入口埠與出口埠之間流動。
本文揭示的改進的隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)可以當至少處於打開狀態時防止隔膜在真空條件下移動或變形,因此提高了閥的整體導通性並且解決了先前技術閥的低導通性問題。參照圖1A至圖4,描述了根據本揭示的實施例的改進的隔膜閥的各種實施例的進一步細節。
圖1A示出了根據所揭示的實施例的顯示處於打開狀態的隔膜閥100(諸如UHP隔膜閥)的實施例的橫截面側視圖。圖1B示出了根據所揭示的實施例的顯示處於關閉狀態的隔膜閥100的實施例的橫截面側視圖。隔膜閥100包括主體102,入口埠104和出口埠106可耦合至主體102。在一些實施例中,入口埠104和出口埠106可互換。入口管線104A可耦合至入口埠104,並且出口管線106A可耦合至出口埠106,每個管線可以是任何合適的導管。當隔膜閥100處於打開狀態時,流體路徑108可形成並且位於入口埠104與出口埠106之間。例如,流體路徑108可至少部分地形成在腔室110內。腔室110可至少部分地由上壁112和下壁114來界定。
閥座116可位於下壁114附近並且可包圍入口埠104。在一些實施例中,閥座116可以至少一定程度地延伸穿過下壁114。在一些實施例中,閥座116的至少一部分可從下壁114延伸並且進入腔室110。閥座116可與入口埠104或出口埠106中之至少一個一體形成,或者可以是入口埠104或出口埠106中之至少一個的一部分(例如,圍繞開口)。閥座116可由任何合適的材料製成,諸如金屬或塑膠,例如,不銹鋼、鎳基鋼合金;含鎳、鉬及鉻合金;鎳;全氟烷氧基(PFA)、聚氯三氟乙烯(PCTFE);聚醯亞胺(PI);或其他相對於聚四氟乙烯(PTFE)的材料等。閥座116可由其他材料製成,並且可具有其他配置。
隔膜118可位於腔室110內,並且可在本文所述的打開狀態與關閉狀態之間移動。在圖1A中示出的隔膜118顯示處於打開狀態,而在圖1B中示出的隔膜118顯示處於關閉狀態。當隔膜118處於打開狀態時(圖1A),隔膜118可至少部分地在入口埠104與出口埠106之間界定流體路徑108。因此,隔膜118可控制流體在入口埠104與出口埠106之間流動的導通性。
隔膜118可由柔性且不透流體的材料構成,該材料允許隔膜118在腔室110內在打開狀態與關閉狀態之間移動或彎曲。在一些實施例中,隔膜118可由金屬構成,諸如具有耐腐蝕性並且在高溫下操作時表現出高強度、延展性及良好疲勞壽命的合金。例如,該金屬可包括鈷-鉻-鎳合金,該合金可包括39-41%的鈷、19-21%的鉻、14-16%的鎳、11.3-20.5%的鐵、6-8%的鉬及1.5-2.5%的錳。可使用其他合適的合金。在一些實施例中,隔膜閥100可在20℃至500℃的溫度範圍中操作,儘管其他操作方案也是可能的。在一些實施例中,隔膜118可由單一層金屬(例如,合金)構成。進一步,可用另一種材料來增強包括隔膜118的單一層金屬。此外,隔膜118可由多個層、葉片或重疊區域構成,諸如金屬波紋管。隔膜118可由多於一種合金金屬製成。隔膜118可由其他材料和其他材料配置製成。
隔膜118可包括外周緣118A、第一表面118B及第二表面118C。外周緣118A可密封到下壁114。例如,外周緣118A可諸如藉由焊接、黏合劑等黏附到下壁114。在一些實施例中,諸如套筒119等的剛性構件可將外周緣機械地緊固和密封到下壁114。在一些實施例中,可藉由將隔膜118夾持在下壁114與套筒119之間,來將隔膜118固定到下壁114,該套筒可以是主體102的一部分或剛性地耦合至主體102。可將外周緣118A固定到下壁114,使得隔膜118固定地定位於流體路徑108上方以及入口埠104及/或出口埠106上方。隔膜118的中心部分可相對於例如閥座116(例如,在其上)來定位。
如圖1A所示,當從第一表面118B觀察時,隔膜118可配置成偏向大致凸形或更凸形,這是當隔膜118處於打開狀態時。如圖1A所示,當處於打開狀態時,隔膜118的第一表面118B可定位於腔室110的上壁112附近或抵靠腔室110的上壁112。當隔膜118處於打開狀態時,流體路徑108最大化並且提供入口埠104與出口埠106之間的高導通性(低抵抗性)。或者,如圖1B所示,當隔膜118以關閉狀態來提供時,隔膜118的第二表面118C可定位抵靠或密封抵靠閥座116。因此,當隔膜118處於關閉狀態時,流體路徑108被至少部分地阻擋(與打開狀態相比),這防止/阻擋或基本上最小化或減小(與打開狀態相比)流體在入口埠104與出口埠106之間流動。在描繪的實施例的關閉狀態下,隔膜118可完全或部分地阻擋入口埠104。在一些實施例中,當隔膜118處於關閉狀態時,隔膜118可完全或部分地阻擋入口埠104和出口埠106中之一個或兩個。
隔膜閥100可進一步包括可往復運動構件122。可往復運動構件122可包括第一部分122A、第二部分122B及活塞122C。在一些實施例中,第一部分122A可耦合至活塞122C或與活塞122C成一體,活塞122C從中心垂直地延伸到主體102的內表面102A。內表面102A可以是圓柱壁,並且活塞122C可操作以密封方式抵靠圓柱壁滑動。可與第一部分122A成一體的可往復運動構件122的第二部分122B可定位於通道124內並且在通道124內往復運動,該通道124形成在主體102內(諸如在其套筒119內)。通道124可在主體102內(諸如在套筒119內)縱向延伸。可往復運動構件122可在通道124內在本文所述的打開位置(圖1A)與關閉位置(圖1B)之間轉換。
彈簧126(以無陰影線示出)可位於活塞122C與主體102的壁102B之間。彈簧126可使可往復運動構件122和其活塞122C以方向D11偏向關閉狀態。如圖1B所示,由彈簧126施加的彈簧力可以足夠大,以使得隔膜118彎曲到關閉狀態。
可往復運動構件122可包括延伸穿過可往復運動構件122的第一部分122A的流體通道128。流體通道128可耦合至腔室130,該腔室130至少部分地由活塞122C和內表面102A和套筒119形成。由於迫使流體(例如,乾淨的乾燥空氣)穿過流體通道128並且進入腔室130,在腔室130內產生了正流體壓力(例如,正空氣壓力)。在腔室130中產生的壓力迫使可往復運動構件122以方向D12(例如,向上方向)遠離閥座116而朝向打開位置。
可在通道124內在可往復運動構件122的第二部分122B與隔膜118之間包括插入件132。插入件132可配置成當可往復運動構件122在通道124中在打開狀態與關閉狀態之間轉換時與可往復運動構件122一起移動。插入件132可在轉換到關閉狀態期間減小對隔膜118的衝擊力,這可延長隔膜壽命的壽命。插入件132可由例如金屬或塑膠材料(諸如不銹鋼、聚四氟乙烯(PTFE)或聚氯三氟乙烯(PCTFE))、組合物等製成。
如圖1A所示,當可往復運動構件122轉換到打開位置時,可往復運動構件122和插入件132以方向D12轉換遠離閥座116,從而允許隔膜118彎曲到打開狀態。如圖1B所示,當可往復運動構件122轉換到關閉位置時,可往復運動構件122和插入件132在通道124內以方向D11轉換朝向閥座116,從而迫使隔膜118彎曲到關閉狀態。
隔膜閥100可進一步包括耦合構件134,該耦合構件134包括第一端134A和位於與第一端134A相對的第二端134B。耦合構件134可將隔膜118耦合至可往復運動構件122。插入件132可包括在可往復運動構件122的第二部分122B與隔膜118之間延伸的通道136,耦合構件134可路由穿過該通道136。如圖1A所示,當可往復運動構件122轉換到打開位置時,耦合構件134可將隔膜118拉動到打開狀態。額外地,當可往復運動構件122處於打開位置時,耦合構件134可拉隔膜118,以防止或最小化隔膜118朝向閥座116的彎曲。因此,當隔膜閥100在真空條件下操作時,可往復運動構件122和耦合構件134可保持隔膜118處於打開狀態。
耦合構件134的第一端134A可耦合至隔膜118上的位置138。在圖1A和1B所示的實施例中,位置138居中於隔膜118上,並且可以在閥座116之上。例如,位置138可位於閥座116的中心點之上。在其他實施例中,第一端134A可耦合至隔膜118上的數個位置及/或隔膜118的大區域。
耦合構件134的第二端134B可鬆散地耦合至諸如可往復運動構件122的第二部分122B上或內的位置。在圖1A和1B所示的實施例中,將第二端134B安裝到可往復運動構件122是鬆散的安裝連接,其提供了耦合構件134相對於可往復運動構件122和隔膜118的有限位移(例如,圖1B的間隙D23)。耦合構件134相對於可往復運動構件122的鬆散的安裝提供了一些有限傾斜,該有限傾斜防止了當可往復運動構件122移動到關閉位置並且進入關閉位置時耦合構件134損壞(例如,刺穿)隔膜118。例如,當可往復運動構件122處於關閉位置時,耦合構件134不會從推著耦合構件134的可往復運動構件122對隔膜118施加任何明顯的壓縮力。然而,插入件132對隔膜118施加關閉力,其中該力實質上大於由耦合構件134施加的任何力。可由例如小直徑的銷或容納在較大的孔140或孔洞中的其他構件在第二端134B處提供間隙D23。可提供用於提供間隙D23的其他合適的裝置。
在一些實施例中,耦合構件134可由剛性材料製成。在其他實施例中,耦合構件134可由諸如纜線的柔性材料或者剛性和柔性材料的結合製成,使得其耦合構件134的靜態屈曲強度非常低。在一些實施例中,耦合構件134可由與隔膜118相同的材料製成及/或與隔膜118成一體。在其他實施例中,耦合構件134和隔膜118可由不同材料形成。
圖2A示出了耦合構件234的替代實施例的側視圖,該耦合構件234耦合在可往復運動構件122(以虛線示出)與隔膜(未示出)之間。例如,耦合構件234的第二端234B可經由容納在第二部分122B的橫孔242中的銷241耦合至可往復運動構件122的第二部分122B。在圖2A的實施例中,耦合構件234的第二端234B可包括在凹穴222P內的環形構件202。銷241可穿過環形構件202上的較大孔洞,並且可固定在可往復運動構件122的第二部分122B中。例如,可使用一個或多個固定螺絲或任何其他緊固件(未示出),將銷241固定在可往復運動構件122內。固定螺絲或緊固件可相對於可往復運動構件122定位,以便不妨礙可往復運動構件122在通道124內的運動(圖1A)。例如,固定螺絲(未示出)可凹入在可往復運動構件122的外表面內,並且可將銷241固定在可往復運動構件122內。在一些實施例中,銷241可以是螺絲或其他緊固件。
如圖2A所示,銷241的外徑可小於環形構件202的內徑。直徑的差使得耦合構件134相對於銷241和可往復運動構件122移動或移位。環形構件202可以第一方向D21相對於可往復運動構件122提供耦合構件134的有限間隙D23的方式與銷241接合。環形構件202還可以第二方向D22提供位移(例如,間隙D23)的方式與銷241接合,該第二方向D22可與第一方向D21正交。在一些實施例中,間隙D23可介於隔膜118的運動的2%與15%之間。在一些實施例中,間隙D23可介於2%與12%之間。間隙D23可具有其他值。
當隔膜118(圖1A)處於打開狀態時,由環形構件202和銷241提供的耦合構件134的有限位移允許隔膜118在操作條件下位移,而同時在隔膜118與閥座116之間至少保持最小距離。用於打開和關閉狀態的隔膜位移可略小於環形構件202和銷241之間的位移,以防止可能引起隔膜118、銷241及/或環形構件202的材料應力的接觸張力。
例如,當隔膜118處於打開狀態時,銷241可以以方向D12拉動環形構件202。在沒有將隔膜118恆定拉動到插入件132中的情況下,可能會有小堆疊公差。當隔膜118處於關閉狀態時,銷241可以不被壓在環形構件202的邊緣(例如,底邊緣)上,以便避免在耦合構件234上產生任何壓縮力。當隔膜118處於關閉狀態時,由環形構件202和銷241提供的耦合構件234的間隙D23可確保耦合構件234不會損壞隔膜118。例如,當可往復運動構件122轉換到關閉狀態時,間隙D23(傾斜)可防止耦合構件234損壞(例如,刺穿)隔膜118。
如圖2A所示,通道136的直徑可大於耦合構件234的直徑。在耦合構件134、234包括柔性構件(諸如纜線)的實施例中,耦合構件134、234的位移可至少部分地發生在通道136及/或凹穴222P內。例如,當可往復運動構件122處於關閉位置時,耦合構件134、234中的鬆弛可存在於通道136內。
圖2B示出了耦合構件234的橫截面側視圖,該耦合構件234耦合至位於隔膜118的第二表面118C上的位置238。耦合構件234以方向D12延伸穿過隔膜118的第一表面118B並且朝向可往復運動構件122。在一些實施例中,可將耦合構件234的第一端234A焊接到位於隔膜118的第一表面118B或第二表面118C(如圖所示)上的位置238。可使用其他合適的機構將耦合構件234附接到隔膜118。
如圖1A所示,當可往復運動構件122處於打開位置並且隔膜118處於打開狀態時,耦合構件134可以方向D12拉動隔膜118。藉由拉動隔膜118,耦合構件134可抵消以朝向閥座116的方向D11拉動隔膜118的真空條件。例如,耦合至入口管線104A或出口管線106A中之一個或兩個的真空源可對隔膜118施加力,以將隔膜118拉向閥座116。因此,當可往復運動構件122處於打開位置時,在隔膜118與閥座116之間可保持最小距離。在一些實施例中,當隔膜118處於介於約1.0毫托與500托之間的真空條件下時,在隔膜118與閥座116之間可保持最小距離。在一些實施例中,當隔膜閥100處於打開狀態時,最小距離範圍可提供至少0.8Cv的最小閥係數。例如,最小距離例如可以在0.5mm至1.5mm的範圍內或在0.9mm至1.0mm的範圍內。隔膜閥100可在其他條件下操作。例如,隔膜閥100的打開狀態可包括一系列狀態,該一系列狀態包括部分打開狀態和完全打開狀態。
如圖1B所示,當可往復運動構件122處於關閉位置並且隔膜118處於關閉狀態時,插入件132可以方向D11推動隔膜118的第一表面118B。由插入件132提供給隔膜118的力可將隔膜118的第二表面118C密封抵靠閥座116。例如,當腔室130沒有正流體壓力時,由彈簧126施加的彈力可提供以方向D11作用在插入件132上的力。當隔膜閥100處於關閉狀態時,該力可完全關閉流體路徑108,並且防止流體在入口埠104與出口埠106之間的任何流動。因此,彈簧126提供常閉閥狀態。
圖3A示出了根據所揭示的實施例的耦合至處於打開狀態的隔膜118的耦合構件234的橫截面側視圖。在圖3A的實施例中,耦合構件234的第一端234A耦合至位於隔膜118的第一表面118B上的位置238。耦合構件234以方向D12朝向可往復運動構件(未示出)延伸。當隔膜118處於打開狀態時源自入口埠104及/或出口埠106內的真空力可由耦合構件234抵消。例如,耦合構件234可以方向D12拉動隔膜118。因此,由於真空力,耦合構件234可限制隔膜118以方向D11朝向閥座116被拉動多遠。因此,耦合構件234可在隔膜118與閥座116之間保持最小距離D31(例如,預定最小距離)。最小距離D31可大於或等於大約1.0mm,以便最小化流量限制。
圖3B示出了耦合至隔膜118的耦合構件234的實施例的橫截面側視圖,其中隔膜118處於關閉狀態。在圖3B的實施例中,插入件132(以虛線示出)以方向D11對隔膜118施加力,該力使隔膜118彎曲或變形,使得隔膜118的第二表面118C密封抵靠閥座116。耦合構件234與隔膜118之間的間隙D23可防止耦合構件234損壞(例如,刺穿)隔膜118。
圖4示出了根據所揭示的實施例的描繪操作隔膜閥(例如,隔膜閥100)的方法400的流程圖。該方法包括(在402)將可往復運動構件(例如,可往復運動構件122)移動到打開位置。該方法包括(在404)響應於將可往復運動構件移動到打開位置,將隔膜(例如,隔膜118)拉動到打開狀態,其中藉由用耦合構件(例如,耦合構件134、234)拉動隔膜,來執行拉動,該耦合構件耦合在可往復運動構件與隔膜之間。該方法包括(在406)將可往復運動構件移動到關閉位置,其中響應於將可往復運動構件移動到關閉位置,將隔膜移動到關閉狀態。
應容易理解的是,本揭示易於廣泛使用和應用。在不脫離本揭示的實質或範疇的情況下,除了本文所述的實施例和改編之外,本揭示的許多實施例和改編以及許多變化、修改及均等佈置將是從本揭示及其前面的描述顯而易見的或由其合理建議。因此,儘管在本文已關於特定實施例詳細描述了本揭示,但是應理解的是,本揭示僅是說明性的,並且呈現了本揭示的示例,並且僅出於提供完整和可行揭示的目的來進行。本揭示不旨在限制於所揭示的特定設備及/或方法,相反地,旨在涵蓋落入申請專利範圍內的所有修改、均等物及替代物。
100:隔膜閥
102:主體
102A:內表面
102B:壁
104:入口埠
104A:入口管線
106:出口埠
106A:出口管線
108:流體路徑
110:腔室
112:上壁
114:下壁
116:閥座
118:隔膜
118A:外周緣
118B:第一表面
118C:第二表面
119:套筒
122:可往復運動構件
122A:第一部分
122B:第二部分
122C:活塞
124:通道
126:彈簧
128:流體通道
130:腔室
132:插入件
134:耦合構件
134A:第一端
134B:第二端
136:通道
138:位置
140:孔
202:環形構件
222P:凹穴
234:耦合構件
234A:第一端
234B:第二端
238:位置
241:銷
242:橫孔
400:方法
402~406:步驟
D11:方向
D12:方向
D21:第一方向
D22:第二方向
D23:間隙
D31:最小距離
下文描述的附圖僅用於說明目的,並且不一定按比例繪製。附圖無意以任何方式限制本揭示的範疇。將儘可能在所有附圖中使用相同或相似的元件符號代表相同或相似的部件。
圖1A示出了根據所揭示的實施例的處於打開狀態的隔膜閥(諸如超高純度(UHP)隔膜閥)的橫截面側視圖。
圖1B示出了根據所揭示的實施例的處於關閉狀態的隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的橫截面側視圖。
圖2A示出了根據所揭示的實施例的耦合至隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的可往復運動構件的耦合構件的側視圖。
圖2B示出了根據所揭示的實施例的耦合至隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的隔膜的表面的耦合構件的側視圖。
圖3A示出了根據所揭示的實施例的處於打開狀態的隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的隔膜的橫截面側視圖。
圖3B示出了根據所揭示的實施例的處於關閉狀態的隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的隔膜的橫截面側視圖。
圖4示出了根據所揭示的實施例的描繪操作隔膜閥(諸如UHP隔膜閥)的方法的流程圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記)
無
國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記)
無
100:隔膜閥
102:主體
102A:內表面
102B:壁
104:入口埠
104A:入口管線
106:出口埠
106A:出口管線
108:流體路徑
110:腔室
112:上壁
114:下壁
116:閥座
118:隔膜
118A:外周緣
118B:第一表面
118C:第二表面
119:套筒
122:可往復運動構件
122A:第一部分
122B:第二部分
122C:活塞
124:通道
126:彈簧
128:流體通道
130:腔室
132:插入件
134:耦合構件
134A:第一端
134B:第二端
136:通道
138:位置
140:孔
D11:方向
D12:方向
Claims (20)
- 一種隔膜閥,包括: 一入口埠; 一出口埠; 一閥座,該閥座靠近該入口埠或該出口埠中之一個; 一隔膜,該隔膜相對於該閥座來定位,該隔膜具有一打開狀態,其中該隔膜與該閥座間隔開,以致能在該入口埠與該出口埠之間的一流體路徑,並且該隔膜具有一關閉狀態,其中該隔膜位於該閥座上,以阻擋該流體路徑; 一可往復運動構件,該可往復運動構件耦合至該隔膜並且配置成在一打開位置與一關閉位置之間轉換,該打開位置將該隔膜移動到該打開狀態,並且該關閉位置將該隔膜移動到該關閉狀態;及 一耦合構件,該耦合構件耦合在該隔膜與該可往復運動構件之間。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件配置成當在該可往復運動構件處於該打開位置時,將該隔膜拉動到該打開狀態並且將該隔膜保持在距該閥座的一預定最小距離處。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件具有一第一端和與該第一端相對的一第二端,該第一端耦合至該隔膜,並且該第二端包括一環形構件和延伸穿過該環形構件的一銷。
- 如請求項3所述之隔膜閥,其中該第二端相對於該可往復運動構件提供該耦合構件的一間隙。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件是剛性的。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件是柔性的。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該隔膜和該耦合構件由一相同材料形成。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該隔膜由一鈷-鉻-鎳合金組成。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件配置成當該可往復運動構件處於該打開位置時,將該隔膜保持在該打開狀態,並且其中當該可往復運動構件處於該關閉位置時,該耦合構件相對於該可往復運動構件具有一間隙。
- 如請求項1所述之隔膜閥,進一步包括一插入件,該插入件定位在該隔膜與該可往復運動構件之間,該插入件配置成當該可往復運動構件處於該關閉位置時,將該隔膜壓在該閥座上。
- 如請求項1所述之隔膜閥,進一步包括一彈簧,該彈簧配置成將該關閉位置中的該可往復運動構件偏向。
- 如請求項1所述之隔膜閥,進一步包括一流體通道,該流體通道延伸穿過該可往復運動構件並且延伸到一腔室,其中該腔室中的正流體壓力迫使該可往復運動構件到達該打開位置。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件在1.0毫托與500托之間的真空條件下在該隔膜與該閥座之間保持一最小距離。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該耦合構件在20℃與500℃之間的溫度條件下在該隔膜與該閥座之間保持一最小距離。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該隔膜由多個層組成。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該隔膜由單一層組成。
- 如請求項1所述之隔膜閥,其中該隔膜的該打開狀態包括一系列狀態,該一系列狀態包括部分打開狀態和完全打開狀態。
- 一種隔膜閥,包括: 一入口埠; 一出口埠; 一閥座,該閥座靠近該入口埠或該出口埠中之一個; 一隔膜,該隔膜相對於該閥座來定位,該隔膜具有一打開狀態,其中該隔膜與該閥座間隔開,以致能在該入口埠與該出口埠之間的一流體路徑,並且該隔膜具有一關閉狀態,其中該隔膜位於該閥座上,以阻擋該流體路徑; 一可往復運動構件,該可往復運動構件耦合至該隔膜並且配置成在一打開位置與一關閉位置之間轉換,該打開位置將該隔膜移動到該打開狀態,並且該關閉位置將該隔膜移動到該關閉狀態; 一耦合構件,該耦合構件耦合在該隔膜與該可往復運動構件之間;及 一插入件,該插入件位於該可往復運動構件與該隔膜之間,該插入件具有一通道,其中該耦合構件穿過該通道。
- 一種操作一隔膜閥的方法,包括以下步驟: 將一可往復運動構件移動到一打開位置; 響應於將該可往復運動構件移動到該打開位置,將一隔膜拉動到一打開狀態,其中藉由用一耦合構件拉動該隔膜,來執行該拉動步驟,該耦合構件耦合在該可往復運動構件與該隔膜之間;及 將該可往復運動構件移動到一關閉位置,其中響應於將該可往復運動構件移動到該關閉位置,將該隔膜移動到一關閉狀態。
- 如請求項19所述之方法,進一步包括以下步驟:響應於將該可往復運動構件移動到該關閉位置,藉由一插入件將該隔膜壓到該關閉狀態。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/297,542 US11236834B2 (en) | 2019-03-08 | 2019-03-08 | Diaphragm valves and methods of operating same |
US16/297,542 | 2019-03-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202045843A true TW202045843A (zh) | 2020-12-16 |
TWI804718B TWI804718B (zh) | 2023-06-11 |
Family
ID=72334898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109107424A TWI804718B (zh) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | 隔膜閥 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11236834B2 (zh) |
JP (1) | JP7176130B2 (zh) |
KR (1) | KR102496563B1 (zh) |
CN (1) | CN113544420B (zh) |
SG (1) | SG11202109126WA (zh) |
TW (1) | TWI804718B (zh) |
WO (1) | WO2020185415A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI817396B (zh) * | 2021-04-01 | 2023-10-01 | 日商富士金股份有限公司 | 控制器及氣化供給裝置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4475711A (en) | 1982-08-30 | 1984-10-09 | Honeywell Inc. | High pressure gas valve |
JPS63115970A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-20 | Motoyama Seisakusho:Kk | ダイヤフラム弁 |
JPH0875017A (ja) * | 1994-09-05 | 1996-03-19 | Motoyama Seisakusho:Kk | ダイヤフラム弁 |
JPH09217843A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-08-19 | T H I Syst Kk | 二方弁構造 |
US6026836A (en) | 1998-06-26 | 2000-02-22 | Honeywell Inc. | High pressure diaphragm valve |
US6241213B1 (en) | 2000-03-07 | 2001-06-05 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Diaphragm valve |
JP4418571B2 (ja) | 2000-04-11 | 2010-02-17 | シーケーディ株式会社 | 高温対応ガス制御バルブ |
US6786231B2 (en) | 2002-02-01 | 2004-09-07 | Emerson Electric Co. | Fluid flow regulator with restrictor pin |
US6941963B2 (en) | 2003-06-26 | 2005-09-13 | Planar Systems, Inc. | High-speed diaphragm valve for atomic layer deposition |
CN1796844A (zh) * | 2004-09-28 | 2006-07-05 | 诺信公司 | 隔膜阀 |
KR100694666B1 (ko) | 2005-08-24 | 2007-03-13 | 삼성전자주식회사 | 원자층 증착 챔버의 에어 밸브 장치 |
WO2009114841A2 (en) * | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Martin Dreyer | Balancing cage and proportioning disc valves |
JP2013117241A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Haruo Kamino | ダイヤフラム弁、ダイヤフラム弁のダイヤフラム破損検出方法およびプロセス制御システム |
JP5462325B2 (ja) * | 2012-07-06 | 2014-04-02 | 株式会社リケン | 鉄基焼結合金製バルブシート |
US9157534B2 (en) | 2012-07-20 | 2015-10-13 | Itt Manufacturing Enterprises Llc. | Two-stud diaphragm for diaphragm valves |
CN105339789B (zh) * | 2013-03-11 | 2017-03-29 | 机械解析有限公司 | 具有密封组件的隔膜阀、包括隔膜阀的色谱系统及其操作方法 |
US9587759B2 (en) * | 2013-09-20 | 2017-03-07 | Itt Manufacturing Enterprises Llc | Quick release valve compressor |
US10006664B2 (en) | 2015-05-11 | 2018-06-26 | Emerson Electric Co. | Slow opening and fast closing gas valves and related methods |
US10269600B2 (en) | 2016-03-15 | 2019-04-23 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
US10453721B2 (en) | 2016-03-15 | 2019-10-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
US10684159B2 (en) | 2016-06-27 | 2020-06-16 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on choked flow |
JP6995047B2 (ja) | 2016-08-25 | 2022-01-14 | 株式会社キッツエスシーティー | ダイヤフラムバルブと半導体製造装置用流量制御機器 |
-
2019
- 2019-03-08 US US16/297,542 patent/US11236834B2/en active Active
-
2020
- 2020-02-27 KR KR1020217032194A patent/KR102496563B1/ko active IP Right Grant
- 2020-02-27 CN CN202080019628.XA patent/CN113544420B/zh active Active
- 2020-02-27 SG SG11202109126WA patent/SG11202109126WA/en unknown
- 2020-02-27 WO PCT/US2020/020210 patent/WO2020185415A1/en active Application Filing
- 2020-02-27 JP JP2021552810A patent/JP7176130B2/ja active Active
- 2020-03-06 TW TW109107424A patent/TWI804718B/zh active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI817396B (zh) * | 2021-04-01 | 2023-10-01 | 日商富士金股份有限公司 | 控制器及氣化供給裝置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG11202109126WA (en) | 2021-09-29 |
US11236834B2 (en) | 2022-02-01 |
TWI804718B (zh) | 2023-06-11 |
WO2020185415A1 (en) | 2020-09-17 |
JP7176130B2 (ja) | 2022-11-21 |
JP2022523569A (ja) | 2022-04-25 |
CN113544420B (zh) | 2023-12-08 |
KR20210125610A (ko) | 2021-10-18 |
KR102496563B1 (ko) | 2023-02-06 |
US20200284360A1 (en) | 2020-09-10 |
CN113544420A (zh) | 2021-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10281056B2 (en) | Low hysteresis diaphragm for a valve | |
US6629682B2 (en) | Vacuum valve | |
US7063304B2 (en) | Extended stroke valve and diaphragm | |
JP2006090386A (ja) | ダイヤフラムバルブ | |
EP2581633A2 (en) | Metal seal with flexible insert | |
TW200806909A (en) | Valve manifold assembly | |
TW202045843A (zh) | 隔膜閥及操作隔膜閥的方法 | |
KR20190039025A (ko) | 다이아프램 밸브와 반도체 제조 장치용 유량 제어 기기 | |
JP5688076B2 (ja) | 自己整合式の軸方向に抑制された調整器弁アセンブリ | |
RU2626873C2 (ru) | Уплотнительный элемент для трубопроводной арматуры | |
KR102453794B1 (ko) | 밸브 장치, 유체 제어 장치, 유체 제어 방법, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 | |
US20180355983A1 (en) | Diaphragm valve | |
JP7359392B2 (ja) | ダイヤフラム及びダイヤフラムバルブ | |
US20020092999A1 (en) | Flexible valve seat | |
JP4221206B2 (ja) | ダイアフラム | |
JP2021080954A (ja) | 偏心型バタフライ弁 | |
JP2017180797A (ja) | ダイヤフラム弁 | |
JP2021116886A (ja) | ダイヤフラムバルブ | |
JP6074375B2 (ja) | ダイアフラム弁構造及び電磁弁 | |
JP2024065482A (ja) | バルブ装置 | |
KR20200000066A (ko) | 가스켓 | |
JP2020165476A (ja) | ダイヤフラムバルブ | |
JP2001021047A (ja) | メタルシートを有するバタフライ弁 |