TWI729172B - 直立磨粉機系統用的罩殼 - Google Patents

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TWI729172B
TWI729172B TW106124379A TW106124379A TWI729172B TW I729172 B TWI729172 B TW I729172B TW 106124379 A TW106124379 A TW 106124379A TW 106124379 A TW106124379 A TW 106124379A TW I729172 B TWI729172 B TW I729172B
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Abstract

本發明揭示直立磨粉機系統(158)用的罩殼。該罩殼可包含形成內腔(104)之直立定向的圓筒狀本體(102)。該罩殼亦可包含蓋(112)，其被定位在該圓筒狀本體(102)上方。該蓋(112)可具有彎曲表面(118)。再者，該罩殼可包含穿過該蓋(112)而形成之入口通道(122)，其中該入口通道(122)可與該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)流體連通，以及穿過該蓋(112)而形成之且相鄰於該入口通道(122)之出口通道(124)。再者，該罩殼可包含被定位在該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)中且與該蓋(112)相對之基底組件(144)，該基底組件(144)具有彎曲表面(148)、穿過介於該蓋(112)與該基底組件(144)之間之該圓筒狀本體(102)而形成之軸頸開口(182)，以及被耦接至該圓筒狀本體(102)之軸頸開口(182)蓋。該軸頸開口(182)蓋可覆蓋該軸頸開口(182)。

Description

直立磨粉機系統用的罩殼
本發明整體而言係關於磨粉機系統，且更具體而言係關於直立磨粉機系統用的罩殼。
直立磨粉機系統被使用於處理由各種電力產生系統所使用的原料。例如，習知的直立磨粉機系統可將煤炭研磨成細顆粒。由直立磨粉機系統所產生的細煤炭顆粒可由被組構成用以產生電力的蒸汽渦輪系統的鍋爐所利用。習知的直立磨粉機通常包含被定位於密封腔室內的研磨機構，其可研磨或粉碎原料以形成細顆粒。
在由直立磨粉機系統所執行的磨粉程序期間，腔室及定位於腔室內之組件可能經受各種的應力。例如，由於研磨機構必須施加足夠的壓力以研磨原料，因此壓力負載可能在腔室內建立或增長。此外，在某些情況下，原料可為可燃性的(例如，煤炭)。結果，直立磨粉機系統之腔室亦可能經受在腔室加熱時的爆炸性負載，而 成為點火源，且該潛在性的可燃性原料被研磨。再者，在研磨程序中，腔室可能經受熱負載及/或在溫度上的大的波動。此外，由於在直立磨粉機系統內研磨原料所需的機械負載，因此腔室及/或在腔室內的組件可能會經受大的機械負載。
為了補償這些相對地較高的負載(例如，熱、機械、壓力、爆炸性)，習知腔室通常由非常厚的金屬或金屬合金形成的各種不同的組件所組成。這些習知腔室通常在尺寸上較大，包含各種連接接頭(例如，在組件之間的焊接)及在形成腔室的表面及/或組件之間的角度轉換。由於製造用於直立磨粉機系統的習知腔室所需的組件的尺寸、厚度及/或數量，因此欲建立該腔室通常係昂貴的、耗時的，且由於形成該腔室之部件或組件的數量而難以持續提供保養。
此外，雖然大多數習知腔室被構造成能夠承受所經受的應力或負載，但是習知腔室包含比腔室的其他部分經受更多負載的高應力集中區域。例如，在習知腔室的部件及/或組件之間的角度轉換在直立磨粉機系統之操作期間經受更大或更多的集中應力及/或負載。
一實施例可包含直立磨粉機系統用的罩殼。該罩殼可包含形成內腔之圓筒狀本體。該圓筒狀本體可為直立定向的。該罩殼亦可包含被定位於該圓筒狀本體上方 之蓋。該蓋可具有彎曲表面。此外，該罩殼可包含：穿過該蓋而形成的入口通道，其中該入口通道可與該圓筒狀本體的內腔流體連通；及穿過該蓋而形成且與該入口通道相鄰的出口通道。再者，該罩殼可包含：定位於該圓筒狀本體之內腔中的基底組件，其與該蓋相對，該基底組件具有彎曲表面；穿過在該蓋與該基底組件之間之該圓筒狀本體而形成的軸頸開口；及耦接至該圓筒狀本體之軸頸開口蓋。該軸頸開口蓋可覆蓋該軸頸開口。
另一實施例可包含直立磨粉機系統用的罩殼。該罩殼可包含形成內腔之圓筒狀本體，其中該圓筒狀本體可為直立定向的。該罩殼亦可包含被耦接至該圓筒狀本體之蓋。該蓋可包含：凸形表面；穿過該蓋而形成的材料入口通道；及穿過該蓋而形成且與該材料入口通道相鄰的顆粒出口通道。此外，該罩殼可包含被定位於該圓筒狀本體之內腔中的基底組件，其與該蓋相對。該基底組件可具有凹形表面。再者，該罩殼可包含：穿過在該蓋與該基底組件之間之該圓筒狀本體而形成的彎曲軸頸開口；及耦接至該圓筒狀本體且覆蓋該彎曲軸頸開口之軸頸開口蓋。該軸頸開口蓋可包含：被組構成提供進入至該圓筒狀本體之內腔的門；被定位成與該門相鄰且低於該門的耳軸支撐件，其中該耳軸支撐件有角度地延伸遠離該圓筒狀本體；及被定位成大致上與該門垂直之彎曲側壁。該彎曲側壁可直接地被耦接至該圓筒狀本體及該耳軸支撐件。
另外之實施例可包含直立磨粉機系統。該直 立磨粉機系統可包含：支撐件，其包含承座；被定位於該支撐件之承座中的齒輪箱；及被定位於該支撐件及該齒輪箱上方之罩殼。該罩殼可包含被耦接至該支撐件之圓筒狀本體。該圓筒狀本體可以形成內腔。該罩殼亦可包含被定位於該圓筒狀本體上方之蓋。該蓋可包含：凸形表面；穿過該蓋而形成的材料入口通道；及穿過該蓋而形成且與該材料入口通道相鄰的顆粒出口通道。此外，該罩殼亦可包含被定位於該圓筒狀本體之內腔中的基底組件，其與該蓋相對。該基底組件可包含：凹形表面；及穿過該基底組件而形成之孔口。再者，該罩殼可包含：穿過在該蓋與該基底組件之間之該圓筒狀本體而形成的彎曲軸頸開口；及耦接至該圓筒狀本體且覆蓋該彎曲軸頸開口之軸頸開口蓋。該直立磨粉機系統亦可包含被定位於由該圓筒狀本體所形成之該內腔中的可旋轉平台。該可旋轉平台可被耦接至該齒輪箱且可延伸穿過該基底組件之孔口。此外，該直立磨粉機系統可包含：被定位於該可旋轉平台上方且與該可旋轉平台相鄰之軸頸；及被耦接至該軸頸且被定位成與該罩殼之軸頸開口蓋相鄰之耳軸。再者，該直立磨粉機系統可包含被定位成與該蓋相鄰之顆粒篩濾裝置，其中該顆粒篩濾裝置的至少一部分被定位於由該罩殼之圓筒狀本體所形成的內腔中。
100‧‧‧罩殼
102‧‧‧圓筒狀本體
104‧‧‧內腔
106‧‧‧上部分
108‧‧‧碗形部分
110‧‧‧支腳
112‧‧‧蓋
118‧‧‧彎曲表面
120‧‧‧頂部部分
122‧‧‧材料入口通道
124‧‧‧顆粒出口通道
126‧‧‧氣體入口開口
128‧‧‧入口導管
130‧‧‧外表面
132‧‧‧軸頸開口
134‧‧‧軸頸開口蓋
136‧‧‧彎曲幾何形狀
138‧‧‧門
140‧‧‧耳軸支撐件
142‧‧‧彎曲側壁
144‧‧‧基底組件
146‧‧‧內表面
148‧‧‧圓頂狀表面
150‧‧‧孔口
152‧‧‧底部密封件
154‧‧‧頂部密封件
156‧‧‧顆粒偏向組件
158‧‧‧直立磨粉機系統
160‧‧‧固定支撐件
162‧‧‧承座
164‧‧‧齒輪箱
166‧‧‧傳動系統
168‧‧‧可旋轉平台
170‧‧‧研磨平台
172‧‧‧刮刀
174‧‧‧區域
176‧‧‧葉輪總成
178‧‧‧材料饋入管
180‧‧‧顆粒篩濾裝置
182‧‧‧軸頸
184‧‧‧耳軸
186‧‧‧軸頸彈簧總成
188‧‧‧截頭圓錐組件
190‧‧‧第一端
192‧‧‧第二端
藉由結合附圖的以下詳細說明將容易地瞭解 本發明，其中相同的元件符號表示相同的結構元件，且其中：圖1係描繪依照本發明之實施例之直立磨粉機系統所用的罩殼之說明性等角視圖。
圖2係描繪依照實施例之圖1之直立磨粉機系統所用的罩殼之說明性前視圖。
圖3係描繪依照實施例之圖1之直立磨粉機系統所用的罩殼之說明性俯視圖。
圖4A係描繪依照實施例之沿著圖3之線4-4所截取之圖1之直立磨粉機系統所用的罩殼之橫截面前視圖。
圖4B係描繪依照實施例之沿著圖3之線4-4所截取之圖1之直立磨粉機系統所用的罩殼之橫截面等角視圖。
圖5係描繪依照實施例之包含圖1之罩殼之直立磨粉機系統之等角視圖。
圖6係描繪依照實施例之沿著圖5之線6-6所截取之包含圖1之罩殼之直立磨粉機系統之橫截面前視圖。
圖7係描繪依照額外實施例之包含罩殼之直立磨粉機系統之橫截面前視圖。
應注意，本發明之圖式不一定按比例來繪製。圖式僅旨在描述本發明之典型態樣，而因此不應被認為是限製本發明的範圍。在圖式中，類似的編號表示在圖式之間的類似元件。
現在將詳細參考在附圖中所繪示的代表性實施例。應瞭解，以下的說明並非旨在將實施例限制於一個最佳實施例。相反地，其旨在涵蓋如可包含在如由所附之申請專利範圍所界定之描述的實施例的精神及範圍內的替代、修改及等效件。
以下之揭示內容整體而言係關於磨粉機系統，且更具體而言係關於直立磨粉機系統所用的罩殼。
這些及其他實施例以下將參照圖1至7來進行討論。然而，熟習本領域之技術者將容易地理解，在本文中關於這些附圖所給出的詳細說明僅用於解釋的目的，而不應被解釋為限制性的。
圖1-4B係展示依照實施例之直立磨粉機系統所用的外殼或罩殼之各種不同的視圖。詳言之，圖1係展示罩殼100之等角視圖，圖2係展示罩殼100之前視圖，而圖3係展示罩殼100之俯視圖。此外，圖4A係展示沿著在圖3中的線4-4所截取之罩殼100之橫截面前視圖，而圖4B係展示沿著在圖3中的線4-4所截取之罩殼100之橫截面等角視圖。除非參照特定的圖，否則可參照以下的任何及全部的圖1至4B來提供及/或討論罩殼100及其之各種組件及/或部件的說明。
如在圖1至4B中所展示的，直立磨粉機系統所用的罩殼100(參見圖5及圖6)可包含圓筒狀本體102。圓 筒狀本體102可為直立定向的且可包含大致上係直線的壁。如在本文中所展示及討論的，圓筒狀本體102可形成用於罩殼100之內腔104(參見圖4A)，且可大致上容納及/或圍繞罩殼100及/或直立磨粉機系統的各種組件。在圖1至4B中所展示的非限制性實例中，圓筒狀本體102可包含至少兩個不同的部分。詳言之，圓筒狀本體102可包含上部分106及被定位於上部分106下方及/或耦接至上部分106之下部分或碗形部分108。儘管展示了兩個部分，但是可以瞭解的是，圓筒狀本體102可由更加不同的部分來形成。在另一個非限制性實例中，圓筒狀本體102可由單一組件或材料件來形成。如在本文中所討論的，罩殼100的圓筒狀本體102可由可承受在直立磨粉機系統之操作期間可能經受的壓力變化、偏移、機械應力及/或溫度變化的任何材料來形成。在非限制性實例中，圓筒狀本體102，且特別是上部分106及碗形部分108，可由金屬及/或金屬合金來形成。此外，罩殼100之圓筒狀本體102可使用任何適當的材料形成程序或技術來形成，其包含(但不限於)軋製、鑄造、成形及/或相似的程序。
如在圖1至4B中所展示的，罩殼100亦可包含複數個支腳110。支腳110可被定位於圓筒狀本體102下方且可垂直於圓筒狀本體102來延伸。如在圖1至4B中所展示之非限制性實例中，支腳110可為與圓筒狀本體102不同的組件，且可被耦接至圓筒狀本體102之碗形部分108之底部。在另一非限制性實例中，支腳110可與圓筒狀本體102 整合地形成，且可形成及/或成形以垂直於圓筒狀本體102來延伸。如在本文中所討論的，支腳110可利用罩殼100而被耦接至直立磨粉機系統之支撐件以支撐罩殼100及被定位於罩殼100內之系統的各種組件。
罩殼100亦可包含被定位於圓筒狀本體102上方之蓋112。如在圖1至4B中所展示的，蓋112可被耦接至圓筒狀本體102，且具體而言，係被耦接至圓筒狀本體102之上部分106。蓋112可被耦接至圓筒狀本體102以大致上關閉及/或形成用於由罩殼100之圓筒狀本體102所形成之內腔104的封閉端(參見圖4A)。蓋112可使用任何適當的耦接機構及/或耦接技術而被耦接至圓筒狀本體102。例如，蓋112可使用諸如螺栓的機械扣件而被耦接至圓筒狀本體102，或替代地，蓋112可被焊接至圓筒狀本體102。如在本文中所討論的，類似於圓筒狀本體102，蓋112可由可承受在直立磨粉機系統之操作期間可能經受的壓力變化、偏移、機械應力及/或溫度變化的任何材料來形成。在非限制性實例中，蓋112可由金屬及/或金屬合金來形成。此外，蓋112及在本文中所討論之蓋112之各種組件或部件可使用任何適當的材料形成程序或技術來形成，其包含(但不限於)軋製、鑄造、成形及/或相似的程序。
簡要地轉至圖4A及4B，蓋112可包含大致上係彎曲的、非直線的及/或圓頂狀表面118。在圖4A及4B中所展示之非限制性實例中，蓋112之彎曲表面118相對於圓筒狀本體102之內腔104可大致上為凸形。詳言之，蓋112可 包含面向內腔104及/或被定位於內腔104中的內部彎曲表面118，其在形狀上可大致上為凸形。蓋112之彎曲表面118可包含任何非直線的幾何形狀及/或包含(但不限於)圓球形、半球面形、橢圓形及任何其他圓頂狀幾何形狀之形狀。如在圖4A及4B中所展示的，蓋112之彎曲表面118可完全地或大致上環繞蓋112之周邊及/或整體而完全地延伸。如在本文中所討論的，蓋112之彎曲表面118的幾何形狀，且特別是曲率，可在使用罩殼100之直立磨粉機系統的操作期間有助於及/或提高在罩殼100內的顆粒分佈、空氣流及/或壓力容納。
可穿過罩殼100之蓋112來形成各種通道。意即，蓋112可包含穿過蓋112之頂部部分120而形成的各種通道。如在圖1至4B中所展示的，材料入口通道122可穿過蓋112之頂部部分120而形成。在非限制性實例中，材料入口通道122可完全地穿過蓋112的中心(C)(參見圖1)而形成。此外，材料入口通道122可延伸遠離蓋112之表面及/或延伸於蓋112之表面上方。形成於蓋112中的材料入口通道122可與由圓筒狀本體102所形成的內腔104流體連通(參見圖4A)。如在本文中所討論的，材料入口通道122可在直立磨粉機系統中被組構及/或利用，以便在罩殼100內將原料(例如，煤炭)提供給欲處理之直立磨粉機系統的組件。此外，儘管在圖1至4B中展示為係穿過蓋112之中心(C)(參見圖1)而形成，應瞭解的是，材料入口通道122可穿過蓋112的任何部分來形成而與罩殼100流體連通 及/或提供原料至罩殼100。
蓋112亦可包含至少一個顆粒出口通道124。如在圖1至4B中所展示的，顆粒出口通道124可完全地穿過蓋112而形成，使得顆粒出口通道124亦可與由圓筒狀本體102所形成的內腔104流體連通。顆粒出口通道124可穿過與材料入口通道122相鄰之蓋112之頂部部分120而形成。相似於材料入口通道122，顆粒出口通道124可延伸遠離蓋112之表面及/或延伸於蓋112之表面上方。在圖1至4B中所展示之非限制性實例中，罩殼100之蓋112可包含形成在其中的四(4)個不同的顆粒出口通道124。顆粒出口通道124，如在圖1至4B中所展示的，可大致上圍繞且可分別地與材料入口通道122及彼此大致上等距離地間隔開。雖然在圖1至4B中描繪四個顆粒出口通道124，但是應瞭解，在附圖中所展示的顆粒出口通道124的數量僅僅是示例性的，且蓋112可包含比在本文中所描繪及討論的數量更多或更少的顆粒出口通道124。如以下所討論的，顆粒出口通道124可在直立磨粉機系統內被組構及/或使用，以允許及/或攜帶原料(例如，煤炭)之處理顆粒遠離罩殼100而至可使用直立磨粉機系統之不同的電力系統。
如在圖1至4B中所展示的，罩殼100亦可包含氣體入口開口126。氣體入口開口126可穿過圓筒狀本體102而形成。詳言之，氣體入口開口126可穿過圓筒狀本體102之碗形部分108而形成。如在本文中所討論的，氣體入口開口126可提供在由圓筒狀本體102所形成之內腔104 (參見圖4A)與直立磨粉機系統之空氣系統之間的進入及/或流體連通。入口蓋或導管128可大致上圍繞穿過圓筒狀本體102所形成的氣體入口開口126。如在圖1至4B中所展示的，入口導管128可被定位在圓筒狀本體102之曝露或外表面130上及/或耦接至圓筒狀本體102之曝露或外表面130，且可延伸或突出遠離圓筒狀本體102。如在本文中所討論的，入口導管128可將直立磨粉機系統之氣體系統耦接至罩殼100，使得氣體系統可經由氣體入口開口126而在罩殼100中提供氣體(例如，空氣)。
罩殼100亦可包含軸頸開口132(參見圖4A)及大致上覆蓋軸頸開口132之軸頸開口蓋134。如在本文中所詳細討論的，軸頸開口132及軸頸開口蓋134可提供用於直立磨粉機系統之軸頸之開口蓋及/或支撐結構，其可被使用以在直立磨粉機系統之操作期間來處理在罩殼100內的原料。如在圖1至4B中所展示的，且特定地參照圖4A，軸頸開口132可穿過圓筒狀本體102而在蓋112下方形成。在圓筒狀本體102係由上部分106及碗形部分108所形成之非限制性實例中，軸頸開口132可穿過上部分106及碗形部分108中之各者之部分而形成。結果，當上部分106及碗形部分108被耦接在一起以形成圓筒狀本體102時，軸頸開口132可為穿過圓筒狀本體102而形成的單一開口及/或孔口。穿過圓筒狀本體102而形成的軸頸開口132可包含大致上彎曲及/或成形的幾何形狀136。意即，且參照圖4A及4B，軸頸開口132可形成為包含大致上彎曲及/或成形的幾 何形狀136。在該非限制性實例中，軸頸開口132之彎曲及/或成形的幾何形狀136可包含大致上直線的基底、大致上直線的側邊以及連接至兩側邊之大致上彎曲的頂部部分。此外，在該非限制性實例中，在基底與側邊之間的轉換可大致上係彎曲的、平滑的及/或非角度的。如在本文中所討論的，軸頸開口132之彎曲幾何形狀136可在利用罩殼100之直立磨粉機系統之操作期間有助於及/或改善在罩殼100內的溫度變化、空氣流及/或壓力容納的影響。
在圖1至4B中所展示之非限制性實例中，罩殼100可包含穿過圓筒狀本體102而形成的三個不同的軸頸開口132。然而，應瞭解，穿過圓筒狀本體102而形成之所描繪的軸頸開口132的數量可僅為例示性的，而可不被認為係限制性的。如在本文中所討論的，穿過圓筒狀本體102而形成的軸頸開口132可提供進入至由圓筒狀本體102所形成之內腔104(參見圖4A)及/或由直立磨粉機系統所使用之組件，其可被定位於圓筒狀本體102中且大致上係穿過軸頸開口132及/或在軸頸開口132內。
如在圖1至4B中所展示的，軸頸開口蓋134可被耦接至圓筒狀本體102。詳言之，軸頸開口蓋134可被耦接至圓筒狀本體102之外表面且延伸遠離圓筒狀本體102之外表面。軸頸開口蓋134可大致上覆蓋軸頸開口132，且可防止經由軸頸開口132非所要的曝露及/或進入至圓筒狀本體102之內腔104(參見圖4A)。如在本文中所討論的，軸頸開口蓋134及形成以下所討論的軸頸開口蓋134之各種組 件可被設計、被組構及/或形成為包含獨特的特徵及/或幾何形狀，以在利用罩殼100之直立磨粉機系統的操作期間幫助及/或改善在罩殼100內的溫度變化、空氣流及/或壓力容納的影響。
在圖1至4B中所展示之非限制性實例中，軸頸開口132可包含門138，門138被組構成用以提供進入至圓筒狀本體102之內腔104，耳軸支撐件140被定位成與門138相鄰且於門138的下方，且彎曲側壁142被定位成大致上與門138垂直。門138可分別地被耦接至耳軸支撐件140與彎曲側壁142兩者。在非限制性實例中，門138可以可釋放地被耦接至耳軸支撐件140及/或彎曲側壁142。結果，門138可被釋放、移除、鉸接及/或以其他方式從耳軸支撐件140及/或彎曲側壁142解耦接，以提供進入至內腔104及/或被定位於圓筒狀本體102內之直立磨粉機系統之組件。在本文中所討論的其他非限制性實例中，在直立磨粉機系統之組件被附接及/或耦接至門138的情況下，門138可被解耦接及/或鉸接以至少部分地從罩殼100移除直立磨粉機系統之組件。如在圖1至4B中所展示的，且如以下所討論的，門138可形成為大致上匹配或鏡像軸頸開口132及/或彎曲側壁142之形狀及/或幾何形狀。意即，軸頸開口蓋134之門138可形成為包含周邊形狀或幾何形狀，其包含與軸頸開口132之幾何形狀或形狀及/或彎曲側壁142之幾何形狀匹配之大致上彎曲的部分。
軸頸開口蓋134之耳軸支撐件140可被定位於 門138下方且與門138相鄰，且可被耦接至門138。如在圖1至4B中所展示的，且特定地參照圖2及4A，耳軸支撐件140可被直接地耦接至圓筒本體102且可從圓筒本體102之外表面130延伸。在非限制性實例中，耳軸支撐件140可遠離圓筒本體102之外表面130而朝向門138成角度地延伸。如在本文中所討論的，耳軸支撐件140之角度定向、定位及/或形成可在利用罩殼100之直立磨粉機系統之操作期間有助於及/或改善在罩殼100內的溫度變化、空氣流及/或壓力容納的影響。
軸頸開口蓋134之彎曲側壁142可被耦接至圓筒本體102之外表面130且垂直地從圓筒本體102之外表面130延伸。此外，彎曲側壁142可被定位在門138與圓筒狀本體102之間，且同樣地可大致上被定位成垂直於軸頸開口蓋134之門138。彎曲側壁142亦可被耦接至耳軸支撐件140。結果，彎曲側壁142及耳軸支撐件140可用於軸頸開口蓋134之側壁。如在圖1至4B中所展示的，且特定地如在圖2及圖4A中所展示的，彎曲側壁142可形成為包含形狀或幾何形狀，其包含與軸頸開口132之幾何形狀或形狀相匹配之大致上彎曲的部分。意即，軸頸開口蓋134之彎曲側壁142的幾何形狀及/或形狀可大致上匹配及/或鏡像軸頸開口132之彎曲及/或成形的幾何形狀136。如在本文中所討論的，彎曲側壁142之彎曲及/或成形的幾何形狀，連同門138及耳軸支撐件140之幾何形狀及/或角度定向，在利用罩殼100之直立磨粉機系統的操作期間，可有助於及/或改 善在罩殼100內的溫度變化、空氣流及/或壓力容納的影響。
轉至圖4A及4B，討論了罩殼100之額外組件。如在圖4A及4B中所展示的，罩殼100亦可包含基底組件144。基底組件144可被定位在圓筒狀組件102之內腔104內，與蓋112相對。詳言之，基底組件144可被定位在圓筒狀本體102之碗形部分108中，且可被定位於上部分106、蓋112及軸頸開口蓋134下方。此外，基底組件144可被定位於與穿過圓筒本體102之碗形部分108而形成的氣體入口開口126相鄰及/或於氣體入口開口126下方。如在圖4A及4B中所展示的，延伸於基底組件144及圓筒狀本體102下方之圓筒狀本體102可大致上圍繞基底組件144，使得當組裝罩殼100時，基底組件144可能係不可見的。
如在圖4A中所展示的，基底組件144可被耦接至圓筒狀本體102之內表面146。基底組件144可使用任何適當的耦接機構及/或耦接技術而被耦接至圓筒狀本體102之內表面146。例如，基底組件144可使用諸如螺栓的機械扣件而被耦接至圓筒狀本體102，或替代地，基底組件144可被焊接至圓筒狀本體102。類似於在本文中所討論之圓筒狀本體102及/或蓋112，基底組件144可由可承受在如在本文中所討論之直立磨粉機系統之操作期間可能經受的壓力變化、偏移、機械應力及/或溫度變化的任何材料來形成。在非限制性實例中，基底組件144可由金屬及/或金屬合金來形成。基底組件144可使用任何適當的材料形成程 序或技術來形成，其包含(但不限於)軋製、鑄造、成形及/或相似的程序。
類似於蓋112，基底組件144可包含大致上係彎曲的、非直線的及/或圓頂狀表面148。在圖4A及4B中所展示之非限制性實例中，基底組件144之彎曲表面148可相對於圓筒狀本體102之內腔104大致上為凹形。彎曲表面148可包含任何非直線的幾何形狀及/或形狀，其包含(但不限於)圓球形、半球面形及橢圓形。亦類似於蓋112之彎曲表面118，且如在圖4A及4B中所展示的，基底組件144之彎曲表面148可完全地或大致上環繞基底組件144之周邊及/或整體而完全地延伸。如在本文中所討論的，基底組件144之彎曲表面148的幾何形狀及/或形狀可在利用罩殼100之直立磨粉機系統的操作期間有助於及/或改善在罩殼100內的溫度變化、空氣流及/或壓力容納之影響。此外，如在本文中所討論的，基底組件144之彎曲表面148的幾何形狀及/或形狀可在由直立磨粉機系統所處理之廢棄原料的收集上有所幫助。
如在圖4A及4B中所展示的，基底組件144亦可包含大致上穿過基底組件144而形成的孔口150。孔口150可穿過基底組件144之中心而形成，且可大致上接收利用罩殼100之直立磨粉機系統之可旋轉平台之一部分(參見圖5)。基底組件144之孔口150可與底部密封件152大致上對準。意即，底部密封件152可被耦接且可連接基底組件144之孔口150。如在本文中所討論的，底部密封件152可 防止經由氣體入口開口126而被提供至圓筒狀本體102之氣體(例如，空氣)從在基底組件144與直立磨粉機系統之可旋轉平台之間的圓筒狀本體102洩漏出來。在另一非限制性實例中，底部密封件152可防止從可旋轉平台排出及/或丟棄的原料從罩殼100脫落出來及/或進入可能被排出的及/或丟棄的原料損壞之直立磨粉機系統的不同部分。
蓋112亦可包含頂部密封件154。如在圖4A及4B中所展示的，頂部密封件154可被定位於蓋112之彎曲表面118上及/或可從蓋112之彎曲表面118向內地延伸。頂部密封件154可被耦接至蓋112之彎曲表面118且可向內延伸以在如在本文中所討論之利用罩殼100之直立磨粉機系統之顆粒篩濾裝置周圍形成密封。此外，且如在本文中所討論的，頂部密封件154可形成可圍繞直立磨粉機系統之顆粒篩濾裝置的部分的「屋頂」，以確保由直立磨粉機系統所處理的所有的原料顆粒在離開罩殼100之前被移動通過顆粒篩濾裝置。
如在圖4A及4B中所展示的，蓋112亦可包含顆粒偏向組件156。顆粒偏向組件156可被定位在頂部密封件154上方且從頂部密封件154朝向形成於蓋112中之顆粒出口通道124延伸。在圖4A及4B中所展示之非限制性實例中，顆粒偏向組件156可朝向顆粒出口通道124成角度地延伸，以形成斜坡，其可將經由直立磨粉機系統所處理之原料的顆粒導引穿過蓋112而至顆粒出口通道124。如在圖4A及4B中所展示的，被定位於蓋112中的顆粒偏向組件156可 不寬於及/或可不延伸超過顆粒出口通道124，以如在本文中所討論的確保移動穿過蓋112的顆粒不被捕獲在蓋112內。
圖5及圖6係展示如在本文中關於圖1至4B所展示及討論之利用罩殼100之直立磨粉機系統158之不同視圖。詳言之，圖5係展示包含罩殼100之直立磨粉機系統158之等角視圖，而圖6係展示沿著在圖5中之線6-6所截取之包含罩殼100之直立磨粉機系統158之橫截面前視圖。應瞭解，被類似地編號及/或命名的組件可以大致上相似的方式來起作用。為了清楚起見，省略了對這些組件的冗餘說明。
如在圖5及圖6中所展示的，罩殼100可被定位於直立磨粉機系統158之固定支撐件160上方及/或被耦接至直立磨粉機系統158之固定支撐件160。詳言之，罩殼100之支腳110可直接地被耦接至支撐件160，以在直立磨粉機系統158之操作期間，將罩殼100固定至支撐件160。支撐件160亦可包含形成在其中的凹部或承座162。承座162可部分地穿過支撐件160而形成，且可形成在罩殼100之支腳110之間。在圖5及圖6中所展示之非限制性實例中，當罩殼100被耦接至支撐件160時，圓筒狀本體102之內腔104的至少一部分、蓋112及/或基底組件144可與形成在支撐件160中的承座162大致上對準及/或定位於形成在支撐件160中的承座162上方。此外，且參照圖6，穿過基底組件144而形成的孔口150可與支撐件160之承座162大致 上對準。
直立磨粉機系統158之齒輪箱164可被定位在支撐件160之承座162內。更詳言之，齒輪箱164可被定位成耦接及/或固定在支撐件160之承座162內。在圖5及圖6中所展示之非限制性實例中，齒輪箱164可為行星齒輪箱，其可被組構成如在本文中所討論的當處理原料時用以旋轉直立磨粉機系統158之不同的組件(例如，可旋轉平台)。齒輪箱164可被耦接至直立磨粉機系統158之傳動系統166(參見圖5)。傳動系統166可被耦接至齒輪箱164以在直立磨粉機系統158之操作期間驅動、提供電力及/或旋轉齒輪箱164。
主要參照圖6，且繼續參照圖5，直立磨粉機系統158亦可包含至少部分地定位於由圓筒狀本體102所形成之內腔104內的可旋轉平台168。可旋轉平台168可被耦接至齒輪箱164，且可被組構成用以與齒輪箱164一起旋轉。意即，可旋轉平台168可被耦接至齒輪箱164，使得在直立磨粉機系統158之操作期間，齒輪箱164可旋轉及/或轉動可旋轉平台168。如在圖6中所展示的，且如在本文中所討論的，可旋轉平台168可被定位及/或可延伸穿過形成在基底組件144中的孔口150，以被定位在罩殼100內。此外，可被定位及/或穿過基底組件144之孔口150之可旋轉平台168之部分可經由底部密封件152而與基底組件144接觸、密封及/或分離。如在本文中所討論的，被耦接至基底組件144且被定位於可旋轉平台168與基底組件144之間 的底部密封件152可防止使用直立磨粉機系統158所處理之被去除、排出及/或丟棄之原料從罩殼100脫落出來且進入齒輪箱164及/或支撐件160之承座162。
可旋轉平台168可包含被定位在罩殼100之內腔104內的研磨平台170。研磨平台170可被定位於基底組件144上方及軸頸開口蓋134下方。此外，研磨平台170可被定位於蓋112下方，且可與形成在蓋112中的材料入口通道122對準。如在圖6中所展示的，可旋轉平台168之研磨平台170可延伸幾乎整個圓筒狀本體102的寬度。然而，可在可旋轉平台168的研磨平台170的一端與圓筒狀本體102的內表面146之間形成分離或空間，因此如在本文中所討論的，額外的組件(例如，葉輪總成)可被定位在研磨平台170與圓筒狀本體102之間。如在本文中所討論的，原料(例如，煤炭)可被沈積至可旋轉平台168的研磨平台170上，以用於由直立磨粉機系統158來進行處理。
刮刀172亦可被耦接至可旋轉平台168。如在圖6中所展示的，刮刀172可被耦接至研磨平台170下方的可旋轉平台168。此外，被耦接至可旋轉平台168的刮刀172可被定位在基底組件144上方。由於被耦接至可旋轉平台168，刮刀172可在直立磨粉機系統158之操作期間隨著可旋轉平台旋轉。刮刀172可隨著可旋轉平台旋轉以將被去除、排出及/或丟棄之原料朝向材料滑槽(未圖示)移動，以從在罩殼100內之區域174移除，區域174形成在基底組件144與可旋轉平台168之研磨平台170之間。如在本 文中所討論的，在直立磨粉機系統158之操作期間，被去除、排出及/或丟棄之原料可能從可旋轉平台168的研磨平台170落至區域174。
葉輪總成176可被定位在圓筒狀本體102與可旋轉平台168之研磨平台170之間。如在圖6中所展示的，葉輪總成176可大致上圍繞研磨平台170，且可在研磨平台170與罩殼100之圓筒狀本體102之間提供空間，分離及/或開口。在非限制性實例中，葉輪總成176可被耦接至研磨平台170且可與研磨平台170及/或可旋轉平台168一起旋轉。在另一非限制性實例中，葉輪總成176可被耦接至圓筒狀本體102之內表面146，且作為研磨平台170而保持靜止及/或作為可旋轉平台168而在罩殼100內旋轉。如在本文中所討論的，在直立磨粉機系統158之操作期間，葉輪總成176可提供用於熱氣體(例如，空氣)之通道，以向上流至研磨平台170而在研磨平台170上將原料急驟乾燥，以及提供通道，以允許被去除、排出及/或廢棄的原料從研磨平台170落至區域174。
原料可經由材料饋入管178而被供應至直立磨粉機系統158。如在圖5及圖6中所展示的，材料饋入管178可被耦接至形成在蓋112中的材料入口通道122。詳言之，且參照圖6，材料饋入管178可被耦接至蓋112之材料入口通道122、被定位於蓋112之材料入口通道122中及/或被定位穿過蓋112之材料入口通道122。材料饋入管178亦可延伸至罩殼100之圓筒狀本體102之內腔104中，且可被定位 在可旋轉平台168之研磨平台170上方。材料饋入管178可延伸穿過及/或超過直立磨粉機系統158之各種組件。在圖6中所展示之非限制性實例中，材料饋入管178可完全地延伸穿過蓋112及/或超過蓋112而進入圓筒狀本體102中。此外，在圖6中所展示之非限制性實例中，材料饋入管178可至少部分地延伸穿過定位於罩殼100內的直立磨粉機系統158之顆粒篩濾裝置180。
在圖6中所展示之顆粒篩濾裝置180(例如，分類器)可被定位在罩殼100中，且可被耦接至罩殼100之蓋112、圓筒狀本體102及/或頂部密封件154中之至少一者。顆粒之至少一部分可延伸至圓筒狀本體102之內腔104中，於可旋轉平台168之研磨平台170上方。如在本文中所討論的，被耦接至蓋112及/或從蓋112延伸之頂部密封件154可大致上係圍繞及/或密封直立磨粉機系統158之顆粒篩濾裝置180，且可防止在直立磨粉機系統158中經處理之原料顆粒在未首先前進通過顆粒篩濾裝置180的情況下就前進至蓋112中。顆粒篩濾裝置180可被組構成用以接收經處理之原料顆粒且篩選及/或過濾顆粒以判定該顆粒是否符合特性臨限值(例如，尺寸)以前進通過顆粒篩濾裝置180且最終地經由蓋112之顆粒出口通道124而離開罩殼100。顆粒篩濾裝置180可為可使用直立磨粉機系統158來篩選所處理之顆粒的任何適當的顆粒篩濾裝置。在圖6中所展示之非限制性實例中，顆粒篩濾裝置180可包含動態分類器或篩濾裝置。在圖7中所展示之另一非限制性實例 中，及以下所討論的，顆粒篩濾裝置180可包含靜態的分類器或篩濾裝置。
直立磨粉機系統158亦可包含定位在罩殼100內的軸頸182。如在圖6中所展示的，軸頸182可被定位於內腔104中，與軸頸開口132及/或軸頸開口蓋134相鄰。此外，軸頸182可被定位於可旋轉平台168上方，及蓋112下方。詳言之，軸頸182可被直接地定位與可旋轉平台168之研磨平台170相鄰。軸頸182可被直接地定位與研磨平台170相鄰，使得在研磨平台170與軸頸182之間可能存在最小的空間或距離，以允許原料通過軸頸182之下及/或被軸頸182所研磨。在非限制性實例中，軸頸182可被組構成用以旋轉且可在可旋轉平台168之研磨平台170上將原料接觸、研磨及/或粉碎成所要的顆粒尺寸。
雖然在圖6中僅展示一個軸頸182，應瞭解，直立磨粉機系統158可包含更多的軸頸182。意即，應瞭解，包括在直立磨粉機系統158中的所描繪之軸頸182的數量可僅為說明性的，且可不被認為係限制性的。此外，在直立磨粉機系統158中的軸頸182的數量可或可不直接地與包括在罩殼100內的軸頸開口132及/或軸頸開口蓋134的數量相關。例如，且如在圖5中所展示的，罩殼100可包含三個(3)軸頸開口132及/或軸頸開口蓋134。結果，直立磨粉機系統158可包含三個(3)軸頸182，以匹配軸頸開口132及/或軸頸開口蓋134的數量。或者，直立磨粉機系統158可包含定位為與在罩殼100中之軸頸開口132及/或軸頸 開口蓋134之僅一部分相鄰及/或在罩殼100中之軸頸開口132及/或軸頸開口蓋134之僅一部分中之一個(1)或兩個(2)軸頸182。
如在圖6中所展示的，軸頸182可經由定位為與軸頸開口蓋134相鄰之耳軸184而被懸置及/或支撐在罩殼100中。耳軸184可被耦接至軸頸182，且可被組構成用以調整在罩殼100內的軸頸182的角度，其可繼而調整在可旋轉平台168之研磨平台170與軸頸182之間的距離。在圖6中所展示之非限制性實例中，耳軸184亦可被定位於軸頸開口蓋134之耳軸支撐件140上、耦接至軸頸開口蓋134之耳軸支撐件140及/或由軸頸開口蓋134之耳軸支撐件140所支撐。此外，在非限制性實例中，耳軸184之至少一部分可被定位在圓筒狀本體102之內腔104中。意即，且如在圖6中所展示的，耳軸184之中心可與形成在圓筒狀本體102中的軸頸開口132大致上對準，或可選地，耳軸184的中心可被定位在罩殼100之內腔104內。因此，耳軸184的一部分可延伸至軸頸開口蓋134中且耳軸184的不同部分可延伸至罩殼100之內腔104中。藉由將耳軸184之一部分、大部分及/或中心定位在內腔104內，被耦接至耳軸184的軸頸182可在尺寸上更小，更容易調整(例如，角度上)朝向研磨平台170，及/或軸頸182及耳軸184在罩殼100內可需要較少的空間(例如，寬度、高度)。此外，如在本文中所討論的，當軸頸182從罩殼100移除以進行保養及/或檢查時，耳軸184之定位及/或定向可允許軸頸182穿過軸頸 開口132之更小或更少的餘隙。結果，軸頸開口132、軸頸開口蓋134及最終地罩殼100可在尺寸上(例如，高度、寬度、圓周)更小，需要更少的材料及/或用於製造及總成的時間。
此外，如在圖5及圖6中所展示的，直立磨粉機系統158亦可包含軸頸彈簧總成186。軸頸彈簧總成186可被耦接至罩殼100之軸頸開口蓋134之門138。更具體而言，軸頸彈簧總成186可被耦接至及/或定位為部分地穿過形成在軸頸開口蓋134之門138中的開口。結果，定位為穿過門138之軸頸彈簧總成186的一部分可被定位在軸頸開口蓋134內。如在圖6中所展示之非限制性實例中，軸頸彈簧總成186可不延伸超過形成在罩殼100之圓筒狀本體102中的軸頸開口132。軸頸彈簧總成186可被耦接至軸頸182及/或耳軸184，且可被組構成用以向直立磨粉機系統158之軸頸182施加負載，以確保原料在直立磨粉機系統158內進行處理。此外，且如在本文中所討論的，軸頸彈簧總成186可被組構成用以在原料研磨程序期間提供「給予」減震及/或允許軸頸182之暫時位移。
現在討論由直立磨粉機系統158所執行的操作及程序。最初，原料(例如，煤炭)可經由材料饋入管178而被提供至罩殼100。原料可經由材料饋入管178而被移動至罩殼100中且被沈積至可旋轉平台168的研磨平台170上。沈積的原料可與可旋轉平台168之研磨平台170一起旋轉，且可在旋轉軸頸182之下通過以進行研磨、壓碎 及/或粉碎。在由軸頸182執行研磨程序的同時，可經由氣體入口開口126將高溫氣體(例如，空氣)提供至罩殼100之區域174。高溫氣體可經由葉輪總成176而從區域174流動至在研磨平台170上之原料以急驟乾燥在研磨平台170上旋轉之原料。不能充分地及/或不能夠被研磨的原料(例如，太大、太硬、不純)可從可旋轉平台168之研磨平台170被去除、排出及/或丟棄，且可穿過葉輪總成176而落至區域174。一旦被去除、排出及/或丟棄的原料被定位在區域174內，則被耦接至可旋轉平台168之刮刀172可將丟棄的原料推動及/或移動至滑槽(未示出)，以將材料從區域174移除且防止積聚材料。如在本文中所討論的，因為底部密封件152被定位於基底組件144之孔口150與可旋轉平台168之間，所以尚未被刮刀172移動的丟棄原料可保留在區域174內，且可能不會落在包含支撐件160之承座162之基底組件144及/或罩殼100下方。
未被去除、排出及/或丟棄的原料可保留在可旋轉平台168的研磨平台170上，且可如在本文中所討論般被研磨及乾燥。一旦原料達到顆粒尺寸，其可從研磨平台朝向蓋112向上移動(例如，浮動、吹製)。在非限制性實例中，可在罩殼內施加抽吸以將原料顆粒移動及/或拉動朝向蓋112。這些原料顆粒可朝向頂部密封件154及顆粒篩濾裝置180來移動。朝向頂部密封件154移動的原料顆粒可接觸頂部密封件154且朝向研磨平台170回落，或可朝向顆粒篩濾裝置180移動。如在本文中所討論的，頂部密封 件154可防止原料顆粒離開罩殼100而不前進通過顆粒篩濾裝置180。可到達顆粒篩濾裝置180之原料顆粒可經歷篩濾程序以判定顆粒是否符合特性臨限值(例如，尺寸)以前進通過顆粒篩濾裝置180。若顆粒不符合特性臨限值，則材料顆粒可被迫下降至研磨平台170以經歷進一步的研磨及/或乾燥。若顆粒符合特性臨限值，則原料顆粒移動穿過蓋112，分佈至顆粒出口通道124且最終地被提供至利用直立磨粉機系統158之電力產生系統的另一組件(例如，鍋爐)。如在本文中所討論的，蓋112之彎曲或凸形表面可有助於將原料顆粒分佈至蓋112之顆粒出口通道中。此外，定位於顆粒篩濾裝置180上方的顆粒偏向組件156可有助於將原料顆粒分佈至蓋112之顆粒出口通道中及/或可防止原料顆粒變成被捕獲及/或堵塞罩殼100之蓋112。
圖7係展示直立磨粉機系統158，其包含來自於那些在本文中就圖1至6所討論的一些不同的組件。儘管在圖7中所展示之直立磨粉機系統158中的一些組件係不同的，應瞭解，類似地編號及/或命名的組件可以大致上類似的方式來起作用。為了清楚起見，省略了對這些組件的冗餘說明。
如在圖7中所展示的，且如在本文中所討論的，顆粒篩濾裝置180可包含不同的篩濾裝置。詳言之，在圖7中所展示之顆粒篩濾裝置180可為靜態的篩濾裝置，其可被組構成用以篩濾由直立磨粉機系統158所處理的原料顆粒。靜態的顆粒篩濾裝置180可實現與在本文中就圖6 所討論的顆粒篩濾裝置180相同的目的及/或功能。意即，在圖7中所展示之靜態顆粒篩濾裝置180可篩濾原料顆粒以判定顆粒是否符合特性臨限值(例如，尺寸)以前進通過顆粒篩濾裝置180且最終地離開直立磨粉機系統158之罩殼100。
與在本文中就圖1至6所討論之直立磨粉機系統158及特定地罩殼100不同，在圖7中所展示之罩殼100可包含截頭圓錐組件188。截頭圓錐組件188可被定位於圓筒狀本體102上方及蓋112下方。詳言之，截頭圓錐組件188可被定位在圓筒狀本體102與蓋112之間且可被耦接至圓筒狀本體102及蓋112，以形成直立磨粉機系統158之罩殼100。如在圖7中所展示的，第一端190可被直接地耦接至圓筒狀本體102，且第二端192可被耦接至蓋112。截頭圓錐組件188可大致上為錐形，使得截頭圓錐組件188之第二端192比第一端190更大及/或更寬。為了各種目的及/或功能，截頭圓錐組件188可被包括在直立磨粉機系統158之罩殼100中。在非限制性實例中，截頭圓錐組件188可被包括在罩殼100中以將額外的區域、空間及/或高度增加至罩殼100，以補償靜態顆粒篩濾裝置180的尺寸。在另一非限制性實例中，截頭圓錐組件188可被包括在罩殼100中以將額外的區域、空間及/或高度增加至罩殼100，以允許靜態顆粒篩濾裝置180的更多空間來適當地篩濾在直立磨粉機系統158中所形成之原料顆粒。
如在本文中所討論的，罩殼之各種組件之形 狀、幾何形狀及/或構形，及直立磨粉機系統之罩殼本身被創建、生產及/或製造以降低罩殼之成本及/或製造時間。再者，在本文中所討論之罩殼及其之各種組件亦可增加罩殼及/或直立磨粉機系統之效能、功能及/或保養。在非限制性實例中，在本文中所討論之罩殼可小於習知的磨粉機系統罩殼，其最終地導致建造所需的材料較少，且需要較少的罩殼建構及建造時間。此外，罩殼及其之各種組件的形狀、幾何形狀及/或構形亦被創建、生產及/或製造，以承受當使用直立磨粉機系統來處理原料時通常所經受之壓力、變化及/或應力。在非限制性實例中，蓋、基底組件、軸頸開口及/或軸頸開口蓋，及形成在其之間的接頭的幾何形狀及/或形狀(例如，彎曲)係有助於減輕可能在罩殼內所經受之壓力、爆炸性負載、機械負載及/或熱負載/梯度。
出於說明的目的，先前之描述使用特定的命名法來提供對於所描述的實施例的透徹瞭解。然而，對於熟習本領域之技術者顯而易見的是，為了實施所描述的實施例，不需要具體的細節。因此，為了說明及描述的目的，呈現了在本文中所述之具體實施例的以上描述。其等目的非為窮舉性或將實施例限制於所揭示的精確形式。對於熟習本領域之普通技術者顯而易見的是，鑑於以上的教示可實行許多修改及變化。
100‧‧‧罩殼
102‧‧‧圓筒狀本體
106‧‧‧上部分
108‧‧‧碗形部分
110‧‧‧支腳
112‧‧‧蓋
120‧‧‧頂部部分
122‧‧‧材料入口通道
124‧‧‧顆粒出口通道
126‧‧‧氣體入口開口
128‧‧‧入口導管
130‧‧‧外表面
132‧‧‧軸頸開口
134‧‧‧軸頸開口蓋
138‧‧‧門
140‧‧‧耳軸支撐件
142‧‧‧彎曲側壁

Claims (13)

  1. 一種罩殼(100)，包括：圓筒狀本體(102)，其形成內腔(104)，該圓筒狀本體(102)係直立定向；蓋(112)，其被定位在該圓筒狀本體(102)上方，該蓋(112)具有彎曲表面(118)；入口通道(122)，其穿過該蓋(112)而形成，該入口通道(122)與該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)流體連通；出口通道(124)，其穿過該蓋(112)而形成，且相鄰於該入口通道(122)；基底組件(144)，其被定位在該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)中與該蓋(112)相對，該基底組件(144)具有穿過該基底組件(144)而形成之孔口(150)及彎曲表面(148)，該彎曲表面(148)在形狀上係相對於該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)呈凹形，並且該彎曲表面(148)係從該基底組件(144)之第一端至該基底組件(144)之第二端在該基底組件(144)之整體上延伸，該基底組件(144)之該第一端係被直接耦接至該圓筒狀本體(102)之內表面(146)，而該基底組件(144)之該第二端係定義該孔口(150)；軸頸開口(132)，其穿過介於該蓋(112)與該基底組件(144)之間的該圓筒狀本體(102)而形成；及 軸頸開口蓋(134)，其耦接至該圓筒狀本體(102)，該軸頸開口蓋(134)覆蓋該軸頸開口(132)。
  2. 如申請專利範圍第1項之罩殼(100)，其中，該孔口(150)被組構成用以接收該直立磨粉機系統(158)之可旋轉平台(168)。
  3. 如申請專利範圍第2項之罩殼(100)，其進一步包括底部密封件(152)，其耦接至且內襯該基底組件(144)之該孔口(150)。
  4. 如申請專利範圍第1項之罩殼(100)，其中，該蓋(112)之該彎曲表面(118)圍繞該蓋(112)之周邊而延伸。
  5. 如申請專利範圍第1項之罩殼(100)，其中，該蓋(112)之該彎曲表面(118)在形狀上係大致上呈凸形。
  6. 如申請專利範圍第1項之罩殼(100)，其中，該軸頸開口蓋(134)進一步包括：門(138)，其被組構成用以提供進入至該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)；耳軸支撐件(140)，其被定位成相鄰於該門(138) 且位在該門(138)下方，該耳軸支撐件(140)從該圓筒狀本體(102)有角度地延伸出；及彎曲側壁(142)，其被定位成大致上垂直於該門(138)，該彎曲側壁(142)直接地耦接至該圓筒狀本體(102)及該耳軸支撐件(140)。
  7. 一種罩殼(100)，包括：圓筒狀本體(102)，其形成內腔(104)，該圓筒狀本體(102)係直立定向；蓋(112)，其被耦接至該圓筒狀本體(102)，該蓋(112)包含：凸形表面；材料入口通道(122)，其穿過該蓋(112)而形成；及顆粒出口通道(124)，其穿過該蓋(112)而形成，且相鄰於該材料入口通道(122)；基底組件(144)，其被定位在該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)中且與該蓋(112)相對，該基底組件(144)具有穿過該基底組件(144)而形成之孔口(150)及凹形表面，該凹形表面在形狀上係相對於該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)呈凹形，並且該凹形表面係從該基底組件(144)之第一端至該基底組件(144)之第二端在該基底組件(144)之整體上延伸，該基底組件(144)之該第一端係被直接耦接至該圓筒狀本體 (102)之內表面(146)，而該基底組件(144)之該第二端係定義該孔口(150)；彎曲軸頸開口(132)，其穿過介於該蓋(112)與該基底組件(144)之間之該圓筒狀本體(102)而形成；及軸頸開口蓋(134)，其被耦接至該圓筒狀本體(102)且覆蓋該彎曲軸頸開口(132)，該軸頸開口蓋(134)包含：門(138)，其被組構成用以提供進入至該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)；耳軸支撐件(140)，其被定位成相鄰於該門(138)且位在該門(138)下方，該耳軸支撐件(140)從該圓筒狀本體(102)有角度地延伸出；及彎曲側壁(142)，其被定位成大致上垂直於該門(138)，該彎曲側壁(142)直接地耦接至該圓筒狀本體(102)及該耳軸支撐件(140)。
  8. 如申請專利範圍第7項之罩殼(100)，其中，該圓筒狀本體(102)延伸於該基底組件(144)下方且大致上圍繞該基底組件(144)。
  9. 如申請專利範圍第7項之罩殼(100)，其中，該圓筒狀本體(102)進一步包括：上部分(106)，其耦接至該蓋(112)；及碗形部分(108)，其耦接至該上部分(106)且與該 蓋(112)相對，該碗形部分(108)包含該基底組件(144)。
  10. 如申請專利範圍第9項之罩殼(100)，其進一步包括氣體入口開口(126)，其穿過該圓筒狀本體(102)之該碗形部分(108)而形成，該氣體入口開口(126)被定位於該基底組件(144)上方。
  11. 如申請專利範圍第7項之罩殼(100)，其進一步包括被定位在該蓋(112)上且從該蓋(112)延伸出之頂部密封件(154)。
  12. 如申請專利範圍第11項之罩殼(100)，其進一步包括從該頂部密封件(154)延伸朝向該蓋(112)之該顆粒出口通道(124)之顆粒偏向組件(156)。
  13. 一種直立磨粉機系統(158)，包括：支撐件(160)，其包含承座(162)；齒輪箱(164)，其被定位在該支撐件(160)之該承座(162)中；罩殼(100)，其被定位於該支撐件(160)及該齒輪箱(164)上方，該罩殼(100)包含：圓筒狀本體(102)，其耦接至該支撐件(160)，該圓筒狀本體(102)形成內腔(104)； 蓋(112)，其被定位於該圓筒狀本體(102)上方，該蓋(112)包含：凸形表面；材料入口通道(122)，其穿過該蓋(112)而形成；及顆粒出口通道(124)，其穿過該蓋(112)而形成，且相鄰於該材料入口通道(122)；基底組件(144)，其被定位在該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)中且與該蓋(112)相對，該基底組件(144)包含：孔口(150)，其穿過該基底組件(144)而形成；及凹形表面，係相對於該圓筒狀本體(102)之該內腔(104)，並且該凹形表面係從該基底組件(144)之第一端至該基底組件(144)之第二端在該基底組件(144)之整體上延伸，該基底組件(144)之該第一端係被直接耦接至該圓筒狀本體(102)之內表面(146)，而該基底組件(144)之該第二端係定義該孔口(150)；彎曲軸頸開口(132)，其穿過介於該蓋(112)與該基底組件(144)之間之該圓筒狀本體(102)而形成；及軸頸開口蓋(134)，其耦接至該圓筒狀本體(102)且覆蓋該彎曲軸頸開口(132)；可旋轉平台(168)，其被定位在由該圓筒狀本體 (102)形成之該內腔(104)中，該可旋轉平台(168)耦接至該齒輪箱(164)且延伸穿過該基底組件(144)之該孔口(150)；軸頸(182)，其被定位在該可旋轉平台(168)上方且相鄰於該可旋轉平台(168)；耳軸(184)，其耦接至該軸頸(182)，該耳軸(184)被定位成相鄰於該罩殼(100)之該軸頸開口蓋(134)；及顆粒篩濾裝置(180)，其被定位成相鄰於該蓋(112)，該顆粒篩濾裝置(180)之至少一部分被定位在由該罩殼(100)之該圓筒狀本體(102)所形成之該內腔(104)中。
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