TWI766702B - 片狀工件研磨方法及研磨裝置 - Google Patents

Abstract

本發明公開一種片狀工件研磨方法及研磨裝置，研磨裝置包含一旋轉載台、對應於旋轉載台設置的一研磨器、及彼此電性耦接的一非接觸式感測器與一處理單元。旋轉載台具有一固定面，用以固定一待研磨片體並定義有呈圓形的一量測邊界。非接觸式感測器對應於量測邊界設置，並且量測邊界定義有落在非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點。當旋轉載台帶動待研磨片體一起轉動，並且研磨器在研磨待研磨片體的一外表面時，處理單元能依據非接觸式感測器偵測基準點與外表面的多個位置資訊、而不間斷地測得待研磨片體的厚度值。

Description

片狀工件研磨方法及研磨裝置

本發明涉及一種研磨方法，尤其涉及一種片狀工件研磨方法及研磨裝置。

現有工件研磨方法所採用的研磨裝置是以多個接觸式感測器分別抵接於工作台及其上的工件表面，進而通過比較多個所述接觸式感測器所量測到的數值而推知所述工件的厚度。然而，現有研磨裝置因採用多個所述接觸式感測器，而導致其整體結構過於複雜。再者，現有研磨裝置的多個所述接觸式感測器也容易因為磨損，而影響其量測精準度。

於是，本發明人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究並配合科學原理的運用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。

本發明實施例在於提供一種片狀工件研磨方法及研磨裝置，其能有效地改善現有工件研磨方法及研磨裝置所可能產生的缺陷。

本發明實施例公開一種片狀工件研磨方法，其包括：一準備步驟：提供一研磨裝置，包含有：一旋轉載台，能以一軸線為中心自轉；其中，所述旋轉載台具有一固定面，並且所述固定面定義有以所述軸線為圓心的一量測邊界；一研磨器，對應於所述旋轉載台設置；及一非接觸式感測器，對應於所述量測邊界間隔地設置且位置保持固定，所述量測邊界定義有落在所述非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點；及一處理單元，電性耦接於所述非接觸式感測器；一設置步驟：將呈非圓形的一待研磨片體固定於所述旋轉載台的所述固定面；其中，所述量測邊界僅局部被所述待研磨片體所覆蓋，並且覆蓋所述量測邊界的所述待研磨片體部位定義有至少一個量測點；以及一研磨步驟，包含有：一研磨作業：以所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動，並且所述研磨器研磨所述待研磨片體的一外表面；及一監控作業：於實施所述研磨作業的過程中，所述非接觸式感測器偵測所述基準點與至少一個所述量測點的多個位置資訊，並且所述處理單元接收多個所述位置資訊、以不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。

本發明實施例也公開一種研磨裝置，其包括：一旋轉載台，能以一軸線為中心自轉，並且所述旋轉載台具有一固定面，用以固定一待研磨片體；其中，所述固定面定義有以所述軸線為圓心的一量測邊界；一研磨器，對應於所述旋轉載台設置，用以研磨固定於所述固定面的所述待研磨片體；一非接觸式感測器，對應於所述量測邊界間隔地設置，並且所述量測邊界定義有落在所述非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點；以及一處理單元，電性耦接於所述非接觸式感測器；其中，當所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動，並且所述研磨器在研磨所述待研磨片體的一外表面時，所述處理單元能依據所述非接觸式感測器偵測所述基準點與所述外表面的多個位置資訊、而不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。

本發明實施例另公開一種片狀工件研磨方法，其包括：一準備步驟：提供一研磨裝置，包含有：一旋轉載台，能以一軸線為中心自轉；其中，所述旋轉載台具有一固定面，並且所述固定面定義有以所述軸線為圓心的一量測邊界；一研磨器，對應於所述旋轉載台設置；及一非接觸式感測器，對應於所述量測邊界間隔地設置，並且所述量測邊界定義有落在所述非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點；及一處理單元，電性耦接於所述非接觸式感測器；一設置步驟：將一待研磨片體固定於所述旋轉載台的所述固定面；以及一研磨步驟，包含有：一研磨作業：以所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動，並且所述研磨器研磨所述待研磨片體的一外表面；及一監控作業：於實施所述研磨作業的過程中，所述非接觸式感測器偵測所述基準點與所述外表面的多個位置資訊，並且所述處理單元接收多個所述位置資訊、以不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。

綜上所述，本發明實施例所公開的片狀工件研磨方法及研磨裝置，其通過採用對應於所述量測邊界間隔地設置的單個所述非接觸式感測器，以簡化所述研磨裝置的構造，並且所述非接觸式感測器沒有磨耗之情況，因而可以維持其量測精準度，進而利於在所述片狀工件研磨方法的實施過程中，準確且不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。

為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本發明，而非對本發明的保護範圍作任何的限制。

以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“片狀工件研磨方法及研磨裝置”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外，本發明的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。

應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

請參閱圖1至圖10所示，其為本發明的一實施例。本實施例公開一種片狀工件研磨方法及一種研磨裝置100，並且上述片狀工件研磨方法於本實施例中是通過所述研磨裝置100而實施，但本發明不受限於此。據此，為便於說明本實施例，以下將先介紹所述研磨裝置100的構造，而後再說明所述片狀工件研磨方法。

如圖1至圖3所示，所述研磨裝置100包含有一旋轉載台1、對應於所述旋轉載台1設置的一研磨器2、一非接觸式感測器3、及一處理單元4。於本實施例中，所述研磨裝置100所包含的所述非接觸式感測器3的數量是限定為一個；也就是說，具有超過一個位置感測器的任何研磨裝置則非為本實施例所指的所述研磨裝置100。

如圖1至圖5所示，所述旋轉載台1能以一軸線C為中心自轉，並且所述旋轉載台1具有一固定面11，用以固定一待研磨片體O。其中，所述固定面11定義有以所述軸線C為圓心的一量測邊界12。再者，所述研磨器2對應於所述旋轉載台1設置（如：局部所述研磨器2位於所述旋轉載台1的上方），用以研磨固定於所述固定面11的所述待研磨片體O。

所述非接觸式感測器3對應於所述量測邊界12間隔地設置（如：所述非接觸式感測器3的偵測方向朝向所述量測邊界12），並且所述量測邊界12定義有落在所述非接觸式感測器3的偵測範圍內的一基準點121。也就是說，當所述非接觸式感測器3的位置保持固定不變時，則所述基準點121的位置也相對應保持固定不變。此外，所述研磨器2朝向所述固定面11正投影所形成的一投影區域，其僅覆蓋於局部的所述量測邊界12且未覆蓋於所述基準點121。

於本實施例中，所述非接觸式感測器3與所述量測邊界12的相對位置保持固定，並且所述待研磨片體O呈非圓形狀且覆蓋局部所述量測邊界12，但本發明不以此為限。舉例來說，如圖9和圖10所示，所述非接觸式感測器3可以依據設計需求而調整為能夠相對於所述量測邊界12移動（如：所述非接觸式感測器3安裝在一移動機構上），用以偵測呈圓形狀且覆蓋整個所述量測邊界12的所述待研磨片體O。

所述處理單元4電性耦接於所述非接觸式感測器3，據以使得當所述旋轉載台1帶動所述待研磨片體O一起轉動，並且所述研磨器2在研磨所述待研磨片體O的一外表面O1時，所述處理單元4能依據所述非接觸式感測器3偵測所述基準點121與所述外表面O1的多個位置資訊、而不間斷地測得所述待研磨片體O的厚度值。

再者，所述處理單元4於本實施例中也電性耦接於所述研磨器2，據以使得當所述處理單元4測得所述待研磨片體O的所述厚度值達到一目標厚度時，所述處理單元4能停止所述研磨器2的運作，但本發明不受限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述處理單元4可以不電性耦接於所述研磨器2，而所述研磨器2的停止作業則是以其他方式實施（如：人工停止）。

以上為本實施例的所述研磨裝置100的構造說明，以下接著介紹採用上述研磨裝置100的所述片狀工件研磨方法，但於本發明未繪示的其他實施例中，所述片狀工件研磨方法也可以採用有別於上述研磨裝置100的其他裝置，在此不加以限制。

於本實施例中，所述片狀工件研磨方法依序包含有一準備步驟S110、一設置步驟S120、及一研磨步驟S130。其中，所述準備步驟S110（如：圖1至圖3）：提供所述研磨裝置100，其構造即如本實施例的上述內容所載，在此不再加以贅述。

所述設置步驟S120（如：圖3至圖5）：將呈非圓形的所述待研磨片體O固定於所述旋轉載台1的所述固定面11；其中，所述量測邊界12僅局部被所述待研磨片體O所覆蓋，並且覆蓋所述量測邊界12的所述待研磨片體O部位定義有至少一個量測點O2。

於本實施例中，所述待研磨片體O呈多角形（如：正多邊形），至少一個所述量測點O2的數量為多個（如：所述量測點O2的數量等同於所述待研磨片體O的角落數量），所述待研磨片體O僅以其多個角落覆蓋於所述量測邊界12，每個所述角落定義有一個所述量測點O2，但本發明不以此為限。

所述研磨步驟S130（如：圖3、及圖6至圖8）包含有一研磨作業、一監控作業、及一停止作業；於本實施例中，所述監控作業是在所述研磨作業開始之後實施，而所述停止作業則是在所述監控作業開始之後實施，但本發明不以此為限。

以下將接著介紹所述研磨步驟S130的具體實施方式。所述研磨作業：以所述旋轉載台1帶動所述待研磨片體O一起轉動，並且所述研磨器2研磨所述待研磨片體O的所述外表面O1。

所述監控作業：於實施所述研磨作業的過程中，所述非接觸式感測器3偵測所述基準點121與至少一個所述量測點O2（或所述外表面O1）的多個位置資訊，並且所述處理單元4接收多個所述位置資訊、以不間斷地測得所述待研磨片體O的厚度值。

進一步地說，於所述監控作業中，當所述旋轉載台1帶動所述待研磨片體O一起轉動每一圈時，所述處理單元4接收由所述非接觸式感測器3所偵測的多個所述量測點O2的多個所述位置資訊並計算出一平均值，並且所述處理單元4計算所述平均值及對應於所述基準點121的所述位置資訊而得出對應於（或等於）所述厚度值的一差值。

所述停止作業：於實施所述研磨作業的過程中，當所述處理單元4測得所述待研磨片體O的所述厚度值達到一目標厚度時，所述處理單元4能停止所述研磨器2的運作，但本發明不受限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述處理單元4可以不電性耦接於所述研磨器2，而所述研磨器2的停止作業則是以其他方式實施（如：人工停止）。

[本發明實施例的技術效果]

綜上所述，本發明實施例所公開的片狀工件研磨方法及研磨裝置，其通過採用對應於所述量測邊界間隔地設置的單個所述非接觸式感測器，以簡化所述研磨裝置的構造，並且所述非接觸式感測器沒有磨耗之情況，因而可以維持其量測精準度，進而利於在所述片狀工件研磨方法的實施過程中，準確且不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。

再者，本發明實施例所公開的片狀工件研磨方法及研磨裝置，其所採用的單個所述非接觸式感測器可以與所述量測邊界的相對位置保持固定，以適用於量測呈非圓形狀的所述待研磨片體，並能有效地避免所述非接觸式感測器因移動而產生量測誤差。

另外，本發明實施例所公開的片狀工件研磨方法及研磨裝置，其所採用的所述處理器可以同時電性耦接於所述非接觸式感測器及所述研磨器，據以在所述待研磨片體被研磨至所述目標厚度的當下，就能夠即時地停止所述研磨器的運作。

以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的專利範圍內。

100:研磨裝置 1:旋轉載台 11:固定面 12:量測邊界 121:基準點 2:研磨器 3:非接觸式感測器 4:處理單元 C:軸線 O:待研磨片體 O1:外表面 O2:量測點 S110:準備步驟 S120:設置步驟 S130:研磨步驟

圖1為本創作實施例的片狀工件研磨方法的準備步驟的側視示意圖。

圖2為圖1的俯視示意圖（省略非接觸式感測器與處理單元）。

圖3為本創作實施例的研磨裝置的功能方塊示意圖。

圖4為本創作實施例的片狀工件研磨方法的設置步驟的側視示意圖。

圖5為圖4的俯視示意圖（省略非接觸式感測器與處理單元）。

圖6為本創作實施例的片狀工件研磨方法的研磨步驟的側視示意圖（一）。

圖7為本創作實施例的片狀工件研磨方法的研磨步驟的側視示意圖（二）。

圖8為圖7的俯視示意圖（省略非接觸式感測器與處理單元）。

圖9為本創作另一實施例的研磨裝置的運作中的側視示意圖。

圖10為圖9的俯視示意圖（省略非接觸式感測器與處理單元）。

100:研磨裝置

1:旋轉載台

11:固定面

12:量測邊界

121:基準點

2:研磨器

C:軸線

O:待研磨片體

O1:外表面

O2:量測點

Claims (7)

1. 一種片狀工件研磨方法，其包括：一準備步驟：提供一研磨裝置，包含有：一旋轉載台，能以一軸線為中心自轉；其中，所述旋轉載台具有一固定面，並且所述固定面定義有以所述軸線為圓心的一量測邊界；一研磨器，對應於所述旋轉載台設置；及一非接觸式感測器，對應於所述量測邊界間隔地設置且位置保持固定，所述量測邊界定義有落在所述非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點；及一處理單元，電性耦接於所述非接觸式感測器；一設置步驟：將呈多角形的一待研磨片體固定於所述旋轉載台的所述固定面；其中，所述量測邊界僅局部被所述待研磨片體所覆蓋，並且覆蓋所述量測邊界的所述待研磨片體部位定義有多個量測點；其中，所述待研磨片體僅以其多個角落覆蓋於所述量測邊界，每個所述角落定義有一個所述量測點；以及一研磨步驟，包含有：一研磨作業：以所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動，並且所述研磨器研磨所述待研磨片體的一外表面；及一監控作業：於實施所述研磨作業的過程中，所述非接觸式感測器偵測所述基準點與多個所述量測點的多個位置資訊，並且所述處理單元接收多個所述位置資訊、以不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。
2. 如請求項1所述的片狀工件研磨方法，其中，所述處理單元 電性耦接於所述研磨器；所述研磨步驟進一步包含有一停止作業：於實施所述研磨作業的過程中，當所述處理單元測得所述待研磨片體的所述厚度值達到一目標厚度時，所述處理單元能停止所述研磨器的運作。
3. 如請求項1所述的片狀工件研磨方法，其中，於所述監控作業中，當所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動每一圈時，所述處理單元接收由所述非接觸式感測器所偵測的多個所述量測點的多個所述位置資訊並計算出一平均值，並且所述處理單元計算所述平均值及對應於所述基準點的所述位置資訊而得出對應於所述厚度值的一差值。
4. 如請求項1所述的片狀工件研磨方法，其中，所述研磨器朝向所述固定面正投影所形成的一投影區域，其僅覆蓋於局部的所述量測邊界且未覆蓋於所述基準點。
5. 一種研磨裝置，其包括：一旋轉載台，能以一軸線為中心自轉，並且所述旋轉載台具有一固定面；其中，所述固定面定義有以所述軸線為圓心的一量測邊界，並且所述固定面用以固定呈多角形且以其多個角落覆蓋於所述量測邊界的一待研磨片體，每個所述角落定義有一個量測點；一研磨器，對應於所述旋轉載台設置，用以研磨固定於所述固定面的所述待研磨片體；一非接觸式感測器，對應於所述量測邊界間隔地設置，並且所述量測邊界定義有落在所述非接觸式感測器的偵測範圍內的一基準點；以及 一處理單元，電性耦接於所述非接觸式感測器；其中，當所述旋轉載台帶動所述待研磨片體一起轉動，並且所述研磨器在研磨所述待研磨片體的一外表面時，所述處理單元能依據所述非接觸式感測器偵測所述基準點與多個所述量測點的多個位置資訊、而不間斷地測得所述待研磨片體的厚度值。
6. 如請求項5所述的研磨裝置，其中，所述處理單元電性耦接於所述研磨器；當所述處理單元測得所述待研磨片體的所述厚度值達到一目標厚度時，所述處理單元能停止所述研磨器的運作。
7. 如請求項5所述的研磨裝置，其中，所述研磨器朝向所述固定面正投影所形成的一投影區域，其僅覆蓋於局部的所述量測邊界且未覆蓋於所述基準點。

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