TWI813263B - 水平式呼氣氣體檢測裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種水平式呼氣氣體檢測裝置，包括一殼體、以及一氣體檢測模組。該殼體包括有一設置於該殼體一側的呼氣口、以及一設置於該殼體內並連通於該呼氣口的容置空間，該呼氣口大致與該容置空間平行。該氣體檢測模組設置於該容置空間內。該氣體檢測模組包括一凸台、一設置於該凸台上且頂側表面與該呼氣口輸入氣流平行的檢測晶片、以及一設置於該凸台相對該呼氣口背側上的出氣口，其中該凸台的兩側設置有止擋部，以形成該呼氣口至該檢測晶片上側至該凸台背側的氣流通道。
Description
本發明提供一種氣體檢測裝置，尤指一種水平式呼氣氣體檢測裝置。
呼氣氣體檢測裝置是一種用於通過感測器偵測呼氣樣本，通過呼氣樣本所產生的光譜變化、或是電流變化判讀呼氣樣本是否包括了目標化合物。一般而言，呼氣氣體檢測裝置又可以稱為電子鼻(e-nose)或呼氣式檢測儀(breathalyzer)。
目前呼氣氣體檢測裝置普遍用於估計血液酒精含量(BAC) 或從呼氣樣本中檢測病毒或疾病，例如酒精測定儀、以及病理性的快篩檢測儀。自2019年末，由於嚴重特殊傳染性肺炎（COVID-19）的擴散，造成全球性大流行疫情。因為普遍輕症患者症狀的症狀類似於同期流行的流行性感冒，導致症狀篩查無法有效檢測，因而易導致患者、家屬及政府誤判。為了有效率的由高風險的族群中找出隱藏的感染源，目前採用的方式為快篩及PCR檢測，然而快篩及PCR檢測都需要進行侵入式採樣鼻腔黏膜樣本，導致許多人對於快篩及PCR產生抗拒因而造成疫情難以有效的控制、甚而延誤就醫。
本發明的主要目的，在於提供一種水平式呼氣氣體檢測裝置，包括一殼體、以及一氣體檢測模組。該殼體包括有一設置於該殼體一側的呼氣口、以及一設置於該殼體內並連通於該呼氣口的容置空間，該呼氣口大致與該容置空間平行。該氣體檢測模組設置於該容置空間內。該氣體檢測模組包括一凸台、一設置於該凸台上且其表面與該呼氣口輸入氣流平行的檢測晶片、以及一設置於該凸台相對該呼氣口背側上的出氣口，其中該凸台的兩側設置有止擋部，以形成該呼氣口至該檢測晶片上側至該凸台背側的氣流通道。
本發明的水平式呼氣氣體檢測裝置係以水平方向導引氣流，通過檢測裝置殼體內的氣流導引設計，使氣流流向與檢測晶片的頂測表面平行，並通過凸台背側的折返區域使氣流減速，減少檢測晶片上水氣的附著。
有關本發明之詳細說明及技術內容，現配合圖式說明如下。本發明中之圖式，為說明方便，圖中各特徵與元件並未依實際比例繪製，，其繪製方式僅是為了以最佳方式呈現與本發明相關的具體特徵與元件，該等圖式及其比例非用以限制本發明之範圍。此外，在不同圖式間係以相同或相似的元件符號指稱相同或相似的元件及部件。
以下針對本發明的第一實施例進行說明，請先參閱「圖1」至「圖3」，係為本發明中第一實施例的外觀示意圖、結構分解示意圖以及剖面示意圖，如圖所示。
本實施例所揭示的水平式呼氣氣體檢測裝置100主要包括有殼體10以及配合該殼體10設置的氣體檢測模組20。該殼體10的內側具有一容置空間101並於殼體10一側設置有一連通於容置空間101的呼氣口11。於一實施例中，呼氣口11大致與容置空間101呈平行；其中所述的「平行」，如「圖3」所示，係指以呼氣口11二側壁面的中心位置的連線做為第一假想線A1，並以容置空間101兩側壁面的中心位置的連線做為第二假想線A2，而令該第一假想線A1與該第二假想線A2大致呈平行。於一實施例中，為避免水氣進入容置空間101造成檢測失效，在呼氣口11的內側設置有一口水止擋片111，用以過濾水氣。於一實施例中，該口水止擋片111係以傾斜角度設置於該呼氣口11內側；於一實施例中，該口水止擋片111的表面延伸線A3與該呼氣口11的第一假想線A1之間的夾角θ係介於45度至90度之間，於本創作中不予以限制。
所述的殼體10於其容置空間101與呼氣口11之間設有一呈傾斜的擴張壁12，擴張壁12係由呼氣口11朝向101容置空間的方向逐漸擴大。該擴張壁12上設置有導流板121，導流板121一端連接於擴張壁12並由擴張壁12朝向容置空間101方向延伸，導流板121延伸方向大致與容置空間101平行且其末端與容置空間101頂側的壁面間具有一間隔P1
。由呼氣口11吹入氣流時，通過附壁現象(Coand
effect)，氣流將沿著擴張壁12的導引方向前進，並被導引至該導流板121上，並由該導流板121的末端脫離附壁狀態並引導至檢測晶片22的頂側表面，使氣流方向與該檢測晶片22的頂側表面平行，並朝出氣口2121的方向前進。
所述的氣體檢測模組20設置在殼體10的容置空間101內。該氣體檢測模組20包括有一凸台21與一檢測晶片22。
於一實施例中，該凸台21包括一圓柱基底211以及一設置於圓柱基底211上的錐狀部212，錐狀部212係由底側朝頂側方向漸縮而形成並於頂側具有一平台，凸台21頂側上的平台對應檢測晶片22的形狀設有如圖2中的凹槽。檢測晶片22設置於凸台21位在錐狀部212頂側的平台上，檢測晶片22頂側表面平行於由呼氣口11輸入氣流的氣流方向。於一實施例中，該凸台21包括設置於該凸台21背側的該出氣口2121、一設置於該凸台21內側的過濾器213、以及一設置於該凸台21底側的氣體排出口214，其中該出氣口2121係先連通至該過濾器213並進一步連通至該氣體排出口214，通過該過濾器213避免吹入的氣體最終由氣體排出口214輸出後造成汙染或傳染風險。於一實施例中，檢測晶片22頂側表面的高度位置係介於導流板121與呼氣口11中心位置之間，以保證氣流由該導流板121末端解除附壁時與該檢測晶片22頂側表面平行，另一方面減少了擾流並進一步增加了流速。
該凸台21於相對朝向該呼氣口11的另一側(在此稱為背側)設置有出氣口2121，且為了避免擾流，以及為了避免氣流由凸台21的兩側朝背側前進，導致氣流未能夠通過檢測晶片22的上方，另在該凸台21的兩側設置有止擋部23，以形成呼氣口11至檢測晶片22上側至凸台21背側的氣流通道。
於一實施例中，止擋部23可以是止擋牆、止擋板、或其他任意可構成氣流導引功能的機構，於本發明不以予限制。
於一實施例中，該出氣口2121係設置於該錐狀部212上，且該出氣口2121為單排複數個格狀柵口，於本發明中不予以限制。又於一實施例中，該出氣口2121係可以設置於該圓柱基底211的上緣位置(靠近該凸台21的背側)。亦或是於一實施例中，該出氣口2121同時設置於該錐狀部212背側及該圓柱基底211的上緣位置，於本發明中不予以限制。
吹入容置空間101內部的氣流，經由前述氣流通道通過凸台21頂側的檢測晶片22後，流動至凸台21的後方後折返朝凸台21背側的出氣口2121送出，離開容置空間101，經由凸台21內側的過濾器213過濾後並再往一設置於凸台21底側的氣體排出口214排出殼體10外。
透過本發明中凸台21往兩側方向延伸凸出的止擋部23能夠限制已通過檢測晶片22的氣流往出氣口2121返流，以避免返流的氣體造成氣流擾動。
於一實施例中，凸台21上設有複數個出氣口2121，且止擋部23設置在錐狀部212的兩側，使止擋部23相對位在出氣口2121以及呼氣口11之間。該止擋部23主要用於遮擋通過凸台21兩側的氣流並保留該凸台21的上側維持暢通以通過氣流，其設置的位置依據實際結構配合該凸台21及殼體10內牆壁的形狀而調整。
於該殼體10對應在凸台21的圓柱基底211兩側分別設置有水流導引坡道13，水流導引坡道係13以止擋部23為中心朝兩側方向向下傾斜而形成雙側斜坡，藉以導引水流向下。
於一實施例中，該殼體10於底側設置有一容置開口102，該
凸台21對應該容置開口102裝置於該殼體10，該殼體10相對該呼氣口11的一側設置有一卡嵌口14，且該殼體10更包括有一密封板141，該密封板141設置於該卡嵌口14上用以封閉該卡嵌口14。於一實施例中，密封板141於其一側一體成形有一固定部142，在組裝後能夠用來卡接在凸台21的圓柱基底211，以固定凸台21。
該殼體10上設置有一對準於該檢測晶片22的檢測窗口15、一設置於該檢測窗口15兩側的窗軌，一設置於該窗軌上的透明板16、以及一對應設置於該窗軌上對應於該透明板16一側並於其上具有過孔171的推桿框17，該推桿框17係朝向該透明板16推動以使其上的過孔171與該檢測窗口15重合以供雷射探測器通過對該檢測晶片22進行檢測。於「圖1到3」中的該窗軌是相對凸伸出殼體10頂側外部的外軌道151。
請參閱「圖4」到「圖6」，係為本發明中第二實施例的外觀示意圖、結構分解示意圖以及剖面示意圖。本實施例所揭示的水平式呼氣氣體檢測裝置100a主要包括有殼體10a以及配合該殼體10a設置的氣體檢測模組20a。該殼體10a的內側具有一容置空間101a並於殼體10a一側設置有一連通於容置空間101a的呼氣口11a。於本實施例中，呼氣口11a大致與容置空間101a呈平行；其中所述的「平行」與第一實施例相同不再重覆說明。
如圖所示，第二實施例中的該凸台21a包括一基座210a、以及一設置於該基座210a上並由基座210a頂側朝該呼氣口11a方向延伸至基座210a底側的傾斜面211a，該檢測晶片22設置於該凸台21a頂側的平台上，檢測晶片22頂側表面平行於由呼氣口11a輸入氣流的氣流方向，且該止擋部23a設置於該傾斜面211a的兩側，並具有與第一實施例相同的功效。於一實施例中，凸台21a頂側上的平台對應檢測晶片22的形狀設有如
圖5中的凹槽，凹槽兩側設有方便拿取檢測晶片22的拿取部以及另外兩側邊上防止檢測晶片22滑出凹槽的凸擋條；凸台21a於朝向呼氣口11a的一側可以設置為連續的傾斜面或其他結構外型，於本發明中不予以限制。
該檢測晶片22的頂側表面的高度位置係介於該殼體10a內該容置空間101a的頂側至該呼氣口11a的中心線之間。
該殼體10a相對該呼氣口11a的一側設置有一卡嵌口14a，該凸台21a沿該容置空間101a的水平方向嵌入該卡嵌口14a，並由一體成形結合於該凸台21a一側的密封板141a覆蓋於該卡嵌口14a上以封閉該卡嵌口14a，利用一體成形有密封板141a的凸台21a直接嵌入殼體10a能夠減少模具的數量以降低成本。於一實施例中，密封板141a具有一連接於凸台21a的延伸部142a，並在延伸部142a上設有複數個出氣口143a。於一實施例中，殼體10a在卡嵌口14a兩側各設有一夾爪部13a，且密封板141a兩側對應夾爪部13a各設置有一限位槽144a，以增加密封板141a與卡嵌口14a之間的密合度。
由呼氣口11a吹入氣流時，通過附壁現象(Coand
effect)，氣流將沿著擴張壁12a的導引方向前進至檢測晶片22的頂側表面，使氣流方向與該檢測晶片22的頂側表面平行，並朝出氣口143a的方向前進。
該殼體10a在底側設置有複數個氣體排出口18a，且相通於嵌入該殼體10a後的凸台21a。氣流於通過檢測晶片22後，流動至凸台21a的後方後折返朝背側的出氣口143a送出，離開容置空間101a，且經由凸台21a內側的過濾器213a過濾後往殼體10a底側的氣體排出口18a排出殼體10a外。
殼體10a上設置有一對準於該檢測晶片22的檢測窗口15a、一設置於該檢測窗口15a兩側的窗軌以及一對應設置於該窗軌上並具有
過孔171a的推桿框17a。於「圖4-6」中的該窗軌是相對往容置空間101a內部凸出的內軌道151a。
推桿框17a係包含有第一實施例中的的透明板16與推桿框17，其中推桿框17與透明板16係結合為一體或不結合為一體使用或是否採用透明材質，本發明不予限制。
該殼體10a的頂側對應該內軌道151a設有一貫穿軌道19a，且該推桿框17a具有一穿過該貫穿軌道19a而伸出該殼體10a的推桿172a。推桿框17a以其推桿172a穿出殼體10a頂側，且貫穿軌道19a對應設置於推桿172a兩側，以供推桿172a沿貫穿軌道19a將推桿框17a朝向呼氣口11a方向推動，並使其過孔171a與檢測窗口15a重合以供雷射探測器通過對檢測晶片22進行檢測。
殼體10a在頂側往容置空間101a內部凸出有供推桿框17a移動的內軌道151a，並另在頂側設有貫穿軌道19a以供推桿框17a的推桿172a在殼體10a頂側外部移動，使能夠在從外部推動推桿172a的同時也讓推桿框17a隨之在內軌道151a移動。殼體10a的內軌道151a與貫穿軌道19a可以設置為同一軌道寬度，於本發明不予限制。
請參閱「圖7」到「圖8」，係為本發明中第三實施例的結構分解示意圖以及剖面示意圖。本實施例所揭示的水平式呼氣氣體檢測裝置100b主要包括有殼體10a以及配合該殼體10a設置的氣體檢測模組20b。氣體檢測模組20b的凸台21b同樣利用一體成形結合於該凸台21b一側的密封板141a覆蓋於殼體10a的卡嵌口14a，以封閉該卡嵌口14a並組裝於殼體10a一側。
該凸台21b包括一基座210b，該止擋部23b設置於該基座210b的兩側並具有與第一實施例相同的功效。於該止擋部23b頂側連接有
一朝該呼氣口11a方向延伸至該殼體10a底側的傾斜面211b，且凸台21b背側與密封板141a的延伸部142a呈傾斜，亦可呈其他角度連接，於本發明中不予限制。
該檢測晶片22設置於該凸台21b頂側的平台上，且該止擋部23b頂側與該凸台21b頂側表面的高度相同。於另一實施例中，凸台21b頂側上的平台對應檢測晶片22的形狀設有如圖7中排列的一圈凸起結構，且凸台21b於朝向呼氣口11a的一側可以設置為連續的傾斜面或其他結構外型，於本發明中不予以限制。
呼氣檢測時，氣流於通過檢測晶片22後，流動至凸台21b的後方後折返朝背側出氣口143a送出，離開容置空間101a，且經由凸台21b內側的過濾器213b過濾後往殼體10a底側的氣體排出口18a排出殼體10a外。
上述實施例中的凸台21、21a、21b為了固定檢測晶片22的位置於其頂側表面設有不同配合檢測晶片22形狀的凹槽、連續/不連續的凸起或其他可供放置固定的等效結構，於本發明不予限制。
以下請一併參閱「圖9」，係為本發明中水平式呼氣氣體檢測裝置的使用狀態示意圖，如圖中所示以第一實施例中殼體10為例說明。一般狀態下(包括吹氣檢測時)，透明板16會覆蓋於檢測窗口15上方，使殼體10的容置空間101不相通於外部，避免檢測晶片22接觸到非待測氣體或遭受環境氣體或落塵汙染導致量測失真。
於吹氣完成後，將包括有檢體的氣體檢測裝置100移動至雷射探測器L進行氣體分析，利用推桿框17朝向透明板16方向推動，將透明板16往呼氣口11方向推動並離開檢測窗口15，使過孔171與檢測窗口15重合，以供雷射探測器L通過並對檢測窗口15下方的檢測晶片22進行
檢測。
以下請一併參閱「圖10」，係為本發明中水平式呼氣氣體檢測裝置的使用狀態示意圖，如圖中所示以第二實施例中殼體10a為例說明。一般狀態下(包括吹氣檢測時)，推桿框17a會覆蓋於檢測窗口15a下方，使殼體10a的容置空間101a不相通於外部，避免檢測晶片22接觸到非待測氣體或遭受環境氣體或落塵汙染導致量測失真。
於吹氣完成後，將包括有檢體的氣體檢測裝置100a移動至雷射探測器L進行氣體分析，藉由從外部沿貫穿軌道19a推動推桿框17a伸出殼體10a的推桿172a，將推桿框17a朝向呼氣口11a方向推動，使過孔171a與檢測窗口15a重合，以供雷射探測器L通過並對檢測窗口15a下方的檢測晶片22進行檢測。
請參閱「圖11」，係為本發明中第三實施例的變化外觀示意圖。氣體檢測裝置100b主要包括有殼體10a以及配合該殼體10a設置的氣體檢測模組20b，其殼體10a與氣體檢測模組20b依據不同使用者或是其他實際上需求可以如圖所示調整相對的尺寸比例，由下往上排列分別是氣體檢測裝置100b以及相對拉長呼氣口11a'、11a"的氣體檢測裝置100b'、100b"，氣體檢測裝置100b'、100b"配合呼氣口11a'、11a"調整原本凸台21b'、21b"的尺寸，使凸台21b放置檢測晶片22的頂側表面的高度位置逐漸往呼氣口11a頂側方向下移到圖中凸台21b'、21b"的高度位置，且隨著呼氣口11a'、11a"拉長的比例越大，凸台21b'、21b"的高度位置相對往下移的程度也越多。此外，凸台21b、21b'、21b"頂側平面的大小也可以調整其面積大小，於本發明中不予限制。本實施例圖11雖以第三實施例進行說明，相應比例的調整及配置亦適用於第一實施例及第二實施例，在此先行敘明。
綜上所述，本發明的水平式呼氣氣體檢測裝置係以水平方向導引氣流，通過檢測裝置殼體內的氣流導引設計，使氣流流向與檢測晶片的頂側表面平行，並通過凸台背側的折返區域使氣流減速，減少檢測晶片上水氣的附著。
以上已將本發明做一詳細說明，惟以上所述者，僅為本發明之一較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即凡依本發明申請專利範圍所作之均等變化與修飾，皆應仍屬本發明之專利涵蓋範圍內。
100:氣體檢測裝置
100a:氣體檢測裝置
100b:氣體檢測裝置
100b':氣體檢測裝置
100b":氣體檢測裝置
10:殼體
10a:殼體
101:容置空間
101a:容置空間
102:容置開口
11:呼氣口
11a:呼氣口
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12:擴張壁
12a:擴張壁
121:導流板
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14:卡嵌口
14a:卡嵌口
141:密封板
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142:固定部
142a:延伸部
143a:出氣口
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17:推桿框
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171:過孔
171a:過孔
172a:推桿
18a:氣體排出口
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211a:傾斜面
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2121:出氣口
213:過濾器
213a:過濾器
213b:過濾器
214:氣體排出口
22:檢測晶片
23:止擋部
23a:止擋部
23b:止擋部
P1:間隙
L:雷射探測器
A1:第一假想線
A2:第二假想線
A3:表面延伸線
θ:夾角
圖1，為本發明中第一實施例的外觀示意圖。
圖2，為本發明中第一實施例的結構分解示意圖。
圖3，為本發明中第一實施例的剖面示意圖。
圖4，為本發明中第二實施例的外觀示意圖。
圖5，為本發明中第二實施例的結構分解示意圖。
圖6，為本發明中第二實施例的剖面示意圖。
圖7，為本發明中第三實施例的結構分解示意圖。
圖8，為本發明中第三實施例的剖面示意圖。
圖9，為本發明中第一實施例的使用狀態示意圖。
圖10，為本發明中第二實施例的使用狀態示意圖
圖11，(a)至(c)為本發明中第三實施例的變化外觀示意圖。
100:氣體檢測裝置
10:殼體
101:容置空間
11:呼氣口
111:口水止擋片
12:擴張壁
121:導流板
13:水流導引坡道
141:密封板
142:固定部
15:檢測窗口
16:透明板
17:推桿框
171:過孔
20:氣體檢測模組
21:凸台
211:圓柱基底
212:錐狀部
2121:出氣口
214:氣體排出口
22:檢測晶片
23:止擋部
Claims (21)
- 一種水平式呼氣氣體檢測裝置，包括：一殼體，包括有一設置於該殼體一側的呼氣口、以及一設置於該殼體內並連通於該呼氣口的容置空間，該呼氣口大致與該容置空間平行；一氣體檢測模組，設置於該容置空間內，該氣體檢測模組包括一凸台、一設置於該凸台上且頂側表面與該呼氣口輸入氣流平行的檢測晶片、以及一設置於該凸台相對該呼氣口背側上的出氣口，其中該凸台的兩側方向延伸凸出設置有止擋部，以形成該呼氣口至該檢測晶片上側、且由該凸台頂側折返至該凸台背側的氣流通道。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體於該呼氣口及該容置空間之間具有擴張壁，該擴張壁係由該呼氣口朝向該容置空間的方向逐漸擴大。
- 如請求項2所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該擴張壁上設置有一由該擴張壁朝向該容置空間方向上延伸的導流板，該導流板大致與該容置空間平行並於該導流板的末端與該容置空間頂側的壁面間具有一間隔。
- 如請求項3所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該檢測晶片的頂側表面的高度位置係介於該導流板與該呼氣口中心位置之間。
- 如請求項2所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該檢測晶片的頂側表面的高度位置係介於該殼體內該容置空間的頂側至該呼氣口的中心線之間。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體相對該呼氣口的一側設置有一卡嵌口，該凸台沿該容置空間的水平方向嵌入該卡嵌口，並由一體成形結合於該凸台一側的密封板覆蓋於該卡嵌口上以封閉該卡嵌口。
- 如請求項6所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體在底側設置有複數個氣體排出口，且相通於嵌入該殼體後的凸台。
- 如請求項7所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該密封板具有一連接於該凸台的延伸部，並在該延伸部上設有複數個出氣口。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體於底側設置有一容置開口，該凸台對應該容置開口裝置於該殼體。
- 如請求項9所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體包括一設置於相對該呼氣口一側的卡嵌口、以及一設置於該卡嵌口上用以封閉該卡嵌口的密封板。
- 如請求項10所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該密封板於其一側一體成形有一固定部，該固定部於該密封板嵌入該卡嵌口後卡接在該凸台。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該凸台包括設置於該凸台背側的該出氣口、一設置於該凸台內側的過濾器、以及一設置於該凸台底側的氣體排出口，其中該出氣口係先連通至該過濾器並進一步連通至該氣體排出口。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該呼氣口的內側設置有一口水止擋片用以過濾水氣。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體上設置有一對準於該檢測晶片的檢測窗口、一設置於該檢測窗口兩側的窗軌，一設置於該窗軌上的透明板、以及一對應設置於該窗軌上對應於該透明板一側並於其上具有過孔的推桿框，該推桿框係朝向該透明板推動以使其上的過孔與該檢測窗口重合以供雷射探測器通過對該檢測晶片進行檢測。
- 如請求項14所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，該窗軌係相對凸伸出該殼體頂側外部的一外軌道。
- 如請求項14所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該窗軌係相對往該容置空間內部凸出的一內軌道，該殼體的頂側對應該內軌道設有一貫穿軌道，且該推桿框具有一穿過該貫穿軌道而伸出該殼體的推桿。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該凸台包括一圓柱基底、以及一設置於該圓柱基底上並由底側朝頂側方向漸縮而形成錐狀部，該檢測晶片設置於該錐狀部頂側的平台上，該止擋部設置於該錐狀部的兩側。
- 如請求項17所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該殼體對應於該圓柱基底的兩側分別設置有水流導引坡道，該水流導引坡道係以該止擋部為中心朝兩側方向向下傾斜而形成雙側斜坡藉以導引水流向下。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中該凸台包括一基座、以及一設置於該基座上並由該基座頂側朝該呼氣口方向延伸至該基座底側的傾斜面，該檢測晶片設置於該凸台頂側的平台上，該止擋部設置於該傾斜面的兩側。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中，該凸台包括一基座，該止擋部設置於該基座的兩側並於該止擋部頂側連接有一朝該呼氣口方向延伸至該殼體底側的傾斜面。
- 如請求項1所述的水平式呼氣氣體檢測裝置，其中，該止擋部頂側與該凸台頂側表面的高度相同。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111115362A TWI813263B (zh) | 2022-04-22 | 2022-04-22 | 水平式呼氣氣體檢測裝置 |
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| TW111115362A TWI813263B (zh) | 2022-04-22 | 2022-04-22 | 水平式呼氣氣體檢測裝置 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| TWI813263B true TWI813263B (zh) | 2023-08-21 |
| TW202342963A TW202342963A (zh) | 2023-11-01 |
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| TW111115362A TWI813263B (zh) | 2022-04-22 | 2022-04-22 | 水平式呼氣氣體檢測裝置 |
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-
2022
- 2022-04-22 TW TW111115362A patent/TWI813263B/zh active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202342963A (zh) | 2023-11-01 |
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