TWI797487B - 等離子體處理腔室內部部件及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露了一種等離子體處理腔室內部部件及其製造方法，該製造方法包括如下步驟：提供含鋁基底並在該含鋁基底表面沿含鋁基底厚度方向依序形成陽極氧化層、熱塑性高分子塗層，在塗覆熱塑性高分子塗層後對該部件進行加熱處理，使得熱塑性高分子塗層填充該陽極氧化層中的裂紋；完成加熱處理後在熱塑性高分子塗層上方再塗覆一層第一耐等離子腐蝕塗層，該第一耐等離子腐蝕塗層包括氧化釔。本發明等離子體處理腔室內部部件的製造過程中所採用的熱塑性高分子塗層封孔方法不受零件形狀和結構限制，製程簡單，易實施，成本低。採用本發明的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。

Description

等離子體處理腔室內部部件及其製造方法
本發明涉及等離子體處理腔室內抗等離子體和化學腐蝕領域，具體關於一種等離子體處理腔室內部部件及其製造方法。
鋁材因其具有良好的傳導特性、易於製造以及可以以合理的價格得到的特點，因而廣泛用作等離子體處理裝置中相關零件的製造材料。然而，鋁材本身易於和氯氣等腐蝕氣體反應，引起零件自身的腐蝕，並成為反應腔體顆粒污染物源。
為了避免腐蝕性氣體對鋁材的腐蝕，現今通常採用在鋁材表面做陽極氧化層的保護方法，以嘗試解決氯氣等腐蝕性氣體對鋁材的腐蝕問題。鋁陽極氧化是典型的電解氧化過程，即以鋁材為陽極，置於電解質溶液中進行通電處理，利用電解作用使其表面形成多孔的陽極氧化鋁塗層的過程。
此外，等離子體處理裝置中的某些經由陽極氧化處理的鋁材加工而成的關鍵零件會暴露於等離子體中，並受到等離子中的反應組分的轟擊，會對被轟擊的上述關鍵零件造成侵蝕損傷，不僅會降低等離子體處理裝置的壽命，還會使等離子體處理裝置的處理品質、穩定性和可控性變差。為了對等離子體處理裝置內部的關鍵零件進行保護，先前技術會在上述關鍵零件的陽極氧化層表面再形成一層抗等離子體侵蝕保護層。例如，氣體噴淋頭的安裝基板是經由氧化處理的鋁材加工而成，由於氣體噴淋頭的安裝基板與氣體噴淋頭背面 相接觸的表面會遭受等離子體侵蝕，現今通常在氣體噴淋頭的安裝基板的表面設置氧化釔(Y2O3)塗層以嘗試解決上述等離子體侵蝕問題。
但在實際應用過程中，發現上述處理後的氣體噴淋頭的安裝基板仍然存在被氯氣等腐蝕氣體腐蝕的問題。原因在於：陽極氧化層在生產過程中不可避免的會出現裂紋和孔隙，特別用在帶一定溫度區域，陽極氧化層會出現裂紋擴散以及產生新的裂紋。
同時由於氧化釔塗層自身含有一定的孔隙和裂紋，氯氣等會沿著氧化釔孔隙和裂紋滲入陽極氧化層，而陽極氧化層也含有裂紋，這樣氯氣會最終腐蝕鋁材基底。保護性陽極氧化層的失效會導致反應腔體內產生過多的顆粒，從而需要額外的停機時間以替換失效的鋁部件和清洗反應腔體內的顆粒。
本發明的目的是提供一種等離子體處理腔室內部部件及其製造方法，實現抗等離子體侵蝕，並提高抗氯氣等腐蝕氣體造成的化學腐蝕的性能。
為達到上述目的，本發明提供了一種等離子體處理腔室內部部件的製造方法，包括如下步驟：提供含鋁基底並在該含鋁基底表面沿含鋁基底厚度方向依序形成基礎層、熱塑性高分子塗層，在塗覆熱塑性高分子塗層後對該部件進行加熱處理，使得熱塑性高分子塗層填充該基礎層中的裂紋；完成加熱處理後，先將該基礎層上表面的該熱塑性高分子塗層去除，再在該基礎層上表面塗覆一層第一耐等離子腐蝕塗層，該第一耐等離子腐蝕塗層包括氧化釔，該基礎層為一陽極氧化層。
較佳地，該熱塑性高分子塗層去除的方法為物理研磨。
較佳地，加熱溫度為50℃至180℃。
較佳地，所塗覆的熱塑性高分子塗層為熱塑性丙烯酸樹脂塗層。
本發明還提供一種等離子體處理腔室內部部件的製造方法，包括如下步驟：提供一含鋁基底並在該含鋁基底表面沿一含鋁基底厚度方向依序形成一陽極氧化層、一基礎層、一熱塑性高分子塗層，在塗覆該熱塑性高分子塗層後對該部件進行一加熱處理，使得該熱塑性高分子塗層填充該基礎層中的至少一裂紋；以及完成該加熱處理後，先將該基礎層上表面的該熱塑性高分子塗層去除，再在該基礎層上表面塗覆一第一耐等離子腐蝕塗層；該第一耐等離子腐蝕塗層、基礎層包括氧化釔。
本發明還提供了一種等離子體處理腔室內部部件，其包括：含鋁基底；沿含鋁基底厚度方向依序設置的陽極氧化層和第一耐等離子腐蝕塗層；熱塑性高分子封孔結構，填充在該陽極氧化層形成的微裂紋內。
較佳地，該陽極氧化層和該第一耐等離子腐蝕塗層之間還設置有熱塑性高分子塗層。
本發明還提供了一種等離子體處理腔室內部部件，其包括：含鋁基底；沿含鋁基底厚度方向依序設置的陽極氧化層、第二耐等離子腐蝕塗層和第一耐等離子腐蝕塗層；熱塑性高分子封孔結構，填充在該第二耐等離子腐蝕塗層形成的微裂紋內。
較佳地，該第二耐等離子腐蝕塗層和該第一耐等離子腐蝕塗層之間還設置有熱塑性高分子塗層。
相對於先前技術，本發明至少具有以下有益的功效： 本發明藉由將熱塑性高分子塗層塗覆在陽極氧化層或耐等離子腐蝕塗層表面，在加熱的作用下，利用熱塑性高分子塗層自身的特性，高分子由玻璃態轉變為高彈態，實現對陽極氧化層或耐等離子腐蝕塗層裂紋和縫隙的動態填充，自我修復。本發明依靠耐等離子腐蝕塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能的要求，另依靠高分子封孔方法封住了陽極氧化層或者耐等離子腐蝕塗層的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入其內，提高了等離子體處理腔室內部部件的抗氯氣等腐蝕氣體腐蝕性能。
本發明等離子體處理腔室內部部件的製造過程中所採用的熱塑性高分子塗層封孔方法不受零件形狀和結構限制，製程簡單，易實施，成本低。本發明中的熱塑性高分子塗層在50-160℃高溫的加工狀況中，不僅可以實現耐等離子腐蝕塗層或者陽極氧化層裂紋的動態封孔，而且可以實現熱塑性高分子塗層在裂紋區域的自我修復，在使用過程中徹底阻擋了氯氣等腐蝕氣體的滲入。採用本發明的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
1:含鋁基底
2:陽極氧化層
3:熱塑性高分子塗層
4:第一氧化釔塗層
5:第二氧化釔塗層
為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的圖式作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的圖式僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域之通常知識者來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些圖式獲得其他的圖式。
圖1為本發明等離子體處理腔室內部部件的製造方法第一實施例的流程示意圖； 圖2為本發明等離子體處理腔室內部部件的製造方法第二實施例的流程示意圖；圖3為本發明熱塑性高分子塗層實現陽極氧化層裂紋和縫隙動態填充的示意圖；圖4為本發明等離子體處理腔室內部部件的製造方法第三實施例的流程示意圖；圖5為本發明等離子體處理腔室內部部件的製造方法第四實施例的流程示意圖。
以下結合圖式透過具體實施例對本發明作進一步的描述，這些實施例僅用於說明本發明，並不是對本發明保護範圍的限制。
針對現有等離子體處理腔室中暴露於鹵系腐蝕氣體或其等離子體的部件無法同時滿足抗腐蝕氣體化學腐蝕以及抗等離子體腐蝕的問題，如圖1所示，本發明所提供的等離子體處理腔室內部部件的製造方法的一較佳實施例包括如下步驟：
步驟S11：提供含鋁基底1並在該含鋁基底1表面設置陽極氧化層2。
含鋁基底1在等離子體處理裝置中部件的製造中通常為鋁或鋁合金材料。為了減少腐蝕性氣體對含鋁基底1的腐蝕，本實施例選擇在該含鋁基底1表面先設置一層陽極氧化層2。在設置陽極氧化層2之前還需要根據含鋁基底1的表面情況選擇合適的預處理步驟，以獲得足夠光潔、無劃痕和其他缺陷的含鋁基底1。在一些較佳的實施例中，處理步驟可以主要包括兩個步驟：(1)對含鋁 基底1的表面進行鹼蝕，以清洗表面的雜質；(2)對鹼蝕後的含鋁基底1的表面進行化學拋光，以消除表面的劃痕和其他缺陷。
經過上述預處理所獲得的足夠光潔、無劃痕和其他缺陷的含鋁基底1即可進行下一步的陽極氧化處理，以在含鋁基底1表面形成均勻的陽極氧化層2。一般將含鋁基底1作為陽極，浸泡於電解液中進行陽極氧化處理。電解液一般是採用低溫硫酸或添加草酸的混酸法，通入直流電或脈衝電流。
步驟S12：在該陽極氧化層2表面塗覆熱塑性高分子塗層3，然後進行加熱處理。
這裡加熱處理的溫度依據陽極氧化層2結構的實際工作環境而設定或設計。通常，加熱處理的溫度可等於或略大於陽極氧化層2結構的實際工作環境溫度。在本發明的實施例中，選擇50-180℃作為加熱處理的溫度選擇範圍。
本發明要求高分子塗層具有熱塑性，因為在50-180℃的高溫工作環境中，陽極氧化層2會充分產生新的裂紋，高分子塗層具有熱塑性才可以在這種高溫環境中進入陽極氧化層2的裂縫，從而實現封住裂縫以避免氯氣等腐蝕性氣體滲入的目的，實現對陽極氧化層2裂紋和縫隙的動態填充；另外高分子塗層如果局部有損傷，如刮擦，在這種高溫環境中高分子塗層由玻璃態轉變為高彈態，從而還能實現自動修復自身的目的。
塗覆熱塑性高分子塗層3時，原料為溶液狀態，不受零件形狀和結構限制，尤其是氣孔(>Φ2mm)內壁。例如對於製造氣體噴淋頭的安裝基板時，可以直接灌入安裝基板氣孔內，然後倒掉溶液，黏附在氣孔內壁的溶液最後經過50-180℃高溫固化成型。作為更佳的實施例，熱塑性高分子塗層3的原料可以 選擇為熱塑性丙烯酸樹脂。熱塑性丙烯酸樹脂由丙烯酸、甲基丙烯酸及其衍生物(如酯類、腈類、醯胺類)聚合製成的一類熱塑性樹脂。
步驟S13：在熱塑性高分子塗層3表面設置第一氧化釔塗層4。
為了對經步驟2處理後已獲得抗氯氣等腐蝕氣體腐蝕功能的部件能夠進一步實現抗等離子體腐蝕，本實施例進一步在熱塑性高分子塗層3表面設置第一氧化釔塗層4。本實施例藉由在熱塑性高分子塗層3上繼續塗覆上述第一氧化釔塗層4，可以提高金屬部件的抗等離子體腐蝕性能，從而提高了金屬部件的使用壽命，進而提升了等離子體加工設備的加工效率。
形成氧化釔塗層具體可以透過以下製程方法中的一種或幾種，該製程方法包括等離子體增強物理氣相沉積(PEPVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、等離子體噴塗(plasma spray，PS)或溶膠-凝膠法(sol-gel)等。其中，為了減少新設置塗層的孔隙率，較佳採用等離子體噴塗方法。在實際應用中，噴塗製程可以根據具體情況選擇合適的噴塗設備，並根據所採用的噴塗設備設定氣流量、噴塗距離以及電流等製程參數。其中第一氧化釔塗層4也可以是其它耐等離子腐蝕的塗層，比如氧化釔與氟化釔(YF3)的混合物，只要是能耐受等離子腐蝕的陶瓷材料均可以應用於本發明。
經過本實施例步驟S11-13所製造的等離子體處理腔室內部部件的具體結構包括：含鋁基底1；陽極氧化層2，覆蓋在該含鋁基底1表面；熱塑性高分子封孔結構，填充在該陽極氧化層2形成的微裂紋內；熱塑性高分子塗層3，覆蓋在該陽極氧化層2表面；第一氧化釔塗層4，覆蓋在該熱塑性高分子塗層3表面。本實施例所製造的等離子體處理腔室內部部件具體可以為氣體噴淋頭、氣 體噴淋頭的安裝基板、氣體分配板、等離子體限制環、聚焦環、靜電夾盤或等離子體處理裝置反應腔室的內壁。本實施例依靠氧化釔塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能，又同時依靠高分子封孔方法封住了陽極氧化層2的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入對含鋁基底1所造成的化學腐蝕。本實施例所提供的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
如圖2所示，在另一較佳的實施例中，所提供的等離子體處理腔室內部部件的製造方法包括如下步驟：
步驟S21：提供含鋁基底1並在該含鋁基底1表面設置陽極氧化層2。
步驟S22：在該陽極氧化層2表面塗覆熱塑性高分子塗層3，然後進行加熱處理。
步驟S23：加熱處理後，將陽極氧化層2表面的熱塑性高分子塗層3去除。
步驟S24：在陽極氧化層2表面設置第一氧化釔塗層4。
經過本實施例步驟S21-24所製造的等離子體處理腔室內部部件的具體結構包括：含鋁基底1；陽極氧化層2，覆蓋在該含鋁基底1表面；熱塑性高分子封孔結構，填充在該陽極氧化層2形成的微裂紋內；第一氧化釔塗層4，覆蓋在該陽極氧化層2表面。
本實施例和第一個實施例的區別在於：在設置第一氧化釔塗層4前，先將加熱處理後的熱塑性高分子塗層3去除。對於一些對表面鍍層厚度有嚴格要求的金屬部件，可以藉由對熱塑性高分子塗層3的去除，來控制金屬部件表面的鍍層厚度。塗層去除的方法較佳物理研磨的方法，以實現去除熱塑性高分 子塗層3後的陽極氧化層2表面無劃痕和其他缺陷，進而利於第一氧化釔塗層4的塗覆效果。
由於在本實施例步驟2中，熱塑性高分子塗層3形成後的金屬部件進一步進行了加熱處理，使得陽極氧化層2的微裂紋充分地、預先地形成。而熱塑性高分子塗層3則由玻璃態轉變為高彈態，實現對陽極氧化層2裂紋和縫隙的動態填充。這樣，儘管陽極氧化層表面上的熱塑性高分子塗層3被去除，但是填充入微裂紋的熱塑性高分子材料層仍然保留在陽極氧化層內部。在後續實際的高溫工作環境中，陽極氧化層2內幾乎不會再有或僅有極少的新的微裂紋形成，僅會造成極輕微、幾乎可忽略的腐蝕，即使有新的裂紋產生，原有裂紋中填充的熱塑性高分子仍然能夠在高溫下流動過去覆蓋新的裂紋，從而保證整個部件在很長的生命週期中不會出現裂紋，防止腐蝕性氣體沿裂紋到達鋁材料層對零部件形成腐蝕。由於對陽極氧化層表面的熱塑性高分子層進行了去除，直接暴露於等離子體的耐等離子腐蝕塗層(如第一氧化釔塗層)直接塗覆在下方的陽極氧化層(Al2O3)上，兩者熱膨脹係數接近，提高兩種材料互相結合的強度，防止進一步開裂脫落。
如圖3所示，圖中第一列圖為塗覆陽極氧化層2後的掃描電子顯微鏡照片，第二列圖為塗覆熱塑性高分子塗層3後的掃描電子顯微鏡照片，第三列圖為熱塑性高分子塗層3去除後的掃描電子顯微鏡照片，每列圖中的上下兩幅圖分別為低倍率和高倍率掃描電子顯微鏡照片。由圖3可以看出，熱塑性高分子塗層3實現了對陽極氧化層2裂紋和縫隙的動態填充，從而避免了氯氣等腐蝕性氣體的滲入。
本實施例依靠氧化釔塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能，又同時依靠高分子封孔方法封住了陽極氧化層2的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入對含鋁基底1所造成的化學腐蝕。本實施例所提供的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
如圖4所示，在另一較佳的實施例中，所提供的等離子體處理腔室內部部件的製造方法包括如下步驟：
步驟S41：提供含鋁基底1並在該含鋁基底1表面設置陽極氧化層2。
步驟S42：在該陽極氧化層2表面設置第二氧化釔塗層5。
步驟S43：在該第二氧化釔塗層5表面塗覆熱塑性高分子塗層3，然後進行加熱處理。
步驟S44：在熱塑性高分子塗層3表面設置第一氧化釔塗層4。
經過本實施例步驟S41-44所製造的等離子體處理腔室內部部件的具體結構包括：含鋁基底1；陽極氧化層2，覆蓋在該含鋁基底1表面；第二氧化釔塗層5，覆蓋在該陽極氧化層2表面；熱塑性高分子封孔結構，填充在該第二氧化釔塗層5形成的微裂紋內；熱塑性高分子塗層3，覆蓋在該第二氧化釔塗層5表面；第一氧化釔塗層4，覆蓋在該熱塑性高分子塗層3表面。
本實施例和第一個實施例的區別在於：在塗覆熱塑性高分子塗層3前，先在陽極氧化層2表面設置第二氧化釔塗層5。其中第二氧化釔塗層5也可以是其它耐等離子腐蝕的塗層，比如氧化釔與氟化釔(YF3)的混合物，只要是能耐受等離子腐蝕的陶瓷材料均可以應用於本發明。本實施例可以適用於目前已經在陽極氧化層2表面塗覆有氧化釔塗層的鋁材的抗腐蝕處理。藉由加熱處理使 得第二氧化釔塗層5微裂紋充分地、預先地形成，再藉由熱塑性高分子塗層3由玻璃態轉變為高彈態，實現對第二氧化釔塗層5裂紋和縫隙的動態填充，從而避免了氯氣等腐蝕性氣體對第二氧化釔塗層5的滲入，實現金屬部件的抗化學腐蝕。在此基礎上，在熱塑性高分子塗層3表面再藉由等離子體噴塗等方式形成第一氧化釔塗層4，實現金屬部件的抗等離子體腐蝕。本實施例展示了熱塑性高分子塗層3在高溫處理的過程中不僅可以對陽極氧化層2裂紋和縫隙的動態填充，也可以對氧化釔塗層裂紋和縫隙的動態填充，為各種等離子體處理腔室內部部件的製造和改造提供了不同的處理方式，以達到更廣泛的適用範圍。
本實施例依靠氧化釔塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能，又同時依靠高分子封孔方法封住了第二氧化釔塗層5的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入對含鋁基底1所造成的化學腐蝕。本實施例所提供的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
如圖5所示，在另一較佳的實施例中，所提供的等離子體處理腔室內部部件的製造方法包括如下步驟：
步驟S51：提供含鋁基底1並在該含鋁基底1表面設置陽極氧化層2。
步驟S52：在該陽極氧化層2表面設置第二氧化釔塗層5。
步驟S53：在該第二氧化釔塗層5表面塗覆熱塑性高分子塗層3，然後進行加熱處理。
步驟S54：加熱處理後，將第二氧化釔塗層5表面的熱塑性高分子塗層3去除。
步驟S55：在第二氧化釔塗層5表面設置第一氧化釔塗層4。
經過本實施例步驟S51-55所製造的等離子體處理腔室內部部件的具體結構包括：含鋁基底1；陽極氧化層2，覆蓋在該含鋁基底1表面；第二氧化釔塗層5，覆蓋在該陽極氧化層2表面；熱塑性高分子封孔結構，填充在該第二氧化釔塗層5形成的微裂紋內；第一氧化釔塗層4，覆蓋在該第二氧化釔塗層5表面。
本實施例和第三個實施例的區別在於：在設置第一氧化釔塗層4前，先將加熱處理後的熱塑性高分子塗層3去除。
對於一些對表面鍍層厚度有嚴格要求的金屬部件，可以透過對熱塑性高分子塗層3的去除，來控制金屬部件表面的鍍層厚度。塗層去除的方法較佳物理研磨的方法，以實現去除熱塑性高分子塗層3後的第二氧化釔塗層5表面無劃痕和其他缺陷，進而利於第一氧化釔塗層4的塗覆效果。
由於在本實施例步驟S52中，熱塑性高分子塗層3形成後的金屬部件進一步進行了加熱處理，使得第二氧化釔塗層5的微裂紋充分地、預先地形成。而熱塑性高分子塗層3則由玻璃態轉變為高彈態，實現對第二氧化釔塗層5裂紋和縫隙的動態填充。這樣，儘管熱塑性高分子塗層3被去除，但在後續實際的高溫工作環境中，第二氧化釔塗層5內幾乎不會再有或僅有極少的新的微裂紋形成，僅會造成極輕微、幾乎可忽略的腐蝕。
本實施例依靠氧化釔塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能，又同時依靠高分子封孔方法封住了第二氧化釔塗層5的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入對含鋁基底1所造成的化學腐蝕。本實施例所提供的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
綜上所述，本發明藉由將熱塑性高分子塗層塗覆在陽極氧化層或氧化釔塗層表面，在加熱的作用下，利用熱塑性高分子塗層自身的特性，高分子由玻璃態轉變為高彈態，實現對陽極氧化層或氧化釔塗層裂紋和縫隙的動態填充，自我修復。本發明依靠氧化釔塗層滿足了抗等離子體侵蝕性能，藉由高分子封孔方法封住了氧化釔塗層或者陽極氧化層的孔隙與裂紋，避免了氯氣滲入其內，提高了等離子體處理腔室內部部件的抗氯氣等腐蝕氣體腐蝕性能。
本發明等離子體處理腔室內部部件的製造過程中所採用的熱塑性高分子塗層封孔方法不受零件形狀和結構限制，製程簡單，易實施，成本低。本發明中的熱塑性高分子塗層在50-160℃高溫的加工狀況中，不僅可以實現氧化釔塗層或者陽極氧化層裂紋的動態封孔，而且可以實現熱塑性高分子塗層在裂紋區域的自我修復，在使用過程中徹底阻擋了氯氣等腐蝕氣體的滲入。本發明的等離子體處理腔室內部部件不僅實現了抗等離子體侵蝕，也提高了抗氯氣腐蝕性能。
儘管本發明的內容已經藉由上述較佳實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本發明的限制。在本領域技術人員閱讀了上述內容後，對於本發明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發明的保護範圍應由所附的申請專利範圍來限定。此外，不應將申請專利範圍中的任何圖式標記視為限制所涉及的專利範圍；「包括」一詞不排除其它申請專利範圍或說明書中未列出的裝置或步驟；「第一」、「第二」等詞語僅用來表示名稱，而並不表示任何特定的順序。
以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，並不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明的保護範圍之內。
本案所揭示者，乃較佳實施例，舉凡局部之變更或修飾而源於本案之技術思想而為熟習該項技藝之人所易於推知者，俱不脫本案之專利權範疇。
綜上所陳，本案無論就目的、手段與功效，在在顯示其迥異於習知之技術特徵，且其首先發明合於實用，亦在在符合發明之專利要件，懇請 貴審查委員明察，並祈早日賜予專利，俾嘉惠社會，實感德便。
1:含鋁基底
2:陽極氧化層
3:熱塑性高分子塗層
4:第一氧化釔塗層

Claims (9)

  1. 一種等離子體處理腔室內部部件的製造方法，其包括：提供一含鋁基底並在該含鋁基底表面沿一含鋁基底厚度方向依序形成一基礎層、一熱塑性高分子塗層，在塗覆該熱塑性高分子塗層後對該部件進行一加熱處理，使得該熱塑性高分子塗層填充該基礎層中的至少一裂紋；以及完成該加熱處理後，先將該基礎層上表面的該熱塑性高分子塗層去除，再在該基礎層上表面塗覆一第一耐等離子腐蝕塗層，該第一耐等離子腐蝕塗層包括氧化釔，該基礎層為一陽極氧化層。
  2. 如請求項1所述的等離子體處理腔室內部部件的製造方法，其中，該熱塑性高分子塗層去除的方法為物理研磨。
  3. 如請求項1所述的等離子體處理腔室內部部件的製造方法，其中，該加熱處理的加熱溫度為50℃至180℃。
  4. 如請求項1所述的等離子體處理腔室內部部件的製造方法，其中，所塗覆的該熱塑性高分子塗層為熱塑性丙烯酸樹脂塗層。
  5. 一種等離子體處理腔室內部部件的製造方法，其包括下列步驟：提供一含鋁基底並在該含鋁基底表面沿含該鋁基底厚度方向依序形成一陽極氧化層、一基礎層、一熱塑性高分子塗層，在塗覆該熱塑性高分子塗層後對該部件進行一加熱處理，使得該熱塑性高分子塗層填充該基礎層中的至少一裂紋；以及完成該加熱處理後，先將該基礎層上表面的該熱塑性高分子塗層去除，再在該基礎層上表面塗覆一第一耐等離子腐蝕塗層；該第一耐等離子腐蝕塗層、基礎層包括氧化釔。
  6. 一種等離子體處理腔室內部部件，其包括： 一含鋁基底；沿一含鋁基底厚度方向依序設置的一陽極氧化層和一第一耐等離子腐蝕塗層；以及一熱塑性高分子封孔結構，填充在該陽極氧化層形成的至少一微裂紋內。
  7. 如請求項6所述的等離子體處理腔室內部部件，其中，該陽極氧化層和該第一耐等離子腐蝕塗層之間還設置有一熱塑性高分子塗層。
  8. 一種等離子體處理腔室內部部件，其包括：一含鋁基底；沿一含鋁基底厚度方向依序設置的一陽極氧化層、一第二耐等離子腐蝕塗層和一第一耐等離子腐蝕塗層；以及一熱塑性高分子封孔結構，填充在該第二耐等離子腐蝕塗層形成的至少一微裂紋內。
  9. 如請求項8所述的等離子體處理腔室內部部件，其中，該第二耐等離子腐蝕塗層和該第一耐等離子腐蝕塗層之間還設置有一熱塑性高分子塗層。
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