TWI756062B - 實木紋皮膜基材之製備方法 - Google Patents
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Abstract
一種實木紋皮膜基材之製備方法,係將水平向置放的長狀樹幹,以年輪截面為中心,規劃出中心廢料部與該廢料部上、下兩側的寬板區暨該廢料部左、右兩側的窄板區;經設定相等厚度作水平向逐層剖切,取得多層板體後,該寬板區經頂底兩側窄料去除、左右兩側餘邊料去除後,裁得多層寬狀主板;該中段窄板區,經縱向剖除廢料部、左右兩側餘邊料去除後,裁得多層窄狀邊板;由此選擇等長的數片主板、邊板,依寬度總合需求作水平靠接構成基板; 該基板長度方向兩側,經以等厚邊條作黏合封邊後,構成可整片移動加工的膜板;由此,該膜板經水平方向作薄狀刨切,製得呈現自然木紋拼接的膜片;該膜片藉透明性黏膠全面塗布,使與約等面積的不織布形成托底結合,而使分段靠接的木紋薄片,穩固貼合定位在不織布頂面,構成基片;基片經定型後,即可藉長寬方向定吋裁切,製得大面積木紋呈現的仿真木紋皮膜基材,為其特徵者。
Description
本發明為一種實木紋皮膜基材之製備方法,係完全取材長狀樹幹,經由針對木紋分布特性的膜材精確刨取,得以製成大面積木紋自然併接,使呈現真實木紋。
皮膜基材的產業效益,並特別在樹材成長特性作高效率裁切運用,達到最小耗費的自然資源保護實益。
按,原木質地的建材或板材,運用在室內裝潢的壁板或傢俱,除能為室內帶來暖色系的質感,且有木質芬芳的自然香氣散發,為屬最高級但也是最高價的運用材料。
但,因樹木生長速度慢,若大量使用整塊實心木料(如杉木、松木等)作為板材,除會有過量砍伐破壞地球環境的影響外,主要還因整塊、足夠面積、厚度的實心木取得不易,且價位相對越來越昂貴,對大自然的傷害也是相當嚴重,絕對不容忽視的;所以,目前市面上有許多針對取代實木外觀的替代性產品,如:夾板或者發泡板等。
其中,常見的是夾板或發泡板的外層貼上木質紋路的貼皮,但是前述的貼皮是用印刷機所印製,紋路的重複性高,運用在裝潢時相當不自然。且,印刷貼皮缺乏原木材質能吸收紅外線、紫外線暨散發天然暖色系、自然原木香氣的多重功效。
為了解決此問題,有廠商開發出木材透過弦切、旋切、徑切或者剖切等技術取得天然木皮,再經由貼合處理,拼貼在夾板或發泡板的外層或不織布頂層,作成貼合用的木紋皮膜。
但,傳統的木皮剖取技術,因未能針對樹材成長脈絡作取材,導致所貼合成整面的木紋板均無法避免出現零散、碎裂的自然木紋視覺效果,特別是是遇到大尺寸、大面積的板面或壁面鋪設時,前述的製造手段就會有紋路重複性高,或者木皮紋路極度不自然的情況,反而失去其天然木材的裝設效果,顯然不敷實益。
另有一種方式,則是利用科技木皮的技術,貼在一夾板或挺性材料;但,此類科技木皮需要貼合前的前置處理,不僅程序繁瑣、成本較高,且比天然木皮來得厚、重許多,鋪設施工時較為費工、不便。
如何改善上述木皮剖取技術,並須兼顧高效率取料、維護天資樹材資源,實是相關業者須共同積極解決的當前課題。
本發明的主要目的,即在提供一種實木紋皮膜基材之製備方法,其係規劃出中心廢料部後,經設定相等厚度作水平向逐層剖切,取得多層板體後,再經頂底窄料排除、左右兩側餘邊料去除暨剖除廢料部部位的縱向剖切後,即可裁切出多層箱等厚度並具有兩側垂直接面,分別呈現樹種主木紋的寬狀主板與接續狀直向紋特徵的窄狀邊板; 由此,依整體寬度總合需求,經選擇相等長度的數片主板、邊板作水平方向靠接,構成略大於預定皮膜成品長寬尺寸,且呈現自然木紋拼接的基板;由該基板長度方向兩側作相等厚度邊條黏合封邊後構成的膜板,經水平方向作薄狀刨切製成膜片;膜片製得底面可藉透明性黏膠與薄狀不織布黏合形成托底結合,形成全面木紋分布的基片,即可經定型處理後,藉長、寬方向定吋裁切,製得皮膜基材;其仿如天然原木、大面積木紋呈現的質感,並特別具有每片皮膜基材自然實木木紋絕無重覆的絕對特色,足使此類皮膜基材的運用價值獲得明顯提升與超越,誠為本案的最重要特徵者。
本發明的再一目的,係在提供一種實木紋皮膜基材之製備方法,
其主要針對樹木天然的木紋成長作順向取材,在經常會出現爛蝕現象的樹幹中心廢料部予以規畫排除,並剖除頂底窄料、左右兩側餘邊料後完成取材的主板
、邊板,乃係對完整木紋形成的有效木料,作成最高效率的運用;使其在在加工製程中,得以降低木紋拼接時瑕疵現象發生,具有簡化製程、提升經濟效益的進步性實益,為其特徵者。
本發明的進一目的,仍在提供一種實木紋皮膜基材之製備方法,其有效木料、高效率完整運用的實益,除在於提升每支原木樹體可以增量產出實木紋皮膜基材的經濟效益外,乃相對減低原木樹體的需求量,而達到減少砍伐數量,保護大自然珍貴資源的助益,為其特徵者。
本發明的另一目的,在提供一種實木紋皮膜基材之製備方法,其中,水平方向刨切為薄狀的膜片;在經底面藉透明性透明性黏膠與不織布黏合形成托底結合構成全面木紋分布的基片,經定型處理、定吋裁切後製得的皮膜基材;因極薄狀不織布形成透光狀態,而使薄狀的皮膜基材得以呈現局部的遮光性,在基材直接整片運用做為窗簾的簾片時,即可配合內或外側的光源照射襯托,呈現全面式的原木木紋的自然光暈,此為本案實木紋皮膜基材另一運用的更佳實務效益,為其特徵者。
如請配合參閱圖1所示:發明之實木紋皮膜基材之製備方法,其步驟主要包括:A.中心廢料部規劃、B.水平向等厚度逐層剖切、C.主板:窄料、邊料去除、D.邊板:廢料部、邊料去除、E.基板:主板、邊板靠接、F.膜板:基板長度方向兩側邊條封邊、G.膜片:膜板水平方向的薄狀刨切、H.基片:透明性黏膠黏貼薄狀不織布形成托底結合、I.皮膜基材:基片長、寬定吋裁切。
由上述步驟,即可完成實木紋皮膜基材之製備;其中,木紋膜片的堆壓整平、皮膜基材的表面上漆等物性處理,為習用各型薄膜處理的慣用技藝,非屬本案發明範疇,即不列入,特此說明。
續請配合參閱圖2、圖3、圖4所示:本案實木紋皮膜基材之製備方法,係將水平向置放的長狀樹幹2,以年輪截面為中心,規劃出一矩形或圓心形中心廢料部21;該廢料部21上、下兩側為寬板區2A、該廢料部21左、右兩側為窄板區2B;
先經設定相等厚度作水平向逐層剖切,取得多層板體(水平切刀S1)後,上、下兩側該寬板區2A經頂、底兩側不足寬幅的窄料2C去除,並做左、右兩側修整為直邊的餘邊料2D去除後,即可裁切出多層等厚,並具有兩側垂直接面,並呈現樹種主木紋特徵的寬狀主板22;
再針對中段窄板區2B,以剖除廢料部21寬度的縱向剖切(縱向切刀S2),並做左、右兩側修整為直邊的餘邊料2D去除後,即取得多層等厚並具有兩側垂直接面,並呈現接續狀直向紋特徵的窄狀邊板23;
其中,圖2所示為規劃矩形廢料部21的縱向剖切(縱向切刀S2)型式,其剖切工序較為簡化,但可能有取料率較低(邊板23寬度較窄)的問題;圖3所示為規劃圓心形廢料部21的縱向剖切(縱向切刀S3),其剖切加工係依據實際廢料部21的確實寬度,作分道剖切;其剖切工序較多,但可能有取料率較高(邊板23寬度可以較寬)的實益;
續請再配合參閱圖5所示:由此,即可選擇兩側均為垂直接面,且裁成相等長度(如:設定8呎長,即約245公分)的數片主板22、邊板23,依整體寬度總合(如:設定4呎寬,即約122公分)需求,作水平方向靠接,構成略大於預定皮膜基材成品長寬尺寸(如:設定4呎寬、8呎長規格板),使其能呈現自然木紋拼接的基板3;
其中,由於天然成長的樹幹2其寬徑不一,且中心廢料部21寬度亦無法準確設定,導致主板22、邊板23的各片的寬度規格無法準確一致;此時,即由工作人員現場選定木紋相近的同一樹種所裁出的主板22、邊板23作寬度靠接成略大於預定皮膜基材成品長寬尺寸即可;
其組合方式以一片或數片主木紋特徵的主板22,搭配側段一片或數片直向紋特徵的邊板23的木紋圖像較佳;
另以全片數主板22或全片數邊板23作靠接,亦均可形成不同風味且絕無重覆的木紋圖像特色。
續請再配合參閱圖6所示:該基板3長度方向的兩側,經以相等厚度的邊條31作黏合封邊後,即構成可整片移動加工的膜板4;
續請再配合參閱圖7所示:由此,再提供該膜板4經水平方向的薄狀刨切(水平向剖切刀S4),即可製得多層呈現自然木紋拼接的膜片41(邊條31的留邊411)。
續請再配合參閱圖8所示:製成的該多層膜片41,可先經由連續層堆疊、重物W頂面加壓作預先整平,方便後續的貼合操作。
續請再配合參閱圖9所示:該膜片41底面再藉由透明性黏膠P全面塗布,使與約等面積的薄狀不織布5,形成托底結合;而使分段靠接的木紋薄片,得以穩固的貼合定位在不織布5頂面,構成全面木紋分布的基片6;
續請再配合參閱圖10所示:基片6經定型後,即可藉長、寬方向定吋裁切後,製得仿如天然原木、大面積木紋自然呈現,且特別具有各種材料表面均可貼合施工的仿真木紋皮膜7。
本木紋皮膜7由於具有底層不織布5鋪設,易於再塗布黏膠,用作為壁面、整片式窗簾簾面或家具、器材表面貼附施工的基材,均能呈現仿真的大面積木紋的質感,為本案的重要經濟性實益與確實的進度性特徵。
綜上所述,本發明結構均未曾見於諸書刊或公開使用,誠符合發明專利申請要件,懇請 鈞局明鑑,早日准予專利,至為感禱。
2:樹幹
21:廢料部
2A:寬板區
2B:窄板區
2C:窄料
2D:餘邊料
22:主板
23:邊板
3:基板
31:邊條
4:膜板
41:膜片
411:留邊
5:不織布
6:基片
7:木紋皮膜
S1:水平切刀
S2:縱向切刀
S3:縱向切刀
S4:水平向剖切刀
W:重物
P:黏膠
圖1:本發明的流程圖。
圖2:樹幹規劃切割的示意圖-1。
圖3:樹幹規劃切割的示意圖-2
圖4:樹幹切割完成的立體分解圖。
圖5:基板拼接、膜板封邊的分解示意圖。
圖6:基板拼接、膜板封邊的分解示意圖。
圖7:膜板剖切膜片的分解示意圖。
圖8:膜片整平示意圖。
圖9:基片貼合不織布托底示意圖。
圖10:皮膜基材定吋裁切示意圖。
21:廢料部
2C:窄料
2D:餘邊料
22:主板
23:邊板
Claims (1)
- 一種實木紋皮膜基材之製備方法,包含有: A. 將水平向置放的長狀樹幹,以年輪截面為中心,規劃出一矩形或圓心形中心廢料部;該廢料部上、下兩側為寬板區、該廢料部左、右兩側為窄板區; B. 經設定相等厚度作水平向逐層剖切,取得多層板體; C. 上、下兩側該寬板區經頂、底兩側不足寬幅的窄料去除,並做左、右兩側修整為直邊的餘邊料去除後,即可裁切出多層等厚,並具有兩側垂直接面,並呈現樹種主木紋特徵的寬狀主板; D. 中段窄板區,以剖除廢料部寬度的縱向剖切,並做左、右兩側修整為直邊的餘邊料去除後,即取得多層等厚並具有兩側垂直接面,並呈現接續狀直向紋特徵的窄狀邊板; E. 選擇裁成相等長度的數片主板、邊板,依整體寬度總合需求,作水平方向靠接,構成略大於預定皮膜基材成品長寬尺寸,使其能呈現自然木紋拼接的基板; F. 該基板長度方向的兩側,經以相等厚度的邊條作黏合封邊後,即構成可整片移動加工的膜板; G. 該膜板經水平方向的薄狀刨切,即可製得多層呈現自然木紋拼接的膜片; H. 該膜片底面再藉由透明性黏膠全面塗布,使與約等面積的薄狀不織布,形成托底結合;而使分段靠接的木紋薄片,得以穩固的貼合定位在不織布頂面,構成全面木紋分布的基片; I. 基片經定型後,即可藉長、寬方向定吋裁切,完成實木紋皮膜基材之製備。
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