TWI788231B

TWI788231B - 共軛光學模組、空間轉換光學模組以及其共軛光學之彩色共焦量測系統

Info

Publication number: TWI788231B
Application number: TW111106644A
Authority: TW
Inventors: 陳亮嘉; 伍國瑋; 周煜峰
Original assignee: 國立臺灣大學
Priority date: 2021-02-25
Filing date: 2022-02-23
Publication date: 2022-12-21
Also published as: TW202311703A; TWI807653B; TW202311704A; TW202234127A; TWI812025B; TWI801149B; TW202234020A

Abstract

本發明提供一種共軛光學之彩色共焦量測系統，包括有一光源模組用以產生一偵測光、一微透鏡陣列、一第一空間調製元件、一光學模組、一第二空間調製元件、一空間轉換模組以及一偵測模組。該微透鏡陣列設置於該偵測光的光路上，用以將該偵測光聚焦成一點光源陣列。該第一空間調製元件包括有一第一開口陣列與該點光源陣列對應。該光學模組將該點光源陣列色散投射至一待測物上，以形成一第一測物光陣列。該第二空間調製元件具有一第二開口陣列與該第一開口陣列成共軛對應以接收該測物光陣列。該空間轉換模组與該第二空間調製元件耦接，用以將該測物光陣列轉換成具有一空間分佈的第二測物光陣列。該偵測模組接收該空間分佈的第二測物光陣列，並將該空間分佈的第二測物光陣列轉換成一光譜資訊。該光譜資訊可藉由適當峰值偵測演算法以及系統之深度反應校正曲線之轉換，可求得被測物體之形貌資訊。同時，藉由二維振鏡之掃描，可達到被測物體之全域三維形貌量測與重建之能力。

Description

共軛光學模組、空間轉換光學模組以及其共軛光學之彩色共焦量測系統

本發明為一種光學量測技術，特別是指一種可以改善傳統多點共焦量測之光效率以及獲取高解析度的全域影像以偵測物體表面形貌的一種共軛光學模組、空間轉換光學模組以及其共軛光學之彩色共焦量測系統。

如圖1所示，在習用之彩色共焦顯微系統中，由於光源10產生之偵測光，經色散物鏡11投射至待測物12之光路，再經由待測物12反射投射至光譜影像感測單元13，此傳統共焦顯微系統之光路徑顯然相當長 (約320 mm)，因而減弱了單位面積光的強度，因此影像感測單元必須具有一定時間以上之曝光時間，以獲得足夠的反射光強，以利進行光譜分析，達到共焦形貌量測的效果。不過延長曝光時間會減低檢測速度，因此為了實現高速線上檢測，需搭配多波長且高功率輸出之高成本之燈源，大幅提昇投射至待測物上之單位面積光強值，以利縮短影像感測單元曝光所需要的時間，達到快速取像之效果。

然而在彩色共焦技術發展中，最大的問題無疑是光效率的損耗過於嚴重，而這將會導致偵測光在經過量測系統後打到樣品上的光強大幅降低，進而需增加曝光時間來讓足夠的反射光強能被光譜儀偵測，使得量測速度將會大幅受限。

此外，目前光譜量測的主流技術是利用稜鏡或光柵之類的色散元件，將被測光中不同波長的光導向不同的方向再分別量測，使得原本一個點狀的光源會變成一條光譜線，該光譜線再由一線型影像感測器來偵測各波長的相對強度，且該光譜線灑開的長度越長，光譜解析度越佳。這樣的典型作法若要針對在有限視野(field of view, FOV) 內密集排列的量測點陣逐點進行光譜解析，將會因為相鄰量測點的有限間距而限制了每個量測點所能灑開的光譜線長度，進而限制了光譜的解析能力，即相鄰兩量測點間的間距將受限於光譜的解析範圍，而若為了提升量測速度增加點的數量將會犧牲整體光譜的解析能力。

本發明提供一種共軛光學模組、空間轉換光學模組以及其共軛光學之彩色共焦量測系統，主要針對光效率進行改善，透過微透鏡陣列將面型照明聚焦成多點的光源，依據光學不變量的原理，聚焦後的點光源其所具有的光強會比面照明強，因此透過聚焦形成點光源陣列投射到待測物可以改善光效率的問題。

本發明提供一種共軛光學模組以及共軛光學之彩色共焦量測系統，透過二維振鏡 (2-D galvanometers)來做掃描以獲取全域的影像。由於二維振鏡控制點陣列光源的位置，使得不需要移動待測物就可以對待測物進行全域掃描，避免了因為物理移動產生振動影響檢測的效果，且因為振鏡能夠做到小範圍的掃描，進而獲取更高精度的影像訊息。

本發明提供一種共軛光學模組以及共軛光學之彩色共焦量測系統，其中光譜儀的架構主要是利用光纖連接在針孔陣列後面，排成線型的方式與光譜儀耦接。透過光纖從二維陣列轉換成一維陣列的排列，可以消除因為密集排列的量測點陣所導致的光譜線長度與光譜解析能力之限制。

在另一實施例中，本發明更提供一種共軛光學模組，包括有微透鏡陣列、第一空間調製元件、光學模組以及第二空間調製元件。該微透鏡陣列，用以將一偵測光聚焦形成一點光源陣列。該第一空間調製元件，設置於該偵測光的光路上，以接收該點光源陣列，該第一空間調製元件具有一第一開口陣列與該點光源陣列對應。該光學模組，設置該微透鏡陣列的一側，用以將該點光源陣列導引至一待測物並形成一測物光陣列。該第二空間調製元件，用以接收來自於待測物的該測物光陣列，該第二空間調製元件具有複數個第二開口陣列與該複數個第一開口陣列成共軛對應。

在一實施例中，本發明提供一種共軛光學之彩色共焦量測系統，包括有一光源模組、一微透鏡陣列、一第一空間調製元件、一光學模組、一第二空間調製元件、一空間轉換模組以及一偵測模組。該光源模組，用以產生一偵測光。該微透鏡陣列，設置於該偵測光的光路上，用以將該偵測光聚焦成一點光源陣列。該第一空間調製元件，設置於該微透鏡陣列的一側，使該微透鏡陣列位於該光源模組與該第一空間調製元件之間，該第一空間調製元件包括有一第一開口陣列與該點光源陣列對應。該光學模組，用以接收通過該第一空間調製元件的該點光源陣列，並將該點光源陣列色散投射至一待測物上，以形成一第一測物光陣列。該第二空間調製元件，設置於該光學模組一側，接收該第一測物光陣列，該第二空間調製元件具有一第二開口陣列與該第一開口陣列成共軛對應。該空間轉換模组，與該第二空間調製元件耦接，用以將該第一測物光陣列轉換成具有一空間分佈的第二測物光陣列。該偵測模組，與該空間轉換模組耦接，該偵測模組接收該空間分佈的第二測物光陣列，並將該空間分佈的第二測物光陣列轉換成一光譜資訊。該光譜資訊可藉由適當峰值偵測演算法以及系統之深度反應校正曲線之轉換，可求得被測物體之形貌資訊。同時，藉由二維振鏡之掃描，可達到被測物體之全域三維形貌量測與重建之能力。

在另一實施例中，本發明提供一種空間轉換光學模組，包括有空間調製元件以及空間轉換模組。該空間調製元件接收從一待測物反射的一第一測物光陣列，該空間調製元件具有一開口陣列。該空間轉換模组與該開口陣列耦接，用以將該第一測物光陣列轉換成具有一空間分佈的第二測物光陣列。

在下文將參考隨附圖式，可更充分地描述各種例示性實施例，在隨附圖式中展示一些例示性實施例。然而，本發明概念可能以許多不同形式來體現，且不應解釋為限於本文中所闡述之例示性實施例。確切而言，提供此等例示性實施例使得本發明將為詳盡且完整，且將向熟習此項技術者充分傳達本發明概念的範疇。類似數字始終指示類似元件。以下將以多種實施例配合圖式來說明共軛光學模組、空間轉換光學模組以及其共軛光學之彩色共焦量測系統，然而，下述實施例並非用以限制本發明。

請參閱圖2所示，該圖為本發明之共軛光學之彩色共焦量測系統示意圖。該系統2包括有一光源模組20、一共軛光學量測模組21以及一偵測模組22。該光源模組20包括有一寬頻光源200以及準直鏡組201。該寬頻光源200可以為寬頻雷射光或白光等。在一實施例中，寬頻雷射光可以為超連續寬頻雷射光 (supercontinuum laser)。準直鏡組201具有將寬頻光源200所發出的偵測光90調整成準直偵測光90a，準直鏡組201並且具有消除色差的功能，以將色差和球面像差減至最低，使得在通過之後的系統時，具有較好的解析能力。

該共軛光學量測模組21包括有微透鏡陣列210、第一空間調製元件211、光學模組212、以及第二空間調製元件213。該微透鏡陣列211用以將該偵測光90a聚焦形成一點光源陣列90b。本實施例中，如圖3A所示，微透鏡陣列210為具有複數個排列成二維矩陣的透鏡210a所構成的陣列，設置在光源模組20所發出的準直偵測光90a的光路上，用以接收該準直偵測光90a。每一個微透鏡210a將接收到的準直偵測光90a聚焦形成一光點，因此當準直偵測光90a通過了微透鏡陣列210之後，會形成具有複數個對應每一個微透鏡210a的點光源陣列90b。

該第一空間調製元件211，設置於該點光源陣列90b的光路上，以接收該點光源陣列90b，如圖3B所示，該第一空間調製元件211具有複數個第一開口211a所構成的第一開口陣列與該點光源陣列90b對應。本實施例中，第一空間調製元件211為具有複數個針孔211b排列成二維陣列的結構。每一個針孔211b的第一開口211a對應每一個微透鏡210a。要說明的是，本實施例中的第一開口211a並不限於針孔的開口，在另一實施例中，該第一開口211a亦可為狹縫結構的開口。要說明的是根據寬頻光源200的發光區域所具有的第一特徵尺寸D1、偵測光90的第一發散角度θ ₁、第一開口211a所具有的第二特徵尺寸d ₂，例如：針孔直徑或者是狹縫長寬尺寸，以及通過每一第一開口d ₂中心的偵測光所具有的第二發散角度θ ₂，維持著下式(1)的關係，偵測光利用率可以有效最大化，同時保有下游光學量測系統的空間解析能力。

…(1) 倘若

會導致光能的耗損，倘若

則會導致下游光學模組的收光角沒有被填滿，進而降低其空間解析能力。也就是說，通過第一空間調製元件211之後光路所經過的所有光學元件可以根據演算可以得知其等效入瞳的尺寸。如果

會導致光能的耗損，倘若

則會導致入瞳尺寸將無法完全被填滿或者是只有部分偵測光入瞳，會降低其空間解析能力。入瞳的計算係屬於習用之技術，在此不做贅述。

再回到圖2所示，該光學模組212設置於該微透鏡陣列211的一側，用以將該點光源陣列90b先準直成多束的陣列，之後再通過二維振鏡做掃瞄，並經過色散物鏡色散成色散光陣列90c然後投射至一待測物S並從待測物S反射形成第一測物光陣列90d。為了方便說明，圖2以通過其中之一針孔211b的點光源來做說明。在本實施例中，光學模組212包括有一分光元件212a、一準直透鏡212b、一振鏡元件212c、一掃描透鏡212d以及一色散物鏡212e。點光源陣列90b通過分光元件212a之後進入了準直透鏡212b，而在掃描前放置準直透鏡的功用是為避免離軸的光點在掃描時會產生額外的像差，之後再經由振鏡元件212c反射進入掃描透鏡212d。本實施例中，掃描透鏡212d使點光源陣列90b中的每一個點光源的入射角度與聚焦位置呈線性的特性，有利於振鏡掃描的控制，且對於之後的演算處理上也較為方便。點光源振列90b會先被掃描透鏡212d聚焦一次，再由色散物鏡212e色散成複數道色散光所形成的色散光陣列90c聚焦於待測物S上。從待測物S反射形成第一測物光陣列90d，循原來的光路再次通過分光元件212a被分光投射至第二空間調製元件213。

該第二空間調製元件213，用以接收來自於待測物S的第一測物光陣列90d，該第二空間調製元件213具有複數個第二開口213a所構成的第二開口陣列與該複數個由第一開口211a所構成的第一開口陣列成共軛對應。本實施例中第二開口213a為針孔結構的開口，但不以此為限制，例如：狹縫結構也可以實施。為了降低多點之間交互干涉(cross-talk)的影響來降低光譜的解析能力，在圖2的實施例中，利用複數條導光元件214，本實施例為光纖，與偵測模組22以及第二空間調製元件213耦接。如圖4A所示，該圖為本發明之第二空間調製元件與偵測模組耦接示意圖。在本實施例中，第二空間調製元件213的入光面SL1用以接收來自於待測物S的第一測物光陣列。而在第二空間調製元件213的另一側出光面SL2則分別耦接有一空間轉換模組，用以將該測物光陣列轉換成具有一空間分佈的第二測物光陣列。在一實施例中，空間轉換模組具有複數個導光元件214，導光元件214的第一端214a因為與第二空間調製元件213的每一個第二開口213a耦接，因此多條導光元件214(本實施例總共25條)在第一端214a那一側形成二維矩陣配置，如圖4B所示，使得相鄰的導光元件214的第一端214a中心之間保持間距P，以避免在收光時收到別的第二開口213a的光線，而造成橫向交談 (crosstalk)進而影響訊號解析的準確度。而在第二端214b的那一側則依序相鄰排列成一維陣列的方式，以將第一測物光陣列90d進行空間轉換成具有一維空間分佈的第二測物光陣列。本實施例藉由導光元件在空間位置的重新編排，亦即一端為二維陣列排列，另一端為一維線性排列，可以徹底消除因為密集排列的量測點陣所導致的光譜線長度與光譜解析能力之限制。要說明的是第一開口211a、第二開口213a的數量係根據使用者偵測需求而定，並不以本發明所舉實施例為限制。

多條導光元件214的第二端214b再與偵測模組22耦接在一起。本實施例中，偵測模組22為一光譜儀。用以接收從導光元件214第二端所發出的第二測物光。由於本實施例的偵測光為寬頻光，因此每一個測物光含有多種波長的光譜資訊，透過偵測模組22將每一個導光元件214所發出的測物光的光譜展開，以形成具有二維光譜資訊。在一實施例中，量測前，會先建立光譜所對應之深度資訊，之後從每一個導光元件214發出的測物光所展開的光譜，可以找出對應該測物光具有最大光強的波長，以該波長所對應的表面深度作為該測物光投射到待測物表面上之特定位置的深度。因此，在本實施例中，透過信號演算模组23與偵測模組22電性連接，信號演算模组23藉由適當峰值偵測演算法以及系統之深度反應校正曲線之轉換，可求得被測物體之形貌資訊，從光譜資訊轉換成待測物表面形貌的技術為本領域技術之人所熟知，在此不做贅述。

接下來說明本發明圖2的操作方式，首先光源模組20產生寬頻偵測光90通過微透鏡陣列210形成具有點光源陣列90b。點光源陣列90b通過第一空間調製元件211之後，通過分光元件212a以及準直透鏡212b再投射到振鏡元件212c。每一點光源經由振鏡元件212c反射到掃描透鏡212d然後聚焦在色散物鏡212e的前聚焦面處再投射到色散物鏡212e。而此掃描透鏡與色散物鏡間為雙遠心之架構，以減少測物光之耗損以及維持較好的成像品質。色散物鏡212e再將偵測光色散形成色散光陣列90c投射到待測物S上。由於點光源陣列90b中的每一道偵測光是寬頻光，因此在色散物鏡212e色散成色散光陣列90c之後，色散光陣列90c中的每一道色散光對應不同波長的色光具有不同的聚焦深度。

投射到待測物S之後，如圖5A所示，色散光陣列90c(圖中顯示25個，但不以此為限制)每一道色散光90e投射到待測物S上的特定位置P(圖中顯示25個，但不以此為限制)，再由特定位置P反射形成複數道測物光。由於每一個特定位置P的深度不同，因此每一道色散偵測光90e從對應的特定位置P反射之後所形成測物光的各個波長成分中，具有最大光強的波長會隨著特定位置P的深度而有所不同。測物光陣列90d循著原來的光路通過色散物鏡212e、掃描透鏡212d、振鏡元件212c、準直透鏡212b然後進入分光元件212a。每一測物光被分光元件212a分光而進入到和第一空間調製元件211共軛對應的第二空間調製元件213。如圖2與圖4所示，在一實施例中，每一道測物光通過對應的第二開口213a，而被第二開口213a濾波。通過每一第二開口213a的測物光經過導光元件214的導引而被偵測模組22所接收。偵測模組22將對應每一導光元件214所發出的測物光進行光譜展開，可以得到每通過每一導光元件214的每一測物光所具有的最大光強的波長。然後再根據最大光強之波長得到對應該測物光的特定位置P的深度。

要說明的是，對於大尺寸的待測物而言，由於待測物S的表面形貌並沒有辦法一次性被投射到待測物S的偵測光陣列90c所完全覆蓋，或者是即使可以完全覆蓋，但因為避免偵測光之間的橫向交談干擾問題，偵測光與偵測光之間必須保持一個間隔，因此會降低表面形貌量測解析度。為了解決前述之問題，需要透過掃描的方式來讓測物光完全掃描到待測物S上的所有區域。請參閱圖5B所示，在習用技術中，有利用承載待測物S的平台進行位移運動M，讓偵測光(水平方向不移動)可以對移動ΔD的待測物 S’進行掃描。在一實施例中，ΔD可以為4~10 μm，但不以此為限制。經過多次水平(X與Y方向)的ΔD(4 μm~10 μm )移動，達到完全偵測到待測物表面形貌以及增加解析度的效果。然而透過移動待測物S的方式會有機械振動或者是機構移動精度的限制，使得掃描解析度以及感測精度無法提升。因此在本實施例中，如圖5C與圖6所示，透過振鏡元件212c的擺動可以控制投射至待測物S上的位置。在圖6中，振鏡元件212c改變了反射的角度，轉動了θ角度的振鏡元件212c’反射點光源陣列90b，改變了投射到掃描透鏡212d以及色散物鏡212e的位置，進而改變了投射到待測物S上的位置。在圖5C中，可以看出振鏡元件212c’改變了色散偵測光90e’投射到待測物的位置相對於原本色散偵測光90e偏移了Δd。其中，Δd主要是透過掃描透鏡的焦距與振鏡擺動角度(θ)的乘積所決定(由於θ的角度很小因此可簡化成此關係)。在一實施例中，Δd可以為1~5 μm，但不以此為限制。偏移量Δd(1~5 μm )可以小於圖5B機械移動的位移ΔD(4 μm~10 μm ) ，使得振鏡元件212c來控制偵測光束對待測物掃描可以進一步提升系統量測解析度，與量測速度。

綜合上述，本發明之共軛光學模組以及共軛光學之彩色共焦量測系統，可以透過微透鏡陣列將面型照明聚焦成多點的光源改善光效率的問題。此外，本發明之實施例透過二維振鏡(2-D galvanometers)來做掃描以獲取全域的影像，使得不需要移動待測物就可以對待測物進行全域掃描，避免了因為物理移動產生振動影響檢測的效果，以及利用光纖從二維陣列轉換成一維陣列的排列來導引測物光進入光譜儀，以消除因為密集排列的量測點陣所導致的光譜線長度與光譜解析能力之限制。

以上所述，乃僅記載本發明為呈現解決問題所採用的技術手段之較佳實施方式或實施例而已，並非用來限定本發明專利實施之範圍。即凡與本發明專利申請範圍文義相符，或依本發明專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本發明專利範圍所涵蓋。

2:彩色共焦量測系統 20:光源模組 200:寬頻光源 201:準直鏡組 21:共軛光學量測模組 210:微透鏡陣列 210a:微透鏡 211:第一空間調製元件 211a:開口 211b:針孔 212:光學模組 212a:分光元件 212b:準直透鏡 212c:振鏡元件 212d:掃描透鏡 212e:色散物鏡 213:第二空間調製元件 214:導光元件 214a:第一端 214b:第二端 22:偵測模組 23:信號演算模组 90:偵測光 90a:準直偵測光 90b:點光源陣列 90c:色散光陣列 90d:測物光陣列 90e,90e’:色散光 S,S’:待測物 P:特定位置 SL1:入光面 SL2:出光面

圖1 為習用之彩色共焦顯微系統示意圖。圖2 為本發明之共軛光學之彩色共焦量測系統示意圖。圖3A 為本發明之微透鏡陣列之一實施例示意圖。圖3B 為本發明之第一與第二空間調製元件示意圖。圖4A 為本發明之第二空間調製元件與偵測模組耦接示意圖。圖 4B 為本發明之呈陣列排列之導光元件第一端排列示意圖。圖5A 為偵測光陣列投射至待測物示意圖。圖5B 為移動待測物讓偵測光陣列投射至待測物上之不同位置示意圖。圖5C 為改變振鏡元件轉動角度以改變偵測光陣列投射至待測物上之不同位置示意圖。圖6 為本發明之共軛光學之彩色共焦量測系統改變振鏡元件轉動角度已改變偵測光陣列投射至待測物上不同位置示意圖。

2:彩色共焦量測系統

20:光源模組

200:寬頻光源

201:準直鏡組

21:共軛光學量測模組

210:微透鏡陣列

211:第一空間調製元件

212a’:針孔

212:光學模組

212a:分光元件

212b:準直透鏡

212c:振鏡元件

212d:掃描透鏡

212e:色散物鏡

213:第二空間調製元件

214:導光元件

22:偵測模組

23:信號演算模组

90:偵測光

90a:準直偵測光

90b:點光源陣列

90c:色散偵測光

S:待測物

Claims

一種共軛光學之彩色共焦量測系統，包括：一光源模組，用以產生一偵測光；以及一微透鏡陣列，設置於該偵測光的光路上，用以將該偵測光聚焦成一點光源陣列；一第一空間調製元件，設置於該微透鏡陣列的一側，使該微透鏡陣列位於該光源模組與該第一空間調製元件之間，該第一空間調製元件包括有一第一開口陣列與該點光源陣列對應；一光學模組，用以接收通過該第一空間調製元件的該點光源陣列，並將該點光源陣列色散投射至一待測物上，以形成一第一測物光陣列；一第二空間調製元件，設置於該光學模組一側，接收該第一測物光陣列，該第二空間調製元件具有一第二開口陣列與該第一開口陣列成共軛對應；一空間轉換模組，與該第二空間調製元件耦接，用以將該測物光陣列轉換成具有一空間分佈的一第二測物光陣列；一偵測模組，與該空間轉換模組耦接，該偵測模組接收該空間分佈的第二測物光陣列，並將該空間分佈的第二測物光陣列轉換成一光譜資訊；以及一信號演算模組，藉由峰值偵測演算法以及系統之深度反應校正曲線之轉換，可求得被測物體之形貌資訊。
如請求項1所述之共軛光學之彩色共焦量測系統，其中該空間轉換模組具有複數個導光元件，該複數個導光元件的第一端成二維陣列排列與該第二開口陣列相對應，以接收通過該第二開口陣列的該第一測物光陣列，該複數個導光元件的第二端成一維線性排列與該偵測模組耦接，使該第二測物光陣列具有一維的空間分佈。
如請求項2所述之共軛光學之彩色共焦量測系統，其中相鄰導光元件之間具有一間距。
如請求項1所述之共軛光學之彩色共焦量測系統，其中該光學模組更具有一振鏡元件，設置於該點光源陣列的光路上，該振鏡元件藉由改變轉動角度，而改變該點光源陣列投射到該待測物的位置。
如請求項1所述之共軛光學之彩色共焦量測系統，其中該光源模組具有一寬頻光源，其具有一第一特徵尺寸以產生具有一第一發散角度的該偵測光，該第一空間調製元件的一第一開口具有一第二特徵尺寸，其中通過該第一開口中心的偵測光具有一第二發散角度，其中該第一特徵尺寸與該第一發散角度的乘積近似於或等於該第二特徵尺寸與該第二發散角度的乘積。
一種共軛光學模組，包括：一微透鏡陣列，用以將一偵測光聚焦形成一點光源陣列；一第一空間調製元件，接收該點光源陣列，該第一空間調製元件具有一第一開口陣列與該點光源陣列對應；一光學模組，設置於該微透鏡陣列的一側，用以將該點光源陣列導引至一待測物並形成具有複數道測物光的一測物光陣列；以及一第二空間調製元件，用以接收來自於待測物的該測物光陣列，該第二空間調製元件具有複數個第二開口所構成的一第二開口陣列與該第一開口陣列成共軛對應，每一道測物光通過對應的第二開口，而被該第二開口濾波。
如請求項6所述之共軛光學模組，其中該光學模組更具有一振鏡元件，設置於該複數個點光源的光路上，該振鏡元件藉由改變轉動角度，而改變該複數個點光源投射到該待測物的位置。
如請求項6所述之共軛光學模組，其中該偵測光為一寬頻偵測光。
如請求項6所述之共軛光學模組，其中該偵測光係由具有一第一特徵尺寸的一寬頻光源產生，該偵測光具有一第一發散角度，該第一空間調製元件的一第一開口具有一第二特徵尺寸，其中通過該第一開口中心的偵測光具有一第二發散角度，其中該第一特徵尺寸與該第一發散角度的乘積近似於或等於該第二特徵尺寸與該第二發散角度的乘積。
一種共軛光學之空間轉換光學模組，包括：一空間調製元件，接收從一待測物反射的一第一測物光陣列，該空間調製元件具有一開口陣列；以及一空間轉換模組，與該開口陣列耦接，用以將該第一測物光陣列轉換成具有一空間分佈的一第二測物光陣列；其中，該空間轉換模組具有複數個導光元件，該複數個導光元件的第一端成二維陣列排列與該第二開口陣列相對應，以接收通過該第二開口陣列的該第一測物光陣列，該複數個導光元件的第二端成一維線性排列與該偵測模組耦接，使該第二測物光陣列具有一維的空間分佈。
如請求項10所述之共軛光學之空間轉換光學模組，其中相鄰導光元件之間具有一間距。