TWI740189B - 流體控制機器，流體控制機器的異常檢測方法、異常檢測裝置及異常檢測系統 - Google Patents

流體控制機器，流體控制機器的異常檢測方法、異常檢測裝置及異常檢測系統 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種流體控制機器，即便是在流體之漏出為些微的情況下仍可以檢測漏出。又，可以將流體之漏出異常與伴隨流體控制機器之動作所帶來的變化做識別，而以較高的精度來檢測流體之漏出。
流體控制機器(V1)，係設置有流路和藉由隔膜(22)來與流路隔離出之密閉空間(S2)，且能夠檢測異常，該流體控制機器(V1)係具有：壓力感測器(P)，係檢測密閉空間(S1)內之壓力；處理模組，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測流體控制機器(V1)之動作；處理模組，係執行：判別處理，係比較藉由壓力感測器(P)所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別流體控制機器(V1)之異常；以及修正處理，係按照流體控制機器(V1)之動作，來修正預定之臨限值。

Description

流體控制機器，流體控制機器的異常檢測方法、異常檢測裝置及異常檢測系統
本發明係關於一種在流體控制裝置中檢測流體之漏出的技術。
以往，在半導體晶圓(wafer)之表面形成薄膜的成膜處理中係被要求膜厚之微細控制，且近年來有使用一種以原子等級(level)或分子等級之厚度來形成薄膜之所謂ALD(Atomic Layer Deposition；原子層沉積)的成膜方法。
但是，如此的成膜處理係對供給流體至成膜裝置的流體控制機器要求高於現今之高頻率的開閉動作，而有因該負荷變得容易引起流體之漏出等情形。為此，對於可以容易檢測流體控制機器中的流體之漏出的技術之需求逐漸提高。
又，因在半導體製程中係有使用反應性較高且毒性極高的氣體，故重要的是可以在漏出尚為微小時能在遠端檢測漏出。
此點，在專利文獻1中，係有提出一種密封部破損檢測機構，係由形成於控制流體之流量的控制器之外面的孔和安裝於該孔的洩漏檢測構件所構成，前述孔係連通至控制器內之空隙，前述洩漏檢測構件係由安裝於前述孔的筒狀體和設置於該筒狀體的可動構件所構成，該可動構件係作成為藉由充滿於控制器內之前述空隙內的漏出流體之壓力而可朝向前述筒狀體之外方移動。
又，在專利文獻2中，係有提出一種附密封部破損檢測機構的控制器，其由形成於控制流體之流量的控制器之外面的孔和安裝於該孔的洩漏檢測構件所構成，前述孔係連通至控制器內之空隙，前述洩漏檢測構件係藉由特定之流體的存在來進行感應。
又，在專利文獻3中，係有提出一種檢測流體之洩漏的洩漏檢測裝置，係具備：感測器保持體；超音波感測器，係以與洩漏埠口(leak port)對向之方式被保持於感測器保持體，該洩漏埠口係設置於洩漏檢測對象構件並連通洩漏檢測對象構件內之密封部分與外部；超音波通路，係設置於超音波感測器之感測器面與洩漏埠口之間；以及處理電路，係處理以超音波感測器所獲得的超音波。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開平04-093736號公報
專利文獻2：日本特開平05-126669號公報
專利文獻3：日本特開2014-21029號公報
但是，在專利文獻1所記載之密封部破損檢測機構中，雖然可以判別控制器內之空隙的加壓，但是無法判別負壓，且在流體之漏出為些微的情況下，恐有可動構件無法充分移動，而無法檢測漏出之虞。
又，在專利文獻2所記載之附密封部破損檢測機構的控制器中，係在流體之漏出為些微的情況下，恐有被沖洗氣體(purge gas)稀釋而洩漏檢測構件感應不到之虞，又恐有洩漏檢測構件對預定之流體感應不到之虞。
更且，在專利文獻3所記載之洩漏檢測裝置中，係在流體之漏出為些微的情況下，恐有超音波微弱而無法檢測漏出之虞。
即便是在其他專利文獻所記載之技術中也是同樣，對流體之微小漏出的檢測能力仍有改善之餘地。又，若無法將流體之漏出異常與伴隨流體控制機器之動作所帶來的變化做識別，就難以以較高的精度來檢測流體之漏出。
於是，本發明的目的之一係在於提供一種在流體控制機器中，即便流體之漏出為些微的情況下仍能夠檢測漏出的技術。另一目的係在於將流體之漏出異常與伴隨流體控制機器之動作所帶來的變化做識別，而以較高的精度來檢測流體之漏出。
為了達成上述目的，本發明之一種實施形態的流體控制機器，係設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間，且能夠檢測異常，前述流體控制機器係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；處理模組(module)，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；前述處理模組係執行下述處理：判別處理，係比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器之異常；以及修正處理，係按照藉由前述動作檢測機構所檢測出的動作，來修正前述預定之臨限值。
又，前述動作檢測機構亦可為檢測前述流體控制機器之驅動壓力的驅動壓力感測器；前述修正處理亦可按照所檢測出的前述流體控制機器之驅動壓力，來修正前述預定之臨限值。
又，前述動作檢測機構亦可為檢測前述流體控制機器之開閉動作的開閉檢測機構；前述修正處理亦可按照所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值。
又，前述動作檢測機構亦可具有：藉由基於前述檢測值之變動模式(pattern)與開閉動作的相互關聯關係而來的模式分析，來識別開閉動作的自動學習手段。
又，亦可更具有測定外部溫度的溫度感測器；前述修正處理亦可按照前述流體控制機器之動作與前述外部溫度，來修正前述預定之臨限值。
又，前述流體控制機器之前述隔離構件為隔膜(diaphragm)，且前述流體控制機器具有閥機構，該閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座(seat)抵接及分離來開閉流路。
又，本發明之另一實施形態的流體控制機器的異常檢測方法，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的方法，該方法係包含：藉由壓力感測器來檢測前述密閉空間內之壓力的步驟；檢測前述流體控制機器之動作的步驟；比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器之異常的步驟；以及按照前述流體控制機器之動作，來修正前述預定之臨限值的步驟。
又，本發明之另一實施形態的流體控制機器的異常檢測裝置，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的裝置，該裝置係具有：判別處理部，係比較前述密閉空間之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器之異常；以及修正處理部，係按照有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值。
又，本發明之另一實施形態的流體控制機器的異常檢測系統，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的系統，前述流體控制機器所具備的通信模組與外部終端機係構成能夠通信；前述流體控制機器，係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；以及通信模組，係對前述外部終端機，發送藉由前述壓力感測器所檢測出 的檢測值，與藉由前述動作檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之動作的資訊；前述外部終端機係執行下述處理：比較從前述流體控制機器所接收到的前述密閉空間內之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器之異常的處理；以及按照從前述流體控制機器所接收到的有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值的處理。
依據本發明，在流體控制機器中，即便是在流體之漏出為些微的情況下仍可以檢測漏出。又，可以將流體之漏出異常與伴隨流體控制機器之動作所帶來的變化做識別，而以較高的精度來檢測流體之漏出。
1‧‧‧閥主體
2‧‧‧閥帽部
3‧‧‧外罩部
4‧‧‧致動器部
11‧‧‧基座部
12‧‧‧圓筒部
12a、24a‧‧‧凹部
12b‧‧‧狹縫
21‧‧‧閥座
22‧‧‧隔膜
23‧‧‧隔膜推壓器
24‧‧‧閥帽
25‧‧‧閥帽壁
25a、41a、241a‧‧‧貫插孔
25b、42a、43a‧‧‧開口部
25c、241b、31a、31c‧‧‧螺孔
25d、31b、31d‧‧‧螺釘
25e、241c、32b、33b、33a‧‧‧貫通孔
25f‧‧‧螺栓
26‧‧‧襯墊
31‧‧‧外罩
32、33‧‧‧板件
32a‧‧‧缺口部
41‧‧‧致動器主體
42‧‧‧致動器罩
43‧‧‧活塞
44‧‧‧彈簧
51‧‧‧撓性電纜
52‧‧‧電路基板
53‧‧‧連接器
61至63‧‧‧外部終端機
71、72‧‧‧處理模組
73、74‧‧‧通信模組
81‧‧‧驅動壓力感測器
82‧‧‧溫度感測器
91、92‧‧‧異常檢測系統
111‧‧‧流入路
112‧‧‧閥室
113‧‧‧流出路
231‧‧‧基體部
231a‧‧‧條溝
232、431‧‧‧擴徑部
241‧‧‧分隔部
241d‧‧‧連通孔
411‧‧‧周壁
432‧‧‧驅動壓力導入路
621、631、711、721‧‧‧判別處理部
622、633、712、723、731、741‧‧‧通信處理部
632、722‧‧‧修正處理部
M1‧‧‧磁鐵
M2‧‧‧磁性體
O2、O41、O42‧‧‧O型環
P‧‧‧壓力感測器
S1‧‧‧驅動壓力導入室
S2‧‧‧密閉空間
V1至V4‧‧‧流體控制機器
第1圖係顯示本發明之實施形態的流體控制機器之(a)外觀立體圖、(b)俯視圖。
第2圖係顯示本實施形態的流體控制機器之內部結構的A-A剖視圖，第2圖中之(a)係顯示閉閥狀態，第2圖中之(b)係顯示開閥狀態。
第3圖係顯示本實施形態的流體控制機器之內部結構的B-B剖視圖，第3圖中之(a)係顯示閉閥狀態，第3圖中之(b)係顯示開閥狀態。
第4圖係顯示本實施形態的流體控制機器之分解立體圖。
第5圖係顯示本實施形態的流體控制機器之分解立體圖。
第6圖係顯示本實施形態的流體控制機器之分解立體圖。
第7圖係顯示本實施形態的流體控制機器所具備之功能的功能方塊圖。
第8圖係顯示本發明之第二實施形態的流體控制機器所具備之功能的功能方塊圖。
第9圖係顯示本發明之第三實施形態的流體控制機器之異常檢測系統所具備之功能的功能方塊圖。
第10圖係顯示本發明之第四實施形態的流體控制機器之異常檢測系統所具備之功能的功能方塊圖。
第11圖係說明流體控制機器之開閉所需時間之曲線圖(graph)。
〔實施例1〕
以下，參照圖來說明本發明之第一實施形態的流體控制機器。
再者，在以下之說明中，雖然有時為了便於說明而依圖式上之方向將構件等的方向指稱為上下左右，但是此等並非是限定本發明之實施或是使用時的構件等之方向。
第1圖所示之本實施形態的流體控制機器V1，為能夠藉由內置的感測器來檢測內部動作的機器，且可以基於所檢測出的資訊來檢測流體控制機器V1之異常，特別是檢測流體控制機器V1內的流體之漏出。
又，如後面所述之第7圖所示，該流體控制機器V1係連接於外部終端機61，且可以對該外部終端機61提供有關流體控制機器V1之異常的資訊或藉由感測器所檢測出的資訊。
再者，在流體控制機器V1之實際的使用情景中，複數個流體控制機器V1係與其他的流量控制機器等一起聚集而構成流體控制裝置(氣體控制箱(gas box))。
首先，針對本實施形態的流體控制機器VI之硬體(hardware)構成加以說明。
本實施形態的流體控制機器V1為空氣作動式之直動式隔膜閥(direct diaphragm valve)，且如第1圖至第3圖所示，具備閥主體(valve body)1、閥帽(bonnet)部2、外罩(cover)部3、及致動器(actuator)部4。
˙閥主體1
如第2圖至第4圖所示，閥主體1係由形成有流路的基座部11和設置於基座部11上的大致圓筒形狀之圓筒部12所構成。
基座部11係由俯視觀察呈矩形狀所構成，且在構成藉由複數個流體控制機器V1而予以單元化的流體控制裝置之情況下，成為被設置於基盤或是歧管塊(manifold block)上的部分。
圓筒部12係由配設閥帽部2之側的端面形成開口而成的中空形狀所構成，而中空之內部係構成可供閥帽部2收容的凹部12a。
在該圓筒部12係設置有狹縫(slit)12b，該狹縫12b係在軸心方向具有長度，在配設閥帽部2之側且為與基座部11為相反側的一端形成開口，並 且從外側往凹部12a側貫通。經由該狹縫12b，從閥帽壁(bonnet wall)25所延伸出來的撓性電纜(flexible cable)51從內側往外側導出。
在凹部12a之下方及基座部11內，形成有流體流入的流入路111和流體流出的流出路113，以及連通至該流入路111與流出路113的閥室112。流入路111、流出路113及閥室112係一體地構成流體流通的流路。
˙閥帽部2
如第2圖至第5圖所示，閥帽部2係配設成收容於閥主體1之凹部12a內的狀態。
該閥帽部2係具備閥座(seat)21、隔膜22、隔膜推壓器23、閥帽24及閥帽壁25。
環狀之閥座21，係設置於閥室112中的流入路111之開口周緣。可以藉由使隔膜22與閥座21抵接及分離，來使流體從流入路111往流出路113流通，或使流通切斷。
隔膜22係由不鏽鋼、Ni-Co(鎳鈷)系合金等的金屬所構成，並且是中心部隆起成凸狀的球殼狀之構件，用以隔離流路與致動器部4動作的空間。該隔膜22在並未被隔膜推壓器23按壓的狀態下，如第2圖中之(b)及第3圖中之(b)所示，會從閥座21分離，而成為流入路111與流出路113連通的狀態。另一方面，在被隔膜推壓器23按壓的狀態下，係如第2圖中之(a)及第3圖中之(a)所示，隔膜22之中央部會變形並抵接於閥座21，而成為流入路111與流出路113已被切斷的狀態。
隔膜推壓器23係設置於隔膜22之上側，且與活塞(piston)43之上下移動連動來按壓隔膜22之中央部。
該隔膜推壓器23係由大致圓柱狀之基體部231和在抵接於隔膜22之側的一端側擴徑而成的擴徑部232所構成。
在基體部231係形成有條溝231a，該條溝231a係在軸心方向具有長度，且與擴徑部232為相反側之一端形成開口而成者。在該條溝231a，係以能夠滑動之方式嵌合旋入於閥帽壁25之螺孔25c的螺釘25d之軸桿部分。條溝231a與螺釘25d係構成限制隔膜推壓器23之周方向之轉動的轉動限制手段，藉此，隔膜推壓器23會與活塞43連動而上下移動，但同時被限制周方向之轉動。
又，在基體部231係安裝有構成磁力感測器的磁鐵M1。該磁鐵M1係與安裝於閥帽壁25的磁性體M2一起構成後面所述的磁力感測器。再者，在本實施例中，雖然磁鐵M1係安裝於基體部231之條溝231a的相反側，但是只要不會妨礙與磁性體M2構成磁力感測器，亦可以安裝於基體部231上之其他的位置。
閥帽24係由大致圓筒狀所構成，且收容於閥主體1之凹部12a內。
隔膜22係被夾持於閥帽24之下端部與閥主體1之間，且以該部分來形成隔膜22與閥主體1之間的密封。
在閥帽24之內部係設置有大致圓盤狀之分隔部241，該分隔部241係於中心部形成有可供隔膜推壓器23貫通插入的貫插孔241a。
在形成於分隔部241之上方或是形成於配設致動器部4之側的凹部24a係收容閥帽壁25。在分隔部241與閥帽壁25係分別於互為對應的位置設置有螺孔241b和貫通孔25e，且閥帽壁25被螺栓(bolt)25f鎖固而設於閥帽24。
閥帽24之分隔部241係具有一定之厚度，且在介於分隔部241上形成的貫插孔241a之內周面與隔膜推壓器23之間設有O型環O2。藉此，可確保藉由分隔部241、隔膜22及隔膜推壓器23所劃分界定的密閉空間S2之氣密性。
又，在閥帽24之分隔部241係設置有連通至被安裝於閥帽壁25之壓力感測器P的連通孔241d。透過連通孔241d而設置有壓力感測器P，藉此就可以測定藉由分隔部241、隔膜22及隔膜推壓器23所劃分界定的密閉空間S2內之壓力。
又，在閥帽24之側面係設置有用以使從收容於內側之閥帽壁25導出的撓性電纜51往外側導出的貫通孔241c。
閥帽壁25為配設於閥帽24內的構件。該閥帽壁25係由將厚壁的大致圓盤狀之構件挖通成俯視觀察呈大致C字狀的形狀所構成。在該閥帽壁25之中心係設置有使隔膜推壓器23之基體部231貫通插入的貫插孔25a。又，設置有使貫插孔25a朝向閥帽壁25之半徑方向外側開口的開口部25b。
在閥帽壁25之厚度部分的預定部位，係形成有從貫插孔25a朝向半徑方向外側攻牙而成的螺孔25c。螺釘25d係從外側旋入該螺孔 25c，旋入後的螺釘25d之軸心部分係插入達貫插孔25a側，並以能夠滑動之方式嵌合於貫通插入於貫插孔25a的隔膜推壓器23之條溝231a。
在閥帽壁25係於與閥帽24之螺孔241b對應的位置設置有貫通孔25e。螺栓25f係在閥帽24之分隔部241上配設有閥帽壁25的狀態下，旋入螺孔241b與貫通孔25e，並藉此將閥帽壁25固定於閥帽24。
在閥帽壁25之外周面當中的開口部25b附近，係安裝有以堵塞開口部25b之方式而搭架固定的平板狀之磁性體M2。該磁性體M2係與安裝於隔膜推壓器23的磁鐵M1一起構成後面所述之磁力感測器。
˙外罩部3
如第1圖及第6圖所示，外罩部3係與致動器主體41來夾壓閥主體1並一體地保持，並且構成將電路基板52及設於電路基板52的連接器(connector)53固定於流體控制機器V1的固定手段。
該外罩部3係具備外罩31與平板狀之板件32、33。
外罩31係由大致U字狀所構成，在其內側可供致動器主體41與閥主體1之端部嵌入。
在外罩31之兩側面，係與可供致動器主體41嵌入的位置對應而設置有螺孔31a。藉此，當在閥主體1嵌入於內側的狀態下使螺釘31b旋入螺孔31a，且使螺釘31b之前端壓接於閥主體1時，就可以將閥主體1夾持於外罩31之內側。
又，在外罩31之厚度部分係設置有螺孔31c。藉由螺釘31d穿過板件32、33之貫通孔32b、33b而旋入該螺孔31c，就可使板件32、33安裝於外罩31。
板件32、33係在將致動器主體41與閥主體1之端部嵌入於外罩31之內側的狀態下以固定用螺釘來與外罩31固定，而在被固定的狀態中，在與外罩31之間夾壓保持致動器主體41與閥主體1。
在該板件32之下方係形成有切開成成舌片狀的缺口部32a，撓性電纜51係可經由該缺口部32a往設置有連接器53的電路基板52導出。
板件33係在介於板件33與板件32之間裝設電路基板52的狀態下以固定用螺釘固定於板件32及外罩31，且將電路基板52夾壓保持於與板件32之間。
在該板件33係於中央部設置有大致矩形狀之貫通孔33a，設置於電路基板52的連接器53係從該貫通孔33a往外側凸出。
在此，在基座部11是由俯視觀察呈矩形狀所構成時，如第1圖中之(b)所示，外罩部3係使連接器53朝向矩形狀的基座部11之對角線方向而固定於流體控制機器V1。之所以朝向如此的方向來固定連接器53，其理由如下。亦即，在藉由複數個流體控制機器V1來構成單元化的流體控制裝置(氣體控制箱)之情況下，根據合併之要求，較佳是使相鄰之矩形狀的基座部11之方向一致並盡可能地消除間隙，而將流體控制機器V1配設於基盤或是歧管塊上。另一方面，在如此地配置並合併的情況下，會變得不易將端子等連接於連接器53。為此，與朝向被配設於橫向的流體控制機器V1之方向的情況相較，藉由將連接器53朝向基座部11之對角線方向，就可以取得較寬之連接的空間。結果，既容易將端子等連接於連接器53，又可以預防藉由端子等之折彎或扭轉所致的斷線等之不良情形，或 預防端子等碰撞到流體控制機器V1而對流體控制機器V1之動作造成異常的不良情形。
˙致動器部4
致動器部4係配設於閥帽部2上。
如第2圖及第3圖所示，該致動器部4係具備致動器主體41、致動器罩(actuator cap)42、活塞43及彈簧44。再者，在第4圖中，雖然已省略致動器部4之內部結構，但是內部結構係如同第2圖及第3圖所示。
致動器主體41係安裝在介於活塞43與閥帽24之間。
該致動器主體41係如第5圖所示由大致圓柱形狀所構成，在中心部係沿著長度方向設置有供活塞43與隔膜推壓器23貫通插入的貫插孔41a。如第2圖及第3圖所示，在貫插孔41a內，活塞43與隔膜推壓器23會抵接，且隔膜推壓器23係與活塞43之上下移動連動而上下移動。
在致動器主體41之配設活塞43之側的上端面，係形成有由環狀之突條所構成的周壁411，在周壁411之內側的平坦之水平面與活塞43之擴徑部431的下端面之間，係形成有供驅動壓力導入的驅動壓力導入室S1。
又，在致動器主體41之配設活塞43之側的外周面上係切出有公螺紋，並藉由旋入在致動器罩42之內周面切出的母螺紋，而將致動器主體41就安裝於致動器罩42之一端。
致動器主體41之長度方向的中心部係形成剖面觀察呈大致六角形狀，該剖面觀察呈六角形狀之部分與閥主體1之上端部分係被外罩31以呈一體之方式夾壓。
致動器罩42係下端部形成開口的罩狀之構件，且在內部收容著活塞43與彈簧44。
在致動器罩42之上端面係設置有連通至活塞43之驅動壓力導入路432的開口部42a。
致動器罩42之下端部係旋入有致動器主體41之上部而被封閉。
活塞43係按照驅動壓力之供給與停止而上下移動，且透過隔膜推壓器23來使隔膜22與閥座21抵接及分離。
該活塞43之軸心方向大致中央係擴徑成圓盤狀，且該部位係構成擴徑部431。活塞43係在擴徑部431之上面側承受彈簧44之彈壓力。又，在擴徑部431之下端側係形成有被供給驅動壓力的驅動壓力導入室S1。
又，在活塞43之內部係設置有驅動壓力導入路432，該驅動壓力導入路432係用以使形成於上端面的開口部43a與形成於擴徑部431之下端側的驅動壓力導入室S1連通。活塞43之開口部43a係連通至致動器罩42之開口部42a為止，而用以從外部導入驅動壓力的導入管則連接於開口部42a，藉此可對驅動壓力導入室S1供給驅動壓力。
在活塞43之擴徑部431的外周面上係安裝有O型環O41，該O型環O41係密封活塞43之擴徑部431的外周面與致動器主體41的周壁411之間。又，在活塞43之下端側亦安裝有O型環O42，該O型環O42係密封活塞43之外周面與致動器主體41之貫插孔41a的內周面之間。藉由此等的O型環O41、O42，而形成有連通至活塞43內之驅動壓力導入路432的驅動壓力導入室S1，並且可確保該驅動壓力導入室S1之氣密性。
彈簧44係捲繞於活塞43之外周面上，且抵接於活塞43之擴徑部431的上表面以將活塞43朝向下方彈壓，亦即將活塞43朝向壓下隔膜22的方向彈壓。
在此，針對伴隨驅動壓力之供給與停止而來的閥之開閉動作加以說明。當從連接於開口部42a的導入管(省略圖示)供給空氣時，空氣就會透過活塞43內之驅動壓力導入路432而被導入至驅動壓力導入室S1。相應於此，活塞43係抵抗彈簧44之彈壓力而被往上方推。藉此，隔膜22就從閥座21分離並成為開閥的狀態，流體會流通。
另一方面，當空氣未被導入至驅動壓力導入室S1時，活塞43就會順應彈簧44之按壓力被往下方推。藉此，隔膜22就會抵接於閥座21並成為閉閥的狀態，流體之流通會被切斷。
˙感測器
流體控制機器V1係具備壓力感測器P及由磁鐵M1與磁性體M2所構成的磁力感測器，作為用以檢測機器內之動作的感測器。
如第3圖所示，壓力感測器P係安裝於閥帽壁25之下面或是流路側，且經由連通孔241d，而連通至藉由隔膜22、閥帽24之分隔部241及隔膜推壓器23所劃分界定的密閉空間S2。該壓力感測器P係藉由檢測壓力變化的感壓元件或將感壓元件所檢測出的壓力之檢測值轉換成電信號的轉換元件等所構成。藉此，壓力感測器P係可以檢測藉由隔膜22、閥帽24之分隔部241及隔膜推壓器23所劃分界定的密閉空間S2內之壓力。
再者，在壓力感測器P通至連通孔241d的部位係在該兩者間設有襯墊(packing)26，可擔保氣密狀態。
再者，壓力感測器P可為檢測計示壓力(gauge pressure)或是大氣壓力之任一者的感測器，且只要按照各自之情況來設定判別處理部711(參照第7圖並於後述)所參照的臨限值即可。
又，在本實施形態中，雖然是藉由壓力感測器P來檢測密閉空間S2內之壓力，藉此檢測因流體之漏出等所引起的流體控制機器V1之異常，但是能夠使用電容式麥克風單元作為壓力感測器P。亦即，電容式麥克風單元係具有接受音波而振動的振動板，及與振動板相對向配置的相對向電極，且可以將振動板與相對向電極之間的靜電電容之變化轉換成電壓之變化來作為聲音信號。然後，該電容式麥克風單元係藉由堵塞被設置於振動板之背面側的空氣室而成為無指向性(全指向性)。在無指向性的情況下，因電容式麥克風單元係感應由來自所有方向之音波所造成的音壓之變化而動作，故能夠作為壓力感測器來利用。
在閥帽壁25之開口部25b係安裝有磁性體M2，該磁性體M2係與已安裝於隔膜推壓器23的磁鐵M1一起構成磁力感測器。
藉由該磁力感測器可以如同以下方式檢測閥之開閉動作。亦即，磁鐵M1是按照隔膜推壓器23之上下移動而上下移動，相對於此，磁性體M2係與閥帽壁25及閥帽24一起固定於閥主體1內。結果，可以依據在按照隔膜推壓器23之上下移動而上下移動的磁鐵M1與位置被固定的磁性體M2之間產生的磁場之變化，來檢測隔膜推壓器23之動作，進而檢測閥之開閉動作。
再者，雖然在本實施形態中係使用磁力感測器，但是不限於此，在其他的實施形態中，亦可以使用光學式之位置感測器等其他種類的感測器。
在壓力感測器P與磁力感測器係分別連接具有可撓性之通信用的撓性電纜51之一端(就磁力感測器而言，詳言之係連接於磁性體M2)，撓性電纜51之另一端係連接於已設置於流體控制機器V1之外側的電路基板52。
在本例中，在電路基板52係構成有執行預定之資訊處理的處理模組71(參照第7圖並於後述)。處理模組71係執行下述處理：依據從壓力感測器P或磁力感測器所取得的資訊，來檢測流體控制機器V1之異常。然後，在電路基板52係設置有外部端子連接用之大致矩形狀的連接器53，藉此，可以抽出藉由壓力感測器P與磁力感測器所測定出的資料，或抽出有關藉由處理模組71執行的異常判別處理之處理結果的資料。
再者，在本實施形態中，對於撓性電纜51與電路基板52係使用撓性基板(FPC：Flexible Printed Circuits；軟性印刷電路基板)，撓性電纜51、電路基板52及連接器53係一體地構成。藉由將撓性基板使用於撓性電纜51與電路基板52，就能利用構件間之間隙作為配線路徑，結果，比起使用被覆線的情況還可以使流體控制機器V1本身小型化。
又，處理模組71係與電路基板52不同，既可收納於流體控制機器V1內，又可構成作為壓力感測器P或磁力感測器之一部分。
又，連接器53之種類或形狀，係能按照各種的規格來適當設計。
由以上之構成所組成的流體控制機器V1係可以藉由檢測密閉空間S2內之壓力，來檢測流體從流路往密閉空間S2之漏出等，並檢測隔膜22之破損等流體控制機器V1之異常。
˙軟體(software)構成
接著，針對流體控制機器V1之軟體構成加以說明。
處理模組71係藉由已設置於電路基板52上的運算電路或記憶體(memory)所構成，藉此，如第7圖所示，具備由判別處理部711與通信處理部712所構成的功能方塊。該處理模組71係構成能夠藉由撓性電纜51來與壓力感測器P或磁力感測器進行協同運作，而可以從該壓力感測器P或磁力感測器接受資料之供給。
判別處理部711係執行下述處理：藉由比較已保持於參照用表格等的預定之臨限值與藉由壓力感測器P所檢測出的壓力之檢測值，來判別因流體往密閉空間S2之漏出等所引起的流體控制機器V1之異常。亦即，在正常使用時，事先將依據流體控制機器V1之閥的開閉所設想的密閉空間S2內之壓力的極限值作為預定之臨限值。然後，在密閉空間S2內之壓力的檢測值超出該臨限值的情況下，判別為在流體控制機器V1發生異常。如此的判別之合理性係依據如下：就流體因隔膜22之破損等而往密閉空間S2漏出並使密閉空間S2內之壓力上升的結果而言，或是舊密閉空間S2內之壓力因流路內之減壓而減少的結果而言，會視為密閉空間S2內之壓力的檢測值超出臨限值。
通信處理部712為用以執行對透過連接器53所連接的外部終端機61，發送由判別處理部711所得的判別結果之處理的功能部。
再者，在本實施形態中，雖然由判別處理部711所得的處理結果係透過連接器53來發送至外部終端機61，但是亦能夠以例如無線LAN(Local Area Network；區域網路)、Bluetooth(藍芽)(註冊商標)、紅外 線通信或是Zigbee(紫蜂)(註冊商標)等來構成通信處理部712，且藉由無線通信來發送。
又，在其他的終端機恆常連接於連接器53的情況下，通信處理部712係能夠以1小時或1日等任意設定的預定之週期來發送由判別處理部711所得的判別結果。在此情形下，流體之微量漏出雖然難以檢測其瞬間，但是若是數日左右因會升壓而能夠檢測。另一方面，因密閉空間S2為氣密的空間，故即便發生微小的漏出仍不易立即造成問題。為此，即便是藉由預定之週期來進行的發送也不會有妨礙。更且，在如上述方式以預定之週期來進行資訊之發送的情況下，係可以抑制消耗電力。
又，在合併複數個流體控制機器V1來構成流體控制裝置的情況下，各個流體控制機器V1之通信處理部712係可以對外部終端機61依每一流體控制機器V1以不同的時序(timing)一起發送能夠識別自己的自我識別資訊與藉由判別處理部711所為的判別結果。
藉由可對外部終端機61，發送能夠個別識別流體控制機器V1的自我識別資訊，就可以判別構成流體控制裝置的複數個流體控制機器V1當中之任一個是否有發生異常。
又，藉由可對外部終端機61，依每一流體控制機器V1以不同的時序發送判別結果，就可以迴避封包碰撞(packet collision)的問題，且與一齊發送的情況相較又可以預防暫時性的處理之過負荷。更且，與一齊發送的情況不同，因沒有必要依每一流體控制機器V1改變資料發送所利用的無線之頻道，故沒有必要準備多數的頻道。在藉由Bluetooth(註冊商標)來實現流體控制機器V1與外部終端機61之連接手段的情況下，因同時連接台數 會受限(通常七台)，故可以藉由改變發送之時序來使用超過同時連接台數之數量的流體控制機器V1。
外部終端機61為所謂個人電腦(personal computer)或伺服器(server)、能夠進行資料之收發或處理的可攜式終端機等，為藉由CPU(Central Processing Unit；中央處理單元)、CPU所執行的電腦程式(computer program)、記憶電腦程式或預定之資料的RAM(Random Access Memory；隨機存取記憶體)或ROM(Read Only Memory；唯讀記憶體)及硬碟機(hard disk drive)等之外部記憶裝置等的硬體資源所構成。
該外部終端機61係具有用以接收流體往流體控制機器V1的密閉空間S2漏出的判別結果之通信處理部。外部終端機61從流體控制機器V1接收的資訊係可適當回應來自流體控制機器V1之管理者或是監視者等所利用的終端機之要求，提供至該監視者等所利用的終端機。
再者，在本實施形態中，雖然外部終端機61係與流體控制機器V1直接進行資料通信，但是不限於此，亦可以適當穿插中繼資料之收發的中繼裝置來進行通信。
藉由以上之構成所組成的流體控制機器V1，依據藉由壓力感測器P所檢測出的密閉空間S2內之壓力與預定之臨限值的比較，就可以檢測因流體往密閉空間S2漏出等所引起的流體控制機器V1之異常。
又，因有關流體控制機器V1之異常的資訊是集中於外部終端機61，故流體控制機器V1之監視者等可以沒有負擔地監視流體控制機器V1之動作狀況。
更且，因流體控制機器V1係在檢測出密閉空間S2內之壓力之後，藉由比較預定之臨限值與檢測值來檢測異常，故即便是在有發生密閉空間S2內部成為負壓之異常的情況下，仍可以檢測該異常。
再者，在以上之本實施形態中，在流體控制機器V1亦可設置有判別出在流體控制機器V1有發生異常時，用以發出警示該異常之警告的手段。具體而言，例如可以藉由能夠目視確認的燈泡等所構成。此點即便就後面所述的其他實施形態而言亦相同。
又，在本實施形態中，雖然是將藉由隔膜22與隔膜推壓器23、閥帽24所分隔出的空間作為密閉空間S2，並藉由檢測該內部之壓力來檢測流體控制機器V1之異常，但是只要是在隔著隔膜22與流路為相反之側，藉由隔膜22所隔出的密閉空間，就可以將該密閉空間作為密閉空間S2來檢測壓力，藉此檢測隔膜22之破損等的流體控制機器V1之異常。
〔實施例2〕
其次，針對本發明之第二實施形態的流體控制機器加以說明。
如第8圖所示，本實施形態之流體控制機器V2係除了上述的第一實施形態之流體控制機器V1所具備的壓力感測器P或磁力感測器，還具有檢測流體控制機器V2之驅動壓力的驅動壓力感測器81或測定外部溫度的溫度感測器82。又，本實施形態之流體控制機器V2所具備的處理模組72，係構成由判別處理部721、修正處理部722及通信處理部723所組成的功能方塊。
再者，本實施形態之處理模組72係構成為亦能夠藉由預定之機殼或配線等來與驅動壓力感測器81或溫度感測器82進行協同運作，且可以從該驅動壓力感測器81或溫度感測器82接受資料之供給。
又，除了具備驅動壓力感測器81或溫度感測器82以外，本實施形態之流體控制機器V2的硬體構成或是結構係與上述的第一實施形態之結構同樣。
又，只要沒有特別說明，在本實施形態之說明中，附記與第一實施形態相同之編號(符號)的構件或功能部等，係保持與上述之構件或功能部等相同的功能或執行相同的處理，故省略說明。
驅動壓力感測器81為檢測流體控制機器V2之驅動壓力的感測器，且構成檢測流體控制機器V2之動作的動作檢測機構。
該驅動壓力感測器81例如是安裝於流體控制機器V2之開口部42a，且檢測被導入至流體控制機器V2內之作為驅動壓力的空氣之壓力。有關所檢測出的空氣之壓力的資訊係供給至修正處理部722。
溫度感測器82係測定設置有流體控制機器V2之環境中的外部溫度。有關所測定出之外部溫度的資訊係供給至修正處理部722。
判別處理部721係與第一實施形態中的判別處理部711同樣執行下述處理：藉由比較已保持於參照用表格等的預定之臨限值與藉由壓力感測器P所檢測出的壓力之檢測值，來判別因流體往密閉空間S2之漏出等所引起的流體控制機器V2之異常。另一方面，在本實施形態中，在該預定之臨限值藉由修正處理部722所修正，且修正已完成時，判別處理部721係執行下述處理：藉由比較修正後之臨限值與藉由壓力感測器P所 檢測出的壓力之檢測值，來判別因流體往密閉空間S2之漏出等所引起的流體控制機器V2之異常。
修正處理部722係按照藉由驅動壓力感測器81所檢測出的空氣之壓力或藉由溫度感測器82所測定出的外部溫度，來修正判別處理部721為了判別流體往密閉空間S2之漏出所參照的預定之臨限值。
亦即，當為了使流體控制機器V2開閉而使空氣之壓力變化時，密閉空間S2內之壓力就會藉由活塞43之上下移動而變化。為此，修正處理部722係修正預定之臨限值，以使判別處理部721可以區別藉由該空氣之壓力所致的密閉空間S2內之壓力的變化與因流體控制機器V2之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化，而判別流體控制機器V2之異常。具體而言，在空氣被導入的情況下，因密閉空間S2內之壓力會減少故會將臨限值修正成較低的值；在空氣被排出的情況下，因密閉空間S2內之壓力會上升故會將臨限值修正成較高的值。結果，判別處理部721係不論伴隨空氣之壓力變化的密閉空間S2內之壓力變化，而可以判別因流體之漏出等的流體控制機器V2之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化。
在此，因在本實施形態中係使用驅動壓力感測器81，故即便是在流體控制機器V2之開閉動作中，仍可以判別因流體之漏出等所引起的密閉空間S2內之壓力變化。亦即，藉由依實驗求出從驅動壓力轉換成所需之修正值的適當之傳遞函數，就可以判斷活塞43移動中之瞬間的密閉空間S2內之過渡性的壓力變化。
同時，在即便依據驅動壓力感測器81之檢測值而預期到密閉空間S2內之壓力上升，但是壓力感測器P之檢測值仍不上升的情況下，可判斷為活塞43或是壓力感測器P之故障。
又，密閉空間S2內之壓力亦會藉由外部溫度而變化。為此，修正處理部722係修正預定之臨限值以使判別處理部721可以區別藉由該外部溫度所致的密閉空間S2內之壓力的變化與藉由流體控制機器V2之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化，而判別流體控制機器V2之異常。具體而言，因應外部溫度之上升來將臨限值修正成較高的值，並且因應外部溫度之下降來將臨限值修正成較低的值。結果，判別處理部721係不論伴隨外部溫度之變化所帶來的密閉空間S2內之壓力變化，而可以判別因流體之漏出等的流體控制機器V2之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化。
通信處理部723係與上述的第一實施形態之通信處理部712同樣，為用以執行將由判別處理部721所得的判別結果發送至外部終端機61之處理的功能部。
依據由以上之構成所組成的本實施形態之流體控制機器V2，即便密閉空間S2內之壓力因作為驅動壓力的空氣或外部溫度而變化，仍可以識別該等壓力變化與藉由流體之漏出等的異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化，並檢測流體控制機器V2之異常。
〔實施例3〕
針對本發明之第三實施形態的流體控制機器之異常檢測系統加以說明。
如第9圖所示，本實施形態之異常檢測系統91係藉由流體控制機器V3和外部終端機62所構成。在該異常檢測系統91中，外部終端機62係具備與上述的第一實施形態之流體控制機器V1所具備的判別處理部711同樣的功能部，且能在外部終端機62側判別因流體往密閉空間S2內之漏出等所引起的流體控制機器V3之異常。
本實施形態之流體控制機器V3係與上述的第一實施形態之流體控制機器V1同樣具有壓力感測器P，另一方面，具有僅執行資料通信的通信模組73，來取代處理模組71。
通信模組73係與上述的第一實施形態之處理模組71同樣，構成於電路基板52上，並且構成能夠藉由撓性電纜51來與壓力感測器P或磁力感測器進行協同運作，且可以從該壓力感測器P或磁力感測器接受資料之供給。
然後，該通信模組73所具備的通信處理部731係執行對外部終端機62發送藉由壓力感測器P所檢測出的密閉空間S2內之壓力的檢測值之處理。
再者，本實施形態之流體控制機器V3的硬體構成或是結構係與上述的第一實施形態同樣。又，只要沒有特別說明，在本實施形態之說明中，因附記與第一實施形態相同之編號(符號)的構件或功能部等係保持與上述之構件或功能部等相同的功能或執行相同的處理，故省略說明。
外部終端機62為所謂個人電腦或伺服器、能夠進行資料之收發或處理的可攜式終端機等，並藉由CPU、CPU所執行的電腦程式、記憶電腦程式或預定之資料的RAM或ROM及硬碟機等之外部記憶裝置等 的硬體資源所構成，且構成由判別處理部621和通信處理部622所組成的功能部。
再者，在本實施形態中，外部終端機62係構成負責進行判別流體控制機器V3之異常的處理之異常檢測裝置。
判別處理部621係與第一實施形態中的判別處理部711同樣執行下述處理：藉由比較已保持於參照用表格等的預定之臨限值與藉由壓力感測器P所檢測出的壓力之檢測值，來判別因流體往密閉空間S2之漏出等所引起的流體控制機器V3之異常。在此，在本實施形態中，藉由壓力感測器P所檢測出的壓力之檢測值，係藉由通信處理部622從流體控制機器V3取得。
通信處理部622係從經由連接器53所連接的流體控制機器V3，接收有關由壓力感測器P所檢測出的密閉空間S2內之壓力的檢測值之資訊。
在本實施形態中，雖然是在外部終端機62側執行因流體之漏出等所導致的流體控制機器V3之異常的判別，但是與第一實施形態同樣，在外部終端機62所判別出的流體控制機器V3之異常的判別結果，係可適當按照來自流體控制機器V3之監視者等所利用的終端機之要求，提供至該監視者等所利用的終端機。
即便是藉由以上的本實施形態之異常檢測系統91的構成，仍與第一實施形態同樣，可以檢測因流體控制機器V3中的流體之漏出等所引起的異常。又，依據本實施形態，在外部終端機62側執行流體控制機 器V3之異常的判別處理之結果，可以簡化流體控制機器V3側的軟體構成，且也容易進行判別處理部621所執行的程式之除錯等的維護。
〔實施例4〕
針對本發明之第四實施形態的流體控制機器之異常檢測系統加以說明。
如第10圖所示，本實施形態之異常檢測系統92係與上述的第三實施形態之異常檢測系統91同樣，藉由流體控制機器V4、外部終端機63所構成，另一方面，流體控制機器V4具有驅動壓力感測器81和溫度感測器82，並且外部終端機63具有修正處理部632之例。
驅動壓力感測器81和溫度感測器82係分別由與上述的第二實施形態中之驅動壓力感測器81和溫度感測器82同樣之構成及功能所構成，且分別檢測流體控制機器V4之驅動壓力和外部溫度。
通信模組74係與上面所述的第一實施形態之處理模組71同樣，構成於電路基板52上，並且構成能夠藉由撓性電纜51來與壓力感測器P進行協同運作。另一方面，在本實施形態中係除此以外還構成能夠與驅動壓力感測器81及溫度感測器82進行協同運作。然後，有關藉由壓力感測器P、驅動壓力感測器81及溫度感測器82所檢測出的密閉空間S2內之壓力的檢測值、驅動壓力及外部溫度的資訊，係藉由通信模組74所具備的通信處理部741，來發送至外部終端機63。
再者，本實施形態之流體控制機器V4的硬體構成或是結構，係除了具備驅動壓力感測器81或溫度感測器82以外，其餘是與上述的第一實施形態同樣。又，只要沒有特別說明，在本實施形態之說明中，因附 記與第一實施形態相同之編號(符號)的構件或功能部等係保持與上述之構件或功能部等相同的功能或執行相同的處理，故省略說明。
外部終端機64係藉由CPU、CPU所執行的電腦程式、記憶電腦程式或預定之資料的RAM或ROM及硬碟機等之外部記憶裝置等的硬體資源所構成，且構成由判別處理部631、修正處理部632及通信處理部633所組成的功能部。
再者，在本實施形態中，外部終端機63係構成負責判別流體控制機器V4之異常的處理之異常檢測裝置。
判別處理部631係與第二實施形態中的判別處理部721同樣，執行下述處理：藉由比較預定之臨限值與藉由壓力感測器P所檢測出的壓力之檢測值，來判別因流體往密閉空間S2之漏出等所導致的流體控制機器V4之異常；另一方面，判別處理部631係執行下述處理：在成為流體控制機器V4之異常的判別處理之基準的預定之臨限值已藉由修正處理部632修正時，以修正後之臨限值作為基準來判別流體控制機器V4之異常。
修正處理部632係與第二實施形態中的修正處理部722同樣，按照藉由驅動壓力感測器81所檢測出的空氣之壓力或藉由溫度感測器82所測定出的外部溫度，來修正判別處理部631為了判別流體控制機器V4之異常所參照的預定之臨限值。但是，在本實施形態中係與第二實施形態不同，有關空氣之壓力或外部溫度的資訊係從流體控制機器V4供給至外部終端機63。
通信處理部633係從藉由連接器53所連接的流體控制機器V4，接收有關由壓力感測器P所檢測出的密閉空間S2內之壓力的檢測值、藉由驅動壓力感測器81所測定出的驅動壓力以及藉由溫度感測器82所測定出的外部溫度之資訊。
藉由由以上之構成所組成的本實施形態之異常檢測系統92，亦與第二實施形態同樣，即便是在因作為驅動壓力的空氣或外部溫度而使密閉空間S2內之壓力有變化的情況下，仍可以識別該壓力變化與藉由流體之漏出所致的密閉空間S2內之壓力的變化，而檢測因流體往密閉空間S2之漏出等所引起的流體控制機器V4之異常。又，依據本實施形態，在外部終端機63側執行流體控制機器V4之異常的判別處理之結果，既可以簡化流體控制機器V4之軟體構成，又可輕易進行判別處理部631或修正處理部632所執行的程式之除錯等的維護。
再者，在上面所述的第二及第四實施形態之流體控制機器V2、V4中，係著眼於藉由開閉動作而使作為驅動壓力的空氣之壓力產生變化，藉此引起密閉空間S2內之壓力變化，從而使用了驅動壓力感測器作為動作檢測機構。此點，只要可以檢測流體控制機器V2之開閉動作，即便是藉由驅動壓力感測器以外的動作檢測機構，仍可以區別藉由流體控制機器V2之開閉所致的密閉空間S2內之壓力的變化與因流體控制機器V2、V4之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化，並判別流體控制機器V2、V4之異常。
作為如此的流體控制機器V2、V4之動作檢測機構之另一例，可採用機械性地檢測流體控制機器V2、V4之開閉動作的開閉動作檢 測機構。亦即，可以藉由檢測藉由流體控制機器V2、V4之開關(switch)操作等所為之開閉動作的機構來實現，或藉由檢測伴隨開閉動作所帶來的機器內部之構件動作的機構。具體而言，檢測伴隨開閉動作所帶來的機器內部之構件的動作的機構，例如可以藉由設置於隔膜推壓器23的磁力感測器，或安裝於致動器主體41或致動器罩42等的限動開關(limit switch)來實現。只要該限動開關係以按照伴隨開閉動作所帶來的活塞43之上下移動而被按下的方式來設置，就可以檢測流體控制機器V2、V4之開閉動作。
又，動作檢測機構亦可以另外依據其他能藉由流體控制機器V2、V4之開閉動作而變化的壓力等之檢測值，來識別開閉動作的開閉識別手段所構成。具體而言，如此的開閉識別手段，例如能藉由AI(Artificial Intelligence；人工智慧)來實現。亦即，將AI嵌入於流體控制機器V2、V4，並且藉由AI所具備的自動學習手段，使之學習由壓力感測器P、磁力感測器或是限動開關所得的檢測值之變動模式與開閉動作之相互關聯關係，藉此可以依據模式分析來識別開閉動作。
在此，第11圖係顯示切割出流體控制機器V2、V4之動作資訊資料當中，依據壓力感測器P或限動開關之變化所檢測的流體控制機器V2、V4之開閉狀態的切換之前及之後的預定時間中的資料。再者，預定時間為有關流體控制機器V2、V4之開閉的時間(定義為開始導入驅動壓力之後，直至流體控制機器V2、V4成為完全開啟為止的時間。第11圖之二條點線之間的時間是相當於該時間)。
將之作為學習完成資料來輸入，且與由壓力感測器P等所得的實際之檢測值的斜率做比較，藉此可以識別使壓力變動產生的原因是藉由開閉動 作所致或其他所致。具體而言，將該檢測值之斜率與學習完成資料做比較，若是陡峭，就可以推測是因隔膜22之破裂等所致的洩漏。又，若是平緩，就可以推測為有發生孔隙洩漏(porosity leak)等之微小洩漏或有發生因O型環O2之破裂等所致的密閉空間S2之洩漏。
再者，不限於此例，成為用以識別開閉動作之基礎的檢測值，係只要是因應流體控制機器V2、V3之開閉動作而會變化者即可，可以使用以因應機器內之預定的空間之壓力、開閉動作而使磁場產生變化之方式所安裝的磁力感測器所取得的該磁場之變化的值等各種值。
設置藉由限動開關或AI等之自動學習手段所構成的開閉檢測機構，來取代檢測驅動壓力的驅動壓力感測器81，以作為檢測流體控制機器V2、V4之動作的動作檢測機構，藉此亦可以區別藉由流體控制機器V2、V4之開閉所致的密閉空間S2內之壓力的變化與因流體控制機器V2之異常所引起的密閉空間S2內之壓力的變化，並判別流體控制機器V2、V4之異常。
再者，在如上述般地以AI來實現動作檢測機構的情況下，AI之功能部係既可以設置於外部終端機62、63，又可以嵌入於流體控制機器V2、V4。
1‧‧‧閥主體
2‧‧‧閥帽部
3‧‧‧外罩部
4‧‧‧致動器部
11‧‧‧基座部
12‧‧‧圓筒部
21‧‧‧閥座
22‧‧‧隔膜
23‧‧‧隔膜推壓器
24‧‧‧閥帽
25d‧‧‧螺釘
26‧‧‧襯墊
41‧‧‧致動器主體
41a‧‧‧貫插孔
42‧‧‧致動器罩
42a、43a‧‧‧開口部
43‧‧‧活塞
44‧‧‧彈簧
112‧‧‧閥室
231a‧‧‧條溝
241d‧‧‧連通孔
411‧‧‧周壁
431‧‧‧擴徑部
432‧‧‧驅動壓力導入路
O2、O41、O42‧‧‧O型環
P‧‧‧壓力感測器
S1‧‧‧驅動壓力導入室
S2‧‧‧密閉空間
V1‧‧‧流體控制機器

Claims (16)

  1. 一種流體控制機器，係設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間，且能夠檢測異常，前述流體控制機器係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；處理模組，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；前述處理模組執行下述處理：判別處理，係比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理，係按照藉由前述動作檢測機構所檢測出的動作，來修正前述預定之臨限值；前述動作檢測機構為檢測前述流體控制機器之驅動壓力的驅動壓力感測器；前述修正處理係按照所檢測出的前述流體控制機器之驅動壓力，來修正前述預定之臨限值；前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  2. 一種流體控制機器，係設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間，且能夠檢測異常，前述流體控制機器係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；處理模組，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作； 前述處理模組執行下述處理：判別處理，係比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理，係按照藉由前述動作檢測機構所檢測出的動作，來修正前述預定之臨限值；前述動作檢測機構為檢測前述流體控制機器之開閉動作的開閉檢測機構；前述修正處理係按照所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值；前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  3. 一種流體控制機器，係設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間，且能夠檢測異常，前述流體控制機器係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；處理模組，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；前述處理模組執行下述處理：判別處理，係比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理，係按照藉由前述動作檢測機構所檢測出的動作，來修正前述預定之臨限值； 前述動作檢測機構係自動學習手段，前述自動學習手段係藉由依據前述檢測值之變動模式與開閉動作的相互關聯關係而來的模式分析，來識別開閉動作；前述修正處理係按照所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值。
  4. 一種流體控制機器，係設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間，且能夠檢測異常，前述流體控制機器係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；溫度感測器，係測定外部溫度；處理模組，係執行預定之資訊處理；以及動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；前述處理模組執行下述處理：判別處理，係比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理，係按照藉由前述動作檢測機構所檢測出的動作，來修正前述預定之臨限值；前述修正處理係按照前述流體控制機器之動作與前述外部溫度，來修正前述預定之臨限值。
  5. 一種流體控制機器的異常檢測方法，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的方法，前述異常檢測方法係包含：藉由壓力感測器來檢測前述密閉空間內之壓力的步驟； 藉由驅動壓力感測器來檢測前述流體控制機器之驅動壓力的步驟；比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的步驟；以及按照所檢測出的前述流體控制機器之驅動壓力，來修正前述預定之臨限值的步驟；前述流體控制機器之前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  6. 一種流體控制機器的異常檢測裝置，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的裝置，前述異常檢測裝置係具有：判別處理部，係比較前述密閉空間之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理部，係按照藉由檢測前述流體控制機器之驅動壓力之驅動壓力感測器所檢測出的有關前述流體控制機器之驅動壓力的資訊，來修正前述預定之臨限值；前述流體控制機器之前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  7. 一種流體控制機器的異常檢測系統，係檢測設置有流路和藉由以隔膜構成之隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的系統，其中，前述流體控制機器中所具備的通信模組與外部終端機係構成為能夠進行通信； 前述流體控制機器，係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；以及通信模組，係對前述外部終端機，發送藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與藉由前述動作檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之動作的資訊；前述外部終端機係執行下述處理：比較從前述流體控制機器所接收到的前述密閉空間內之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的處理；以及按照從前述流體控制機器所接收到的有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值的處理；前述動作檢測機構為檢測前述流體控制機器之驅動壓力的驅動壓力感測器；修正前述預定之臨限值的處理係按照藉由前述驅動壓力感測器所檢測出的前述流體控制機器之驅動壓力，來修正前述預定之臨限值。
  8. 一種流體控制機器的異常檢測方法，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的方法，前述異常檢測方法係包含：藉由壓力感測器來檢測前述密閉空間內之壓力的步驟；藉由檢測前述流體控制機器之開閉動作的開閉檢測機構，來檢測出前述流體控制機器之開閉動作； 比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的步驟；以及按照所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值的步驟；前述流體控制機器之前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  9. 一種流體控制機器的異常檢測裝置，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的裝置，前述流體控制機器的異常檢測裝置係具有：判別處理部，係比較前述密閉空間之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常：以及修正處理部，係按照藉由檢測前述流體控制機器之開閉動作之開閉檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之開閉動作的資訊，來修正前述預定之臨限值；前述流體控制機器之前述隔離構件為隔膜，且具有閥機構，前述閥機構係藉由前述隔膜與設置於前述流路的閥座抵接及分離來開閉流路。
  10. 一種流體控制機器的異常檢測系統，係檢測設置有流路和藉由以隔膜構成之隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的系統，其中，前述流體控制機器中所具備的通信模組與外部終端機係構成為能夠進行通信；前述流體控制機器，係具有： 壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；以及通信模組，係對前述外部終端機，發送藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與藉由前述動作檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之動作的資訊；前述外部終端機係執行下述處理：比較從前述流體控制機器所接收到的前述密閉空間內之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的處理；以及按照從前述流體控制機器所接收到的有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值的處理；前述動作檢測機構為檢測前述流體控制機器之開閉動作的開閉檢測機構；修正前述預定之臨限值的處理係按照藉由前述開閉檢測機構所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值。
  11. 一種流體控制機器的異常檢測方法，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的方法，前述異常檢測方法係包含：藉由壓力感測器來檢測前述密閉空間內之壓力的步驟；藉由依據前述壓力感測器所檢測出的檢測值之變動模式與開閉動作的相互關聯關係而來的模式分析而識別開閉動作的自動學習手段，來檢測出前述流體控制機器的開閉動作； 比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的步驟；以及按照所檢測出的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值的步驟。
  12. 一種流體控制機器的異常檢測裝置，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的裝置，前述流體控制機器的異常檢測裝置係具有：判別處理部，係比較前述密閉空間之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理部，係藉由依據前述密閉空間之壓力的檢測值之變動模式與前述流體控制機器的開閉動作的相互關聯關係而來的模式分析而識別開閉動作的自動學習手段所檢測出的有關前述流體控制機器的開閉動作的資訊，來修正前述預定之臨限值。
  13. 一種流體控制機器的異常檢測系統，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的系統，其中，前述流體控制機器中所具備的通信模組與外部終端機係構成為能夠進行通信；前述流體控制機器，係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；以及 通信模組，係對前述外部終端機，發送藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與藉由前述動作檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之動作的資訊；前述外部終端機係執行下述處理：比較從前述流體控制機器所接收到的前述密閉空間內之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的處理；以及按照從前述流體控制機器所接收到的有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值的處理；前述動作檢測機構為藉由依據前述密閉空間之壓力的檢測值之變動模式與開閉動作的相互關聯關係而來的模式分析而識別開閉動作的自動學習手段；修正前述預定之臨限值的處理係按照藉由前述自動學習手段所識別的前述流體控制機器之開閉動作，來修正前述預定之臨限值。
  14. 一種流體控制機器的異常檢測方法，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的方法，前述異常檢測方法係包含：藉由壓力感測器來檢測前述密閉空間內之壓力的步驟；檢測前述流體控制機器之動作的步驟；測定外部溫度的步驟；比較藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的步驟；以及 按照所檢測出的外部溫度與前述流體控制機器之動作，來修正前述預定之臨限值的步驟。
  15. 一種流體控制機器的異常檢測裝置，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的裝置，前述流體控制機器的異常檢測裝置係具有：判別處理部，係比較前述密閉空間之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常；以及修正處理部，係按照藉由溫度感測器所測定的有關外部溫度與前述流體控制機器的動作的資訊，來修正前述預定之臨限值。
  16. 一種流體控制機器的異常檢測系統，係檢測設置有流路和藉由隔離構件來與該流路隔離出之密閉空間的流體控制機器之異常的系統，其中，前述流體控制機器中所具備的通信模組與外部終端機係構成為能夠進行通信；前述流體控制機器，係具有：壓力感測器，係檢測前述密閉空間內之壓力；動作檢測機構，係檢測前述流體控制機器之動作；以及通信模組，係對前述外部終端機，發送藉由前述壓力感測器所檢測出的檢測值與藉由前述動作檢測機構所檢測出的有關前述流體控制機器之動作的資訊；前述外部終端機係執行下述處理： 比較從前述流體控制機器所接收到的前述密閉空間內之壓力的檢測值與預定之臨限值，藉此來判別前述流體控制機器的隔離構件之異常的處理；以及按照從前述流體控制機器所接收到的有關前述流體控制機器之動作的資訊，來修正前述預定之臨限值的處理；前述修正前述預定之臨限值的處理，係按照藉由溫度感測器所測定的外部溫度與前述流體控制機器的動作，來修正前述預定之臨限值。
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