TWI790875B - 超音波萃取設備 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種超音波萃取設備，包含液體容置槽以及多個震盪子。震盪子設置於液體容置槽的外表面。這些震盪子包含中央震盪子以及圍繞中央震盪子排列的多個外圍震盪子。

Description

超音波萃取設備
本發明係關於一種超音波萃取設備。
超音波是指任何聲波或振動，其頻率超過人類耳朵可以聽到的最高閥值20kHz(千赫茲)。超音波由於其高頻特性而被廣泛應用於醫學、工業、情報等眾多領域。常見的超音波應用，例如有超音波洗淨，其機制是將物體置於水溶液中，利用超音波能量施加至水液中即可分離油汙，而將物品清潔。另外，關於超音波萃取技術，是以溶劑將特定的物質萃取出來，應用於高附加價值之機能活性成分的萃取，因其相較於傳統萃取法具有高效、短時、降低溶劑使用量等優點，於近年來受到相當的重視。
一般而言，超音波萃取設備會含有槽筒式的液體容置槽以及用以產生超音波的數個震盪子，其中震盪子可以安裝在容置槽底部、側面或甚至與容置槽一體成型。對於具有尺寸較大之容置槽的超音波萃取設備來說，可能面臨數個震盪子所產生之超音波音壓分布不均勻的問題，從而影響萃取良率以及萃取品質的均一性。針對這個問題，目前存在利用複頻超音波技術的解決方案，然而複頻超音波技術需要使用頻率不同的震盪子來產生複頻超音波，導致超音波萃取設備會有高耗能及製造成本高的問題。
鑒於上述問題，本發明提供一種超音波萃取設備，有助於解決超音波音壓分布不均勻的問題。
本發明一實施例所揭露之超音波萃取設備包含一液體容置槽以及多個震盪子。震盪子設置於液體容置槽的外表面。這些震盪子包含一中央震盪子以及圍繞中央震盪子排列的多個外圍震盪子。
根據本發明揭露之超音波萃取設備，震盪子包含一個中央震盪子以及圍繞該中央震盪子排列的多個外圍震盪子。藉由特定的震盪子位置分布以及震盪子間距，讓所有震盪子能用單一工作頻率進行超音波萃取作業，並同時實現均勻的音壓分布。相較於以複頻超音波技術實現均勻音壓分布的技術手段，本發明能避免使用高耗能震盪子以及免除超音波萃取設備需要執行繁雜的頻率控制，進而降低設備製造成本以及萃取作業成本。
以上關於本發明內容之說明及以下實施方式之說明係用以示範與解釋本發明之原理，並提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。
於以下實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵及優點，其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露的內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易理解本發明。以下實施例係進一步詳細說明本發明之觀點，但非以任何觀點限制本發明之範疇。
請參照圖1和圖2，其中圖1為根據本發明一實施例之超音波萃取設備的示意圖。圖2為圖1之超音波萃取設備的仰視示意圖。在本實施例中，超音波萃取設備1包含液體容置槽10以及震盪子20。液體容置槽10為圓筒狀，並且震盪子20設置於液體容置槽10的外表面。更具體來說，所有的震盪子20皆設置於液體容置槽10外側的底面110。震盪子20的總數為五個，其包含一個中央震盪子20a以及圍繞中央震盪子20a排列的四個外圍震盪子20b，並且中央震盪子20a位於底面110的中心。震盪子20的總數並非用以限制本發明。在部分實施例中，根據液體容置槽的尺寸增加，可能設置有數量多於四個的外圍震盪子。液體容置槽10的形狀並非用以限制本發明，在部分實施例中，液體容置槽可為其他形狀，例如方形槽體、多邊形槽體或不規則形槽體。
相鄰的其中兩個震盪子的中心間距可為各個震盪子之直徑的1.6至2.3倍。參照圖2所示，兩個震盪子各自之中心Cv的間距可定義為中心間距S。中央震盪子20a與外圍震盪子20b具有相同的形狀和直徑Dv，並且中央震盪子20a與任一外圍震盪子20b的中心間距S可為震盪子之直徑Dv的1.6至2.3倍，例如圖2中央震盪子20a與外圍震盪子20b的中心間距S可為直徑Dv的2倍。
震盪子可為直筒狀或圓台狀。圖3為根據本發明一實施例之震盪子的示意圖，其中震盪子20為直筒狀，其頭部和尾部具有一致的直徑Dv。圖4為根據本發明另一實施例之震盪子的示意圖，其中震盪子20可為圓台狀，其頭部210的直徑小於尾部220的直徑；在這樣的情況下，前述提及的震盪子之直徑Dv係指震盪子20的最小直徑，以圖4為例說明即為頭部210的直徑。圖1和圖2示例性繪出超音波萃取設備1包含如圖4之塔形的震盪子20。
相鄰的其中兩個震盪子的中心間距可一致。具體而言，參照圖2，中央震盪子20a與任一外圍震盪子20b的中心間距S與中央震盪子20a與另一外圍震盪子20b的中心間距S一致。此外，相鄰的一對外圍震盪子的中心間距S〞可為各個震盪子之直徑的1.6至2.3倍。更進一步來說，在相鄰的其中兩個震盪子的中心間距可為各個震盪子之直徑Dv的1.6至2.3倍的前提下，中央震盪子20a與任一外圍震盪子20b的中心間距S與中央震盪子20a與另一外圍震盪子20b的中心間距S一致，且相鄰的一對外圍震盪子的中心間距S〞可為各個震盪子之直徑Dv的1.6至2.3倍，例如其中一對相鄰外圍震盪子的中心間距S〞可為震盪子之直徑Dv的1.6倍，而另一對相鄰外圍震盪子的中心間距S〞可為震盪子之直徑Dv的2.2倍。
在圖2所示的實施例中，震盪子(中央震盪子20a及外圍震盪子20b)具有相同的工作頻率。更進一步來說，超音波萃取設備1為可調頻式，其能被設定在特定頻率下進行萃取作業。各個震盪子可具有多個工作模式供切換，例如包含有產生頻率為20kHz之超音波的第一工作模式、產生頻率為35kHz之超音波的第二工作模式以及產生頻率為50kHz之超音波的第三工作模式。可藉由控制晶片以及開關電路等已知技術手段來實施工作模式之間的切換。
不同的工作頻率可因應不同物質之萃取作業。舉例來說，當要以果皮作為原料進行果膠的萃取時，所有震盪子(中央震盪子20a及外圍震盪子20b)可被統一切換到第一工作模式，因此超音波萃取設備1利用頻率為20kHz之超音波進行萃取作業；當要以果膠作為原料進行半乳糖醛酸的萃取時，所有震盪子可被統一切換到第三工作模式，因此超音波萃取設備1利用頻率為50kHz之超音波進行萃取作業。
參照圖5和圖6，其中圖5為以圖1之超音波萃取設備進行萃取作業的示意圖，圖6為圖5中截面深度的示意圖。在超音波萃取設備1的液體容置槽10中注入適當體積的純水，接著置入盛裝有機溶劑以及原料的容器2。所有震盪子20以相同頻率啟動以進行超音波萃取，並且共同向液體容置槽10提供在純水中音壓為30mv至140mv的超音波。舉例來說，針對圖5中較靠近水面的第一截面深度H1，當所有震盪子20統一產生頻率為20kHz之超音波時的平均音壓可為79±7mv，統一產生頻率為35kHz之超音波時的平均音壓可為122±4mv，及統一產生頻率為50kHz之超音波時的平均音壓可為41±2mv。又，針對較遠離水面的第二截面深度H2，當所有震盪子20統一產生頻率為20kHz之超音波時的平均音壓可為86±6mv，統一產生頻率為35kHz之超音波時的平均音壓可為130±6mv，及統一產生頻率為50kHz之超音波時的平均音壓可為46±2mv。
根據本發明揭露的超音波萃取設備1，所有震盪子20能用單一工作頻率進行超音波萃取作業，並且針對液體容置槽10中液體內部觀察到均勻的音壓分布。音壓分布的測量和計算可以但不限於採用以下方式進行：選定一個截面深度(例如第一截面深度H1或第二截面深度H2)，在此截面深度上的各個位置測量音壓從而得到在此截面深度的音壓三維分布，其中截面深度上對應中央震盪子20a的中心位置A以及對應外圍震盪子20b的邊緣位置B~E作為主要參考音壓值。主要參考音壓值取平均以得到平均音壓。
以下，將描述本發明的一個或數個特徵對於音壓分布的影響。
[相鄰震盪子的中心間距對於音壓分布的影響]
以圖1~5中的超音波萃取設備1作為例子說明，選定液面下4.5cm處的截面深度以及超音波頻率為20kHz測量音壓，分析相鄰震盪子20(中央震盪子20a與外圍震盪子20b)的中心間距S與震盪子20直徑Dv的比值(S/D)和音壓分布之間的關係，結果如下表1所示。
表1
S/D 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差
1.6 105 100 90 104 121 104 11.203
1.7 101 88 87 97 110 96.6 9.555
1.8 100 84 86 94 100 92.8 7.563
1.9 84 80 86 92 97 87.8 6.723
2.0 80 84 82 94 90 86 5.831
2.1 74 72 88 80 81 79 6.325
2.2 71 77 83 74 66 74.2 6.380
2.3 78 72 86 69 61 73.2 9.419
根據表1，可觀察到中心間距S與震盪子20直徑Dv的比值(S/D)在1.6至2.3時有助於獲得均勻的音壓分布。尤其，在比值為1.7至2.2時具有較小的音壓標準差，這代表可以預期有平坦的音壓三維分布，也就是在此截面深度的各個位置能測量到相近的音壓值。
[設置中央震盪子對於音壓分布的影響]
圖7為比較例之超音波萃取設備的仰視示意圖。以圖1~6中的超音波萃取設備1和圖7中的超音波萃取設備3作為例子說明，作為比較例的超音波萃取設備3與作為實施例的超音波萃取設備1，兩者之間的差異在於超音波萃取設備3於底面110僅有外圍震盪子20b而未設置有中央震盪子20a。
選定液面下3cm及4.5cm處的兩個截面深度分別以頻率為20kHz、35kHz、50kHz的超音波測量音壓，分析中央震盪子20a之有無和音壓分布之間的關係，結果如下表2至表7所示。
表2
(震盪子)超音波頻率：20kHz；截面深度：液面下3cm處。
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 72 78 73 88 82 88 72
比較例 67 74 61 68 77 77 61
- 截面深度中位數音壓(mv) 截面深度平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 78 78.6 6.618 - - - -
比較例 68 69.4 6.270 - - - -
表3
(震盪子)超音波頻率：20kHz；截面深度：液面下4.5cm處
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 80 84 82 94 90 94 80
比較例 76 79 61 84 87 87 61
- 截面深度中位數音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 84 86 5.831 - - - -
比較例 79 77.4 10.114 - - - -
表4
(震盪子)超音波頻率：35kHz；截面深度：液面下3cm處
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 128 123 122 117 122 128 117
比較例 114 121 100 114 132 132 100
- 截面深度中位數音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 122 122.4 3.912 - - - -
比較例 114 116.2 11.670 - - - -
表5
(震盪子)超音波頻率：35kHz；截面深度：液面下4.5cm處
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 135 128 129 123 133 135 123
比較例 141 119 121 134 139 141 119
- 截面深度中位數音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 129 129.6 4.669 - - - -
比較例 134 130.8 10.208 - - - -
表6
(震盪子)超音波頻率：50kHz；截面深度：液面下3cm處
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 41 43 40 38 41 43 38
比較例 36 42 30 31 48 48 30
- 截面深度中位數音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 41 40.6 1.817 - - - -
比較例 36 37.4 7.603 - - - -
表7
(震盪子)超音波頻率：50kHz；截面深度：液面下4.5cm處
- 中心位置A的音壓(mv) 邊緣位置B的音壓(mv) 邊緣位置C的音壓(mv) 邊緣位置D的音壓(mv) 邊緣位置E的音壓(mv) 截面深度最大音壓(mv) 截面深度最小音壓(mv)
實施例 48 49 45 43 45 43 49
比較例 45 51 39 44 52 52 39
- 截面深度中位數音壓(mv) 平均音壓(mv) 音壓標準差 - - - -
實施例 45 46 2.449 - - - -
比較例 45 46.2 5.357 - - - -
根據表2至表7，可觀察到中央震盪子的存在有助於獲得均勻的音壓分布。如表3所示，實施例具有較小的音壓標準差，這代表中央震盪子的存在有助於液面下較深位置(即較靠近震盪子的位置)的均勻音壓分布。如表4至表7所示，實施例具有較小的音壓標準差，這代表中央震盪子的存在有助於高頻工作頻率下的均勻音壓分布。
綜上所述，根據本發明揭露之超音波萃取設備，震盪子包含一個中央震盪子以及圍繞該中央震盪子排列的多個外圍震盪子。藉由特定的震盪子位置分布以及震盪子間距，讓所有震盪子能用單一工作頻率進行超音波萃取作業，並同時實現均勻的音壓分布。相較於以複頻超音波技術實現均勻音壓分布的技術手段，本發明能避免使用高耗能震盪子以及免除超音波萃取設備需要執行繁雜的頻率控制，進而降低設備製造成本以及萃取作業成本。
本發明之實施例揭露雖如上所述，然並非用以限定本發明，任何熟習相關技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，舉凡依本發明申請範圍所述之形狀、構造、特徵及精神當可做些許之變更，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
1、3:超音波萃取設備 2:容器 10:液體容置槽 110:底面 20:震盪子 20a:中央震盪子 20b:外圍震盪子 210:頭部 220:尾部 Cv:中心 Dv:直徑 S、S〞:中心間距 H1:第一截面深度 H2:第二截面深度 A:中心位置 B、C、D、E:邊緣位置
圖1為根據本發明一實施例之超音波萃取設備的示意圖。 圖2為圖1之超音波萃取設備的仰視示意圖。 圖3為根據本發明一實施例之震盪子的示意圖。 圖4為根據本發明另一實施例之震盪子的示意圖。 圖5為以圖1之超音波萃取設備進行萃取作業的示意圖。 圖6為圖5中截面深度的示意圖。 圖7為比較例之超音波萃取設備的仰視示意圖。
1:超音波萃取設備
10:液體容置槽
110:底面
20a:中央震盪子
20b:外圍震盪子
Cv:中心
Dv:直徑
S、S〞:中心間距

Claims (8)

  1. 一種超音波萃取設備，包含：一液體容置槽；以及多個震盪子，設置於該液體容置槽的一外表面；其中，該些震盪子包含一中央震盪子以及圍繞該中央震盪子排列的多個外圍震盪子，該些震盪子其中任兩相鄰者的中心間距為各個該些震盪子之直徑的1.6至2.3倍，且該些震盪子的工作頻率相同。
  2. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該外表面為該液體容置槽外側的一底面，且該中央震盪子位於該底面的中心。
  3. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該中央震盪子與任一該些外圍震盪子的中心間距一致。
  4. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該些外圍震盪子其中任兩相鄰者的中心間距為各個該些震盪子之直徑的1.6至2.3倍。
  5. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該些震盪子各自具有多個工作模式供切換，且該些工作模式包含20kHz、35kHz、50kHz三種工作模式。
  6. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該液體容置槽為圓筒狀、方形槽體、多邊形槽體、或不規則形槽體。
  7. 如請求項1所述之超音波萃取設備，其中該些震盪子共同向該液體容置槽提供在純水中音壓為30mv至140mv的一超音波。
  8. 如請求項7所述之超音波萃取設備，其中該些震盪子的總數至少五個。
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