TWI744007B - 發光物料影像處理方法 - Google Patents
發光物料影像處理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI744007B TWI744007B TW109132993A TW109132993A TWI744007B TW I744007 B TWI744007 B TW I744007B TW 109132993 A TW109132993 A TW 109132993A TW 109132993 A TW109132993 A TW 109132993A TW I744007 B TWI744007 B TW I744007B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- light
- emitting
- emitting unit
- images
- image
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
一種發光物料影像處理方法,其步驟包含:點亮一發光物料之至少部分發光單元;利用一影像擷取裝置分別擷取該發光物料之複數區塊的影像,而得到分別對應該等區塊之複數檢測影像,各區塊包含複數被點亮之發光單元,各檢測影像包含複數光點,該等光點係分別對應其所屬檢測影像所對應之區塊的發光單元,每二相鄰之區塊有一重疊區域,該重疊區域包含至少一被點亮之發光單元;以及利用該重疊區域之至少一該被點亮之該發光單元所對應的光點作為對位參考點,而將相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體;藉此,本發明可將發光物料之全部發光單元的發光情況以單一影像呈現。
Description
本發明係與發光物料之檢測技術有關,特別是關於一種發光物料影像處理方法。
習知諸如微發光二極體(micro light-emitting diode;簡稱micro LED)陣列晶片、垂直式共振腔面射型雷射陣列(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser Array;簡稱VCSEL Array)晶片等發光元件之發光,係由相當多尺寸微小的發光單元(例如VCSEL Array晶片的出光口或各個micro LED)同時發光,該等發光單元可能呈不規則排列且其發光強度不一定相同,使得所述發光元件不一定均勻地發光,因此發光元件之檢測通常包含發光分佈檢測,亦即檢測其發光分佈是否達到可接受之均勻程度。
習知發光分佈檢測係藉由相機擷取一包含有一或多個前述發光元件之待測物料發光時的影像,以拍攝出肉眼所看不出之該等發光單元的影像,亦即檢測影像上會有對應該等發光之發光單元的光點,該等光點隨著其對應之發光單元的發光強度不同而有不同的明暗程度,亦即檢測影像上會顯示出有亮有暗的光點,甚至可對應顯示出各光點的亮度值,而使用者係藉由檢視此檢測影像來判斷待測物料之發光分佈情況。
然而,現今之待測物料面積越來越大,其尺寸可能超過一般影像擷取裝置之視野範圍(field of view;簡稱FOV),或者影像擷取鏡頭必須相當靠近待測物料方能拍攝到待測物的細微發光單元,以致影像擷取裝置所能拍攝的範圍只能涵蓋到待測物料的某一部分,如此一來,雖然仍可將待測物料分成多個區域以逐次進行檢測,但如此即無法讓使用者同時觀測到同一待測物料上的全部發光單元的發光情況,而不利於判斷該待測物料之發光分佈情況。
有鑑於上述缺失,本發明之主要目的在於提供一種發光物料影像處理方法,可將同一發光物料上的全部發光單元的發光情況以單一影像呈現。
為達成上述目的,本發明所提供之發光物料影像處理方法係利用一影像擷取裝置擷取一發光物料之複數發光單元的影像,該影像擷取裝置之一視野範圍係小於該發光物料之發光單元的分佈範圍;該發光物料發光單元影像處理方法之步驟包含有:
點亮該發光物料之至少部分發光單元;
利用該影像擷取裝置分別擷取該發光物料之複數區塊的影像,而得到分別對應該等區塊之複數檢測影像,其中,各該區塊包含複數被點亮之該發光單元,各該檢測影像包含複數光點,該等光點係分別對應其所屬檢測影像所對應之區塊的發光單元,每二相鄰之該區塊有一重疊區域,該重疊區域包含至少一被點亮之該發光單元;以及
以該重疊區域之至少一該被點亮之該發光單元所對應的光點作為對位參考點,而將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體。
在本發明的一實施例中,在點亮該發光物料之至少部分發光單元後,先使該影像擷取裝置之視野範圍涵蓋該發光物料之一第一區塊(包含複數被點亮之發光單元),以拍攝該第一區塊而得到一第一檢測影像(包含複數第一光點),再使該影像擷取裝置之視野範圍涵蓋該發光物料之一第二區塊(包含複數被點亮之發光單元),以拍攝該第二區塊而得到一第二檢測影像(包含複數第二光點),且該第一區塊與該第二區塊有一重疊區域(包含至少一被點亮之發光單元),利用至少一個分別存在於該第一、第二檢測影像中對應著相同的發光單元的光點作為對位參考點,而將該第一檢測影像與該第二檢測影像相互拼接,使得該重疊區域之各該發光單元所對應之第一光點與第二光點相互重疊。根據發光物料之發光單元分佈面積大小,能以前述之方式再擷取發光物料之第三區塊(與第二區塊有一重疊區域)的第三檢測影像、第四區塊(與第三區塊有一重疊區域)的第四檢測影像等等,並以前述之方式再將第三檢測影像與第二檢測影像拼接、第四檢測影像與第三檢測影像拼接,以此類推。
藉此,本發明之發光物料發光單元影像處理方法可將對同一發光物料分成多次擷取之影像拼接成單一影像,進而使同一發光物料上的全部發光單元的發光情況呈現於單一影像上,以利使用者觀測該發光物料之發光分佈情況。
有關本發明所提供之發光物料發光單元影像處理方法的詳細構造、特點、組裝或使用方式,將於後續的實施方式詳細說明中予以描述。然而,在本發明領域中具有通常知識者應能瞭解,該等詳細說明以及實施本發明所列舉的特定實施例,僅係用於說明本發明,並非用以限制本發明之專利申請範圍。
申請人首先在此說明,在以下將要介紹之實施例以及圖式中,相同之參考號碼,表示相同或類似之元件或其結構特徵。需注意的是,圖式中的各元件及構造為例示方便並非依據真實比例及數量繪製,且若實施上為可能,不同實施例的特徵係可以交互應用。其次,當述及一元件設置於另一元件上時,代表前述元件係直接設置在該另一元件上,或者前述元件係間接地設置在該另一元件上,亦即,二元件之間還設置有一個或多個其他元件。而述及一元件「直接」設置於另一元件上時,代表二元件之間並無設置任何其他元件。
請先參閱圖1,本發明一較佳實施例所提供之發光物料影像處理方法(如圖2所示)主要係應用於一發光物料10之發光分佈檢測,該發光物料10包含有一本體12以及正、負電極13、14,該本體12上有多個發光單元15(包含圖3及圖4所示之發光單元15a~o)。或者,電極13、14亦可皆為正電極,而負電極係位於發光物料10之背面(設有發光單元15的表面為正面)。該發光物料10可以為(但不限於)諸如具有複數出光口的VCSEL晶片或具有複數micro LED的微發光二極體陣列晶片之類的發光元件,該本體12上的發光單元15即為發光元件的最小發光單位,亦即VCSEL晶片之出光口或是各個micro LED的發光部位,其數量通常為數百或數千個,且不一定是呈規則地矩陣排列,為了簡化圖式並便於說明,本實施例係將發光物料10的發光單元15繪製成規則地矩陣排列。
本發明之發光物料影像處理方法係利用一影像擷取裝置(圖中未示)擷取該發光物料10之發光單元15發光時的影像,以供使用者進行後續觀測。該影像擷取裝置可為感光元件採用電荷耦合元件(charge-coupled device;簡稱CCD)或互補式金屬氧化物半導體(complementary metal-oxide-semiconductor;簡稱CMOS)之相機或攝影機,為了將肉眼無法區分之發光單元15的光線拍攝成影像,並且為了避免擷取到的光線因傳輸距離太遠而衰減或受到環境光源干擾,該影像擷取裝置需貼近發光物料10以進行拍攝,因此,如圖1所示,該影像擷取裝置可視之視野範圍20係小於該發光物料10之發光單元15的分佈範圍,亦即該視野範圍20僅可涵蓋該發光物料10之部分發光單元15,本實施例為了簡化圖式並便於說明,僅示意性地以該視野範圍20涵蓋九個發光單元15,實際上該視野範圍20通常會涵蓋更多發光單元15。
該發光物料影像處理方法包含有下列步驟:
a) 如圖2中的步驟S1,點亮該發光物料10之至少部分發光單元15。
如前所述,該影像擷取裝置可視之視野範圍20僅可涵蓋該發光物料10之部分發光單元15,亦即在後續步驟中該影像擷取裝置進行一次拍攝只會擷取一部分發光單元15的影像(在本實施例中為九個發光單元15),故此步驟a)可同時點亮該發光物料10之全部發光單元15,亦可僅先點亮部分發光單元15。較佳地,本實施例之步驟a)可僅先點亮圖1所示之第一部分16的發光單元15,以供該影像擷取裝置由左而右地連續拍攝而逐次擷取該第一部分16之發光單元15發光時的影像,或者亦可在每次拍攝時僅點亮當次拍攝的發光單元15。
b) 如圖2中的步驟S2,利用該影像擷取裝置分別擷取該發光物料10之複數區塊(包含圖3及圖4所示之區塊161、162)的影像,而得到分別對應該等區塊之複數檢測影像(包含圖5所示之檢測影像31、32),其中,各區塊包含複數被點亮之發光單元15(在本實施例中為九個發光單元15),各檢測影像包含複數光點(在本實施例中為九個光點,例如圖5所示之光點311~319或321~329),該等光點係分別對應其所屬檢測影像所對應之區塊的發光單元15,每二相鄰之區塊有一重疊區域,該重疊區域包含至少一被點亮之發光單元15(實際為1~100個,或更多),詳述於下文。
對於該影像擷取裝置每次拍攝的區塊,其發光單元發出之光線被影像擷取裝置接收時,影像擷取裝置之感光元件感測到光訊號,影像擷取裝置將光訊號進行處理而形成相對應感光狀態的檢測影像,使得肉眼無法區分之該等發光單元的光線在檢測影像上呈現出光點。本發明中所述之光點,實際上大多呈不規則形狀,然而,為了簡化圖式並便於說明,本發明之圖式中光點皆繪製成圓形。
更進一步而言,此步驟b)包含有下列步驟:
b1) 如圖3所示,使該影像擷取裝置之視野範圍20涵蓋該發光物料10之第一區塊161,以拍攝該第一區塊161而得到如圖5所示之第一檢測影像31,其中,該第一區塊161包含複數被點亮之發光單元(在本實施例中為九個發光單元15a~15i),該第一檢測影像31包含分別對應該第一區塊161之發光單元15a~15i的複數第一光點311~319。
b2) 如圖4所示,使該影像擷取裝置之視野範圍20涵蓋該發光物料10之第二區塊162,以拍攝該第二區塊162而得到如圖5所示之第二檢測影像32,其中,該第二區塊162包含複數被點亮之發光單元(在本實施例中為九個發光單元15g~15o),該第二檢測影像32包含分別對應該第二區塊162之發光單元15g~15o的複數第二光點321~329。如圖3及圖4所示,該第一區塊161及該第二區塊162皆涵蓋發光單元15g~15i,亦即該第一區塊161與該第二區塊162有一包含發光單元15g~15i之重疊區域。
利用類同於前述步驟b1)與b2)之方式,由左而右地再繼續擷取發光物料10之一位於第二區塊162右側且與第二區塊162有一重疊區域之第三區塊的第三檢測影像(圖中未示),以此類推,即可連續拍攝完該發光物料10之第一部分16的發光單元15,並取得多個檢測影像。
c) 如圖2中的步驟S3,利用重疊區域之同一發光單元15所對應的光點對位,而將相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體。
詳而言之,將前述之第一檢測影像31與第二檢測影像32相互拼接時,係利用第一檢測影像31與第二檢測影像32中有分別出現的、且對應著重疊區域中相同的發光單元15的若干光點(例如第一光點317、318、319以及第二光點321、322、323都是對應著發光單元15g~15i),作為第一檢測影像31與第二檢測影像32拼接時的對位參考點,如此即可將第一檢測影像31與第二檢測影像32拼接成一個影像,使得第一、二區塊161、162之重疊區域的發光單元15g~15i所對應之光點相互重疊,亦即如圖5所示,第一檢測影像31之第一光點317、318、319分別與第二檢測影像32之第二光點321、322、323相互重疊。以相同之方式再將拍攝該發光物料10之第一部分16所取得之其他相鄰區塊的檢測影像連續向右拼接,例如將前述之第三檢測影像拼接於第二檢測影像32右側,以此類推,即可將該發光物料10之第一部分16的發光單元15影像拼接在一起。
以前述之步驟a)、b)完成第一部分16之影像擷取之後,可接著再點亮該發光物料10之一第二部分17的發光單元15(如圖1所示),並以類同於前述步驟b1)與b2)之方式由右到左地再繼續擷取第二部分17之多個區塊的檢測影像,以此類推,進而得到該發光物料10之全部發光單元15的影像,並利用前述之步驟c)將全部檢測影像拼接成單一且可顯示出整個發光物料10所有發光單元15的影像。需加以說明的是,在進行第二部分17多個區塊影像擷取時,除了左右相鄰的檢測影像有發光單元15所對應的光點重疊的部分可以作為左右相鄰影像拼接時的對位參考點外,第二部分17某一區塊所擷取的檢測影像與其第一部分16上下對應區塊所擷取的檢測影像亦可能有光點重疊的部分可以作為上下相鄰影像拼接時的對位參考點,換言之,本發明所稱「相鄰區塊」可以為左右相鄰或上下相鄰的區塊。
更進一步而言,在前述之過程中,該影像擷取裝置取得各該檢測影像之後,係將檢測影像傳輸至一儲存裝置(圖中未示)進行儲存,然後,可利用影像處理軟體對各該檢測影像進行後處理,進而取得並記錄各該檢測影像之光點的特徵,例如位置、亮度、尺寸等等,在進行檢測影像拼接時即可藉由光點之至少一項前述特徵,確認哪些對應著相同的發光單元15的光點有分別出現在相鄰區塊的擷取影像中,如此,即可判斷出應相互重疊之光點並進行影像拼接,詳述於下文。
在點亮發光物料10並擷取影像之前,可先掃描出整個發光物料10之全部發光單元15的位置,記錄各個發光單元15的座標,而在進行檢測影像拼接時,可根據事先掃描而得之發光單元位置,與拍攝時視野範圍20相對於發光物料10之位置以及檢測影像之光點相對於視野範圍20之位置相互比對,藉以判斷出各該光點所對應之發光單元15的位置(座標),如此,即可確認哪些對應著相同的發光單元15的光點有分別出現在相鄰區塊的擷取影像中,並以這些光點作為影像拼接時的對位參考點來進行影像拼接。
其次,各該光點之亮度的取得方式,可利用影像處理軟體對檢測影像之每一個像素(pixel)進行後處理,而測得檢測影像之每一個像素的相對光強度,然後對各光點所佔之像素的相對光強度計算出其平均值,而得到各該光點之相對光強度,亦即各該光點之亮度,其可代表各該發光單元15之光強度。舉例而言,圖6所示之光點311佔了檢測影像31中的九個像素33,計算該九個像素33之相對光強度的平均值,即可求得該光點311之相對光強度,而該光點311之相對光強度即可代表該光點311所對應之發光單元15a的光強度。為了簡化圖式,本發明之圖式中僅以假想線示意性地繪製出該檢測影像31之其中九個像素33,以便說明。值得一提的是,本發明中所述之相對光強度係由影像處理軟體計算出之可代表發光強度的數值,利用一標準光源之影像所測得之相對光強度對照該標準光源實際之發光強度物理量(單位例如為燭光),即可藉由此對照數據將測得之光點的相對光強度換算成其對應之發光單元的實際光強度。
為了簡化圖式,本發明係將光點繪製成相同大小,然而,同一發光物料10或發光元件之各個發光單元15的發光面積或光束直徑(beam diameter)不一定相同,因此其檢測影像實際上會有大小不同的光點。換言之,各該光點之尺寸係代表其對應之發光單元15的發光面積或光束直徑,其取得方式係計算各該光點所佔之像素數量(對應像素面積)。由於發光單元15之發光面積或光束直徑越大,其對應之光點就會越大,而其所佔之像素則越多,因此藉由計算各該光點所佔之像素數量即可求得其對應之發光單元15的發光面積或光束直徑。
在將每兩相鄰區塊之檢測影像相互拼接時,係根據前述光點之位置、亮度、尺寸等物理或光學特徵,在可能的重疊區域中(例如前一幀影像的右側部位與後一幀影像的左側部位中)匹配出特徵相對應之光點,這些光點即為分別存在二個影像中、對應著相同的發光單元15而可作為影像拼接時的對位參考點。舉例而言,若檢測影像31中光點317、318、319之亮度(或相對光強度,以下亦同)分別為95、90、85三個數值,表示這三個光點317、318、319彼此之間有亮度數值差5的亮度相對關係,而檢測影像32中光點321、322、323之亮度分別為100、95、90三個數值,表示這三個光點321、322、323彼此之間同樣有亮度數值差5的亮度相對關係,由此,可得知檢測影像31之光點317、318、319的亮度相對關係與檢測影像32之光點321、322、323的亮度相對關係相互匹配(亦即相同或在一合理的誤差範圍內(例如3%內)相類似),藉此可判斷檢測影像31之光點317、318、319分別與檢測影像32之光點321、322、323應該是對應相同的發光單元,即發光單元15g、15h、15i,因為相同的發光單元在相鄰檢測影像中所對應的光點,應該具有相同或極度類似的亮度相對關係。換言之,藉由比對多個光點之間的亮度相對關係(例如光點與光點之間的亮度值的差值關係)是否相互匹配,可以確認光點317、318、319與光點321、322、323應為相同的發光單元15g、15h、15i所對應的光點,並且分別出現在檢測影像31與檢測影像32中,如此一來,即可利用光點317、318、319與光點321、322、323當作對位參考點,將檢測影像31之光點317、318、319分別與檢測影像32之光點321、322、323位置重疊,而將檢測影像31與檢測影像32拼接成一幅包含有第一、二區塊161、162所有發光單元15的影像。同樣地,藉由比對多個光點之間的尺寸相對關係(例如光點與光點之間的尺寸的差值關係)是否相同或相類似,可以確認哪些光點應為相同的發光單元15所產生,並且分別出現在相鄰的影像中,而可利用這些光點當作對位參考點來拼接影像。
理論上,同一發光單元15在不同幀影像中所計算出來的亮度值理應相同,但實際上,以上述內容為例,同一發光單元15所對應的光點在不同幀影像中所計算出來的亮度值可能會產生一定程度的偏移量(代表著某一幀影像中所有發光單元15所對應的光點的亮度值全部偏移一特定數值),使得相互拼接之二檢測影像上對應同一發光單元15的光點有不同的亮度值而無法對應銜接,在此情況下,可將至少其中一該檢測影像之全部光點的亮度值補償校正(一起調高或調低一個前述的偏移量)回來,以使得不同檢測影像拼接成單一影像時,全部的光點之間都有相同的亮度基準值。因此,本發明中將該等檢測影像相互拼接之步驟,可更包含一調整至少部分檢測影像之光點的亮度值的步驟,使得拼接的影像中,相互重疊之光點的亮度值一致。以前述之例子而言,在將檢測影像31中亮度值分別為95、90、85之光點317、318、319分別與檢測影像32中亮度值分別為100、95、90之光點321、322、323相互重疊時,可先將檢測影像32中全部光點321~329之亮度值皆減少5,使得光點321、322、323之亮度分別調整成95、90、85而與光點317、318、319之亮度值相同,如此一來,可以避免拼接後第二區塊162中所有發光單元15的亮度數值與第一區塊161中所有發光單元15的亮度數值之間存在有一量測的偏移量。
在前述例子中,調整光點亮度值之方式,係根據相互重疊之二光點的亮度值之差值進行調整,然而,亦可根據相互重疊之二光點的亮度值之比值進行調整。更明確地說,可在重疊區域內選擇一發光單元15作為一參考發光單元,例如以發光單元15g作為參考發光單元,並取得該參考發光單元15g所對應之第一光點317及第二光點321的亮度值之比值或差值,再根據所述比值或差值調整全部第二光點321~329之亮度值。
在前述例子中,係以光點與光點之間的亮度值的差值關係作為特徵,而非以光點亮度值作為特徵,來判斷哪些對應相同發光單元15的光點分別存在二個影像中,以便以這些重複出現的光點作為影像拼接時的對位參考點,如此方式,可以避免直接以光點亮度值作為特徵時,萬一在相鄰二幀影像中亮度存在有量測偏移量時,無法判斷出到底是哪些對應著相同的發光單元15的光點分別存在二個影像中的問題(因為同樣的發光單元所對應的光點在不同幀影像中,亮度數值不同)。然而,本發明並不以光點與光點之間的亮度值的差值關係作為判斷特徵為限,例如,在二幀影像中亮度不存在量測偏移量或量測偏移量不顯著時,可以直接利用光點亮度值作為判斷特徵;其次,除了單獨以光點之位置、亮度或尺寸作為判斷特徵之外,亦可同時以光點之位置、亮度或尺寸其中二項或三項來作為判斷特徵。
值得一提的是,為了使得各該檢測影像及其拼接而成之單一影像可清楚地顯示出每個發光單元15對應之光點,前述將檢測影像進行後處理而取得之各該光點的相對光強度需在一相對光強度範圍內,然而,若受測之發光物料10的發光單元15發光強度很大,可能造成檢測影像過度曝光,而使得測得之光點的相對光強度有一大部分都超出該相對光強度範圍,在此情況下,該影像擷取裝置分別擷取該發光物料10之各區塊的影像時,可透過一濾光元件(例如濾鏡;圖中未示)(亦即濾光元件係依情況選擇性地設置)過濾該發光物料10之發光單元15發出之光線,以使測得之各該光點的相對光強度皆落在該相對光強度範圍內或只要皆不飽和即可,或者一預定數量比例(例如90%)以上之光點的相對光強度落在該相對光強度範圍內。
綜上所陳,本發明之發光物料影像處理方法可將對同一發光物料分成多次擷取之影像拼接成單一影像,進而使同一發光物料上的全部發光單元的發光情況呈現於單一影像上,以利使用者觀測該發光物料之發光分佈情況。
最後,必須再次說明,本發明於前揭實施例中所揭露的構成元件,僅為舉例說明,並非用來限制本案之範圍,其他等效元件的替代或變化,亦應為本案之申請專利範圍所涵蓋。
10:發光物料
12:本體
13:正電極
14:負電極
15,15a~15o:發光單元
16:第一部分
161:第一區塊
162:第二區塊
17:第二部分
20:視野範圍
31:第一檢測影像
311~319:第一光點
32:第二檢測影像
321~322:第二光點
33:像素
S1~S3:步驟
圖1為本發明一較佳實施例所提供之發光物料發光單元影像處理方法中一發光物料之示意圖。
圖2為本發明該較佳實施例所提供之發光物料發光單元影像處理方法之流程圖。
圖3及圖4為該發光物料之局部放大圖,係顯示本發明該較佳實施例所提供之發光物料發光單元影像處理方法的一部分步驟。
圖5為本發明該較佳實施例所提供之發光物料發光單元影像處理方法的另一部分步驟的示意圖。
圖6為圖5之A部分的放大圖。
S1~S3:步驟
Claims (15)
- 一種發光物料影像處理方法,係利用一影像擷取裝置擷取一發光物料之複數發光單元的影像,該影像擷取裝置之一視野範圍係小於該發光物料之發光單元的分佈範圍;該發光物料影像處理方法之步驟包含有:點亮該發光物料之至少部分發光單元;利用該影像擷取裝置分別擷取該發光物料之複數區塊的影像,而得到分別對應該等區塊之複數檢測影像,其中,各該區塊包含複數被點亮之該發光單元,各該檢測影像包含複數光點,該等光點係分別對應其所屬檢測影像所對應之區塊的發光單元,每二相鄰之該區塊有一重疊區域,該重疊區域包含至少一被點亮之該發光單元;以及以該重疊區域之至少一該被點亮之該發光單元所對應的光點作為對位參考點,而將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體。
- 如請求項1所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體之步驟,係根據該等光點之位置、亮度及尺寸三者至少其中之一,判斷出至少一個分別存在於該相鄰區塊的檢測影像中對應著該重疊區域中相同的發光單元的光點,作為該對位參考點。
- 如請求項2所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體之步驟,係根據該等光點之亮度相對關係,判斷出複數個分別存在於該相鄰區塊的檢測影像中分別對應著該重疊區域中相同的發光單元的光點,作為該對位參考點。
- 如請求項3所述之發光物料影像處理方法,其中該等光點之亮度相對關係為該等光點之亮度值的差值關係。
- 如請求項4所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體之步驟,更包含一調整至少部分檢測影像之光點的亮度值的步驟,使得該相鄰區塊的檢測影像中對應相同的發光單元之對位參考點的亮度值之差值小於一預定數值。
- 如請求項5所述之發光物料影像處理方法,其中調整光點亮度值之方式,係於該重疊區域內選擇一該發光單元作為一參考發光單元,並取得該參考發光單元於該相鄰區塊的檢測影像中所對應之二個光點的亮度值之比值或差值,再根據所述比值或差值調整其對應之至少一該檢測影像中的所有光點之亮度值。
- 如請求項2所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該相鄰區塊的檢測影像相互拼接成一體之步驟,係根據該等光點之亮度值,判斷出複數個分別存在於該相鄰區塊的檢測影像中分別對應著該重疊區域中相同的發光單元的光點,作為該對位參考點。
- 如請求項1所述之發光物料影像處理方法,其中所述利用該影像擷取裝置分別擷取該發光物料之該複數區塊的影像之步驟中,更包含一過濾該發光物料之發光單元發出之光線的步驟。
- 一種發光物料影像處理方法,係利用一影像擷取裝置擷取一發光物料之複數發光單元的影像,該影像擷取裝置之一視野範圍係小於該發光物料之發光單元的分佈範圍;該發光物料影像處理方法之步驟包含有: 點亮該發光物料之至少部分發光單元;使該影像擷取裝置之視野範圍涵蓋該發光物料之一第一區塊,以拍攝該第一區塊而得到一第一檢測影像,其中,該第一區塊包含複數被點亮之該發光單元,該第一檢測影像包含分別對應該第一區塊之發光單元的複數第一光點;使該影像擷取裝置之視野範圍涵蓋該發光物料之一第二區塊,以拍攝該第二區塊而得到一第二檢測影像,其中,該第二區塊包含複數被點亮之該發光單元,該第二檢測影像包含分別對應該第二區塊之發光單元的複數第二光點,該第一區塊與該第二區塊有一重疊區域,該重疊區域包含至少一被點亮之該發光單元;以及根據該等第一、二光點之位置、亮度及尺寸三者至少其中之一,判斷出至少一個分別存在於該第一、第二檢測影像中對應著相同的發光單元的光點作為對位參考點,而將該第一、第二檢測影像拼接成一體。
- 如請求項9所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該第一、第二檢測影像拼接成一體之步驟,係根據該等第一光點及第二光點之亮度相對關係,判斷出複數個分別存在於該第一、第二檢測影像中分別對應著相同的發光單元的光點,作為該對位參考點。
- 如請求項10所述之發光物料影像處理方法,其中該等第一光點及第二光點之亮度相對關係為該等第一光點及第二光點之亮度值的差值關係。
- 如請求項11所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該第一、第二檢測影像拼接成一體之步驟,更包含一調整該等第二光點 的亮度值的步驟,使得該第一、第二檢測影像中對應相同的發光單元之對位參考點的亮度值之差值小於一預定數值。
- 如請求項12所述之發光物料影像處理方法,其中調整該等第二光點的亮度值之方式,係於該重疊區域內選擇一該發光單元為一參考發光單元,並取得該參考發光單元於該第一、第二檢測影像中所對應之第一光點及第二光點的亮度值之比值或差值,再根據所述比值或差值調整該等第二光點之亮度值。
- 如請求項9所述之發光物料影像處理方法,其中所述將該第一、第二檢測影像拼接成一體之步驟,係根據該等第一光點及第二光點之亮度值,判斷出複數個分別存在於該第一、第二檢測影像中分別對應著相同的發光單元的光點,作為該對位參考點。
- 如請求項9所述之發光物料影像處理方法,其中各所述拍攝該第一區塊之步驟及拍攝該第二區塊步驟中,更包含一過濾該發光物料之發光單元發出之光線的步驟。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011335792.XA CN112985587B (zh) | 2019-12-13 | 2020-11-25 | 发光物料影像处理方法 |
US17/117,513 US11526978B2 (en) | 2019-12-13 | 2020-12-10 | Image processing method for light emitting device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962948186P | 2019-12-13 | 2019-12-13 | |
US62/948,186 | 2019-12-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202127379A TW202127379A (zh) | 2021-07-16 |
TWI744007B true TWI744007B (zh) | 2021-10-21 |
Family
ID=77516878
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109130678A TWI765337B (zh) | 2019-12-13 | 2020-09-08 | 雷射晶片檢測方法及設備 |
TW109132993A TWI744007B (zh) | 2019-12-13 | 2020-09-23 | 發光物料影像處理方法 |
TW109133671A TWI748667B (zh) | 2019-12-13 | 2020-09-28 | 光學檢測系統 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109130678A TWI765337B (zh) | 2019-12-13 | 2020-09-08 | 雷射晶片檢測方法及設備 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109133671A TWI748667B (zh) | 2019-12-13 | 2020-09-28 | 光學檢測系統 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (3) | TWI765337B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI824565B (zh) * | 2022-06-15 | 2023-12-01 | 旺矽科技股份有限公司 | 光學檢測系統及其整合式光學檢測裝置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608528A (en) * | 1994-04-13 | 1997-03-04 | Kabushikikaisha Wacom | Optical position detecting method using asynchronous modulation of light source |
CN102341692A (zh) * | 2009-03-24 | 2012-02-01 | 以色列商奥宝科技股份有限公司 | 多型态成像 |
TWI613512B (zh) * | 2015-08-12 | 2018-02-01 | Asml荷蘭公司 | 用於識別一產品結構中之缺陷之方法、檢測設備及電腦程式產品及相關器件製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6512385B1 (en) * | 1999-07-26 | 2003-01-28 | Paul Pfaff | Method for testing a device under test including the interference of two beams |
CN1766531A (zh) * | 2005-09-28 | 2006-05-03 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光光束质量m2因子实时检测仪 |
TW201025667A (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-01 | Mjc Probe Inc | System for light collecting and imagine monitoring and the method for light-emitting device testing |
CN201993440U (zh) * | 2010-12-16 | 2011-09-28 | 西安炬光科技有限公司 | 一种激光器特性测试装置 |
JP5947709B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2016-07-06 | 株式会社堀場製作所 | 分光分析方法及び分光分析装置 |
EP3159711A1 (en) * | 2015-10-23 | 2017-04-26 | Xenomatix NV | System and method for determining a distance to an object |
WO2018112267A1 (en) * | 2016-12-16 | 2018-06-21 | Tesoro Scientific, Inc. | Light emitting diode (led) test apparatus and method of manufacture |
CN109093251B (zh) * | 2017-06-20 | 2020-08-04 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种激光封装装置及封装方法 |
-
2020
- 2020-09-08 TW TW109130678A patent/TWI765337B/zh active
- 2020-09-23 TW TW109132993A patent/TWI744007B/zh active
- 2020-09-28 TW TW109133671A patent/TWI748667B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608528A (en) * | 1994-04-13 | 1997-03-04 | Kabushikikaisha Wacom | Optical position detecting method using asynchronous modulation of light source |
CN102341692A (zh) * | 2009-03-24 | 2012-02-01 | 以色列商奥宝科技股份有限公司 | 多型态成像 |
TWI613512B (zh) * | 2015-08-12 | 2018-02-01 | Asml荷蘭公司 | 用於識別一產品結構中之缺陷之方法、檢測設備及電腦程式產品及相關器件製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202127379A (zh) | 2021-07-16 |
TW202126992A (zh) | 2021-07-16 |
TWI748667B (zh) | 2021-12-01 |
TW202122810A (zh) | 2021-06-16 |
TWI765337B (zh) | 2022-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8493558B2 (en) | Surface inspection apparatus | |
CN104819984B (zh) | 印刷电路板外观的检查装置及检查方法 | |
KR100917524B1 (ko) | 위치 검출 장치 | |
KR20110058773A (ko) | 고도의 정확성으로 결함이 있는 눈을 검출하는 카메라에 기반한 방법 | |
TW201531695A (zh) | 自動外觀檢查裝置 | |
CN106770307A (zh) | 一种电子产品外观表面缺陷检测装置及其检测方法 | |
CN112985587B (zh) | 发光物料影像处理方法 | |
US6983066B2 (en) | Machine vision | |
TW200408269A (en) | Apparatus and method for inspecting pattern defect | |
JP5580121B2 (ja) | 基板検査装置 | |
JP2008032491A (ja) | 検査装置、検査方法、検査プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
TWI744007B (zh) | 發光物料影像處理方法 | |
JP4530429B1 (ja) | Led検査方法及びled検査装置 | |
TW580557B (en) | Method for examining surface state of curved object and device for examining substrate | |
JP2012149946A (ja) | 検査装置、検査方法およびプログラム | |
JP2009236760A (ja) | 画像検出装置および検査装置 | |
JP5580120B2 (ja) | 基板検査装置 | |
JP2007047062A (ja) | 表示パネルの検査方法および検査装置 | |
KR101566391B1 (ko) | 렌즈 이미지상의 빛튐 검출 방법 | |
KR101155213B1 (ko) | 이차원 광학 검측의 플랫필드 교정방법 | |
TWI734928B (zh) | 用於雷射晶片之發光分布檢測方法以及雷射晶片之發光強度的顯示方法 | |
WO2024121903A1 (ja) | 画像処理装置 | |
KR20230054572A (ko) | 양자점 디스플레이의 결함 검사 장치 및 방법 | |
JP2020134491A (ja) | 検査ユニット、プログラム及び記憶媒体 | |
Gibour et al. | P-4: UNIFORMITY CALIBRATION OF LARGE AREA FULL COLOR LIGHT EMITTED DIODE SCREENS |