TWI797963B - 緩釋體及緩釋體的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可於目標之長時間內保持有效成分之穩定緩釋之緩釋體及緩釋體的製造方法。 作為本發明之一態樣之緩釋體具備基材、及直接形成於上述基材之厚度方向之兩端面中之第1面之蒸鍍聚合膜。上述基材為含有汽化性有效成分，且釋放上述有效成分之汽化氣體之結構。上述蒸鍍聚合膜具有作為自上述基材之上述第1面接收上述有效成分之汽化氣體並將其緩釋之緩釋膜的功能。

Description

緩釋體及緩釋體的製造方法
本發明係關於緩釋體及緩釋體的製造方法。
習知技術中，提出一種為了使防黴劑、抗菌劑或除臭劑等有效成分長時間作用於所需對象物，而將該有效成分汽化而向外部緩慢釋放（緩釋）之緩釋體。通常，緩釋體於基材上具備含有汽化性有效成分之有效成分層，於該有效成分層上具備緩釋膜。於該緩釋體中，緩釋膜使自有效成分層汽化之有效成分之氣體（汽化氣體）向外部緩釋。藉此，可使該有效成分長時間作用於所需對象物。
作為此種緩釋體，例如專利文獻1中揭示一種於基材膜之表面上形成有效成分層，且於該有效成分層上形成有效成分穿透層而成的緩釋性膜。於該專利文獻1所記載之緩釋性膜中，有效成分穿透層作為將自有效成分層產生之有效成分之汽化氣體向外部緩釋之緩釋膜而發揮功能。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2017-226188號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，於上述習知之緩釋體中，伴隨汽化之有效成分之緩釋而於有效成分層與緩釋膜之間會產生間隙。即，如圖9所例示，於習知之緩釋體100中，有效成分層103介置於基材101與緩釋膜102之間。因此，隨著有效成分層103中所含之有效成分之汽化氣體103a自緩釋膜102向外部緩釋，有效成分層103持續減少，最終導致於有效成分層103與緩釋膜102之間產生間隙104。於該情形時，由於由蒸鍍聚合膜形成之緩釋膜102為薄膜，因此有起因於彎曲或擠壓等之外力，於該緩釋膜102容易產生例如如圖9所示之裂痕105等破損之虞。因此，導致自緩釋膜102之破損部分過度釋放有效成分之汽化氣體103a，其結果，難以於目標之長時間內持續緩釋有效成分之汽化氣體103a。
本發明係鑒於上述情況而成者，目的在於提供可於目標之長時間內保持有效成分之穩定緩釋之緩釋體及緩釋體的製造方法。 [解決問題之手段]
為了解決上述課題達成目的，本發明之緩釋體之特徵在於具備：基材；及蒸鍍聚合膜，其直接形成於上述基材之厚度方向之兩端面中之第1面；上述基材具有含有汽化性有效成分且釋放上述有效成分之汽化氣體之結構，上述蒸鍍聚合膜自上述基材之上述第1面接收上述有效成分之汽化氣體並將其緩釋。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，具備障壁層，其形成於上述基材之厚度方向之兩端面中與上述第1面為相反側之第2面，自上述基材之上述第2面側阻斷上述有效成分之汽化氣體。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，上述基材由多孔質材構成。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，上述多孔質材具有連續氣泡之結構。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，上述基材由具有非結晶性部分之聚合物構成。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，上述蒸鍍聚合膜之透氣性低於上述基材。
又，本發明之緩釋體之特徵在於：於上述發明中，上述蒸鍍聚合膜之厚度為1 μm以上900 μm以下之範圍內。
又，本發明之緩釋體之製造方法之特徵在於包括：緩釋膜形成步驟，其於基材之厚度方向之兩端面中之第1面形成由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜；及有效成分導入步驟，其自上述基材之厚度方向之兩端面中與形成有上述緩釋膜之上述第1面為相反側之第2面，將汽化性有效成分導入至上述基材。
又，本發明之緩釋體之製造方法之特徵在於：於上述發明中，包括障壁層形成步驟，其於導入上述有效成分後之上述基材之上述第2面，形成阻斷上述有效成分之汽化氣體之障壁層。 [發明之效果]
根據本發明，可達到於目標之長時間內保持有效成分之穩定緩釋之效果。
以下，參照隨附圖式對本發明之緩釋體及緩釋體的製造方法之較佳實施形態詳細地進行說明。另外，本發明並不受本實施形態限定。又，需要注意的是，圖式為示意性圖式，各要素之尺寸關係、各要素之比率等有時與現實不同。即便於圖式之相互間，有時亦包含彼此之尺寸關係或比率不同之部分。又，於各圖式中，對相同構成部分標註相同符號。
（緩釋體之構成） 首先，對本發明之實施形態之緩釋體之構成進行說明。圖1係表示本發明之實施形態之緩釋體之一構成例的剖面示意圖。圖2係表示本發明之實施形態之緩釋體之使用時之一構成例的剖面示意圖。於圖1, 2示出本實施形態之緩釋體10之積層結構之一例。
另外，於本實施形態中，為了便於說明，設定緩釋體10之厚度方向D1及寬度方向D2，但該等方向並不限定本發明。將厚度方向D1的一端側（圖1,2中為紙面上側）設為表面側，將厚度方向D1之另一端側（圖1,2中為紙面下側）設為背面側。寬度方向D2為垂直於厚度方向D1之方向。對於緩釋體10之各構成部，該等厚度方向D1及寬度方向D2亦相同。
本實施形態之緩釋體10係使作用於所需對象物（未圖示）之有效成分汽化而向外部緩釋者。如圖1所示，緩釋體10具備含有汽化性有效成分11之基材1、緩釋膜2、障壁層3, 7、黏著層4, 5, 8及保護片6。
如圖1所示，基材1係形成支持緩釋膜2之支持層者，含有汽化性有效成分11。又，基材1具有釋放所含有之有效成分11之汽化氣體11a（參照圖2）之結構。此種基材1例如較佳為由具有非結晶性部分之聚合物或多孔質材等構成。
作為構成基材1之多孔質材，例如可例舉藉由對實心結構之樹脂實施拉伸或穿孔等處理而形成有大量微小之孔之多孔質樹脂、或者是發泡樹脂、纖維結構體等。此種多孔質材由於內部有微小空間且具有自該微小空間與外部相連之部分，因此就容易包含有效成分11及容易釋放有效成分11之汽化氣體11a之觀點而言，為有利之結構體。又，就藉由多孔質材中之氣泡連續而容易釋放有效成分11之汽化氣體11a之觀點而言，該多孔質材進一步較佳為具有連續氣泡之結構。
作為構成上述多孔質樹脂之樹脂成分，可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯（PET）等聚酯、尼龍、聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯等。例如，上述多孔質樹脂中之微小之孔可藉由在聚乙烯中添加碳酸鈣加以延伸而形成。又，作為上述發泡樹脂，可例舉：聚烯烴發泡體、聚胺甲酸酯發泡體、橡膠系發泡體等。作為上述纖維結構體，例如可例舉：紙、織布、不織布等。
又，上述具有非結晶性部分之聚合物為至少具有非晶結構之聚合物。例如，作為具有非結晶性部分之聚合物，可例舉：非結晶性聚合物、晶體與非晶之混合聚合物、橡膠等。作為構成基材1之非結晶性聚合物，例如可例舉：聚苯乙烯、丙烯酸樹脂等。作為該丙烯酸樹脂，可例舉聚甲基丙烯酸甲酯樹脂（PMMA）等。又，作為晶體與非晶之混合聚合物，可例舉晶體結構與非晶結構混合之摺疊晶體結構之樹脂。作為該摺疊晶體結構之樹脂，例如可例舉：聚乙烯、聚丙烯、尼龍等。由於有效成分容易進入且容易透過此種非晶結構之分子鏈彼此之間隙，因此就容易包含有效成分11及容易釋放有效成分11之汽化氣體11a之觀點而言，為有利之結構。
基材1中所含有之有效成分11是根據緩釋體10之用途而選擇。例如，作為有效成分11，可例舉防黴劑、抗菌劑、防腐劑、防銹劑、除臭劑、香料等各種成分。或者，有效成分11可為組合該等成分中之2種以上而得者。作為構成此種有效成分11之化合物，例如可例舉：檜木醇、香茅醛、青葉醛（反-2-乙烯醛）、香茅醇、香葉草醇等。又，作為緩釋體10之用途，例如可例舉用於蔬菜、水果、花等對象物之輸送用或保管用之箱、該對象物之包裝。除此以外，作為緩釋體10之用途，例如亦可用於溫室栽培之防黴片（例如防止產生白粉病之片材等）、靴底內底之防足癬用防黴片、鞋櫃之防黴及防臭片、抗菌片等。
另外，基材1之厚度是根據有效成分11之含量或汽化氣體11a之目標之緩釋期間、緩釋體10之用途或使用時之尺寸等進行設定。例如，基材1之厚度為10 μm～數mm左右。
緩釋膜2係用於將自基材1汽化之有效成分11向外部緩釋之膜。詳細而言，如圖1所示，緩釋膜2係直接形成於基材1之厚度方向D1之兩端面中之表面1a（第1面）之蒸鍍聚合膜。即，緩釋膜2藉由在基材1之表面1a將2種以上之原料進行真空蒸鍍等而形成。此種緩釋膜2於去除其表面2a上之障壁層7之狀態下，如圖2所示，自基材1之表面1a接收基材1中所含之有效成分11之汽化氣體11a並將其緩釋。
於本實施形態1中，汽化氣體11a係藉由揮發或蒸發等而自基材1中之有效成分11汽化之有效成分氣體，如圖2所示，穿透於基材1中而自基材1之表面1a通過緩釋膜2之背面2b流入緩釋膜2內。其後，汽化氣體11a穿透於緩釋膜2中而向緩釋體10之外部緩釋。此時，由於緩釋膜2為直接形成於基材1之表面1a上之蒸鍍聚合膜，因此在緩釋汽化氣體11a時，亦維持與基材1之表面1a密接之狀態。因此，於緩釋膜2與基材1之密接界面，即於緩釋膜2之背面2b與基材1之表面1a之間，即使汽化氣體11a被持續緩釋，汽化氣體11a不會積存，有效成分11亦不會介置。
構成此種緩釋膜2之蒸鍍聚合膜可提高基材1與緩釋膜2之密接性。即，基材1之表面1a為存有大量的釋放有效成分11之汽化氣體11a之微小開口之凹凸面。於緩釋膜2由蒸鍍聚合物構成之情形時，因追隨該表面2a之凹凸而與其密接，故於緩釋膜2與基材1之間不易產生間隙，亦因此於緩釋膜2不易產生裂痕。例如，由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜2藉由將2種以上之原料單體進行真空蒸鍍及聚合而直接形成於基材1之表面1a。
又，緩釋膜2之透氣度低於上述基材1。於本發明中，透氣度由單位時間內穿透膜或層之單位面積區域之透氣量定義。該透氣度之單位為[g/m 2/day]。即，緩釋膜2將自基材1中之有效成分11產生之汽化氣體11a，從根據基材1之透氣度之汽化氣體11a之穿透量，降低至根據緩釋膜2之透氣度之汽化氣體11a之穿透量而向外部釋放（緩釋）。
例如，基材1之透氣度可藉由使用基材1之測定用樣品進行水蒸氣穿透性試驗而測定。其結果，作為基材1之透氣度之一例，可獲得超過3000 g/m 2/day（＞＞（遠大於）緩釋膜2之透氣度）之水蒸氣之穿透量。又，作為本發明之實施形態之緩釋體10之主要構成之一的緩釋膜2之透氣度可藉由在基材1上形成緩釋膜2後，進行與基材1相同之水蒸氣穿透性試驗而測定。其結果，作為緩釋膜2之透氣度之一例，可獲得467 g/m 2/day之水蒸氣之穿透量。根據以上可確認與僅有基材1之透氣度相比，於基材1形成有緩釋膜2之情形時之透氣度變低。即，明顯得知可藉由緩釋膜2對來自基材1之有效成分11之汽化氣體11a之緩釋量進行調整。
另外，於上述透氣度之測定中，作為緩釋膜2之測定樣品，使用於由聚乙烯製多孔質材構成之基材（厚度75 μm）之表面形成由蒸鍍聚合物構成之緩釋膜（厚度4 μm）而得者。作為基材1之測定樣品，使用由上述聚乙烯製多孔質材構成之基材（厚度75 μm）。又，水蒸氣之穿透量基於濕敏感測器法（JISK7129A）中規定之等壓法，於溫度20～40℃、相對濕度60%RH、90%RH之條件下進行測定。
如上所述之緩釋膜2之厚度係綜合考慮有效成分11之汽化氣體11a之目標之緩釋量（於單位時間內自緩釋膜2之單位面積區域向外部緩釋之汽化氣體11a之緩釋量）、及有效成分11之種類及含量等進行設定。例如，緩釋膜2之厚度較佳為1 μm以上900 μm以下之範圍內。原因在於，於緩釋膜2之厚度未達1 μm之情形時，容易於緩釋膜2產生裂痕，於緩釋膜2之厚度超過900 μm之情形時，有緩釋膜2之緩釋性變差之虞。
障壁層3用於防止自緩釋體10之非預期之面釋放有效成分11之汽化氣體11a。詳細而言，如圖1所示，障壁層3例如由透氣度低於緩釋膜2（較佳為不透氣）之樹脂或金屬等材料構成，形成於基材1之背面1b。例如，障壁層3於其表面具有黏著層4，藉由黏著層4之黏著力貼附於基材1之背面1b。於本實施形態中，基材1之背面1b為基材1之厚度方向D1之兩端面中與形成有上述緩釋膜2之表面1a為相反側之面（第2面）。即，基材1之表面1a為意圖釋放（緩釋）有效成分11之汽化氣體11a之面。基材1之背面1b為無意釋放該汽化氣體11a之面。障壁層3自基材1之背面1b側阻斷有效成分11之汽化氣體11a。藉此，障壁層3防止自基材1之無意釋放氣體之背面1b釋放有效成分11之汽化氣體11a。
作為構成上述障壁層3之樹脂，例如可例舉實心結構之結晶性樹脂或橡膠等。作為該結晶性樹脂，例如可例舉聚酯、尼龍等。作為該橡膠，例如可例舉硫化橡膠、矽橡膠、胺甲酸酯橡膠等。
另外，與基材1之表面1a相比，基材1之側面1c（寬度方向D2之端面）之面積非常小。因此，即使自基材1之側面1c釋放有效成分11之汽化氣體11a，與來自基材1之表面1a之汽化氣體11a之釋放量相比，來自該側面1c之汽化氣體11a之釋放量亦少到可以無視之程度。
黏著層5用於將緩釋體10固定於所需之使用場所。詳細而言，如圖1所示，黏著層5形成於障壁層3之背面。例如，於緩釋體10之使用前（使有效成分11之汽化氣體11a緩釋前）之狀態下，於黏著層5之背面可裝卸地設有保護該黏著層5之保護片6。例如如圖1, 2所示，於緩釋體10之使用時自黏著層5之背面適當剝離該保護片6。藉此，黏著層5成為露出其黏著面之狀態，可將緩釋體10貼附並固定於所需之使用場所。
障壁層7用於防止於緩釋體10之非意圖期間緩釋有效成分11之汽化氣體11a。詳細而言，如圖1所示，障壁層7由與上述障壁層3相同之材料構成，可裝卸地設於緩釋膜2之表面2a。例如，障壁層7於其背面具有黏著層8，藉由黏著層8之黏著力貼附於緩釋膜2之表面2a。另外，障壁層7可由自身有黏著性之樹脂等構成，藉由障壁層7自身之黏著力貼附於緩釋膜2之表面2a。不管為何種方法，障壁層7較佳為以自緩釋膜2剝離後，黏著劑（黏著層8）不會殘留於緩釋膜2之表面2a上之方式設置。此種障壁層7覆蓋緩釋膜2之表面2a，藉此於緩釋體10之使用前等未意圖緩釋有效成分11之汽化氣體11a之期間，防止自緩釋膜2緩釋有效成分11之汽化氣體11a。
另一方面，例如如圖1, 2所示，於緩釋體10之使用時自緩釋膜2之表面2a適當剝離障壁層7。藉此，如圖2所示，緩釋膜2成為露出其表面2a（緩釋面）之狀態。其結果，緩釋膜2可將自基材1汽化之有效成分11之汽化氣體11a朝向所需對象物（未圖示）往緩釋體10之外部緩釋。
（緩釋體之製造方法） 其次，對本發明之實施形態之緩釋體10之製造方法進行說明。圖3係表示本發明之實施形態之緩釋體之製造方法之一例的流程圖。圖4係用於對本發明之實施形態之緩釋體之製造方法具體進行說明的示意圖。圖5係表示用於形成本發明之實施形態之緩釋體之緩釋膜之成膜裝置之一例的示意圖。圖6係表示用於將有效成分導入至本發明之實施形態之緩釋體之基材之塗佈裝置之一例的示意圖。圖7係表示用於形成本發明之實施形態之緩釋體之障壁層之貼附裝置之一例的示意圖。本實施形態之緩釋體10之製造方法包括例如如圖3所示之緩釋膜形成步驟、有效成分導入步驟、障壁層形成步驟及切斷步驟。
如圖3所示，於緩釋體10（參照圖1）之製造方法中，首先進行緩釋膜形成步驟（步驟S101）。該緩釋膜形成步驟係於基材1之厚度方向D1之兩端面中之表面1a（第1面）形成由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜2的步驟。於該緩釋膜形成步驟中，例如使用圖5所示之成膜裝置30。如圖5所示，成膜裝置30具備作為反應室之真空槽31、連結部32、殼體部33及蒸鍍聚合膜形成單元37。
於真空槽31連接有與真空泵（未圖示）連通之排氣管（未圖示），以可經由中空結構之連結部32與殼體部33連通之方式接合。藉由該真空槽31之真空泵之作動，成膜裝置30內部（具體而言為真空槽31、連結部32及殼體部33內部）之空氣通過上述排氣管排出至外部，藉此成膜裝置30之內部成為真空狀態。
又，如圖5所示，於真空槽31之內部設置有主輥34，於殼體部33之內部設置有捲出輥35及捲取輥36。另外，主輥34及捲取輥36分別構成為藉由電動馬達等旋轉驅動裝置（未圖示）連續旋轉驅動。
進一步地，於捲出輥35安裝有將作為緩釋體10之基材1之帶狀基材1捲為卷狀者。自該捲出輥35捲出之帶狀的基材1捲繞於主輥34，自主輥34送出之帶狀基材1由捲取輥36捲取。即，於成膜裝置30中，帶狀基材1以自捲出輥35經由主輥34到達捲取輥36之所謂卷對卷方式進行搬送。另外，如圖5所示，於成膜裝置30內之搬送路徑配置有多個張力輥38a～38h。
詳細而言，於圖3所示之步驟S101中，首先，藉由主輥34及捲取輥36之旋轉驅動，自捲出輥35捲出帶狀基材1。該捲出之帶狀基材1於主輥34之外周面上沿圓周方向之一個方向（圖5中為箭頭α所示之方向）搬送。而且，於沿主輥34之外周面搬送帶狀基材1期間，藉由蒸鍍聚合膜形成單元37，於該帶狀基材1上形成蒸鍍聚合膜。以此方式形成有蒸鍍聚合膜之帶狀基材1藉由捲取輥36捲取。
例如如圖5所示，蒸鍍聚合膜形成單元37具有2個收容罐39a, 39b、及用於對該等2個收容罐39a, 39b之各者進行加熱之加熱器（未圖示）。於收容罐39a, 39b之各者，於真空環境下以液體狀態收容有構成緩釋膜2之蒸鍍聚合膜之原料單體40a, 40b。又，蒸鍍聚合膜形成單元37具有蒸氣供給管41a, 41b、開關閥42a, 42b及混合槽43。蒸氣供給管41a, 41b分別為一端開口部連接於收容罐39a, 39b且另一端開口部連接於混合槽43，將該等收容罐39a, 39b與混合槽43以可連通之方式連接。開關閥42a, 42b分別設於蒸氣供給管41a, 41b之各中途部。混合槽43具有配置於真空槽31外側之外部槽、及配置於真空槽31內部之內部槽。如圖5所示，於真空槽31之外部槽連接有蒸氣供給管41a, 41b。真空槽31之內部槽以與該外部槽連通之方式構成，於主輥34側之端部具有吹出口44。吹出口44於真空槽31之內部，以與主輥34之外周面對向之方式配置。
於此種蒸鍍聚合膜形成單元37中，由加熱器蒸氣化之2種以上之原料單體（圖5中為2種原料單體40a, 40b）分別自收容罐39a, 39b通過蒸氣供給管41a, 41b供給於混合槽43，自吹出口44吹送至帶狀基材1之表面1a。該等2種以上之原料單體於帶狀基材1之表面1a依序蒸鍍，於該表面1a進行該等2種以上之原料單體之聚合。藉此，由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜2一面追隨存在於帶狀基材1之表面1a之微小凹凸一面依序形成於該表面1a。其結果，如圖4所示，製成於帶狀基材1之表面1a形成有緩釋膜2之帶狀體15（狀態A1）。該帶狀體15於緩釋膜2之形成結束後，如圖5所示，自主輥34通過連結部32之內部搬送至殼體部33之內部。於殼體部33之內部設置有線上監視器45，搬送至殼體部33內之帶狀體15通過該線上監視器45之測定區域。此時，線上監視器45測定該帶狀體15之膜厚及膜質。其後，帶狀體15由捲取輥36捲取為卷狀，以捲為卷狀之狀態自殼體部33取出而搬送至下一步驟。
作為上述原料單體，例如可例舉：胺、異氰酸酯等。作為該胺，可例舉：三(2-胺基乙基)胺、二乙烯三胺、二丙烯三胺、雙六亞甲基三胺、1,6-二胺基己烷、1,12-二胺基十二烷、4,4-二苯基二胺基甲烷、1,4-二苯基苯、間苯二甲胺等。作為該異氰酸酯，可例舉：異佛爾酮二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸基甲基)環己烷、六亞甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷4,4'-二異氰酸酯、間苯二甲基二異氰酸酯、4,4'-亞甲基雙(異氰酸苯酯)等。
作為構成緩釋膜2之蒸鍍聚合膜，可例舉藉由胺與異氰酸酯之聚合反應而生成之聚脲樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚酯樹脂、聚甲亞胺樹脂或聚胺甲酸酯樹脂等蒸鍍聚合物之膜。又，由於上述蒸鍍聚合物中之聚脲樹脂及聚胺甲酸酯樹脂為利用複加成反應之聚合物，因此有不會生成副產物之特徵，因此適宜用作構成緩釋膜2之蒸鍍聚合膜。其中，由於聚脲樹脂之反應速度較快，因此可縮短蒸鍍聚合膜之形成後之硬化所需之搬送路徑長度或搬送時間，或者由於不需要促進該硬化之加熱器等裝置，因此於用作緩釋膜2之情形時最為合適。另外，可藉由在帶狀基材1之表面1a對藉由加熱而蒸氣化之1種原料單體進行蒸鍍，形成由蒸鍍膜構成之緩釋膜2。
於執行上述步驟S101之緩釋膜形成步驟後，如圖3所示，進行有效成分導入步驟（步驟S102）。該有效成分導入步驟係自基材1之厚度方向D1之兩端面中與形成有緩釋膜2之表面1a為相反側之背面1b（第2面）將汽化性有效成分11導入至基材1的步驟。於該有效成分導入步驟中，例如使用圖6所示之塗佈裝置50。如圖6所示，塗佈裝置50具備捲出部51、塗佈部52及捲取部53。
如圖6所示，捲出部51具備捲出輥54。於捲出輥54安裝有將帶狀體15捲為卷狀者。如圖6所示，塗佈部52具備塗佈室55。塗佈室55為具有供塗佈處理之對象物通過之入口及出口之箱型結構體。於塗佈室55之內部設置有收容有效成分11之收容罐（未圖示）、及用於將有效成分11導入至帶狀體15之基材1之分注器57。如圖6所示，捲取部53具備捲取輥58。捲取輥58將有效成分11已導入至基材1之狀態之帶狀體15捲取為卷狀。
又，安裝於捲出輥54之卷狀之帶狀體15通過塗佈室55之內部而捲繞於捲取輥58，藉由捲取輥58之旋轉驅動而捲取。即，帶狀體15以自捲出輥54經由塗佈室55之內部到達捲取輥58之所謂卷對卷方式進行搬送。
詳細而言，於步驟S102中，首先，上述步驟S101中捲取之卷狀之帶狀體15自捲出輥54捲出，沿朝向塗佈室55之方向（圖6中為箭頭β所示之方向）搬送。然後，帶狀體15搬入至塗佈室55之內部，通過分注器57之噴出區域搬出至塗佈室55之外部。此時，帶狀體15以基材1之背面1b朝向分注器57之噴出口側之方式搬送。分注器57於以此方式搬送之帶狀體15之基材1之背面1b依次塗佈既定量之有效成分11。此處，如圖4所示，於帶狀體15之基材1之表面1a已經形成有緩釋膜2。於該帶狀體15之基材1中，自與已經形成有緩釋膜2之表面1a為相反側之背面1b含浸以上述方式塗佈之有效成分11（狀態A2）。其結果，所需量之有效成分11導入至帶狀體15之基材1。結束以上述方式向基材1導入有效成分11後，帶狀體15由捲取輥58捲取為卷狀，自塗佈裝置50取出而搬送至下一步驟。
作為對基材1之有效成分11之導入方法，例如可例舉塗佈液狀有效成分11之濕式塗佈法等。作為有效成分11之濕式塗佈法，例如可例舉上述分注器法、噴墨法（噴墨、印刷法）、旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、流塗法、網版印刷法、縫模塗佈法、擦拭塗佈法、凹版輥法等。
於執行上述步驟S102之有效成分導入步驟後，如圖3所示，進行障壁層形成步驟（步驟S103）。該障壁層形成步驟係於形成有效成分11後之基材1之背面1b形成阻斷有效成分11之汽化氣體11a之障壁層3的步驟。於本實施形態中，作為障壁層形成步驟之一例，對並列進行對上述基材1之背面1b形成障壁層3、及對緩釋膜2之表面2a形成障壁層7的步驟進行說明。於該障壁層形成步驟中，例如使用圖7所示之貼附裝置60。如圖7所示，貼附裝置60具備捲出部61、貼附部62及捲取部63。
如圖7所示，捲出部61具備捲出輥64。於捲出輥64安裝有將上述有效成分導入步驟後之帶狀體15捲為卷狀者。如圖7所示，貼附部62具備一對壓接輥65a, 65b、2個障壁層輥66a, 66b及2個保護片捲取輥68a, 68b。壓接輥65a, 65b用於將障壁層用膜16a, 16b分別貼附於帶狀體15之基材1及緩釋膜2。具體而言，壓接輥65a, 65b之各外周面由彈性構件形成。如圖7所示，此種壓接輥65a, 65b以一面相互擠壓外周面一面旋轉驅動之方式構成。障壁層輥66a, 66b用於朝向壓接輥65a, 65b之間分別捲出障壁層用膜16a, 16b。保護片捲取輥68a, 68b用於自障壁層用膜16a, 16b捲取保護片。如圖7所示，捲取部63具備捲取輥67。捲取輥67用於將貼附有障壁層用膜16a, 16b之狀態之帶狀體15捲取為卷狀。
又，安裝於捲出輥64之卷狀之帶狀體15通過一對壓接輥65a, 65b之間而捲繞於捲取輥67，且藉由壓接輥65a, 65b及捲取輥67之旋轉驅動而捲取。即，該帶狀體15以自捲出輥64經由一對壓接輥65a, 65b之間到達捲取輥67之所謂卷對卷方式進行搬送。另外，如圖7所示，於貼附裝置60內之搬送路徑配置有多個張力輥69a～69c。
詳細而言，於步驟S103中，首先，上述步驟S102中捲取之卷狀之帶狀體15自捲出輥64捲出，沿朝向一對壓接輥65a, 65b之間之方向（圖7中為箭頭γ所示之方向）搬送。然後，帶狀體15一面被一對壓接輥65a, 65b夾住並擠壓，一面通過該等壓接輥65a, 65b之間。此時，於帶狀體15之厚度方向兩面（緩釋膜2之表面2a及基材1之背面1b）分別貼附有自障壁層輥66a捲出之障壁層用膜16a及自障壁層輥66b捲出之障壁層用膜16b。
於本實施形態中，障壁層用膜16a用於在緩釋膜2之表面2a形成障壁層7。圖8A係表示貼附於本發明之實施形態之緩釋體之緩釋膜面之障壁層用膜之一構成例的剖面示意圖。如圖8A所示，障壁層用膜16a為具有障壁層7與黏著層8與保護片9之積層結構之帶狀積層體。該障壁層用膜16a以捲為卷狀之狀態安裝於障壁層輥66a。此時，障壁層用膜16a以黏著層8與帶狀體15之緩釋膜2之表面2a對向之方式配置。如圖7所示，自障壁層輥66a捲出之障壁層用膜16a於貼附於帶狀體15之前，由保護片捲取輥68a僅捲取保護片9，其後，向壓接輥65a搬送。然後，已剝離保護片9之狀態之障壁層用膜16a藉由壓接輥65a, 65b之夾持，貼附於帶狀體15之緩釋膜2之表面2a。其結果，於緩釋膜2之表面2a經由黏著層8形成有障壁層7。
又，障壁層用膜16b用於在含有有效成分11之基材1之背面1b形成障壁層3。圖8B係表示貼附於本發明之實施形態之緩釋體之基材面之障壁層用膜之一構成例的剖面示意圖。如圖8B所示，障壁層用膜16b為具有保護片12與黏著層4與障壁層3與黏著層5與保護片6之積層結構之帶狀積層體。該障壁層用膜16b以捲為卷狀之狀態安裝於障壁層輥66b。此時，障壁層用膜16b以黏著層4與帶狀體15之基材1之背面1b對向之方式配置。如圖7所示，自障壁層輥66b捲出之障壁層用膜16b於貼附於帶狀體15之前，由保護片捲取輥68b僅捲取保護片12，其後，向壓接輥65b搬送。然後，已剝離保護片12之狀態之障壁層用膜16b藉由壓接輥65a, 65b之夾持，貼附於帶狀體15之基材1之背面1b。其結果，於基材1之背面1b，經由黏著層4形成有障壁層3與黏著層5與保護片6之積層體。
自捲出輥64捲出之帶狀體15成為如下狀態：於通過一對壓接輥65a, 65b之間時，障壁層用膜16a之黏著層8壓抵於緩釋膜2之表面2a，並且障壁層用膜16b之黏著層4壓抵於基材1之背面1b。因此，通過壓接輥65a, 65b之間後之帶狀體15具有障壁層7、黏著層8、緩釋膜2、含有有效成分11之基材1、黏著層4、障壁層3、黏著層5及保護片6於厚度方向上積層而得之積層結構。其後，帶狀體15由捲取輥67捲取為卷狀，以捲為卷狀之狀態自貼附裝置60取出而搬送至下一步驟。
另外，該等障壁層3, 7之貼附處理於一個障壁層形成步驟內，可按如上所述之方式並列進行，亦可為另一障壁層之貼附處理先於另一障壁層之貼附處理而進行。藉由此種步驟S103，如圖4所示，形成具有包含有效成分11之基材1、設於基材1之表面1a之緩釋膜2、設於基材1之背面1b之黏著層4、障壁層3、黏著層5及保護片6、與設於緩釋膜2之表面2a之黏著層8及障壁層7之積層結構的帶狀體15（狀態A3）。
於執行上述步驟S103之障壁層形成步驟後，如圖3所示，進行切斷步驟（步驟S104）。該切斷步驟係將上述帶狀體15切割為目標緩釋體10之步驟。
詳細而言，於步驟S104中，首先，執行上述障壁層形成步驟後之帶狀體15以捲為卷狀之狀態放置於切斷裝置。該切斷裝置一面自所放置之輥抽出帶狀體15並搬送，一面依序切斷該帶狀體15。此時，例如如圖4所示，自依序搬送之帶狀體15依序切下所需尺寸之緩釋體10（狀態A4）。按以上之方式，依序製造目標之緩釋體10。
如以上說明所示，於本發明之實施形態之緩釋體10中，於基材1之厚度方向D1之兩端面（表背兩面）中之表面1a形成有由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜2，緩釋膜2構成為自該基材1之表面1a接收基材1所含之汽化性有效成分11之汽化氣體11a而將其緩釋。
因此，可沿著基材1之表面1a之細微凹凸使緩釋膜2成為與基材1之表面1a直接密接之狀態，且維持該基材1與緩釋膜2之密接狀態，並且藉由緩釋膜2使自基材1汽化之有效成分11之汽化氣體11a向外部緩釋。藉此，有效成分11不會介置於基材1與緩釋膜2之密接界面，可使有效成分11之汽化氣體11a持續緩釋。因此，即使基材1中之有效成分11之含量隨著有效成分11之汽化氣體11a之緩釋而減少，亦可避免於基材1與緩釋膜2之密接界面產生非預期之間隙（基材面之氣體釋放口以外之間隙）之事態。其結果，可防止起因於該間隙之緩釋膜2之破損，因此不會自緩釋膜2之破損部分過度釋放有效成分11之汽化氣體11a，而可於目標之長時間內穩定地持續緩釋有效成分11之汽化氣體11a。
藉由使用如上所述之緩釋體10，可使有效成分11長時間作用於所需對象物，並且可防止自緩釋體10脫離之緩釋膜2之碎片、或自該緩釋膜2之破損部分釋放之過度之有效成分11之汽化氣體11a附著於上述對象物，而於上述對象物產生損壞之事態。例如，於使用防黴劑作為有效成分11，使自緩釋體10汽化之防黴劑作用於水果等食品之情形時，可防止起因於緩釋膜2之碎片或過度釋放之防黴劑之汽化氣體而於該食品產生損壞之事態。
又，作為使基材面（有效成分之釋放面）具有緩釋性功能之方法，除使蒸鍍聚合膜於基材面成膜以外，亦考慮於基材面貼附緩釋性膜、或於基材面塗佈緩釋性材料。但是，於使用利用除蒸鍍聚合以外之製法所得之緩釋性膜之情形時，該緩釋性膜與基材之密接性和蒸鍍聚合膜相比明顯較差，因此需要設法於該緩釋性膜與基材之間形成接著層，或者於基材面對緩釋性膜進行加熱密接等。其結果，產生有效成分之汽化能力降低等問題。又，於在基材面塗佈緩釋性材料之情形時，產生塗佈厚度之偏差，因此難以實現基材面之均勻之緩釋性。與此相對，於本發明中，將釋放有效成分之汽化氣體之基材之微小凹凸面與具有緩釋性之蒸鍍聚合膜進行組合，藉此可兼顧基材面與緩釋膜之密接性之提高及利用緩釋膜之緩釋性功能之提高，並且不易產生緩釋膜之裂痕。
又，於本發明之實施形態之緩釋體之製造方法中，進行於基材1之表面1a形成由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜2之緩釋膜形成步驟，其後，進行自基材1之背面1b（與形成緩釋膜2之表面1a為相反側之面）將汽化性有效成分11導入至基材1之有效成分導入步驟。其結果，可容易地製造享有上述作用效果之緩釋體10。
又，於緩釋膜形成步驟後進行有效成分導入步驟，將該等2個步驟分開，因此具有汽化性之有效成分不會進入真空腔室（真空槽）之內部，其結果，不會於真空狀態下產生有效成分之汽化，因此可防止製造緩釋體時之良率之降低。又，可防止汽化之有效成分污染真空腔室內之事態。
又，於本發明之實施形態之緩釋體10及其製造方法中，於與基材1之表面1a（形成有緩釋膜2之面）為相反側之背面1b形成有將有效成分11之汽化氣體11a阻斷之障壁層3。因此，可防止自基材1之背面1b、即與意圖釋放（緩釋）有效成分11之汽化氣體11a之表面1a為相反側之面，意外釋放有效成分11之汽化氣體11a之事態。藉此，可抑制有效成分11之汽化氣體11a自緩釋體10過度而無效地釋放，並且可經由緩釋膜2高效率地緩釋有效成分11之汽化氣體11a，其結果，可於目標之長時間內保持有效成分11之汽化氣體11a更加穩定之緩釋。 [實施例]
其次，基於實施例對本發明具體地進行說明。於實施例中，為了確認本發明之效果，進行以下所示之實驗。另外，本發明並不限定於下述實施例。
首先，於實施例中，藉由使用縱：10 cm×橫：10 cm×厚度：75 μm之尺寸之聚乙烯製膜，於該膜中添加碳酸鈣使其延伸而進行多孔質材化，採用所得者（多孔質材膜）作為基材。其次，使用2種原料單體，藉由公知之蒸鍍聚合法於上述多孔質材膜之厚度方向之兩端面中之第1面（表面）形成由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜。於實施例中，作為2種原料單體，使用二亞乙基三胺及1,3-雙(異氰酸基甲基)環己烷。於該情形時，構成實施例之緩釋膜之蒸鍍聚合膜為聚脲樹脂。其後，藉由分注器法將汽化性有效成分導入至上述多孔質材膜之厚度方向之兩端面中與第1面（表面）為相反側之第2面（背面）。於實施例中，使用檜木醇作為該有效成分。以上述方式製作實施例之試樣。
另一方面，於相對於本發明之比較例中，使用不易含浸有效成分之實心結構之聚乙烯製膜作為基材。另外，比較例中之基材之尺寸與上述實施例相同。其次，藉由分注器法於上述聚乙烯製膜之厚度方向之兩端面中之第1面塗佈汽化性有效成分，藉此於該第1面形成有效成分層。比較例中之有效成分與上述實施例相同。其後，使用2種原料單體，藉由公知之蒸鍍聚合法於上述有效成分層之表面上形成由蒸鍍聚合膜構成之緩釋膜。比較例中之2種原料單體及蒸鍍聚合膜與上述實施例相同。以上述方式製作比較例之試樣。
對於以上述方式準備之實施例及比較例之各試樣，進行放置於恆溫槽內之實驗，藉此對各試樣中之緩釋膜是否產生裂痕進行評價。於該實驗中，恆溫槽內之溫度條件設為20℃及30℃，恆溫槽內之壓力條件設為常壓。又，對於該等實施例及比較例之各試樣，於剛製作後、開始放置於恆溫槽內起48小時後、168小時後、1個月後及3個月後之各時間點，藉由多位作業者目視評價緩釋膜是否產生裂痕。作為該目視評價之基準，目標之裂痕尺寸設為2mm以上，對各試樣之緩釋膜中每1 cm 2之裂痕產生數進行計數。實施例及比較例之評價結果示於表1。於表1中，「○」意指緩釋膜無裂痕產生（裂痕產生數＝0），「×」意指緩釋膜有裂痕產生（裂痕產生數≧1）。
[表1]
   恆溫槽溫度 即刻 48小時後 168小時後 1個月後 3個月後
實施例 20℃ ○ ○ ○ ○ ○
   30℃ ○ ○ ○ ○ ○
比較例 20℃ ○ ○ ○ × ×
   30℃ ○ ○ × × ×
參照表1可知，於比較例之試樣中，於20℃之溫度條件下，於1個月後產生緩釋膜之裂痕，於30℃之溫度條件下，於168小時後產生緩釋膜之裂痕。與此相對，於實施例之試樣中，不論恆溫槽之溫度條件如何，即使自放置起經過3個月後，亦未產生緩釋膜之裂痕。根據該評價結果，確認根據本發明之緩釋體，可於長時間內保持汽化之有效成分之穩定之緩釋量。
另外，於上述實施形態中例示了使基材1含有液狀有效成分11之情形，但本發明並不限定於此。例如，亦可藉由嵌入基材1內部等操作而使其含有固體狀有效成分11，緩釋自該固體狀有效成分11昇華之汽化氣體11a。
又，於上述實施形態中，於基材1之背面1b設有阻斷有效成分11之汽化氣體11a之障壁層3，但本發明並不限定於此。例如，障壁層3不僅設於基材1之背面1b，亦可設於該基材1之側面1c。即，障壁層3可構成為覆蓋基材1之背面1b及側面1c（除形成有緩釋膜2之表面1a以外之剩餘基材面）。或者，不僅於基材1之表面1a，亦可於該基材1之側面1c設有緩釋膜2。即，緩釋膜2可構成為覆蓋基材1之表面1a及側面1c（除形成有障壁層3之背面1b以外之剩餘基材面）。藉此，亦可自基材1之表面1a及側面1c經由緩釋膜2緩釋有效成分11之汽化氣體11a。
又，於上述實施形態中，於1個步驟內（圖3所示之步驟S103之障壁層形成步驟內）形成基材1之背面1b之障壁層3及緩釋膜2之表面2a之障壁層7，但本發明並不限定於此。例如，該等障壁層3,7可分別於不同步驟中設於基材1或緩釋膜2。此時，可先進行於基材1之背面1b設置障壁層3之步驟，其後進行於緩釋膜2之表面2a設置障壁層7之步驟，亦可相反。
又，於上述實施形態中，例示了自障壁層3側將具有障壁層3及黏著層5等積層結構之積層體（例如障壁層用膜16b）經由黏著層4設於基材1之背面1b之情形，但本發明並不限定於此。例如，可相互分開構成障壁層3及附帶保護片6之黏著層5，於基材1之背面1b設置障壁層3，其後，於該障壁層3之背面上依序設置黏著層5及保護片6。
又，本發明並不受上述實施形態之緩釋體及其製造方法限定，將上述各構成要素及各製造步驟適當組合而構成者亦包含於本發明。例如，可藉由1個裝置進行步驟S102之有效成分導入步驟及步驟S103之障壁層形成步驟，可藉由1個裝置進行步驟S102之有效成分導入步驟、步驟S103之障壁層形成步驟及步驟S104之切斷步驟。另外，由本發明所屬技術領域中具通常知識者等基於上述實施形態而構成之其他實施形態、實施例及運用技術等全部包含於本發明之範疇。
1:基材 1a:表面 1b:背面 1c:側面 2:緩釋膜 2a:表面 2b:背面 3:障壁層 4、5:黏著層 6:保護片 7:障壁層 8:黏著層 9:保護片 10:緩釋體 11:有效成分 11a:汽化氣體 12:保護片 15:帶狀體 16a、16b:障壁層用膜 30:成膜裝置 31:真空槽 32:連結部 33:殼體部 34:主輥 35:捲出輥 36:捲取輥 37:蒸鍍聚合膜形成單元 38a～38h:張力輥 39a、39b:收容罐 40a、40b:原料單體 41a、41b:蒸氣供給管 42a、42b:開關閥 43:混合槽 44:吹出口 45:線上監視器 50:塗佈裝置 51:捲出部 52:塗佈部 53:捲取部 54:捲出輥 55:塗佈室 57:分注器 58:捲取輥 60:貼附裝置 61:捲出部 62:貼附部 63:捲取部 64:捲出輥 65a、65b:壓接輥 66a、66b:障壁層輥 67:捲取輥 68a、68b:保護片捲取輥 69a~69c:張力輥 100:習知之緩釋體 101:基材 102:緩釋膜 103:有效成分層 103a:汽化氣體 104:間隙 105:裂痕 D1:厚度方向 D2:寬度方向 α、β、γ:箭頭
[圖1]係表示本發明之實施形態之緩釋體之一構成例的剖面示意圖。 [圖2]係表示本發明之實施形態之緩釋體之使用時之一構成例的剖面示意圖。 [圖3]係表示本發明之實施形態之緩釋體之製造方法之一例的流程圖。 [圖4]係用於對本發明之實施形態之緩釋體之製造方法具體進行說明的示意圖。 [圖5]係表示用於形成本發明之實施形態之緩釋體之緩釋膜之成膜裝置之一例的示意圖。 [圖6]係表示用於將有效成分導入至本發明之實施形態之緩釋體之基材之塗佈裝置之一例的示意圖。 [圖7]係表示用於形成本發明之實施形態之緩釋體之障壁層之貼附裝置之一例的示意圖。 [圖8A]係表示貼附於本發明之實施形態之緩釋體之緩釋膜面之障壁層用膜之一構成例的剖面示意圖。 [圖8B]係表示貼附於本發明之實施形態之緩釋體之基材面之障壁層用膜之一構成例的剖面示意圖。 [圖9]係用於對習知之緩釋體之問題點進行說明之剖面示意圖。
1:基材
1a:表面
1b:背面
1c:側面
2:緩釋膜
2a:表面
2b:背面
3:障壁層
4、5:黏著層
6:保護片
7:障壁層
8:黏著層
10:緩釋體
11:有效成分
D1:厚度方向
D2:寬度方向

Claims (9)

  1. 一種緩釋體，其特徵在於具備：基材；及蒸鍍聚合膜，其直接形成於上述基材之厚度方向之兩端面中之第1面；上述基材具有含有汽化性有效成分且釋放上述有效成分之汽化氣體之結構，上述蒸鍍聚合膜自上述基材之上述第1面接收上述有效成分之汽化氣體並將其緩釋，上述蒸鍍聚合膜是在上述有效成分導入上述基材之前，形成於上述第1面。
  2. 如請求項1之緩釋體，其具備：障壁層，其形成於上述基材之厚度方向之兩端面中與上述第1面為相反側之第2面，自上述基材之上述第2面側阻斷上述有效成分之汽化氣體。
  3. 如請求項1或2之緩釋體，其中上述基材由多孔質材構成。
  4. 如請求項3之緩釋體，其中上述多孔質材具有連續氣泡之結構。
  5. 如請求項1或2之緩釋體，其中上述基材由具有非結晶性部分之聚合物構成。
  6. 如請求項1或2之緩釋體，其中上述蒸鍍聚合膜之透氣性低於上述基材。
  7. 如請求項1或2之緩釋體，其中上述蒸鍍聚合膜之厚度為1μm以上900μm以下之範圍內。
  8. 一種緩釋體之製造方法，其特徵在於包括：緩釋膜形成步驟，其於基材之厚度方向之兩端面中之第1面形成由蒸鍍聚合 膜構成之緩釋膜；及有效成分導入步驟，其自上述基材之厚度方向之兩端面中與形成有上述緩釋膜之上述第1面為相反側之第2面，將汽化性有效成分導入至上述基材。
  9. 如請求項8之緩釋體之製造方法，其包括：障壁層形成步驟，其於導入上述有效成分後之上述基材之上述第2面，形成阻斷上述有效成分之汽化氣體之障壁層。
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