TWI783795B - 兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法 - Google Patents

Abstract

一種兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含：於一主平台上配置連接至少一第一主撓曲組及至少一第二主撓曲組；於該第一主撓曲組配置組合至少一第一副撓曲組，如此該第一主撓曲組及第一副撓曲組連接於該主平台；於該第二主撓曲組配置組合至少一第二副撓曲組，如此該第二主撓曲組及第二副撓曲組連接於該主平台；於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅；及於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第二響應振幅。

Description

兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法

本發明係關於一種兩自由度〔two degree of freedom，DOF〕調諧質量阻尼〔tuned mass damping，TMD〕平台系統及其操作方法；特別是關於一種葉片式撓曲〔leaf flexure〕兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法；更特別是關於一種並聯〔parallel connected〕及垂直排列之葉片式撓曲兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法。

習用模具水平調整定位機構及其操作方法，例如：中華民國專利公告第TW-M518157號之〝模具水平調整定位機構〞新型專利，其揭示一種模具水平調整定位機構。該模具水平調整定位機構包含一基座、一水平定位裝置及至少一微調裝置。

承上，前述第TW-M518157號之該基座具有一水平面，而該水平定位裝置設置於該基座上，且該水平定位裝置用以定位一模具組。該微調裝置則設置於該水平定位裝置上，且該微調裝置用以微調該模具組。另外，該水平定位裝置包含數個側定位牆及數個彈性定位單元，且該彈性定位單元包含數個彈性元件及數個抵推滾珠。

另一習用多重校正定位機台及其操作方法，例如：中華民國專利公告第TW-I489582號之〝多重校正定位機台〞發明專利，其揭示一種多重校正定位機台。該多重 校正定位機台包含一承載基座、一輸送軌道、一第一校正定位單元及一第二校正定位單元。

承上，前述第TW-I489582號之該第一校正定位單元連接於該承載基座，而該第二校正定位單元連接於該輸送軌道。利用該第一校正定位單元調整該承載基座，而利用該第二校正定位單元調整該輸送軌道。另外，該多重校正定位機台可選擇應用於一紫外光固化成型裝置。

另一習用電動調整定位機構及其操作方法，例如：中華民國專利公告第TW-I540019號之〝電動調整定位機構〞發明專利，其揭示一種電動調整定位機構。該電動調整定位機構包含一基板、一第一調整定位組、一第二調整定位組及一第三調整定位組。

承上，前述第TW-I540019號之該基板具有一第一位置、一第二位置及一第三位置。該第一調整定位組、第二調整定位組及第三調整定位組分別設置於該基板之第一位置、第二位置及一第三位置。

承上，前述第TW-I540019號之該第一調整定位組包含一第一定位件及一第一電動導引件，且該第一定位件樞接於該第一電動導引件。該第二調整定位組包含一第二定位件及一第二電動導引件，且該第二定位件樞接於該第二電動導引件。該第三調整定位組包含一第三定位件及一第三電動導引件，且該第三定位件樞接於該第三電動導引件。該第一調整定位組、第二調整定位組及第三調整定位組共同抵推一待調整物件。

另一習用具電動式調整定位功能之模具機台及其操作方法，例如：中華民國專利公告第TW-I540020號之〝具電動式調整定位功能之模具機台〞發明專利，其揭示一種具電動式調整定位功能之模具機台。該具電動式調整定位功能之模具機台包含一承載基座、至少一模具組 件及一調整定位機構。

承上，前述第TW-I540020號之該模具組件及調整定位機構設置於該承載基座上。該調整定位機構包含數個調整定位組，其設置於該承載基座。該調整定位組包含數個定位件及數個電動導引件，且每個該定位件對應樞接於該電動導引件。數個該調整定位組共同抵推該模具組件。

另一習用射出成形系統及其模具調整定位機構，例如：中華民國專利公告第TW-I556939號之〝射出成形系統及其模具調整定位機構〞發明專利，其揭示一種射出成形系統。該射出成形系統具有一模具調整定位機構，且該模具調整定位機構包含一定位基板、一第一調整定位組、一第二調整定位組及一第三調整定位組。

承上，前述第TW-I556939號之該定位基板具有一第一位置、一第二位置及一第三位置。該第一調整定位組、第二調整定位組及第三調整定位組分別設置於該定位基板之第一位置、第二位置及一第三位置。

承上，前述第TW-I556939號之該第一調整定位組包含一第一定位件及一第一電動導引件，且該第一定位件樞接於該第一電動導引件。該第二調整定位組包含一第二定位件及一第二電動導引件，且該第二定位件樞接於該第二電動導引件。該第三調整定位組包含一第三定位件及一第三電動導引件，且該第三定位件樞接於該第三電動導引件。該第一調整定位組、第二調整定位組及第三調整定位組共同抵推一模具裝置。

然而，前述中華民國專利公告第TW-M518157號之模具水平調整定位機構、第TW-I489582號之多重校正定位機台、第TW-I540019號之電動調整定位機構、第TW-I540020號之具電動式調整定位功能之模具機台及第 TW-I556939號之射出成形系統及其模具調整定位機構雖然具有水平調整平台機構，但其並不具有調諧質量阻尼功能，因此其仍存在進一步改良之需求。

另一習用高阻尼吸振平台結構及其操作方法，例如：中華民國專利公告第TW-M343036號之〝高阻尼吸振平台結構〞新型專利，其揭示一種高阻尼吸振平台結構。該高阻尼吸振平台結構包含一基座、一框體結構、一阻尼填充材及一上蓋板。

承上，前述第TW-M343036號之該框體結構以一定位結構定位在該基座上，而該框體結構中具有一阻尼材料填充空間，且該阻尼填充材填充於該框體結構中之阻尼材料填充空間，且該上蓋板蓋覆在該阻尼填充材上，以作為一機台承置面，以便該機台承置面可供一標的機台進行承置。

承上，前述第TW-M343036號之該上蓋板以一接合結構定位在該框體結構，而該上蓋板具有一底面，且該上蓋板之底面更具有至少一補強肋，且該補強肋由該上蓋板之底面向下延伸出一預定高度。該框體結構具有一內側面，而該該框體結構之內側面更具有至少一補強肋，且該補強肋由該框體結構之內側面向水平方向延伸出一預定長度。

另一習用改善線性滑軌之剛性與阻尼的輔助滑塊及其應用工作平台，例如：中華民國專利公告第TW-M494230號之〝改善線性滑軌之剛性與阻尼的輔助滑塊及應用其之工作平台〞新型專利，其揭示一種改善線性滑軌之剛性與阻尼的輔助滑塊。該改善線性滑軌之剛性與阻尼的輔助滑塊包含一輔助滑塊、一高剛性第一支撐面及一高剛性第二支撐面。

承上，前述第TW-M494230號以該輔助滑塊用 於設置在一線性滑軌導軌，而該輔助滑塊具有一頂部、一底部及一承載面，且該輔助滑塊之頂部具有該承載面。該輔助滑塊具有一底部，而該輔助滑塊之底部具有一滑槽，且該滑槽匹配於該線性滑軌導軌。

承上，前述第TW-M494230號之該輔助滑塊在該滑槽及承載面之間具有一漸硬接觸結構，而該漸硬接觸結構包含一或數個低剛性變形部，且該低剛性變形部承受該承載面之垂直方向荷重而可變形。該高剛性第一支撐面承受該承載面之垂直方向荷重而可下降，而該高剛性第一支撐面對應於該高剛性第二支撐面，且該高剛性第一支撐面及高剛性第二支撐面之間具有一容許間隙。

然而，前述中華民國專利公告第TW-M343036號之高阻尼吸振平台結構及第TW-M494230號之改善線性滑軌之剛性與阻尼的輔助滑塊雖然具有結合應用阻尼功能，但其並不具有多自由度調諧質量阻尼功能，因此其仍存在進一步改良之需求。

顯然，前述中華民國專利公告第TW-M518157號、第TW-I489582號、第TW-I540019號、第TW-I540020號、第TW-I556939號、第TW-M343036號及第TW-M494230號之專利僅為本發明技術背景之參考及說明目前技術發展狀態而已，其並非用以限制本發明之範圍。

有鑑於此，本發明為了滿足上述需求，其提供一種兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法，其於一主平台上配置連接至少一第一主撓曲組及至少一第二主撓曲組，並於該第一主撓曲組配置組合至少一第一副撓曲組，且於該第二主撓曲組配置組合至少一第二副撓曲組，以便於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅，且於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該 主平台之一第二響應振幅，因此相對於習用各種平台二維調整處理技術可達成提供兩自由度調諧質量阻尼功能之目的。

本發明之主要目的係提供一種兩自由度調諧質量阻尼平台系統及其操作方法，其於一主平台上配置連接至少一第一主撓曲組及至少一第二主撓曲組，並於該第一主撓曲組配置組合至少一第一副撓曲組，且於該第二主撓曲組配置組合至少一第二副撓曲組，以便於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅，且於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第二響應振幅，以達成提供兩自由度調諧質量阻尼功能之目的或功效。

為了達成上述目的，本發明較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統包含：

一主平台，其包含至少一第一側邊及至少一第二側邊；

至少一第一主撓曲組，其連接於該主平台之第一側邊；

至少一第一副撓曲組，其配置組合於該第一主撓曲組，如此該第一主撓曲組及第一副撓曲組連接於該主平台；

至少一第二主撓曲組，其連接於該主平台之第二側邊；及

至少一第二副撓曲組，其配置組合於該第二主撓曲組，如此該第二主撓曲組及第二副撓曲組連接於該主平台；

其中於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅，且於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配 置減輕該主平台之一第二響應振幅。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組及第一副撓曲組配置結合一第一阻尼元件。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組及第二副撓曲組配置結合一第二阻尼元件。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組及第一副撓曲組為選自一第一葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組及第二副撓曲組為選自一第二葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組垂直排列配置組合於該第一副撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組垂直排列配置組合於該第二副撓曲組。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組為選自一第一並聯雙葉片式撓曲組或一第一並聯多葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組為選自一第二並聯雙葉片式撓曲組或一第二並聯多葉片式撓曲組。

為了達成上述目的，本發明較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含：

於一主平台上配置連接至少一第一主撓曲組及至少一第二主撓曲組；

於該第一主撓曲組配置組合至少一第一副撓曲組，如此該第一主撓曲組及第一副撓曲組連接於該主平台；

於該第二主撓曲組配置組合至少一第二副撓曲組，如此該第二主撓曲組及第二副撓曲組連接於該主平台；

於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅；及

於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第二響應振幅。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組及第一副撓曲組配置結合一第一阻尼元件。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組及第二副撓曲組配置結合一第二阻尼元件。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組及第一副撓曲組為選自一第一葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組及第二副撓曲組為選自一第二葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組垂直排列配置組合於該第一副撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組垂直排列配置組合於該第二副撓曲組。

本發明較佳實施例之該第一主撓曲組為選自一第一並聯雙葉片式撓曲組或一第一並聯多葉片式撓曲組。

本發明較佳實施例之該第二主撓曲組為選自一第二並聯雙葉片式撓曲組或一第二並聯多葉片式撓曲組。

1:主平台

10:主框體

10a:容置空間

11:第一側邊

12:第二側邊

21:第一主撓曲組

22:第二主撓曲組

31:第一副撓曲組

32:第二副撓曲組

4:阻尼元件

4a:阻尼塊體

4b:阻尼臂

4c:結合部

41:第一阻尼元件

42:第二阻尼元件

第1圖：本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之方塊示意圖。

第2圖：本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之立體示意圖。

第3圖：本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之正視示意圖。

第4圖：本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻 尼平台之操作方法之方塊示意圖。

第5圖：本發明第二較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之正視示意圖。

第6圖：本發明第三較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統採用阻尼元件之立體示意圖。

為了充分瞭解本發明，於下文將例舉較佳實施例並配合所附圖式作詳細說明，且其並非用以限定本發明。

本發明較佳實施例之兩自由度〔DOF〕調諧質量阻尼平台系統及其操作方法適用於各種微機電平台系統、各種可精準定位平台裝置、各種模具之定位平台裝置、各種精密儀器之定位平台裝置、各種可調諧質量阻尼平台裝置或其它阻尼平台裝置及其阻尼平台之操作方法，但其並非用以限定本發明之應用範圍。

第1圖揭示本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之方塊示意圖；第2圖揭示本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之立體示意圖，其對應於第1圖之兩自由度調諧質量阻尼平台系統；第3圖揭示本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之正視示意圖，其對應於第1圖之立體示意圖。

請參照第1、2及3圖所示，舉例而言，本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統包含至少一主平台1、至少一第一主撓曲組21、至少一第二主撓曲組22、至少一第一副撓曲組31及至少一第二副撓曲組32，且該主平台1選擇配置至少一位移檢測器〔未繪示〕及其周邊設備。

請再參照第1、2及3圖所示，舉例而言，該主平台1具有一預定對稱形狀塊體〔例如：正方塊體、長 方塊體、六邊塊體或其它對稱形狀塊體〕，而該主平台1包含至少二第一側邊11及至少二第二側邊12，且該二第一側邊11位於該主平台1之一第一縱軸〔例如：X軸方向或其它縱軸方向〕之二相對側，且該第二側邊12相對位於該主平台1之一第二縱軸〔例如：Y軸方向或其它縱軸方向〕之二相對側。

請再參照第2及3圖所示，舉例而言，該主平台1利用該第一主撓曲組21、第二主撓曲組22、第一副撓曲組31及第二副撓曲組32選擇結合於一主框體10，而該主框體10具有一容置空間10a及一內周緣側牆〔未標示〕，且該容置空間10a由該內周緣側牆定義形成，以便利用該容置空間10a容置該主平台1、第一主撓曲組21、第二主撓曲組22、第一副撓曲組31及第二副撓曲組32之組合，如第2及3圖所示。

請再參照第1、2及3圖所示，舉例而言，該第一主撓曲組21及第一副撓曲組31為選自一第一葉片式撓曲組。同樣的，該第二主撓曲組22及第二副撓曲組32為選自一第二葉片式撓曲組，且該第一葉片式撓曲組及第二葉片式撓曲組可選擇具有相同尺寸規格〔例如：厚度、寬度或長度〕、相同材料、相同剛性或其它相同物理條件規格。

請再參照第1、2及3圖所示，舉例而言，該第一主撓曲組21為選自一第一並聯雙葉片式撓曲組或一第一並聯多葉片式撓曲組。相對的，該第二主撓曲組22為選自一第二並聯雙葉片式撓曲組或一第二並聯多葉片式撓曲組。

第4圖揭示本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法之方塊示意圖。請參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明第一較佳實施例之兩 自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含步驟S1：首先，以適當技術手段〔例如：自動化方式、半自動化方式或手動方式〕於該主平台1之二第一側邊11上分別配置連接該第一主撓曲組21，且於該主平台1之二第二側邊12上分別配置連接該第二主撓曲組22。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含步驟S2：接著，以適當技術手段〔例如：自動化方式、半自動化方式或手動方式〕於該第一主撓曲組21配置組合至少一個或數個該第一副撓曲組31，如此該第一主撓曲組21及第一副撓曲組31適當形成連接於該主平台1之第一側邊11，如第1、2及3圖所示。

請再參照第2及3圖所示，舉例而言，該第一主撓曲組21具有一第一端〔distal end〕及一第二端，而該第一主撓曲組21之第一端適當形成連接於該主平台1之第一側邊11，且該第一主撓曲組21之第二端適當形成連接於該第一副撓曲組31之一適當位置。

請再參照第2及3圖所示，舉例而言，該第一副撓曲組31具有一第一端及一第二端，而該第一副撓曲組31之第一端及第二端適當形成連接固定於該主框體10之容置空間10a之內周緣側牆之二適當位置上，以便將該主平台1及第一主撓曲組21支撐於該主框體10之容置空間10a之內。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明另一較佳實施例之該第一主撓曲組21可選擇垂直排列配置組合於該第一副撓曲組31，或該第一主撓曲組21可選擇其它組合形式〔例如：其它夾角角度交叉排列配置方式〕排列配置組合於該第一副撓曲組31。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言， 本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含步驟S3：接著，以適當技術手段〔例如：自動化方式、半自動化方式或手動方式〕於該第二主撓曲組22配置組合至少一個或數個該第二副撓曲組32，如此該第二主撓曲組22及第二副撓曲組32適當形成連接於該主平台1之第二側邊12，如第1、2及3圖所示。

請再參照第2及3圖所示，舉例而言，該第二主撓曲組22具有一第一端及一第二端，而該第二主撓曲組22之第一端適當形成連接於該主平台1之第二側邊12，且該第二主撓曲組22之第二端適當形成連接於該第二副撓曲組32之一適當位置。

請再參照第2及3圖所示，舉例而言，該第二副撓曲組32具有一第一端及一第二端，而該第二副撓曲組32之第一端及第二端適當形成連接固定於該主框體10之容置空間10a之內周緣側牆之二適當位置上，以便將該主平台1及第二主撓曲組22支撐於該主框體10之容置空間10a之內。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明另一較佳實施例之該第二主撓曲組22可選擇垂直排列配置組合於該第二副撓曲組32，或該第二主撓曲組22可選擇其它組合形式〔例如：其它夾角角度交叉排列配置方式〕排列配置組合於該第二副撓曲組32。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含步驟S4：接著，以適當技術手段〔例如：自動化方式、半自動化方式或手動方式〕於一第一自由度利用該第一主撓曲組21之主撓曲動作〔例如：往復運動〕及第一副撓曲組31之副撓曲動作〔例如：往復運動〕共同適當配置，以便適當提供阻尼而減輕該主平台1之一第一響應 振幅，例如：振動頻率之響應。

請再參照第1、2、3及4圖所示，舉例而言，本發明第一較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法包含步驟S5：接著，以適當技術手段〔例如：自動化方式、半自動化方式或手動方式〕於一第二自由度利用該第二主撓曲組22之主撓曲動作〔例如：往復運動〕及第二副撓曲組32之副撓曲動作〔例如：往復運動〕共同適當配置，以便適當提供阻尼而減輕該主平台1之一第二響應振幅，例如：振動頻率之響應。

第5圖揭示本發明第二較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統之正視示意圖。請參照第5圖所示，舉例而言，相對於第一實施例，本發明第二較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統包含至少一主平台1、至少一第一主撓曲組21、至少一第二主撓曲組22、至少一第一副撓曲組31、至少一第二副撓曲組32、至少一第一阻尼元件41及至少一第二阻尼元件42。

請再參照第5圖所示，舉例而言，該第一主撓曲組21及第一副撓曲組31配置結合一第一阻尼元件，以便於第一自由度利用該第一阻尼元件41適當提供一第一阻尼作用至該主平台1。同樣的，該第二主撓曲組22及第二副撓曲組32配置結合一第二阻尼元件，以便於第二自由度利用該第二阻尼元件42適當提供一第二阻尼作用至該主平台1。

第6圖揭示本發明第三較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統採用阻尼元件之立體示意圖。請參照第6圖所示，舉例而言，相對於第二實施例，本發明第三較佳實施例之兩自由度調諧質量阻尼平台系統採用一阻尼元件4。

請再參照第6圖所示，舉例而言，該阻尼元件 4包含一阻尼塊體4a、一阻尼臂4b及一結合部4c，而該阻尼塊體4a可選擇具有一預定形狀塊體及一預定尺寸規格〔例如：質量及其它尺寸規格〕，且該預定形狀塊體可選自一正方塊體、一長方塊體、一六邊塊體、一對稱多邊形狀塊體或其它對稱形狀塊體。

請再參照第6圖所示，舉例而言，該阻尼臂4b具有一預定長度，而該阻尼臂4b可選自一長片臂體、一長條臂體或其它形狀臂體，且該阻尼臂4b包含一第一端部〔distal end portion〕及一第二端部，且該阻尼臂4b之第一端部適當連接於該阻尼塊體4a，且該阻尼臂4b之第二端部另適當連接於該結合部4c。

請再參照第6圖所示，舉例而言，該結合部4c包含一組合片體〔未標示〕，且該結合部4c利用該組合片體以適當技術手段〔例如：固定組合式、可動組合式或其它組合方式〕連接於該主平台1之第一側邊11及第二側邊12之適當位置上。

前述較佳實施例僅舉例說明本發明及其技術特徵，該實施例之技術仍可適當進行各種實質等效修飾及/或替換方式予以實施；因此，本發明之權利範圍須視後附申請專利範圍所界定之範圍為準。本案著作權限制使用於中華民國專利申請用途。

1:主平台

21:第一主撓曲組

22:第二主撓曲組

31:第一副撓曲組

32:第二副撓曲組

Claims (10)

1. 一種兩自由度調諧質量阻尼平台系統，其包含：一主平台上，其包含至少一第一側邊及至少一第二側邊；至少一第一主撓曲組，其連接於該主平台之第一側邊；至少一第一副撓曲組，其配置組合於該第一主撓曲組，且該第一主撓曲組及第一副撓曲組連接於該主平台；至少一第二主撓曲組，其連接於該主平台之第二側邊；及至少一第二副撓曲組，其配置組合於該第二主撓曲組，且該第二主撓曲組及第二副撓曲組連接於該主平台；其中於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅，且於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第二響應振幅。
2. 依請求項1所述之兩自由度調諧質量阻尼平台系統，其中該第一主撓曲組及第一副撓曲組配置結合一第一阻尼元件，或該第二主撓曲組及第二副撓曲組配置結合一第二阻尼元件。
3. 依請求項1所述之兩自由度調諧質量阻尼平台系統，其中該第一主撓曲組及第一副撓曲組為選自一第一葉片式撓曲組，或該第二主撓曲組及第二副撓曲組為選自一第二葉片式撓曲組。
4. 依請求項1所述之兩自由度調諧質量阻尼平台系統，其中該第一主撓曲組垂直排列配置組合於該第一副撓曲組，該第二主撓曲組垂直排列配置組合於該第二副撓曲組。
5. 依請求項1所述之兩自由度調諧質量阻尼平台系統，其中該第一主撓曲組為選自一第一並聯雙葉片式撓曲組或一第一並聯多葉片式撓曲組，或該第二主撓曲組為選自一第二並聯雙葉片式撓曲組或一第二並聯多葉片式撓曲組。
6. 一種兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法，其包含：於一主平台上配置連接至少一第一主撓曲組及至少一第二主撓曲組；於該第一主撓曲組配置組合至少一第一副撓曲組，且該第一主撓曲組及第一副撓曲組連接於該主平台；於該第二主撓曲組配置組合至少一第二副撓曲組，且該第二主撓曲組及第二副撓曲組連接於該主平台；於一第一自由度利用該第一主撓曲組及第一副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第一響應振幅；及於一第二自由度利用該第二主撓曲組及第二副撓曲組共同配置減輕該主平台之一第二響應振幅。
7. 依請求項6所述之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法，其中該第一主撓曲組及第一副撓曲組配置結合一第一阻尼元件，或該第二主撓曲組及第二副撓曲組配置結合一第二阻尼元件。
8. 依請求項6所述之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法，其中該第一主撓曲組及第一副撓曲組為選自一第一葉片式撓曲組，或該第二主撓曲組及第二副撓曲組為選自一第二葉片式撓曲組。
9. 依請求項6所述之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法，其中該第一主撓曲組垂直排列配置組合於該第一副撓曲組，該第二主撓曲組垂直排列配置組合於該第二副撓曲組。
10. 依請求項6所述之兩自由度調諧質量阻尼平台之操作方法，其中該第一主撓曲組為選自一第一並聯雙葉片式撓曲組或一第一並聯多葉片式撓曲組，或該第二主撓曲組為選自一第二並聯雙葉片式撓曲組或一第二並聯多葉片式撓曲組。

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