TWI794964B

TWI794964B - 極紫外光設備（ｅｕｖ）之高精密度承載基座及其實施方法

Info

Publication number: TWI794964B
Application number: TW110133643A
Authority: TW
Inventors: 何成偉
Original assignee: 協崑股份有限公司
Priority date: 2021-09-09
Filing date: 2021-09-09
Publication date: 2023-03-01
Also published as: TW202311874A

Abstract

一種極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法，本發明可供以承載一極紫外光設備(EUV)之機台，將基座對位於一設置位置後，其主要係透過至少一調整螺絲、及至少一固定螺絲完成水平調整及固定，其中，使用者可經由調整各調整螺絲使基座整體達到水平狀態，再進一步將各固定螺絲分別固設於地面的數個樁孔，使基座可受到固定螺絲的水平向限位及垂直向限位，據此，當極紫外光設備(EUV)之機台組裝於基座後，可使極紫外光設備(EUV)之機台保持在高平整度的環境下進行生產。

Description

極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法

本發明極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法涉及一種供承載例如極紫外光設備(Extreme ultraviolet lithography,EUV)類型的高精密度製造機台的基座，其中，基座設置時係可透過至少一調整螺絲調整水平狀態，並將至少一固定螺絲分別卡固於地面的數個樁孔，使基座可受各固定螺絲的水平向限位及垂直向限位，藉此使完成設置的基座具有高平整度。

高科技產業對於生產機台的環境需求較為嚴格，尤其晶圓廠、半導體廠及光電廠等，皆為高精密度的生產設備，對於機台設置地點平整度具有極高的要求，如：極紫外光設備(Extreme ultraviolet lithography,EUV)，若設置的地面有隆起的情況時，可能會造成機台略為傾斜，進而造成機台生產的品質下降；現有的解決辦法係將機台架設在一基座上方，由於設置基座時已調整過水平狀態，當基座承載機台時仍可維持一致的水平狀態，然而，現有的基座並未直接固定於地面，機台在運作時，機台本身可能會產生震動，長期下來，基座可能會受到機台震動影響而產生偏移，使得基座不再水平狀態，間接影響機台的運行，據此，如何維持極紫外光設備(EUV)之機台的整體高平整度，乃為待需解決之問題。

有鑑於上述的問題，本發明人係依據多年來從事相關行業的經驗，針對光通訊裝置及光通訊方法進行研究及改進；緣此，本發明之主要目的在於提供一種可維持生產機台之高平整度要求的極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法。

為達上述的目的，本發明之極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法，其主要成型有一基座，所述的基座係可供承載一高精密度要求的製造機台，例如極紫外光設備(EUV)，使機台可維持在高平整度；其中，基座係成型有數個水平調整部、數個固定部及至少一灌漿孔，所述的水平調整部係分別設置有一調整螺絲，各調整螺絲係可經由螺合，旋出於基座底部並頂撐於地面，透過對各螺合調整螺絲調整露出高度，調整基座整體的水平狀態，藉此以滿足基座高平整度之需求，再者，所述的固定部係設置有一固定螺絲，各固定螺絲係分別伸入地面的數個樁孔，使基座可受到各固定螺絲水平向限位，當固定螺絲受到螺合後，固定螺絲會進一步卡固於樁孔，使基座受到各固定螺絲垂直向限位，最後再於灌漿孔將一保護層灌注於基座與地面間的一空隙，並固化成型於該空隙，所述的保護層可包覆住調整螺絲及固定螺絲，避免螺絲因外力造成鬆動，並且可大幅提高基座整體剛性；據此，當機台組裝於基座後，基座仍可滿足基台高平整度與精準定位的要求，並且透過固定螺絲的水平向、垂直向限位作用下，機台運作中所產生的震動，亦無法造成基座的偏移，進而維持基座一致的水平狀態。

為使貴審查委員得以清楚了解本發明之目的、技術特徵及其實施後之功效，茲以下列說明搭配圖示進行說明，敬請參閱。

10:極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座

101:基座

102:水平調整部

1021:調整螺絲

103:固定部

104:灌漿孔

1031:固定螺絲

1032:擴張端

105:吊掛部

106:保護層

106’:另一保護層

107:組裝孔

108:組裝板

20:吊掛器具

201:掛勾件

30:機台

E:灌注物

G:地面

G1:樁孔

S1:基座製造方法

S11:設置板模步驟

S12:設置預鑄模組步驟

S13:設置鋼筋步驟

S14:灌注水泥漿步驟

S15:拆卸板模步驟

S2:極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座的實施方法

S21:基座設置步驟

S22:調整基座水平步驟

S23:固定基座步驟

S24:填充基座底部空隙步驟

S25:基座表面塗佈步驟

圖1，為本發明之組成示意圖。

圖2，為本發明之製造流程圖。

圖3，為本發明之基座設置流程圖。

圖4，為本發明之實施示意圖(一)。

圖5，為本發明之實施示意圖(二)。

圖6，為本發明之實施示意圖(三)。

圖7，為本發明之實施示意圖(四)。

圖8，為本發明之實施示意圖(五)。

圖9，為本發明之另一實施例。

圖10，為本發明之實施示意圖(六)。

請參閱「圖1」，圖中所示為本發明之組成示意圖，如圖，本發明極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座10提出一種具高平整度的基座，其主要成型有一基座101可供以承載一機台，例如極紫外光設備(EUV)之機台；所述的基座101成型有數個水平調整部102、數個固定部103及至少一灌漿孔104；所述的水平調整部102係平均設置於基座101，可供以一調整螺絲螺合於水平調整部102，使各調整螺絲可露出基座101頂撐於地面，使用者可透過調整各調整螺絲的支撐高度，調整整個基座101整體的水平角度，使基座101可達到要求的平整度，其中，所述的調整螺絲係可以為止付螺絲，再者，水平調整部102最少實施數量為四個，且各個水平調整部102及其調整螺絲，係經過負重計算平均承擔機台承載重量，使機台承載於基座101後，仍可維持水平狀態；所述的固定部103係平均設置於基座101，其中，各個固定部103內壁係成型有螺紋，供以一固定螺絲螺合於固定部103，且各固定螺絲可進一步固定於地面的樁孔，進而將基座101固定於地面，所述的固定螺絲可為膨脹螺絲；所述的灌漿孔104係成型為貫孔，貫穿於基座101兩端，使用者可經由灌漿孔104將一灌注物灌注於基座 101與地面之間的一空隙，當灌注物固化後，即可固定基座101與地面的剛性及平整度，亦可以防止靜電的產生，另外，灌注物固化後亦可以保持各調整螺絲的旋出高度、及避免固定螺絲鬆動，其中，所述的灌注物可為環氧樹脂(Epoxy)，由於環氧樹脂具有較佳的流動性，因此可均勻的填充於空隙，使環氧樹脂可紮實的固化於空隙之間；請再參閱圖中所示，基座101更成型有至少一吊掛部105，所述的吊掛部105係成型有螺紋，以供一掛勾件螺合於吊掛部105，且各吊掛部105係平均設置於基座101，使用者欲定位基座101時，其可勾接各掛勾件，使基座101可平穩的被吊起及移動至預設地點。

請參閱「圖2」，圖中所示為製造流程圖，請搭配參閱「圖1」，如圖，基座101係可依據極紫外光設備(EUV)之機台的尺寸及外型進行鑄造，使機台可平穩的鎖固及架設於基座101，據此基座101對於平整度及剛性極為要求，本發明之基座製造方法S1如下：(1)設置板模步驟S11：基座101製造時，使用者係先架設數個板模，使各板模可圍起一灌注區域；(2)設置預鑄模組步驟S12：板模架設完成後，使用者再將數個預鑄模組設置指定位置，其中，所述的預鑄模組可基於不同作用進行預鑄，例如預鑄成水平調整部102、固定部103、灌漿孔104或吊掛部105之結構； (3)設置鋼筋步驟S13：預鑄模組完成設置後，使用者可再將複數支鋼筋設置於灌注區域內，其中，設置鋼筋時係避開預鑄模組，使用者亦可以預先計算出各鋼筋的承載重量，使製成的基座101可平均承受乘載的重量，以維持極佳的水平狀態；(4)灌注水泥漿步驟S14：預鑄模組與鋼筋設置定位後，再將水泥漿灌注於灌注區域之中，其中，於水泥漿固化過程中，水泥漿係可以攀附於鋼筋，使固化完成的水泥塊具有較高的剛性及強度；待水泥漿固化成型後即可將板模拆除，最後即成型為基座101；其中，所述的預鑄模組受到水泥漿包覆，經過水泥漿固化成型後，預鑄模組即成型為水平調整部102、固定部103、灌漿孔104及吊掛部105，使用者可依據各孔位的作用，選擇相對應的預鑄模組設置於指定位置，且各預鑄模組係可以預先成型有相對應規格的螺孔及管徑；(5)拆卸板模步驟S15：待水泥漿固化成水泥塊後，使用者即可拆除各板模以成型為基座101，最後即成型為基座101。

請參閱「圖3」，圖中所示為本發明之基座設置流程圖，請搭配參閱「圖4」~「圖7」，圖中所示為本發明之實施示意圖(一)~(四)，如圖，本發明極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座的實施方法S2，如下： (1)基座設置步驟S21：請搭配參閱「圖4」，設置基座101前，使用者係預先確認一機台設置位置，再將一吊掛器具20的數個掛勾件201勾接於各吊掛部105，以將基座101吊掛於機台設置位置，其中，基座101係基於機台的組裝結構進行對位；(2)調整基座水平步驟S22：請搭配參閱「圖5」，當基座101完成設置後，使用者可調整各水平調整部102的一調整螺絲1021，使各調整螺絲1021可經由基座101頂部旋入並由基座101底部旋出，並且頂撐於一地面G，其中，使用者可以一水平量測儀器量測基座101之水平狀態，並且基於量測結果調整各調整螺絲1021的露出高度，使基座101可達到極佳的水平狀態；(3)固定基座步驟S23：請搭配參閱「圖6」，當基座101完成水平調整作業後，使用者可將各固定部103的一固定螺絲1031，分別伸入於地面的數個樁孔G1之中，使基座101可受到各固定螺絲1031的水平向限位，又，當使用者再轉動固定螺絲1031後，成型於固定螺絲1031另一端的一擴張端1032可向外擴張，使擴張端1032可進一步卡固於樁孔G1內壁，進而使基座101可受到各固定螺絲1031的垂直向限位；(4)填充基座底部空隙步驟S24：請搭配參閱「圖7」，當基座101完成固定後，使用者可於灌漿孔104 內灌注一灌注物E，使灌注物E可以灌注於基座101與地面之間的空隙，當灌注物E固化後即成型為一保護層106，所述的保護層106可固定調整螺絲1021與固定螺絲1031，保持各調整螺絲1021的旋出高度、及避免固定螺絲1031鬆動。

承「圖3」，基座設置方法S2更包含有基座表面塗佈步驟S25：當基座101完成設置後，使用者可進一步於基座101之表面塗佈一第二保護層，所述的第二保護層材質可為環氧樹脂(epoxy)，實施時，使用者可待混凝土完全凝固後，在混凝土之表面施作環氧樹脂或將混凝土表面磨平(銑床加工)再塗佈環氧樹脂，以達成基座101表面平整且無混凝土發生粉塵的疑慮，以確保機台運作過程中不受粉塵影響。

請參閱「圖8」，圖中所示為本發明之實施示意圖(五)，如圖，當基座101完成固定後，使用者即可將一機台30安裝於基座101，並將機台30鎖固於基座101，其中，於機台30設置前，由於基座101已調整過水平狀態，當機台30設置於基座101後，機台30可在極佳的水平環境下運行，若機台30為高精密度製造設備時，則可避免機台30於運行過程中受到水平傾斜干擾，進而影響生產品質，所述的高精密度製造設備係可以例如為一例如極紫外光設備(EUV)之NXE機台(型號為 NXE：3400B)，基座101供NXE機台固定後，基座101可符合NXE機台高平整度需求。

請參閱「圖9」，圖中所示為本發明之另一實施例，如圖，基座101更成型有至少一組裝孔107，一組裝板108係透過各組裝孔107與基座101完成相對組設，其中，基座101與組裝板108係經過水平調整、固定及填充步驟，使基座101與組裝板108之間空隙填充有另一保護層106’；請再搭配參閱「圖10」，圖中所示為本發明之實施示意圖(六)，如圖，實施時，使用者可將機台30設置於基座101，並且將機台30鎖固於組裝板108，由於基座101與組裝板108皆經過水平校準，因此，當機台30固定於基座101後，機台30仍可維持極佳的水平狀態，又，依據不同機台30鎖點位置的差異，使用者可替換為相對應的組裝板108，使用者即可依據組裝板108上的鎖孔安裝機台30，避免對基座101進行其他破壞水平狀態之施工。

綜上可知，本發明所稱的極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座及其實施方法，可供以承載一高精密度要求的製造機台，將基座對位於一機台設置位置後，本發明之基座可透過至少一調整螺絲調整水平狀態，另，透過至少一固定螺絲將基座固定於地面，並且各固定螺絲可進一步對基座作水平向限位及垂直向限位，再者，成型於基台與地面間空隙的一保護層，更可以包覆住調整螺絲及固定螺絲，以防止螺絲受外力干擾而鬆動，並提升基座整體的剛性；依此，本發明其據以實施後，確實可達到提供一種可維持生產機台平整度要求的極紫外光設備(EUV)之高精密度承載基座之目的。

以上所述者，僅為本發明之較佳之實施例而已，並非用以限定本發明實施之範圍；任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神與範圍下所作之均等變化與修飾，皆應涵蓋於本發明之專利範圍內。

綜上所述，本發明係具有「產業利用性」、「新穎性」與「進步性」等專利要件；申請人爰依專利法之規定，向鈞局提起發明專利之申請。