TWI774739B - 積層製造系統 - Google Patents

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保羅Ｊ 史戴法斯
布萊恩海斯 伯洛斯
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Abstract

一種積層製造系統，包括：平台，用以支撐待製造的物體；分配器，用以在平台上方輸送進給材料的複數個層；控制器，配置成儲存表示預定義圖案的數位資料；雷射，配置成產生雷射束以撞擊進給材料的最外層，並耦接至控制器以將進給材料以預定義圖案熔融；及複數個獨立可控的紅外燈，每個紅外燈指向進給材料的最外層的不同部分。

Description

積層製造系統
這份說明書關於積層製造，也稱為3D印刷。
積層製造(AM)(也稱為固體自由成形製造或3D印刷)是指由連續分配原始材料(如，粉末，液體，懸浮液，或熔化固體)到二維層中而建立三維物體的製造處理。相反地，傳統的加工技術涉及從原料(如，木塊，塑膠塊，或金屬塊)中切出物體的刪減處理。
各種積層處理可在積層製造中使用。一些方法熔化或軟化材料以產生層，如，選擇性雷射熔化(SLM)或直接金屬雷射燒結(DMLS)、選擇性雷射燒結(SLS)、熔融沉積建模(FDM)，而其他方法使用不同技術來固化液體材料，如，立體光刻(SLA)。這些處理可在形成層以產生完成的物體的方式上及相容於在處理中使用的材料有所不同。
在積層製造的某些形式中，將粉末放置在平台上，且雷射束將圖案追蹤到粉末上，以將粉末熔融在一起以形成形狀。一旦形成形狀，平台下降並添加一層新的粉末。重複該處理直到完全形成一部分。
這份說明書描述了關於積層製造的技術。
在一個態樣中，一種積層製造系統包括：平台，用以支撐待製造的物體；分配器，用以在平台上方輸送進給材料的複數個層；控制器，配置成儲存表示預定義圖案的數位資料；雷射，配置成產生雷射束以撞擊進給材料的最外層，並耦接至控制器以將進給材料以預定義圖案熔融；及複數個獨立可控的紅外燈，每個紅外燈指向進給材料的最外層的不同部分。
在另一態樣中，一種積層製造系統包括：平台，用以支撐待製造的物體；分配器，用以在平台上輸送進給材料的複數個層；能量源，配置成產生能量束以撞擊進給材料的最外層；複數個獨立可控的燈，位於平台上方；及控制器。每個燈被配置為加熱進給材料的最外層的不同區域。控制器被配置為儲存表示預定義圖案的數位資料、耦接到能量源以使得能量束以預定義圖案熔融進給材料的一部分並耦接到複數個獨立可控的燈，使得與在圖案外部的第二區域相對應的區域相比，燈優先加熱包括圖案的最外層的第一區域相對應的區域。
在另一態樣中，一種積層製造系統包括：平台，用以支撐待製造的物體；分配器，用以在平台上方輸送進給材料的複數個層；能量源，配置成產生能量束以撞擊進給材料的最外層；複數個獨立可控的燈，位於平台上方，以加熱進給材料的最外層的複數個區域；馬達；及控制器，配置成儲存表示預定義圖案的數位資料，並耦接到能量源以使能量束以預定義圖案熔融進給材料的一部 分。能量源被配置為沿著第一軸線掃描能量束。每個燈被配置為加熱不同的區域，且區域沿著第一軸線佈置成至少一個線性陣列。馬達被配置成沿著垂直於第一軸線的第二軸線產生在複數個獨立可控的燈和平台之間的相對運動。
以上態樣的實施方案可包括以下特徵的一個或多個。
複數個獨立可控的燈可被定位和配置成在能量束熔融進給材料的一部分之前加熱進給材料的最外層的第一區域。控制器可被配置為使複數個獨立可控的燈將第一區域加熱到低於進給材料熔融的第二溫度的第一溫度。第一溫度可高於進給材料經歷頸縮的第三溫度。第一溫度可高於進給材料經歷結塊的第四溫度。控制器可被配置成控制複數個獨立可控的燈，使得第二區域保持低於第三溫度。
複數個獨立可控的燈可被定位和配置成在能量束熔融進給材料的一部分之後加熱進給材料的最外層的第一區域。控制器可被配置為使複數個獨立可控的燈向第一區域輸送熱量，使得第一區域沿著預定溫度曲線經歷冷卻。
能量源可包括雷射，能量束可為雷射束，且複數個獨立可控的燈可為紅外燈。能量源和複數個獨立可控的燈可固定到支撐件上，且馬達可在平台和支撐件之間產生相對運動。控制器可被配置成使能量源沿著第一軸線掃描能量束。馬達可被配置成沿垂直於第一軸線的第二軸線 產生相對運動。鏡可被配置為沿著第一軸線引導來自雷射的雷射束。
支撐件可保持能量源和複數個獨立可控的燈，且馬達可被配置為在平台和支撐件之間產生相對運動。能量源可包括產生雷射束的雷射和被配置為沿著第一軸線引導來自雷射的雷射束的鏡。雷射和鏡可由支撐件支撐。
控制器可被配置為使複數個獨立可控的燈選擇性地加熱包括預定義圖案的最外層的一部分，該部分小於整個進給材料的最外層。控制器可被配置為使得不包括預定義圖案的體素的區域不被複數個獨立可控的燈加熱或被加熱到比包括預定義圖案的區域更低的溫度。
複數個獨立可控的燈可被定位和配置成沿著複數個獨立可控的燈相對於平台的運動方向加熱位於雷射束之前的進給材料的最外層上的區域。複數個獨立可控的燈可被定位和配置為沿著複數個獨立可控的燈相對於平台的運動方向加熱位於雷射束之後的進給材料的最外層上的區域。
複數個獨立可控的燈的第一燈可朝向第一區域，且複數個獨立可控的燈的第二燈可朝向第二區域，且第一區域和第二區域可部分地重疊。複數個獨立可控的燈可佈置成兩個線性陣列。複數個區域的每個區域可比進給材料的最外層上的能量束的光斑尺寸大十至五十倍。每個區域可為約1公分。複數個獨立可控的燈包含紅外燈。
在另一態樣中，一種積層製造系統包括：平台，支撐待製造的物體；分配器，在平台上方輸送進給材料的複數個層；及複數個獨立可控的紅外燈。每個紅外燈被引導到進給材料的最外層上的不同區域。燈的一個或多個包括圓柱形燈泡；圓柱形燈泡內的燈絲，其中燈絲的中心軸線基本平行於平台；及透鏡，平行於圓柱形燈泡和燈絲的中心軸線而定位，透鏡配置成將來自燈絲的光引導至區域。
在另一態樣中，一種積層製造系統包括：平台，支撐待製造的物體；分配器，在平台上方輸送進給材料的複數個層；及複數個獨立可控的紅外燈，每個紅外燈被引導到進給材料的最外層上的不同區域。燈的一個或多個可由基板和燈絲所提供，基板具有面向平台的一區域分的表面，燈絲印刷在基板上，燈絲配置成朝向平台的區域發射紅外輻射。
以上態樣的實施方案可包括以下特徵的一個或多個。
殼體可圍繞圓柱形燈泡。殼體可具有配置成冷卻圓柱形燈泡的流動通道。透鏡可為平凹透鏡，雙凹透鏡，平凸透鏡或雙凸透鏡。透鏡可為熔融矽石。圓柱形燈泡可定位在殼體內，透鏡提供殼體的一側。殼體的內表面可具有黑色塗層以吸收燈泡的熱量。殼體的內表面可具有鏡面飾面以反射紅外光通過透鏡。
能量源可被配置為產生能量束以撞擊進給材料的最外層，且控制器可被配置成儲存表示預定義圖案的數位資料，且可被耦接到能量源以使得能量束以預定義圖案熔融進給材料的一部分。支撐件可保持能量源和複數個獨立可控的燈，且馬達可被配置為在平台和支撐件之間產生相對運動。
在另一態樣中，一種在積層製造期間熔融的方法包括以下步驟：使用雷射束熔融粉末進給材料的第一層的區域的一部分，及以下至少一者：i)在熔化部分之前，藉由燈預熱第一層的區域，或ii)在熔化部分之後，藉由紅外燈對包括熔融部分的區域進行熱處理。
以上態樣的實施方案可包括以下特徵的一個或多個。
藉由紅外燈預熱可包括激活紅外燈以在雷射束熔融該部分之前加熱粉末進給材料床的區域，並引起粉末材料層和紅外燈之間的相對運動，直到區域位於雷射束的雷射掃描區域下方。藉由紅外燈的熱處理可包括在粉末材料層和紅外燈之間引起相對運動，直到包括熔融部分的區域位於紅外燈下方，並使紅外燈對區域施加熱量以在雷射束已熔化該部分之後在區域中產生熱處理溫度輪廓。可在第一層上方添加進給材料的第二層，在粉末進給材料的第二層中的第二區域可藉由紅外燈預熱，在預熱的第二區域中的第二部分可藉由雷射熔融，且熔融的第二部分可藉由紅外燈進行熱處理。
粉末進給材料床可包括金屬粉末。待由雷射束熔融的進給材料的部分可由控制器確定。
前述的優點可包括(但不限於)以下內容。藉由預熱粉末，可減少雷射熔融粉末所需的功率，而不會減小熔化池的尺寸。可減少溫度偏差，這可提高零件的品質。藉由對熔融粉末進行熱處理，可控制冷卻處理中熔融材料的溫度，這可降低熱應力並改善熔融粉末的品質。可減少未熔融區域中粉末的結塊，從而增加可回收粉末的數量。燈可高效地提供功率。
在這份說明書中描述的標的的一個或多個實施方案的細節在附隨的圖式和下面的實施方式中闡述。標的的其他特徵、態樣和優點將從實施方式、圖式和申請專利範圍而變得顯而易見。
100:積層製造系統/系統/設備
101:能量源/雷射
102:能量束/雷射束
103:鏡
104:頂層/層
105:進給材料
106:物體
107:分配器
108:儲存器
112:線性陣列
112a:陣列
112b:陣列
114:燈
114A:燈陣列
115:區域
116:平台
118:進給平台
119:控制器
120:第一軸線/第一運動方向
122:第二軸線/第二運動方向/箭頭
124:部分/預定義圖案/路徑
126:區域/部分
126-1:區域
126-2:區域
128:區域/部分
128-1:區域
128-2:區域
129:部分
130:馬達
131:支撐件
132:機架
133-1:燈
133-2:燈
134-1:燈
134-2:燈
140:光斑
202-1:紅外光束
202-2:紅外光束
204-1:紅外光束
204-2:紅外光束
300:紅外燈
302:殼體
304:冷卻套
306:燈泡
308:冷卻氣體排出口
310:燈絲
312:紅外光束
314:透鏡
315:流動通道
316:冷卻氣體入口
400:紅外燈
402:平坦基板
404:燈絲
500:方法
502:藉由紅外燈預熱粉末進給材料的床的區域
504:藉由雷射束熔融預熱區域內的部分
506:藉由紅外燈熱處理含有熔融體素的區域
508:沉積新的進給材料的層在平台上
第1圖是顯示通過示例積層製造系統的橫截面的側視圖的示意圖。
第2A圖是顯示示例性積層製造系統的俯視圖的示意圖。
第2B-2C圖是顯示示例積層製造系統的側視圖的示意圖。
第3圖是顯示示例紅外燈的橫截面圖的示意圖。
第4圖是顯示示例燈陣列的示意圖。
第5圖顯示了積層製造的示例方法的流程圖。
各個圖式中相同的元件符號和標記指示相似的元件。
對於涉及熔融二維粉末層的積層製造處理，構建體積內的不均勻熱梯度(無論是空間或時間任一者)可能導致部件在製造處理期間發生彎曲和破裂。預熱支撐部件和粉末的平台可緩解短部件的熱梯度問題，但無法緩解具有更多層的高部件的破裂和變形。對於高部件而言，從最外層到預熱平台的距離可能太遠而無法控制熱梯度。此外，高部件需要更多的時間來建立，這可能導致較大的熱梯度。增加平台的預熱溫度或使用其他預熱方法來最小化高部件中的熱梯度會導致平台上大部分粉末的「結塊」，並使粉末不適合重新使用。
然而，為了在製造處理期間控制水平和垂直方向上的熱梯度，可藉由在熔融之前將輻射能量施加到最外層來預熱進給粉末，這可提高燒結品質和產量。也可在熔融之後(也稱為「熱處理」)且在下一層粉末被分配之前施加熱量於部件的熔融部分，以控制冷卻速率並由此使殘餘應力最小化並進一步改善燒結品質(如，藉由減少部件翹曲和破裂的可能性)。熱量還可用以補償由於構建體積內的輻射、對流和導電損失引起的熱不均勻性。
粉末用燈(如，紅外燈)的陣列預熱及/或熱處理，燈的陣列可選擇性地預熱及/或熱處理將由雷射束熔融及/或將由雷射束變得熔融的區域中的粉末。選擇性 預熱只能使粉末的一部分結塊，並能顯著減少浪費的粉末。
示例性積層製造系統100顯示在第1圖中。積層製造系統100包括用於支撐待製造的物體106的平台116。積層製造系統還包括用以在平台上方輸送進給材料105的頂層104的分配器107和用以產生能量束102的能量源101，能量束102可掃過進給材料105的頂層104，以熔融進給材料105。
積層製造系統100包括控制器119，控制器119可儲存表示可形成物體106的預定義圖案的數位資料。控制器耦接並控制其他部件(諸如能量源101和分配器107)，以使得系統100根據預定義的圖案將層熔融，以形成物體106。
在一些實施方案中(諸如第1和2A圖中所示的實施方案)，分配器107可包括扁平葉片或槳葉，以將進給材料105從進給材料儲存器108跨越整個平台116推動。在這樣的實施方案中，進給材料儲存器108還可包括鄰近構建平台116而定位的進給平台118。藉由升高進給平台118，可減小儲存器108的體積，且進給材料可被升高到平台116上的進給材料及/或部件的水平之上；葉片可將進給材料105從進給平台118推到構建平台116。
替代地或另外地，分配器107可包括懸掛在平台116上方的複數個噴嘴，粉末流過複數個噴嘴。例如，粉末可在重力作用下流動，或被排出(如，藉由壓電致動 器)。可藉由氣動閥、微機電系統(MEMS)閥、螺線管閥及/或電磁閥來提供單個噴嘴的分配控制。可用以分配粉末的其他系統包括具有孔的輥，具有孔的管的內部的螺旋體，或具有孔的料斗。分配器107可藉由驅動系統(如，線性致動器)移動，以掃過平台116，從而輸送進給材料105(如，粉末)的頂層104。
任選地，系統100可包括壓實及/或齊平機構，以壓實及/或平滑沉積在平台116上的進給材料的層。例如，系統可包括平行於台板表面藉由驅動系統(如，線性致動器)而可移動的輥或葉片。
進給材料105可包括金屬顆粒。金屬顆粒的示例包括金屬、合金和金屬間合金。用於金屬顆粒的材料的示例包括鋁、鈦、不銹鋼、鎳、鈷、鉻、釩以及這些金屬的各種合金或金屬間合金。
進給材料105可包括陶瓷顆粒。陶瓷材料的示例包括金屬氧化物，諸如二氧化鈰，氧化鋁，二氧化矽，氮化鋁，氮化矽，碳化矽，或這些材料的組合，諸如鋁合金粉末。
進給材料可為乾粉或液體懸浮液中的粉末，或材料的漿液懸浮液。例如，對於使用壓電印刷頭的分配器而言，進給材料將通常是液體懸浮液中的顆粒。例如，分配器可將粉末輸送到載體流體(如，高蒸氣壓載體(如，異丙醇(IPA)，乙醇，或N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP))中，以形成粉末材料的層。載體流體可在該層的燒結步驟 之前蒸發。替代地，可採用乾式分配機構(如，藉由超音波攪拌和加壓惰性氣體輔助的噴嘴陣列)來分配第一顆粒。
雷射101產生雷射束102以撞擊進給材料105的頂層104。雷射束102選擇性地輸送足夠的熱量以使進給材料105以儲存在控制器119中的預定義圖案而熔融。熔融在這份說明書的上下文中可包括熔化和固化，或仍然是固體形式的燒結，或熔融粉末的其他處理。
可使雷射束102沿著第一軸線(也稱為Y軸線)掃描。例如，雷射束102可藉由可移動的鏡103(如，振鏡式鏡系統)引導。控制器119控制鏡103的角度。當雷射束102掃描進給材料105的層104時，可控制雷射101的功率，以根據預定義圖案而選擇性地熔融體素。
Y軸線可平行於分配器107(如，葉片或噴嘴)的運動方向(如，從第1圖中的左邊到右邊)跨越平台。替代地，Y軸線可垂直於分配器107的運動方向。
積層製造系統100還包括燈陣列114A中的多個獨立可控的燈114。在任何特定的時間，燈陣列114A中的每個燈114照射進給材料105的頂層104上的不同區域。燈陣列114A中的每個燈114的功率可被獨立地調制(如，藉由調節到燈絲的功率)，以調節發射到進給材料105的輻射通量。功率的調制範圍可從零到百分之百。
在一些實施方案中，燈114可排列成線性陣列112。線性陣列112沿著與雷射束102的掃描方向相同的 軸線(如，Y軸線)延伸。燈114可被定位成在雷射束102的路徑之外(亦即，不阻擋)。在一些實施方案中，燈114可位於進給材料105的床之上方小於二十五毫米，以便最大化加熱效率。在一些實施方案中，燈114可位於進給材料105的床之上方超過二十五毫米。
第2A圖顯示了系統100的俯視圖，其中平台116覆蓋有進給材料105的床。第2B圖顯示了在製造操作期間系統100跨越Y軸線的側視圖。第2C圖顯示了在製造操作期間系統100跨越X軸線的前視圖。
可調整的鏡103沿著第一軸線120(如，Y軸線)在掃描方向上引導來自雷射101的雷射束102。
燈114位於平台116之上方，並因此位於進給材料105的床之上方。在一些實施方案中，燈114可在沿著第一軸線延伸的單個線性陣列(如，陣列112a或陣列112b)中。在一些實施方案中，燈114可佈置成兩個線性陣列112a、112b。特別地，燈114可佈置成分別沿第一軸線120(如，Y軸線)延伸的兩個間隔開的平行線性陣列112a、112b。
第一陣列112a中的燈114可包括燈133-1、134-1等，而第二陣列112b中的燈114可包括燈133-2、134-2等。如上所述，在任何特定的時間，燈陣列114A中的每個燈114照射進給材料105的頂層104的不同區域115。例如，燈133-1、133-2、134-1、134-2可分別照射進給材料的區域126-1、126-2、128-1、 128-2。假設燈114為不可相對於彼此移動，則區域115(如，區域126-1、126-2、128-1、128-2)也可相對於彼此保持不動。
區域115還可佈置成大體模仿燈114的佈置的一個或多個線性陣列。例如，區域115可處於單個線性陣列中(如，包括區域126-1、128-1等)，或在包括區域126-2、128-2等的陣列中。在一些實施方案中，區域115可佈置成兩個線性陣列，且特別是兩個間隔開的平行線性陣列(一個線性陣列具有區域126-1、128-1等，而另一個線性陣列具有區域126-2、128-2等)，每個線性陣列沿著第一軸線120(如，Y軸線)延伸。
燈114的陣列112a、112b可間隔開以為雷射102和其他部件(如，鏡103)提供空間。然而，在一些實施方案中(如，如第2C圖所示)，燈114定向成將光線以非垂直角度引導至層104。這可允許在區域115與雷射束102的光斑140之間的間隔減小。
雷射101和燈114被固定到支撐件131上。例如，支撐件131可包括機架132，機架132支撐平台116之上方的雷射101、可調節的鏡103和燈114。馬達130可在平台116和支撐件131之間產生相對運動。特別地，馬達130可使支撐件131並因此沿著與第一軸線120正交且基本上平行於平台的第二軸線122移動雷射101和燈114。替代地，平台116可在支撐件131保持靜止的同時由致動器移動。
因為雷射101和燈114都固定到支撐件131，所以它們相對於彼此保持在固定位置(沿著X軸線)。類似地，儘管由雷射束102照射的光斑140可沿著Y軸線移動，但光斑140將相對於區域115(如，區域126-1、126-2、128-1、128-2)保持在固定位置(沿著X軸線)，固定位置可藉由燈114加熱。
在操作中，當雷射束102(如，藉由鏡103)沿著Y軸線掃描時，馬達130可在平台116和支撐件131之間沿著X軸線產生相對運動。替代地，馬達130可在雷射束102沿著Y軸線的掃描之間沿著X軸線在平台116和支撐件131之間產生相對運動。在任一種情況下，這都有效地提供跨越進給材料的最外層的雷射束102的更快的掃描。控制器119可使雷射101在這個掃描期間調制雷射束102，使得進給材料105根據儲存在控制器119中的圖案而熔融。
當雷射束102熔融進給材料時，控制器119可利用可調整的鏡103使得積層製造系統100在第一運動方向120上及利用機架132和馬達130藉由雷射束沿著第一運動方向120的掃描期間或掃描之間在第二運動方向122上產生跨越進給材料105的光斑140的相對運動。具體地，箭頭122顯示了進給材料105的層104的相對於支撐件131的運動方向(這可藉由平台116從左到右的運動或藉由支撐件131從右到左的運動來提供)。
如上所述，控制器119可使雷射101調制雷射束102以按照所儲存的預定義圖案而選擇性地熔融進給材料105的頂層104的體素。例如，沿著Y軸線的每次掃描，雷射束102被調制以僅將體素與預定義圖案的對應列進行熔融。在支撐件131或平台116沿著X軸線的每個步驟之後，調制雷射束102以僅將體素與預定義圖案的下一對應列熔融。假設進給材料105相對於支撐件131在箭頭122的方向上移動，頂層104的已經熔融的部分124將位於由箭頭122指示的光斑140的一側上(如，第2B圖的右側)。如第2A圖的示例所示，這可能導致進給材料105沿頂層104上的預定路徑的熔融。儘管部分124被顯示為線性區域，但其實際上可由多個單獨的相鄰體素形成。
另外，控制器可使可控制的紅外燈114將熱量施加到進給材料105的包括部分124的體素的一個或多個部分(諸如第一部分126和第二部分128)，部分124的體素將被及/或已經被雷射束102熔融。然而，可向不包括由雷射束102熔融的體素的部分(如，部分129)不施加熱量或者較少的熱量。
若燈114和相關區域115沿著X軸線相對於進給材料105沿著光斑140的運動方向位於雷射束102之前(如，若當支撐件131是靜止時，平台116向右移動，則在左邊)，那麼燈114可提供進給材料的預熱。例如，當進給材料105的部分126處於可由燈133-1加熱的區域126-1內時，燈133-1可被致動以預熱那個區域126-1 中的進給材料105。由於相對運動，預熱部分126將被運送到雷射束102的掃描線並通過雷射束102的掃描線，用於選擇性地熔融進給材料的部分124。
類似地，若燈114和相關區域115沿著X軸線相對於進給材料105沿著光斑140的運動方向位於雷射束102之後(如，若當支撐件131是靜止時，平台116向右移動，則在左邊)，則燈114可提供對進給材料的熱處理。特別地，相對運動將現在可將包括部分124的熔融材料的部分126帶往燈114的陣列112b之下方。例如，當進給材料105的部分128在藉由燈134-1加熱的區域128-1內時，燈134-1可被致動以預熱那個區域128-1中的進給材料105。
另外，控制器可根據將施加到燈114的功率與進給材料105的溫度相關的溫度校準檔案來調制到單個燈的功率。控制器可將到燈114的功率調制到將各個部分(如，部分128對部分129)帶到不同的溫度。
在一些溫度之上，粉末可能變成發黏的(tacky)並因此變成黏性的(viscous)。這會干擾層或後續層的適當沉積。因此，對於某些積層製造處理，期望的是升高粉末的溫度，但不超過粉末變成發黏或變成黏性的的閾值溫度。在金屬粉末的情況下，「發黏的」可指示少量頸縮或燒結，如，一些百分比的顆粒在接觸點處變得燒結，但顆粒中沒有顯著的形態變化。
假設紅外燈114用於預熱(如，燈被定位在陣列112a中以加熱在雷射束照射的光斑之前的區域)，燈114可將包括部分124的融合體素的該部分(如部分126，128)加熱至低於進給材料熔融的第二溫度的第一溫度。這個第一溫度可高於進給材料經歷頸縮的第三溫度。第一溫度可高於進給材料經歷結塊的第四溫度。這種較高的第四「結塊」溫度高於粉末在接觸點經歷燒結的閾值，但仍然低到足以使得到的材料基本上保持多孔且不經歷明顯的緻密化(如，達成塊狀稠度)。在一些實施方案中，這個較高的第四溫度高於結塊溫度但仍低於進給材料熔融的熔融溫度(如，燒結或熔化)，以形成具有較低孔隙率或在顆粒之間具有減小間隙的固體塊。
第一燈(133-1或133-2)可指向平台116的第一區域(126-1或126-2)且第二燈(134-1或134-2)可指向平台116的第二區域(128-1或128-2)。在一些情況下，第一區域126-1和第二區域128-2部分重疊。例如，第一區域126和第二區域128可重疊每個區域的寬度(沿著Y方向)的約5-15%。
假設紅外燈114用於熱處理，則控制器119可控制紅外燈114以使得包括部分124的熔融體素的一個或多個區域沿著預定溫度曲線經歷冷卻。換句話說，控制器119可使紅外燈114選擇性地加熱包括預定義圖案並且因此包括熔融部分的進給材料105的最外層的一部分，該部分小於進給材料105的整個最外層。
沿著Y軸線，不同的獨立可加熱區域(如，區域126-2和128-1)的每一個可覆蓋多個體素，並因此覆蓋可能包括多個體素的加熱部分(如，部分126、128)。例如，區域可比體素大約十到五十倍。這些區域可比進給材料105的最外層上的雷射束的光斑尺寸大約十到五十倍。例如，不同區域的每一個可為大約10mm寬。
由於熱量正藉由單個燈而被輸送到每個區域(除了區域在邊緣處重疊，但至少包括區域的中心的區域之外)，所以輸送給區域中的體素的熱量被共同控制。然而，如上所述，紅外燈114可被單獨控制。這允許沿著Y軸線輸送的熱量變化，至少在逐區的基礎上變化。另一方面，由於進給材料相對於區域移動(如箭頭122所示)，所輸送的熱量可隨時間變化。這允許沿著X軸線輸送的總熱量的變化。這種變化可適用於預熱(使用區域126-1和128-1)或熱處理(使用區域128-1和128-2)任一者，或兩者。
在一些實施方案中，積層製造系統100包括冷卻系統，用以輔助冷卻在已經熔融之後的進給材料的層，如，用以輔助使進給材料遵循預定的溫度曲線。冷卻系統可包括在平台116中的冷卻劑通道，設置成跨越平台116上的進給材料的頂部表面上吹送冷卻劑氣體的冷卻風扇，或沿著線性條帶(如，沿著Y軸線)將冷卻劑氣體吹送到進給材料上的氣刀。
控制器119確保不包括預定義圖案124的體素的區域不被紅外燈114加熱或被加熱到比包括預定義圖案124的部分更低的溫度。在一些實施方案中，定義的體素外部的區域被加熱到低於進給材料105的結塊溫度的溫度。
紅外燈114被定位成在雷射束102通過區域之前及/或在雷射束102通過區域之後加熱位於平台116上的進給材料105的最外層的區域。
在第2B和2C圖的所示的示例中，熔融部分124從第一區域126延伸到第二區域128。在所示的示例中，第一區域126由從第一紅外燈133-1發出的第一紅外光束202-1預熱且在雷射束102將第一區域126內的部分124熔融之後，藉由從第二紅外燈134-1發射的第二紅外光束204-1進行熱處理。熔融路徑延伸通過的第二部分128在雷射束102通過延伸通過第二區域128的熔融路徑之前，藉由第三紅外燈133-2發射的第三紅外光束202-2加熱，並在雷射束102將部分區域128內的部分124熔融之後，藉由從第四紅外燈134-2發射的第四紅外光束204-2熱處理。在一些實施方案中，第一和第三紅外光束202-1和202-2可在熔融處理期間保持致動。在一些實施方案中，第一紅外光束202-1和第三紅外光束202-2將第一區域126和第二區域128中的進給材料105加熱到第一溫度，第一溫度低於進給材料的熔融溫度但高於進給材料105的頸縮溫度及/或結塊溫度。
紅外燈114的許多不同變型可用於製造系統100。一個示例在第3圖中顯示。在這個示例中，紅外燈300包括容納燈絲310的圓柱形燈泡306。燈泡306具有可基本平行於平台的中心軸線；燈絲310形成圍繞基本平行於平台的軸線而纏繞的線圈。
燈泡支撐在殼體302內。殼體302圍繞圓柱形燈泡306並包括流動通道315，流體冷卻劑可流過流動通道315以冷卻圓柱形燈泡306。流動通道315包括冷卻氣體入口316以及可耦接到熱交換器的冷卻氣體排出口308。冷卻氣體可包括氬氣，氮氣，或適用於冷卻燈泡的任何其他氣體。殼體還包括冷卻套304，冷卻套304可包括水以冷卻殼體302。
透鏡314平行於圓柱形燈泡306和燈絲310的中心軸線而定位。透鏡314藉由形成紅外光束312將光從燈絲310導向平台的一區域。特別地，透鏡314可幫助將來自燈絲310的光聚焦到進給材料的相應部分上。透鏡314可為平凸透鏡或雙凸透鏡，或可充分地將光聚焦在平台116的期望區域上的另一透鏡。在一些實施方案中，透鏡314可包括熔融矽石，矽，藍寶石，或任何其他透明和耐熱材料。在一些實施方案中，除透鏡之外，可將均勻厚度的平坦窗口放置在一個或多個燈泡的前面。
在一些實施方案中，殼體302的內表面可包含黑色塗層以從燈泡306吸收熱量。這防止熱量反射回到燈泡306上，並因此可延長燈泡壽命。在一些實施方案中， 殼體302的內表面可包含鏡面飾面以反射額外紅外光通過透鏡314。
如前所述，紅外燈114的許多不同變型可用於這個應用。另一個示例在第4圖中顯示。在這個示例中，紅外燈400包括具有面向平台116的一區域的表面的平坦基板402和印刷在基板上的燈絲404。燈絲404可向平台116的一區域發射紅外輻射。在這個實施方案中，每個燈絲404可對應於平台116的不同區域。雖然已經討論了紅外燈的兩個示例，但是這份說明書中的示例不應該被解釋為限制。
第5圖是可用以通過積層製造來製造物體的示例方法500的流程圖。首先，確定將由雷射束102熔融的進給材料的層上的部分124。這可(例如)藉由控制器儲存的預定圖案來指定。藉由紅外燈114預熱粉末進給材料105的床的區域(502)。進給材料105可包括金屬粉末。在雷射束熔融區域內的體素之前，致動紅外燈114，紅外燈114設置成加熱待熔融的部分內的含有體素的粉末進給材料的床的區域。
藉由雷射束熔融預熱區域內的部分(504)。這個部分可小於預熱區域的全部。藉由紅外燈114熱處理含有熔融體素的區域(506)。加熱含有熔融體素的粉末進給材料105的床的部分的紅外燈114在雷射束已熔融區域內的體素之後被致動，並在預定的時間量之後被停 用。預定的時間對應於熔融的進給材料105的目標冷卻曲線。
一旦進給材料的層的所有期望部分已經熔融(如，路徑124已經熔融)，則沉積新的進給材料105的層在平台上(508)。可降低平台或可升高支撐件131以保持在燈114與層到層的最外層之間的恆定距離。該處理可接著重複進行，其中隨後的粉末進給材料105的層的床的區域被紅外燈114預熱且預熱區域的至少一部分由雷射束102熔融。包括在後續層中的熔融部分的區域藉由紅外燈114進行熱處理。重複這個處理，直到製造出期望的物體106。
金屬和陶瓷的積層製造的處理條件與塑料的處理條件明顯不同。例如，一般來說，金屬和陶瓷需要顯著更高的處理溫度。例如，金屬需要在400℃或更高的級數的溫度下處理，如，對於鋁需要700℃。另外，金屬的處理應在真空或惰性氣體環境中進行(如，以防止氧化)。因此，用於塑料的3D印刷技術可能不適用於金屬或陶瓷處理，且設備可能不等同。此外，大規模工業部件的製造條件可能更加嚴格。儘管如此，這裡描述的一些技術可適用於塑料粉末。塑料粉末的示例包括尼龍，丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)，聚氨酯，丙烯酸酯，環氧樹脂，聚醚酰亞胺，聚醚醚酮(PEEK)，聚醚酮酮(PEKK)，聚苯乙烯，或聚酰胺。
所描述的系統的控制器119和其他計算裝置可包括用於儲存資料對象(如，計算機輔助設計(CAD)相容檔案)的非暫態計算機可讀介質，該檔案識別進給材料對每一層而言應沉積的圖案。例如，資料對象可為STL格式的檔案，3D製造格式(3MF)的檔案，或積層製造檔案格式(AMF)的檔案。例如，控制器可從遠程計算機接收資料對象。如，由韌體或軟體控制的控制器119中的處理器可解釋從計算機接收的資料對象，以生成控制設備100的部件以熔融每層的指定模式所必需的一組信號。
本發明的實施例和這份說明書中描述的所有功能操作可以數位電子電路或者計算機軟體，韌體或硬體來實施，包括這份說明書中揭露的結構手段及其結構等效元件，或他們的組合。本發明的實施例可被實施為一個或多個計算機程式產品，亦即，有形地實施在資訊載體(如，在非暫態機器可讀儲存介質中，或在傳播信號中)的一個或多個計算機程式，用於藉由資料處理設備(如，可程式化處理器，計算機，或多個處理器或計算機)而執行，或用以控制資料處理設備(如，可程式化處理器，計算機，或多個處理器或計算機)的操作。計算機程式(也稱為程式，軟體，軟體應用程序，或代碼)可用任何形式的程式語言編寫，包括編譯或解譯語言，且其可以任何形式進行部署，包括作為獨立程式或作為模組，組件，子常式或適合在計算環境中使用的其他單元。計算機程式不必對應於一個檔案。程式可儲存在保存其他程式或資料的檔案的一 部分中，專用於所討論的程式的單個檔案中，或多個協調檔案中(如，儲存一個或多個模組，子程式，或代碼的部分的檔案)。計算機程式可部署為在一台計算機上或多台計算機上在一個站點上執行，或分佈在多個站點上並藉由通信網絡互連。
這份說明書中描述的處理和邏輯流程可由執行一個或多個計算機程式的一個或多個可程式化處理器執行，以藉由操作輸入資料並生成輸出來執行功能。處理和邏輯流程也可由專用邏輯電路(如，FPGA(現場可程式化閘陣列)或ASIC(特殊應用積體電路))來執行，且設備也可被實施為專用邏輯電路(如，FPGA(現場可程式化閘陣列)或ASIC(特殊應用積體電路))
已經描述了許多實施方案。然而，將理解可進行各種修改。例如，
‧代替雷射束，可使用來自電子束源的電子束以熔融進給材料。雷射和電子束源都可被認為是用以產生能量束以熔融進給材料的能量源。
‧代替振鏡，可使用旋轉多邊形以偏轉雷射束。
‧為了提供沿著Y軸線的相對運動，可移動平台116或保持燈和雷射或兩者的支撐件。
‧儘管系統顯示為在預熱和一次熱處理中都具有加熱燈，但系統只能進行預熱或僅進行熱處理。在這種情況下，不是兩個平行的加熱燈的線性陣列，系統可分別在雷射束之前或之後包括僅一個加熱燈的線性陣列。
‧與紅外燈不同，可使用可見光燈進行加熱。
因此，已經描述了標的的特定實施方案。其他實施方案在以下的申請專利範圍的範圍內。在一些情況下，申請專利範圍中載明的動作可以不同的順序執行且仍然達成期望的結果。
100:積層製造系統/系統/設備
101:能量源/雷射
102:能量束/雷射束
103:鏡
105:進給材料
112a:陣列
112b:陣列
114:燈
114A:燈陣列
115:區域
116:平台
119:控制器
120:第一軸線/第一運動方向
122:第二軸線/第二運動方向/箭頭
124:部分/預定義圖案/路徑
126:區域/部分
126-1:區域
126-2:區域
128:區域/部分
128-1:區域
128-2:區域
129:部分
130:馬達
131:支撐件
132:機架
133-1:燈
133-2:燈
134-1:燈
134-2:燈
140:光斑

Claims (13)

  1. 一種積層製造系統，包含：一平台，用以支撐待製造的一物體；一分配器，用以在該平台上方輸送一進給材料的複數個層；一能量源，配置成產生一能量束以撞擊該進給材料的一最外層，該能量源被配置為沿著一第一軸線掃描該能量束；複數個獨立可控的燈，位於該平台上方，以加熱該進給材料的該最外層的複數個區域，每個燈被配置為加熱一不同的區域，其中該複數個獨立可控的燈佈置一第一線性陣列與一第二線性陣列，使得該些區域佈置成兩個沿著該第一軸線的平行線性條帶，其中該第一陣列的數個燈定位且配置成預熱該兩個平行條帶的一第一條帶中的數個區域，該兩個平行條帶的該第一條帶在沿著垂直於該第一軸線的一第二軸線上位於該能量束之前，而該第二陣列的數個燈定位且配置成熱處理該兩個平行條帶的一第二條帶中的數個區域，該兩個平行條帶的該第二條帶在沿著該第二軸線上位於該能量束之後；一馬達，被配置成沿著垂直於該第一軸線的該第二軸線產生在該複數個獨立可控的燈和該平台之間的相 對運動；及一控制器，配置成儲存表示一預定義圖案的數位資料，並耦接到該能量源以使該能量束以該預定義圖案熔融該進給材料的一部分，該預定義圖案對應於待製造的該物體，且其中該控制器經配置以使得該複數個獨立可控的燈在熔融該部分之前選擇性預熱或在熔融該部分之後熱處理包括該預定義圖案的該最外層的一區帶，該區帶大於對應於該預定義圖案的該進給材料的該部分且小於該進給材料的一整個最外層。
  2. 如請求項1所述之系統，包含一支撐件，保持該能量源和該複數個獨立可控的燈，且該馬達被配置為在該平台和該支撐件之間產生相對運動。
  3. 如請求項2所述之系統，其中該能量源包含產生一雷射束的一雷射和被配置為引導來自該雷射的該雷射束沿著該第一軸線的一鏡，且其中該雷射和該鏡由該支撐件支撐。
  4. 如請求項1所述之系統，其中該控制器被配置為使得不包括該預定義圖案的多個體素的多個區域不被該複數個獨立可控的燈加熱或被加熱到比包括該預定義圖案的多個區域更低的一溫度。
  5. 如請求項1所述之系統，其中該複數個獨立可控的燈的一第一燈朝向一第一區域，且該複數個獨 立可控的燈的一第二燈朝向一第二區域，且其中該第一區域和第二區域部分地重疊。
  6. 如請求項1所述之系統，其中該複數個區域的每個區域比進給材料的該最外層上的該能量束的一光斑尺寸大十至五十倍。
  7. 如請求項1所述之系統，其中每個區域的寬度約10毫米。
  8. 如請求項1所述之系統，其中該複數個獨立可控的燈包括紅外燈。
  9. 如請求項1所述之系統，其中該第一陣列的一第一燈朝向一第一區域，且該第一陣列的一第二燈朝向一第二區域，且其中該第一區域和第二區域部分地重疊。
  10. 如請求項1所述之系統，其中該控制器被配置為使得該複數個獨立可控的燈加熱包括該預定義圖案的多個體素的一個或多個區域至一第一溫度，該第一溫度低於該進給材料熔融的一第二溫度。
  11. 如請求項10所述之系統，其中該第一溫度高於該進給材料經歷頸縮的一溫度。
  12. 如請求項11所述之系統，其中該第一溫度高於該進給材料經歷結塊的一溫度。
  13. 如請求項12所述之系統，其中該控制器被 配置為使得該複數個獨立可控的燈加熱不包括該預定義圖案的多個體素的一個或多個區域至一第三溫度，該第三溫度低於該進給材料經歷結塊的一溫度。
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