TWI780850B - 用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物及利用該組成物的圖案形成方法 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 91
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 title description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 title 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 133
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 42
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 27
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 claims abstract description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 186
- -1 propylene carboxylate Chemical class 0.000 claims description 98
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 92
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 85
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 50
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 25
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 18
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims description 16
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- NHEVNUARLCWEED-UHFFFAOYSA-N 1,4,5-Naphthalenetriol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1O NHEVNUARLCWEED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- LMASMPWURZYBEE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoro-n-(1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropylsulfonyl)propane-1-sulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LMASMPWURZYBEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-n-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- MEQXNRAKVNDUFL-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylhept-3-ene-2,4,6-triol Chemical compound CC(C)(O)CC(O)=CC(C)(C)O MEQXNRAKVNDUFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- BDGGTLNJPLIHCZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-3,5-diene-1,2,3-triol Chemical compound OC1(C(C=CC=C1O)O)C BDGGTLNJPLIHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QJGNMNVVLILWRD-QPJJXVBHSA-N 3,7-Dimethyl-3-octene-1,2,6,7-tetrol Chemical compound OCC(O)C(/C)=C/CC(O)C(C)(C)O QJGNMNVVLILWRD-QPJJXVBHSA-N 0.000 claims description 7
- JUDVWZSPIDFZLA-UHFFFAOYSA-N 5-(hydroxymethyl)benzene-1,2,3-triol Chemical compound OCC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 JUDVWZSPIDFZLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- SYRVWXFZYGDVTF-UHFFFAOYSA-N 5-isopropyl-2-methyl-5-cyclohexene-1,2,4-triol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)C(C)(O)CC1O SYRVWXFZYGDVTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- NYUABOGYMWADSF-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,2,3-triol Chemical compound CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NYUABOGYMWADSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N Trihydroxybutane Chemical compound CCCC(O)(O)O GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- BKNBVEKCHVXGPH-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,4,9,10-tetrol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C3C(O)=CC=C(O)C3=C(O)C2=C1 BKNBVEKCHVXGPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- CLQZEZFINZCXFG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1,4-triol Chemical compound OCCCC(O)O CLQZEZFINZCXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HXYCHJFUBNTKQR-UHFFFAOYSA-N heptane-1,2,3-triol Chemical compound CCCCC(O)C(O)CO HXYCHJFUBNTKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- YCCMFJOOYZBMME-UHFFFAOYSA-N heptane-1,2,4-triol Chemical compound CCCC(O)CC(O)CO YCCMFJOOYZBMME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- JLNBMESXSVZYNQ-UHFFFAOYSA-N heptane-1,2,6-triol Chemical compound CC(O)CCCC(O)CO JLNBMESXSVZYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LLCVXVJLWNBXGO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,3,5-triol Chemical compound CCC(O)CC(O)CCO LLCVXVJLWNBXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LTBLRTCVEAUSON-UHFFFAOYSA-N heptane-1,4,7-triol Chemical compound OCCCC(O)CCCO LTBLRTCVEAUSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- DSNDTZRJRVQFEQ-UHFFFAOYSA-N heptane-2,3,4-triol Chemical compound CCCC(O)C(O)C(C)O DSNDTZRJRVQFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- FFYZXNOAFYCXEV-UHFFFAOYSA-N heptane-2,4,6-triol Chemical compound CC(O)CC(O)CC(C)O FFYZXNOAFYCXEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XAQMOASESLUBBN-UHFFFAOYSA-N hexane-1,4,5-triol Chemical compound CC(O)C(O)CCCO XAQMOASESLUBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QPNQLFAXFXPMSV-UHFFFAOYSA-N hexane-2,3,4-triol Chemical compound CCC(O)C(O)C(C)O QPNQLFAXFXPMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ACJYCDKJLOEELU-UHFFFAOYSA-N octane-1,3,5-triol Chemical compound CCCC(O)CC(O)CCO ACJYCDKJLOEELU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VPJIDASIZYCWGX-UHFFFAOYSA-N octane-1,4,7-triol Chemical compound CC(O)CCC(O)CCCO VPJIDASIZYCWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2,5-triol Chemical compound OCCCC(O)CO WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- JJAIIULJXXEFLV-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3,4-triol Chemical compound CC(O)C(O)C(C)O JJAIIULJXXEFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 7
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- OOJRTGIXWIUBGG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,2,3-triol Chemical compound OCC(O)(C)CO OOJRTGIXWIUBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YBFNKEDZANIOFQ-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylcyclohex-4-ene-1,2,3-triol Chemical compound C(C)(C)C1=CCC(C(C1O)O)O YBFNKEDZANIOFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AUKZSCHMOAPNEN-UHFFFAOYSA-N 5,6,7,8-tetrahydronaphthalene-1,6,7-triol Chemical compound C1=CC(O)=C2CC(O)C(O)CC2=C1 AUKZSCHMOAPNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFUPTFHBGBCXDZ-UHFFFAOYSA-N hex-3-ene-1,2,5,6-tetrol Chemical compound OCC(O)C=CC(O)CO LFUPTFHBGBCXDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XYXCXCJKZRDVPU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2,3-triol Chemical compound CCCC(O)C(O)CO XYXCXCJKZRDVPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GKCGJDQACNSNBB-UHFFFAOYSA-N octane-1,2,8-triol Chemical compound OCCCCCCC(O)CO GKCGJDQACNSNBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 claims description 5
- KOGXLWSTWNMCHZ-UHFFFAOYSA-N 5-methylhexane-1,2,3-triol Chemical compound CC(C)CC(O)C(O)CO KOGXLWSTWNMCHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims description 3
- DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N Karpoxanthin Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C=C/C1(O)C(C)(C)CC(O)CC1(C)O)C=CC=C(/C)C=CC2=C(C)CC(O)CC2(C)C DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N 0.000 claims description 2
- YIFYCKSPEDTZIS-UHFFFAOYSA-N OCC(O)CCC(O)=CO Chemical compound OCC(O)CCC(O)=CO YIFYCKSPEDTZIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 112
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 67
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 64
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 44
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 28
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 16
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 16
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 12
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 11
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N carbonofluoridic acid Chemical compound OC(F)=O ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 7
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LMMTVYUCEFJZLC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-pentanetriol Chemical compound OCCC(O)CCO LMMTVYUCEFJZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KJPYHRLBRSHUOV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3,4-triol Chemical compound CCC(O)C(O)CCO KJPYHRLBRSHUOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- LFUPTFHBGBCXDZ-OWOJBTEDSA-N (e)-hex-3-ene-1,2,5,6-tetrol Chemical compound OCC(O)\C=C\C(O)CO LFUPTFHBGBCXDZ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- KSHPFXIRVLKZDY-UHFFFAOYSA-N CC(CO)(C=CC(C)(CO)O)O Chemical compound CC(CO)(C=CC(C)(CO)O)O KSHPFXIRVLKZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- NEKMVGRTEQBZJL-UHFFFAOYSA-N octane-1,2,3,8-tetrol Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CO NEKMVGRTEQBZJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZSZOUXLMCRLSU-UHFFFAOYSA-N octane-1,2,7,8-tetrol Chemical compound OCC(O)CCCCC(O)CO TZSZOUXLMCRLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKZCQEDGGUJOQC-UHFFFAOYSA-N octane-1,3,5,7-tetrol Chemical compound CC(O)CC(O)CC(O)CCO YKZCQEDGGUJOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMWRSEFCMDOTHG-UHFFFAOYSA-N octane-2,3,4,5-tetrol Chemical compound CCCC(O)C(O)C(O)C(C)O NMWRSEFCMDOTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIDADEHCBNYZAT-UHFFFAOYSA-N octane-2,3,5,7-tetrol Chemical compound CC(O)CC(O)CC(O)C(C)O PIDADEHCBNYZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- KNCMKWVOMRUHKZ-AATRIKPKSA-N (e)-2,5-dimethylhex-3-ene Chemical compound CC(C)\C=C\C(C)C KNCMKWVOMRUHKZ-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- FJGNTEKSQVNVTJ-UHFFFAOYSA-N 1-Deoxy-D-ribitol Chemical compound CC(O)C(O)C(O)CO FJGNTEKSQVNVTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZGKLWYNGFBDSRF-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3,4,6-tetrol Chemical compound OCCC(O)C(O)CCO ZGKLWYNGFBDSRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZQPAZWGRJYTLN-UHFFFAOYSA-N hexane-2,3,4,5-tetrol Chemical compound CC(O)C(O)C(O)C(C)O TZQPAZWGRJYTLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AALKGALVYCZETF-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2,3-triol Chemical compound CCC(O)C(O)CO AALKGALVYCZETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- MHWRYTCHHJGQFQ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid hydrate Chemical compound O.OC(=O)C=C MHWRYTCHHJGQFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
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Abstract
本發明涉及一種用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物及利用該組成物的圖案形成方法,該製程溶液組成物由以下組成:0.00001至0.01重量%的氟系界面活性劑;0.00001至小於0.01重量%之由化學式1表示的圖案增強劑;0.00001至0.01重量%之選自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或其混合物所組成的群組中的物質;以及餘量的水。
Description
本發明涉及一種用於改善以極紫外線作為曝光源的微影製程中的光阻劑圖案的剝離缺陷的製程溶液組成物,以及利用該組成物的光阻劑圖案形成方法。
通常,半導體透過利用193nm、248nm或365nm等波長帶的紫外線作為曝光源的微影製程製造,各個製造商為了減少關鍵尺寸(以下稱為CD, Critical Dimension)而展開激烈競爭。
因此,為了形成更精細的圖案而需要更小波長帶的光源,目前利用極紫外線(EUV, extreme ultra violet, 13.5nm波長)光源的微影技術正在得到活躍的利用,利用該光源可以實現更加精細的波長。
但是,極紫外線用光阻劑的蝕刻(etching)耐性仍然沒有得到改善,仍需要縱橫比大的光阻劑圖案,從而在顯影中容易發生圖案剝離缺陷,因此在製造過程中發生製程餘裕大幅減少的問題。
從而,需要開發出一種能夠改善精細圖案形成過程中發生的剝離缺陷程度的技術。為了改善剝離缺陷程度,提高光阻劑的性能也許是最佳的,但是也不能忽略難以開發出滿足全部性能的新型光阻劑的現實。
新型光阻劑的開發必要性暫且不論,透過其他方式改善圖案剝離程度的努力一直沒有停止。
[發明所欲解決之問題]
本發明的目的在於,開發出能夠改善在光阻劑顯影後發生的圖案剝離缺陷程度的製程溶液組成物及利用該組成物的光阻劑圖案形成方法。
[解決問題之技術手段]
在顯影製程中使用的水系製程溶液組成物中使用多種界面活性劑,但是本發明中使用氟系界面活性劑,製造出有效的製程溶液組成物。
主要使用超純水的水系製程溶液組成物中使用接近疏水性的烴類界面活性劑時,能夠誘導光阻劑壁面的疏水化,從而能夠減少圖案的溶解(melting)和崩塌。烴系界面活性劑之間凝聚傾向強而導致製程溶液組成物的物性不均勻,使用中反而因為凝聚的烴系界面活性劑存在誘發缺陷(defect)的可能性。即,使用烴系界面活性劑時為了改善溶解需要增加用量,這可能會存在對光阻劑造成損害(Damage)的隱患。此外,為了減少毛細管力而以降低製程溶液組成物的表面張力為目的,過量使用不適合的界面活性劑時,可能誘導圖案的溶解,反而會更加誘發圖案的崩塌。
本發明使用氟系界面活性劑,並進一步使用由化學式1表示的圖案增強劑以及選自由三元醇(Triol)衍生物、四元醇(Tetraol)衍生物或其混合物所組成的群組的物質,由此確認了改善圖案剝離缺陷程度的效果顯著。
[化學式1]
上述化學式1中,X、Y是氟或C1
~C5
烷基;X和Y形成單鍵;l是1~5;m是0~5;n是0~2。
目前大部分微影顯影製程中使用的代表性的顯影液以純水為基質,稀釋一定濃度的四甲基氫氧化銨使用(大部分製程中混用2.38重量%的四甲基氫氧化銨和 97.62重量%的水)。
在微影製程中,在光阻劑圖案顯影後單獨使用純水連續洗滌時確認了發生圖案的剝離缺陷,顯影後或者在純水處理後連續使用純水中包含四甲基氫氧化銨的製程溶液組成物時也確認了圖案的崩塌。
推測包含四甲基氫氧化銨的製程溶液組成物可能弱化曝光的精細圖案,且毛細管力大或者不均勻而使圖案崩塌。
因此,為了改善曝光的圖案的崩塌,進一步改善製程中要求的光阻劑圖案的線寬粗糙度(LWR,Line Width Roughness)及缺陷,有必要研究相比於四甲基氫氧化銨對曝光的圖案影響更小的物質。
本發明中使用氟系界面活性劑,並進一步使用由化學式1表示的圖案增強劑以及選自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或其混合物所組成的群組中的物質,確認了能夠改善圖案崩塌、LWR或缺陷。
根據本發明的第一較佳實施方式,提供一種製程溶液組成物,用於改善光阻劑顯影中發生的光阻劑圖案的剝離缺陷程度,其特徵在於,該製程溶液組成物由以下組成:0.00001至0.01重量%的氟系界面活性劑;0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑;0.00001至0.01重量%之選自由三元醇(Triol)衍生物、四元醇(Tetraol)衍生物或其混合物所組成的群組的物質;以及餘量的水。
此外,根據本發明的第二更佳實施方式,提供一種製程溶液組成物,用於改善光阻劑顯影中發生的光阻劑圖案的剝離缺陷程度,其特徵在於,該製程溶液組成物由以下組成:0.0001至0.01重量%的氟系界面活性劑;0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑;0.00001至0.01重量%之選自由三元醇(Triol)衍生物、四元醇(Tetraol)衍生物或其混合物所組成的群組的物質;以及餘量的水。
進一步地,根據本發明的第三特佳實施方式,提供一種製程溶液組成物,用於改善光阻劑顯影中發生的光阻劑圖案的剝離缺陷程度,其特徵在於,該製程溶液組成物由以下組成:0.001至0.01重量%的氟系界面活性劑;0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑;0.00001至0.01重量%之選自由三元醇(Triol)衍生物、四元醇(Tetraol)衍生物或其混合物所組成的群組的物質;以及餘量的水。
在上述實施方式中,該氟系界面活性劑選自由含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate)或其混合物所組成的群組。
在上述實施方式中,該由化學式1表示的圖案增強劑可以選自由雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺或其混合物所組成的群組。
根據上述實施方式,該三元醇衍生物由C3
~C10
構成,具體地,可以選自由1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇或其混合物所組成的群組。
根據上述實施方式,該四元醇衍生物由C4
~C14
構成,具體地,可以選自由1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組。
本發明的另一目的在於,提供一種光阻劑圖案形成方法,由以下步驟組成:(a)在半導體基板上塗佈光阻劑並形成光阻劑膜的步驟;(b)對該光阻劑膜進行曝光後進行顯影以形成光阻劑圖案的步驟;以及(c)使用該用於改善光阻劑圖案的剝離缺陷的製程溶液組成物對該光阻劑圖案進行洗滌的步驟。
圖案崩塌的原因雖然推測為是由於在顯影後用純水洗滌圖案時圖案之間發生的毛細管力所導致,但是透過長期的研究發現,僅減少毛細管力也無法完全改善圖案崩塌及減少缺陷數。
為了減少毛細管力而以降低製程溶液組成物的表面張力為目的,過量使用不合適的界面活性劑時,可能誘導圖案的溶解,反而更加誘發圖案的剝離缺陷。
為了改善圖案剝離缺陷,選擇一種能夠在減少製程溶液組成物的表面張力的同時防止光阻劑圖案的溶解的界面活性劑尤為重要。
本發明的製程溶液組成物對光阻劑發揮優異的效果,尤其,具有改善光阻劑顯影中發生的圖案的剝離缺陷的效果。
[對照先前技術之功效]
本發明的製程溶液組成物具有改善圖案剝離缺陷的效果,這是在利用光阻劑形成圖案時單獨使用光阻劑無法實現的效果,尤其是,包含利用這種製程溶液組成物進行洗滌的步驟的光阻劑圖案形成方法具有大幅減少生產成本的效果。
以下詳細說明本發明。
透過長時間無數研究開發出之本發明的用於改善光阻劑剝離的製程溶液組成物,由以下組成:0.00001至0.01重量%的氟系界面活性劑,選自由含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate)或其混合物所組成的群組;0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑,選自由雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺或其混合物所組成的群組;0.00001至0.01重量%之三元醇衍生物及四醇衍生物中的單獨一種或其混合物,選自由作為由C3
~C10
構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇、作為由C4
~C14
構成的四醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組;以及餘量的水。如上所述的本發明的製程溶液組成物的組成成分及組成比例設置為實施例1至實施例65,與此對比的組成成分及組成比例設置為比較例1至比較例19。
以下說明本發明的較佳實施例和與此對比的比較例。但是下列實施例僅是為了說明本發明的較佳實施例,本發明的範圍並不由此界定。
[實施例1]
按照下列方法製備包含0.001重量%的含氟丙烯羧酸酯、0.0001重量%的雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、0.001重量%的1,2,3-丙三醇之用於改善光阻劑圖案崩塌程度的用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物。
將0.001重量%的含氟丙烯羧酸酯、0.0001重量%的雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、0.001重量%的1,2,3-丙三醇投入到餘量的水中,攪拌6小時後,通過0.01μm的過濾器去除精細的固體雜質,從而製備用於改善光阻劑圖案的缺陷程度的製程溶液組成物。
[實施例2~實施例65]
根據表1至表16記載的組成,按照與實施例1相同方法製備用於改善光阻劑圖案缺陷程度的製程溶液組成物。
[比較例1]
準備通常在半導體元件製造過程的顯影製程中作為最後的洗滌液而使用的蒸餾水。
[比較例2~比較例19]
根據表1至表16記載的組成,為了與實施例進行比較,按照與實施例1相同的方法製備製程溶液組成物。
[實驗例1~實驗例65、比較實驗例1~比較實驗例19]
將化學增幅型PHS丙烯酸酯水合物混合EUV光阻劑(화학적 증폭 PHS 아크릴레이트 하이드레이트 하이브리드 EUV 레지스트)旋塗在12英寸矽晶圓(SK siltron)上,在110℃進行軟烤60秒以形成40nm厚度的光阻劑膜。透過尺寸18nm(線寬:間距=1:1)的遮罩在EUV曝光裝置下對晶圓上的光阻劑膜進行曝光,並將晶圓在110℃進行曝光後烘烤(PEB)60秒。然後將用2.38%的四甲基氫氧化銨(TMAH)水溶液對光阻劑膜進行旋覆浸沒式顯影40秒。向晶圓上的顯影劑的水坑(puddle)內傾倒(pouring)去離子水(DI water),接著邊傾倒邊旋轉晶圓以將顯影劑替換為去離子水,在變成去離子的旋覆浸沒狀態(puddled state)時停止晶圓的旋轉。後續,將實驗例1~實驗例65、比較例2~比較例19的淋洗組成物導入至晶圓上的去離子水的水坑內,使晶圓高速旋轉以將其乾燥。
此時,對利用實施例1~實施例65及比較例1~比較例19中製備的製程溶液形成圖案的矽晶圓測定圖案剝離缺陷,分別以實驗例1~65、比較實驗例1~19表示,其結果示於表17。
(1) 圖案剝離防止效果的確認
將曝光能量分隔(split)後,利用關鍵尺寸掃描式電子顯微鏡(CD-SEM, Hitachi)測定全體區塊(block)89個中圖案沒有崩塌的區塊的數量。
(2) 透明度
通過肉眼確認製備的製程溶液組成物的透明度,以透明或不透明表示。
[表1]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例1 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例2 | 氟烷基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例3 | 氟烯基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例4 | 氟烷基硫酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例5 | 氟烷基磷酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例6 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例7 | 含氟共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例8 | 全氟酸 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例9 | 全氟羧酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例10 | 全氟磺酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
比較例1 | - | - | - | - | 蒸餾水 | 100 |
[表2]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例11 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例12 | 氟烷基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例13 | 氟烯基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例14 | 氟烷基硫酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例15 | 氟烷基磷酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例16 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例17 | 含氟共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例18 | 全氟酸 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例19 | 全氟羧酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例20 | 全氟磺酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3,4-丁四醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
[表3]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例21 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例22 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例1 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例23 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例2 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表4]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例24 | 氟烷基醚 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例25 | 氟烷基醚 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例2 | 氟烷基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例26 | 氟烷基醚 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例3 | 氟烷基醚 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表5]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例27 | 氟烯基醚 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例28 | 氟烯基醚 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例3 | 氟烯基醚 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例29 | 氟烯基醚 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例4 | 氟烯基醚 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表6]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例30 | 氟烷基硫酸酯 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例31 | 氟烷基硫酸酯 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例4 | 氟烷基硫酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例32 | 氟烷基硫酸酯 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例5 | 氟烷基硫酸酯 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表7]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例33 | 氟烷基磷酸酯 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例34 | 氟烷基磷酸酯 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例5 | 氟烷基磷酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例35 | 氟烷基磷酸酯 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例6 | 氟烷基磷酸酯 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表8]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例36 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例37 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例6 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例38 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例7 | 含氟丙烯酸共聚物 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表9]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例39 | 含氟共聚物 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例40 | 含氟共聚物 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例7 | 含氟共聚物 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例41 | 含氟共聚物 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例8 | 含氟共聚物 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表10]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例42 | 全氟酸 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例43 | 全氟酸 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例8 | 全氟酸 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例44 | 全氟酸 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例9 | 全氟酸 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表11]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例45 | 全氟羧酸鹽 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例46 | 全氟羧酸鹽 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例9 | 全氟羧酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例47 | 全氟羧酸鹽 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例10 | 全氟羧酸鹽 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表12]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例48 | 全氟磺酸鹽 | 0.00001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9989 |
實施例49 | 全氟磺酸鹽 | 0.0001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9988 |
實施例10 | 全氟磺酸鹽 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例50 | 全氟磺酸鹽 | 0.01 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9889 |
比較例11 | 全氟磺酸鹽 | 0.1 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8989 |
[表13]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例51 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.00001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9980 |
實施例1 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例52 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9970 |
實施例53 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.005 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9930 |
比較例12 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.01 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9880 |
比較例16 | 含氟丙烯羧酸酯 | 1.001 | 雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺 | 0.1 | 1,2,3-丙三醇 | 1.001 | 蒸餾水 | 97.8980 |
[表14]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例54 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.00001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9980 |
實施例55 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例56 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9970 |
實施例57 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.005 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9930 |
比較例13 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.01 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9880 |
比較例17 | 含氟丙烯羧酸酯 | 1.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺 | 0.1 | 1,2,3-丙三醇 | 1.001 | 蒸餾水 | 97.8980 |
[表15]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例58 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.00001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9980 |
實施例59 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例60 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9970 |
實施例61 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.005 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9930 |
比較例14 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.01 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9880 |
比較例18 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺 | 0.1 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8980 |
[表16]
[實驗例1~實驗例65、比較實驗例1~比較實驗例19]
界面活性劑 | 圖案增強劑 | 添加劑 | 蒸餾水 | |||||
名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | 名稱 | 含量 (重量%) | |
實施例62 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.00001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9980 |
實施例63 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.0001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9979 |
實施例64 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.001 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9970 |
實施例65 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.005 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9930 |
比較例15 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.01 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.9880 |
比較例19 | 含氟丙烯羧酸酯 | 0.001 | 1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺 | 0.1 | 1,2,3-丙三醇 | 0.001 | 蒸餾水 | 99.8980 |
對實施例1~實施例65及比較例1~比較例9中形成圖案的矽晶圓測定圖案剝離缺陷程度及透明度,分別以實驗例1~實驗例65、比較實驗例1~比較實驗例19表示,其結果示於表17。
(1) 圖案剝離防止效果的確認
將曝光能量分隔(split)後,利用關鍵尺寸掃描式電子顯微鏡(CD-SEM, Hitachi)測定全體區塊(block)89個中圖案沒有崩塌的區塊的數量。
(2) 透明度
通過肉眼確認製備的製程溶液組成物的透明度,以透明或不透明表示。
[表 17]
沒有圖案剝離缺陷的區塊的數量 | 透明度 | |
實驗例1 | 68 | 透明 |
實驗例2 | 68 | 透明 |
實驗例3 | 68 | 透明 |
實驗例4 | 67 | 透明 |
實驗例5 | 67 | 透明 |
實驗例6 | 66 | 透明 |
實驗例7 | 67 | 透明 |
實驗例8 | 65 | 透明 |
實驗例9 | 64 | 透明 |
實驗例10 | 64 | 透明 |
實驗例11 | 68 | 透明 |
實驗例12 | 68 | 透明 |
實驗例13 | 67 | 透明 |
實驗例14 | 66 | 透明 |
實驗例15 | 66 | 透明 |
實驗例16 | 64 | 透明 |
實驗例17 | 63 | 透明 |
實驗例18 | 64 | 透明 |
實驗例19 | 63 | 透明 |
實驗例20 | 63 | 透明 |
實驗例21 | 65 | 透明 |
實驗例22 | 67 | 透明 |
實驗例23 | 66 | 透明 |
實驗例24 | 63 | 透明 |
實驗例25 | 67 | 透明 |
實驗例26 | 66 | 透明 |
實驗例27 | 65 | 透明 |
實驗例28 | 66 | 透明 |
實驗例29 | 63 | 透明 |
實驗例30 | 65 | 透明 |
實驗例31 | 66 | 透明 |
實驗例32 | 63 | 透明 |
實驗例33 | 62 | 透明 |
實驗例34 | 64 | 透明 |
實驗例35 | 62 | 透明 |
實驗例36 | 62 | 透明 |
實驗例37 | 64 | 透明 |
實驗例38 | 62 | 透明 |
實驗例39 | 63 | 透明 |
實驗例40 | 65 | 透明 |
實驗例41 | 64 | 透明 |
實驗例42 | 61 | 透明 |
實驗例43 | 63 | 透明 |
實驗例44 | 62 | 透明 |
實驗例45 | 60 | 透明 |
實驗例46 | 62 | 透明 |
實驗例47 | 61 | 透明 |
實驗例48 | 60 | 透明 |
實驗例49 | 62 | 透明 |
實驗例50 | 62 | 透明 |
實驗例51 | 65 | 透明 |
實驗例52 | 68 | 透明 |
實驗例53 | 67 | 透明 |
實驗例54 | 64 | 透明 |
實驗例55 | 68 | 透明 |
實驗例56 | 67 | 透明 |
實驗例57 | 66 | 透明 |
實驗例58 | 65 | 透明 |
實驗例59 | 67 | 透明 |
實驗例60 | 68 | 透明 |
實驗例61 | 66 | 透明 |
實驗例62 | 66 | 透明 |
實驗例63 | 67 | 透明 |
實驗例64 | 66 | 透明 |
實驗例65 | 64 | 透明 |
比較實驗例1 | 40 | 透明 |
比較實驗例2 | 55 | 透明 |
比較實驗例3 | 55 | 透明 |
比較實驗例4 | 54 | 透明 |
比較實驗例5 | 54 | 透明 |
比較實驗例6 | 54 | 透明 |
比較實驗例7 | 53 | 透明 |
比較實驗例8 | 53 | 透明 |
比較實驗例9 | 50 | 透明 |
比較實驗例10 | 50 | 透明 |
比較實驗例11 | 50 | 透明 |
比較實驗例12 | 58 | 透明 |
比較實驗例13 | 57 | 透明 |
比較實驗例14 | 57 | 透明 |
比較實驗例15 | 56 | 透明 |
比較實驗例16 | 55 | 透明 |
比較實驗例17 | 55 | 透明 |
比較實驗例18 | 54 | 透明 |
比較實驗例19 | 54 | 透明 |
基於長期研究結果,對實驗例1至實驗例65和比較實驗例1至比較實驗例19進行比較,在整體區塊89個中沒有圖案崩塌的區塊數為60個以上就可以認為是顯示優異的結果。
對應於實驗例1至實驗例65的製程溶液組成物的製程溶液組成物,由以下組成:0.00001至0.01重量%的氟系界面活性劑,選自含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate);0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑,選自雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺;0.00001至0.01重量%之三元醇衍生物及四元醇衍生物中的單獨一種或其混合物,選自由作為由C3
~C10
構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇、作為由C4
~C14
構成的四元醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組;以及99.97至99.99997重量%的的水,該製程溶液組成物相比於比較實驗例1至比較實驗例19,可以確認圖案剝離缺陷得到改善。
此外,對應於實驗例1至實驗例65的製程溶液組成物的製程溶液組成物,由以下組成:0.0001至 0.01重量%的氟系界面活性劑,選自含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate);0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑,選自雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺;0.00001至0.01重量%之三元醇衍生物及四元醇衍生物中的單獨一種或其混合物,選自由作為由C3
~C10
構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇、作為由C4
~C14
構成的四元醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組;以及99.97至99.99988重量%的水,該製程溶液組成物相比於比較實驗例1至比較實驗例19,確認了圖案剝離缺陷改善效果進一步提高。
並且,對應於實驗例1至實驗例65的製程溶液組成物的製程溶液組成物,由以下組成:0.001 至 0.01重量%的氟系界面活性劑,選自含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate);0.00001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑,選自雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺;0.00001至0.01重量%之三元醇衍生物及四元醇衍生物中的單獨一種或者其混合物,選自由作為由C3
~C10
構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇、作為由C4
~C14
構成的四元醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組;以及99.97至99.99898重量%的水,該製程溶液組成物相比於比較實驗例1至比較實驗例19,確認了圖案剝離缺陷改善效果更進一步提高。
另一方面,對應於實驗例1至實驗例65的製程溶液組成物的製程溶液組成物,由以下組成:0.001至0.01重量%的氟系界面活性劑,選自含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate);0.0001至0.005重量%之由化學式1表示的圖案增強劑,選自雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺;三元醇衍生物及四元醇衍生物單獨或混合0.00001至0.01重量%,選自由作為由C3
~C10
構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇、作為由C4
~C14
構成的四元醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組;以及99.97至99.99889重量%的水,該製程溶液組成物相比於比較實驗例1至比較實驗例19,確認了圖案剝離缺陷改善效果又更進一步提高。
實施例1的光阻劑圖案崩塌水準的評估結果如圖1所示,其中,沒有發生崩塌的區塊(block)的數量為68個,顯示出最優異的效果。
比較實驗例1的光阻劑圖案崩塌水準的評估結果如圖2所示,其中,沒有發生崩塌的區塊(block)的數量為40個.
以上對於本發明的特定部分進行了詳細說明,但對於本發明所屬技術領域中具有通常知識者應當理解的是,這些具體技術僅是較佳的實施態樣,本發明的範圍並不由此界定。從而,本發明的實際範圍由隨附的申請專利範圍及其均等物來界定。
無
圖1是根據實施例1之光阻劑圖案的剝離評估結果。
圖2是根據比較例1之光阻劑圖案的剝離評估結果。
Claims (6)
- 如請求項1所述之用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物,由以下組成: 0.0001至0.01重量%的所述氟系界面活性劑; 0.00001至0.005重量%之所述由化學式1表示的化合物或其混合物的圖案增強劑; 0.00001至0.01重量%之所述選自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或其混合物所組成的群組的物質;以及 餘量的所述水。
- 如請求項1所述之用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物,其中,所述氟系界面活性劑選自由含氟丙烯羧酸酯(Fluoroacryl carboxylate)、氟烷基醚(Fluoroalkyl ether)、氟烯基醚(Fluoroalkylene ether)、氟烷基硫酸酯(Fluoroalkyl sulfate)、氟烷基磷酸酯(Fluoroalkyl phosphate)、含氟丙烯酸共聚物(Fluoroacryl co-polymer)、含氟共聚物(Fluoro co-polymer)、全氟酸(perfluorinated acid)、全氟羧酸鹽(perfluorinated carboxylate)、全氟磺酸鹽(perfluorinated sulfonate) 或其混合物所組成的群組。
- 如請求項1所述之用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物,其中,所述由化學式1表示的化合物或其混合物的圖案增強劑選自由雙(1,1,2,2,3,3,3-七氟-1-丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺醯基)醯亞胺、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺醯基醯亞胺、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺或其混合物所組成的群組。
- 如請求項1所述之用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物,其中,所述選自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或其混合物所組成的群組的物質選自由作為由C3 ~C10 構成的三元醇衍生物的1,2,3-丙三醇、1,2,4-丁三醇、1,1,4-丁三醇、1,3,5-戊三醇、1,2,5-戊三醇、2,3,4-戊三醇、1,2,3-己三醇、1,2,6-己三醇、1,3,4-己三醇、1,4,5-己三醇、2,3,4-己三醇、1,2,3-庚三醇、1,2,4-庚三醇、1,2,6-庚三醇、1,3,5-庚三醇、1,4,7-庚三醇、2,3,4-庚三醇、2,4,6-庚三醇、1,2,8-辛三醇、1,3,5-辛三醇、1,4,7-辛三醇、丁-1,1,1-三醇、2-甲基-1,2,3-丙三醇、5-甲基己-1,2,3-三醇、2,6-二甲基-3-庚烯-2,4,6-三醇、苯-1,3,5-三醇、2-甲基-苯-1,2,3-三醇、5-甲基-苯-1,2,3-三醇、2,4,6,-三甲基苯-1,3,5-三醇、萘-1,4,5-三醇、5,6,7,8-四氫萘-1,6,7-三醇、5-羥甲基苯-1,2,3-三醇、5-異丙基-2-甲基-5-環己烯-1,2,4-三醇、4-異丙基-4-環己烯-1,2,3-三醇;作為由C4 ~C14 構成的四元醇衍生物的1,2,3,4-丁四醇、1,2,3,4-戊四醇、1,2,4,5-戊四醇、1,2,3,4-己四醇、1,2,3,5-己四醇、1,2,3,6-己四醇、1,2,4,5-己四醇、1,2,4,6-己四醇、1,2,5,6-己四醇、1,3,4,5-己四醇、1,3,4,6-己四醇、2,3,4,5-己四醇、1,2,6,7-庚四醇、2,3,4,5-庚四醇、1,1,1,2-辛四醇、1,2,7,8-辛四醇、1,2,3,8-辛四醇、1,3,5,7-辛四醇、2,3,5,7-辛四醇、4,5,6,7-辛四醇、3,7-二甲基-3-辛烯-1,2,6,7-四醇、3-己烯-1,2,5,6-四醇、2,5-二甲基-3-己烯-1,2,5,6-四醇、蒽-1,4,9,10-四醇或其混合物所組成的群組。
- 一種光阻劑圖案形成方法,由以下步驟組成: (a)在半導體基板上塗佈光阻劑並形成光阻劑膜的步驟; (b)對該光阻劑膜進行曝光後進行顯影以形成光阻劑圖案的步驟;以及 (c)使用如請求項1、3、4和5中任一項所述之用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物對該光阻劑圖案進行洗滌的步驟。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2020-0116967 | 2020-09-11 | ||
KR1020200116967A KR102251232B1 (ko) | 2020-09-11 | 2020-09-11 | 극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202210619A TW202210619A (zh) | 2022-03-16 |
TWI780850B true TWI780850B (zh) | 2022-10-11 |
Family
ID=75918702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110128818A TWI780850B (zh) | 2020-09-11 | 2021-08-04 | 用於極紫外線微影技術的製程溶液組成物及利用該組成物的圖案形成方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230266672A1 (zh) |
EP (1) | EP4212958A1 (zh) |
JP (1) | JP7539556B2 (zh) |
KR (1) | KR102251232B1 (zh) |
CN (1) | CN116097398A (zh) |
TW (1) | TWI780850B (zh) |
WO (1) | WO2022055128A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102251232B1 (ko) * | 2020-09-11 | 2021-05-12 | 영창케미칼 주식회사 | 극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
KR102547094B1 (ko) * | 2022-11-18 | 2023-06-23 | 와이씨켐 주식회사 | 극자외선 리소그래피용 린스액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160117305A (ko) * | 2015-03-31 | 2016-10-10 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리 방법 및 표면 처리액 |
KR102100432B1 (ko) * | 2019-09-26 | 2020-05-15 | 영창케미칼 주식회사 | 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4493393B2 (ja) | 2004-04-23 | 2010-06-30 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用リンス液 |
JP4437068B2 (ja) * | 2004-11-19 | 2010-03-24 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用リンス液 |
JP2013225094A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-10-31 | Jsr Corp | フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
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JP6564312B2 (ja) | 2015-03-31 | 2019-08-21 | 東京応化工業株式会社 | 表面処理方法及び表面処理液 |
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JP2020067547A (ja) | 2018-10-24 | 2020-04-30 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 半導体水溶性組成物およびその使用 |
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-
2020
- 2020-09-11 KR KR1020200116967A patent/KR102251232B1/ko active IP Right Grant
-
2021
- 2021-08-04 WO PCT/KR2021/010199 patent/WO2022055128A1/ko unknown
- 2021-08-04 CN CN202180054452.6A patent/CN116097398A/zh active Pending
- 2021-08-04 TW TW110128818A patent/TWI780850B/zh active
- 2021-08-04 EP EP21866995.0A patent/EP4212958A1/en active Pending
- 2021-08-04 JP JP2023507748A patent/JP7539556B2/ja active Active
- 2021-08-04 US US18/040,167 patent/US20230266672A1/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN116097398A (zh) | 2023-05-09 |
TW202210619A (zh) | 2022-03-16 |
JP7539556B2 (ja) | 2024-08-23 |
JP2023536971A (ja) | 2023-08-30 |
WO2022055128A1 (ko) | 2022-03-17 |
US20230266672A1 (en) | 2023-08-24 |
EP4212958A1 (en) | 2023-07-19 |
KR102251232B1 (ko) | 2021-05-12 |
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---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent |