CN206405101U - 超声波清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于超声波清洗设备领域，具体涉及一种超声波清洗装置。解决了现有技术中超声波清洗设备直接设置清洗槽，清洗不彻底，容易造成物件损坏等缺陷，提供一种清洗彻底，不容易造成物件损坏的超声波清洗装置，它放置于超声波清洗槽内，包括清洗载台、物件插槽、安全提手及高度调节部件，所述物件插槽位于清洗载台上，均匀分布，安全提手位于清洗载台的两侧，与清洗载台固定连接；所述高度调节部件位于清洗载台的底部；本技术物件插槽的设计使物件不会互相碰撞，尤其适合硬、脆的材料；具有安全提手，容易取放；调节螺杆设计提高清洗载台的稳定性。

Description

超声波清洗装置

技术领域

本实用新型属于超声波清洗设备领域，具体涉及一种超声波清洗装置。

背景技术

超声波清洗发展技术纯熟，具有广泛的应用性，例如表面喷涂处理行业、机械行业、电子行业、医疗行业、半导体行业、钟表首饰行业、光学行业、纺织印染行业等。超声波工作原理是利用一种频率超出人类听觉范围20kHz以上的声波，多数使用液体作为声波传递介质，超声波在液体中传播时,由于非线性作用,会产生声空化。在空化气泡突然闭合时发出的冲击波可在其周围产生上千个大气压力,对污层的直接反复冲击,一方面破坏污物与清洗件表面的吸附,另一方面也会引起污物层的破坏而脱离清洗件表面并使它们分散到清洗液中。气泡的振动也能对固体表面进行擦洗。气泡还能“钻入”裂缝中做振动,使污物脱落。此外,超声波的振动效果也使物件表面的脏污受到频繁而激烈的冲击，达到清洗效果。

常见的超声波清洗机主要由几部分构成：1.超声波系统:包括换能器和超声波发生器。2.加热及温度控制系统。3.清洗槽。4.槽液循环过滤系统。5.输送系统。6.喷淋漂洗系统。7.烘干系统。在现有的超声波清洗系统中，不同清洗物件的清洗槽需要根据需求来设计，半导体产业及光学行业多有易碎、易损伤的物件，例如半导体晶片、各式光学镜片的清洗尤其需要注意不能损伤物件表面，受损的物件立刻成为废品。除了过强的超声波频率、功率会导致物件损伤外，若超声波清洗过程中使用不恰当的载具，物件表面也易产生刮伤、破损，特别是物件与物件之间的相互接触会大量产生破坏。此外，超声波清洗使用的清洗剂常有酸、碱或腐蚀性液体，清洗过程中容易使操作者产生工安问题。直接放入清洗槽内进行超声波清洗也容易使脏污残留于物件底部，造成脏污的残留，清洗不彻底。

实用新型内容

为了解决现有技术中超声波清洗设备直接设置清洗槽，清洗不彻底，容易造成物件损坏等缺陷，本实用新型提供一种清洗彻底，不容易造成物件损坏的超声波清洗装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案如下：一种超声波清洗装置，放置于超声波清洗槽内，它包括清洗载台、物件插槽、安全提手及高度调节部件，所述物件插槽位于清洗载台上，均匀分布，安全提手位于清洗载台的两侧，与清洗载台固定连接；所述高度调节部件位于清洗载台的底部。

做为优选技术方案，对本实用新型进行进一步说明：所述物件插槽数量为复数个，均匀排布在清洗载台的中部，物件插槽包括载物插孔、载物固定台、液体流通孔、液体流通口，其中载物插孔位于清洗载台上，优先排布在清洗载台的中部，载物固定台位于载物插孔下方，为筒状，其宽度小于载物插孔的宽度，载物固定台中间的孔与清洗载台底部的液体流通口联通，形成通孔为液体流通孔。

所述物件插槽为M×N个，M≥2，N≥2。

所述载物插孔、液体流通孔为规则形状的孔，优选方形孔或圆形孔。

做为本实用新型的一个优选技术方案，物件插槽的载物插孔深度为晶体高度的1/3-3/4、宽度为晶体直径的1.1-2倍圆形孔洞，载物固定台位于载物插孔的正下方，液体流通孔为晶体直径1/3-2/3的圆形孔洞。

做为本实用新型的一个更优选技术方案，物件插槽的载物插孔深度为晶体高度的2/3、宽度为晶体直径的1.2-1.5倍圆形孔洞，载物固定台位于载物插孔的正下方，液体流通孔为晶体直径1/2的圆形孔洞。

所述安全提手包括握把与连接杆，其中连接杆位于清洗载台两侧中部，与清洗载台固定连接，连接杆连接清洗载台与握把，握把位于连接杆的上方。

所述高度调节部件包括螺孔、螺杆与底座，其中螺孔位于清洗载台底部，底座与清洗载台由螺杆连接。

与现有超声波清洗系统相比，本实用新型的有益效果如下

1.物件插槽的设计使物件不会互相碰撞，尤其适合硬、脆的的材料。

2.具有安全提手，容易从清洗液中取出，减少工安问题。

3.调节螺杆设计提高清洗载台的稳定性，不会随超声波系统的震荡而晃动。

4.物件插槽的设计与调节螺杆搭配使用，提高物件清洗效率并减少脏污的残留。

附图说明

图1为实施例1结构示意图；

图2为实施例1部分剖开结构示意图；

图3为实施例1剖开部分放大图。

具体实施方式

下面参照附图详细描述本实用新型的实施方式。

实施例1：

参见图1-3本实施例超声波清洗装置结构示意图：

本实施例全部使用铁氟龙材质，清洗物件为条状晶体，根据设计由CNC加工制作超声波清洗装置，该装置放置于超声波清洗槽内，它包括清洗载台1、物件插槽2、安全提手3及高度调节部件4，所述物件插槽2位于清洗载台1上，均匀分布，安全提手3位于清洗载台1的两侧，与清洗载台1固定连接；所述高度调节部件4位于清洗载台1的底部。

做为优选技术方案，对本实用新型进行进一步说明：所述物件插槽2包括载物插孔5、载物固定台6、液体流通孔8、液体流通口7，其中载物插孔5位于清洗载台1上，优先排布在清洗载台1的中部，载物固定台6位于载物插孔5下方，为筒状，其宽度小于载物插孔5的宽度，载物固定台6中间的孔与清洗载台1底部的液体流通口7联通，形成通孔为液体流通孔8。

所述物件插槽2为M×N个，M≥2，N≥2。

所述载物插孔5、液体流通孔为规则形状的孔，优选方形孔或圆形孔。

物件插槽2的载物插孔5深度为晶体高度的2/3、宽度为晶体直径的1.2倍圆形孔洞，载物固定台6位于载物插孔5的正下方，液体流通孔8为晶体直径1/2的圆形孔洞。

所述安全提手3包括握把9与连接杆10，其中连接杆10位于清洗载台1两侧中部，连接清洗载台1与握把9，握把9位于连接杆10的上方。

所述高度调节部件4包括螺孔、螺杆12与底座13，其中螺孔位于清洗载台1底部，底座13与清洗载台1由螺杆12连接。

当然，以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种超声波清洗装置，放置于超声波清洗槽内，其特征在于：它包括清洗载台、物件插槽、安全提手及高度调节部件，所述物件插槽位于清洗载台上，均匀分布，安全提手位于清洗载台的两侧，与清洗载台固定连接；所述高度调节部件位于清洗载台的底部。

2.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述物件插槽数量为复数个，均匀排布在清洗载台的中部，物件插槽包括载物插孔、载物固定台、液体流通孔、液体流通口，其中载物插孔位于清洗载台上，载物固定台位于载物插孔下方，为筒状，其宽度小于载物插孔的宽度，载物固定台中间的孔与清洗载台底部的液体流通口联通，形成通孔为液体流通孔。

3.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述物件插槽为M×N个，M≥2，N≥2。

4.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述载物插孔、液体流通孔为规则形状的孔。

5.根据权利要求4所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述载物插孔、液体流通孔为方形孔或圆形孔。

6.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于：物件插槽的载物插孔深度为晶体高度的1/3-3/4、宽度为晶体直径的1.1-2倍，载物固定台位于载物插孔的正下方，液体流通孔为晶体直径的1/3-2/3。

7.根据权利要求6所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述物件插槽的载物插孔深度为晶体高度的2/3、宽度为晶体直径的1.2-1.5倍，载物固定台位于载物插孔的正下方，液体流通孔为晶体直径的1/2。

8.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述安全提手包括握把与连接杆，其中连接杆位于清洗载台两侧中部，与清洗载台固定连接，握把位于连接杆的上方。

9.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于：所述高度调节部件包括螺孔、螺杆与底座，其中螺孔位于清洗载台底部，底座与清洗载台由螺杆连接。