TWI725590B - 水冷頭 - Google Patents

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TWI725590B TW108138666A TW108138666A TWI725590B TW I725590 B TWI725590 B TW I725590B TW 108138666 A TW108138666 A TW 108138666A TW 108138666 A TW108138666 A TW 108138666A TW I725590 B TWI725590 B TW I725590B
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Abstract

本發明提供一種水冷頭,包括殼體、導流擋板、底座、第一進水通道、排水通道以及泵浦。導流擋板配置於殼體並與殼體共同界定出儲水腔。儲水腔填充工作介質。導流擋板包括連通開口。底座與殼體、導流擋板共同界定出作用空間,且導流擋板位於底座與殼體之間,工作介質通過連通開口而流入作用空間,底座用以吸收熱能後將熱能傳遞至工作介質。第一進水通道連通於儲水腔,並用以讓冷卻後的工作介質流入儲水腔。排水通道連通於作用空間,並用以供吸熱的工作介質從作用空間排出。泵浦配置於殼體內,並用以將位於作用空間內工作介質引導至排水通道。

Description

水冷頭
本發明關於一種水冷頭,尤其是關於一種具有儲水腔的水冷頭。
在科技的進步與普及下,各種電子裝置或電腦設備早已成為人們日常生活中不可或缺的角色,例如筆記型電腦、桌上型電腦、網路伺服器等。一般來說,這些產品的內部的電子元件在運作時都會提升溫度,而高溫容易造成元件的損壞。因此,散熱機制便是這些電子產品相當重要且必須的設計。一般的散熱設計除了以風扇提供氣流進行對流冷卻,或是以特殊材質的散熱單元進行貼附而產生傳導降溫之外,水冷式機制亦是一種有效而常見的散熱設計。
水冷式散熱的原理簡單來說,一般是以液體(例如水或冷卻劑)作為散熱媒介,並利用一個持續運作的水泵或幫浦在所應用的系統內形成不斷的循環。液體在密閉的管路內流動,而這些管路則分佈至系統內的各電子元件(例如中央處理單元)的表面上。當溫度相對較低的液體流經這些溫度相對較高的電子元件時,便會吸收其熱量以減緩其溫度的升高。接著,再隨著管路對外界或其他散熱機制進行熱交換來釋放熱量以降低液體溫度,並再使液體重新回到系統內進行循環與散熱。
舉例來說,水冷頭是水冷式管路中的一個主要的散熱元件。習知的水冷頭通常是以銅或鋁製成,且其內部形成有腔室與水道等結構,用以提供溫度較低的冷卻液流入。利用將水冷頭與電子元件形成直接的接觸,使其溫度較低的冷卻液能在腔室或水道內進行吸熱後再流出水冷頭,如此就可將電子元件運作時所產生的熱量加以帶出。
然而,習知的水冷頭,大多沒有儲水腔的設計,因此當水冷頭被更改位置或移動時,經常發生冷卻液供給不及的情況。因此,如何針對上述的問題進行改善,實為本領域相關人員所關注的焦點。
本發明的目的之一在於提供一種水冷頭,其藉由導流擋板與殼體共同界定出儲水腔,除了能夠暫時儲存工作介質而確保工作介質不中斷外,亦可增加水冷頭安裝時的便利性與彈性。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
為達上述之一或部分或全部目的或是其他目的,本發明提供一種水冷頭,包括殼體、導流擋板、底座、第一進水通道、排水通道以及泵浦。導流擋板配置於殼體並與殼體共同界定出儲水腔。儲水腔填充工作介質,導流擋板包括連通開口。底座與殼體、導流擋板共同界定出作用空間,且導流擋板位於底座與殼體之間,工作介質通過連通開口而流入作用空間,底座用以吸收熱能後將熱能傳遞至工作介質。第一進水通道連通於儲水腔,並用以讓冷卻後的工作介質流入儲水腔。排水通道連通於作用空間,並用以供吸熱的工作介質從作用空 間排出。泵浦配置於殼體內,並用以將位於作用空間內工作介質引導至排水通道。
在本發明的一實施例中,上述的水冷頭更包括第二進水通道,第二進水通道連通於儲水腔,且第一進水通道位於殼體的第一側,第二進水通道位於相對第一側的第二側,排水通道位於殼體的第一側且相鄰於第一進水通道。
在本發明的一實施例中,上述的殼體更包括機電腔室與凹槽,機電腔室的開口位於殼體的頂側,凹槽的開口位於殼體相對頂側的底側。
在本發明的一實施例中,上述的泵浦包括電路板、第一磁性元件、扇葉以及第二磁性元件,電路板與第一磁性元件配置於機電腔室內,電路板位於第一磁性元件的上方,且電路板從機電腔室的開口露出,扇葉與第二磁性元件配置於凹槽內,第二磁性元件位於第一磁性元件與扇葉之間,且第二磁性元件穿過第一磁性元件而與第一磁性元件共軸配置。
在本發明的一實施例中,上述的泵浦更包括固定件,固定件位於扇葉與底座之間,固定件固定於殼體上,使得扇葉與第二磁性元件固定於凹槽內。
在本發明的一實施例中,上述的扇葉包括底盤與鏤空部,底盤將作用空間區隔為吸熱空間與排水空間,凹槽包括排水空間,部分吸熱空間位於導流擋板的下方,且吸熱空間與排水空間內的工作介質藉由鏤空部而進行液體耦合,工作介質通過連通開口而流入吸熱空間,而扇葉從吸熱空間吸取工作介質並經由鏤空部而傳遞至排水空間。
在本發明的一實施例中,上述的底座包括彼此相對的頂面與吸熱底面,吸熱底面與發熱源接觸而吸收熱能,頂面配置有傳熱結構,傳熱結構位於吸熱空間內,導流擋板覆蓋於傳熱結構上,傳熱結構用以將吸熱面所吸收的熱能傳導至工作介質。
在本發明的一實施例中,上述的底座更包括凹陷空間,凹陷空間凹設於頂面並位於傳熱結構的一側,吸熱空間包括凹陷空間。
在本發明的一實施例中,上述的水冷頭更包括上蓋,上蓋覆蓋於殼體,殼體位於上蓋與底座之間,且泵浦露出於上蓋。
本發明實施例的水冷頭,其藉由導流擋板與殼體之間共同界定出儲水腔,並且此儲水腔可與兩個進水通道(也就是第一進水通道與第二進水通道)連通,除了能夠暫時儲存工作介質而確保工作介質不中斷外,亦可增加水冷頭安裝時的便利性與彈性。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
1‧‧‧水冷頭
11‧‧‧殼體
12‧‧‧導流擋板
13‧‧‧底座
14‧‧‧第一進水通道
15‧‧‧第二進水通道
16‧‧‧排水通道
17‧‧‧泵浦
18‧‧‧上蓋
110‧‧‧嵌設凹槽
111‧‧‧機電腔室
112‧‧‧凹槽
120‧‧‧連通開口
131‧‧‧吸熱底面
132‧‧‧頂面
133‧‧‧傳熱結構
134‧‧‧凹陷空間
171‧‧‧電路板
172‧‧‧第一磁性元件
173‧‧‧扇葉
174‧‧‧第二磁性元件
1731‧‧‧固定件
1732‧‧‧鏤空部
1733‧‧‧頂壁
1734‧‧‧底盤
1735‧‧‧間隔牆
1736‧‧‧軸套
1737‧‧‧軸棒
1738‧‧‧肋條
1739‧‧‧排水腔
A、B、C、D、F‧‧‧箭頭
O1、O2‧‧‧開口
S1‧‧‧第一側
S2‧‧‧第二側
SC‧‧‧儲水腔
WS‧‧‧作用空間
WS1‧‧‧吸熱空間
WS2‧‧‧排水空間
圖1為本發明一實施例的水冷頭的外觀結構示意圖。
圖2為圖1所示的水冷頭的另一視角的外觀結構示意圖。
圖3為圖1所示的水冷頭的元件分解示意圖。
圖4為圖3所示另一視角的導流擋板與殼體的組裝示意圖。
圖5為圖3所示另一視角的泵浦與殼體的組裝示意圖。
圖6為沿圖1所示的AA線段的剖面示意圖。
圖7為沿圖2所示的BB線段的剖面示意圖。
圖8為沿圖1所示的CC線段的剖面示意圖。
圖9為圖3所示的泵浦的扇葉與底座的組裝示意圖。
圖10為圖3所示泵浦的扇葉於一視角的外觀結構示意圖。
圖11為圖10所示的泵浦的扇葉於另一視角的外觀結構示意圖。
本發明所提供的水冷頭,可安裝於電腦的主機或伺服器中,內部可在充填工作介質後,吸收發熱源例如晶片或是記憶體等所產生的熱能,並將升溫的工作介質傳送至冷凝裝置予以降溫,最後,降溫的工作介質會再傳回水冷頭來進行下一次的吸熱與循環流動。
請參閱圖1至圖8,圖1為本發明一實施例的水冷頭的外觀結構示意圖。圖2為圖1所示的水冷頭的另一視角的外觀結構示意圖。圖3為圖1所示的水冷頭的元件分解示意圖。圖4為圖3所示另一視角的導流擋板與殼體的組裝示意圖。圖5為圖3所示另一視角的泵浦與殼體的組裝示意圖。圖6為沿圖1所示的AA線段的剖面示意圖。圖7為沿圖2所示的BB線段的剖面示意圖。圖8為沿圖1所示的CC線段的剖面示意圖。
如圖1至圖8所示,本實施例的水冷頭1包括殼體11、導流擋板12、底座13、第一進水通道14、第二進水通道15、排水通道16以及泵浦17。導流擋板12配置於殼體11並與殼體11共同界定出儲水腔SC,也就是說,當導流擋板12與殼體11彼此組設後,導流擋板12會在殼體11內隔出一個供工作介質暫時儲存的腔室。導流擋板12位於殼體11與底座13之間,且導流擋板12包括連通開口120。底座13與殼體11、導流擋板12共同界定出作用空間WS。第一進水通道14與第二進水通道 15分別連通於儲水腔SC,且第一進水通道14與第二進水通道15用以分別讓冷卻後的工作介質流入儲水腔SC內。工作介質從第一進水通道14與第二進水通道15流入儲水腔SC後,工作介質會通過導流擋板12的連通開口120流入作用空間WS並通過底座13,底座13用以吸收來自發熱源的熱能後將熱能傳遞至工作介質。排水通道16連通於作用空間WS,且排水通道16用以供吸熱的工作介質從作用空間WS排出至水冷頭1外。泵浦17配置於殼體11內,且泵浦17用以將位於作用空間WS內工作介質引導至排水通道16。
以下再針對本發明實施例的水冷頭1的詳細構造做更進一步的描述。
如圖1至圖3所示,本實施例的第一進水通道14位於殼體11的第一側S1,第二進水通道15位於相對第一側S1的第二側S2,排水通道16位於殼體11的第一側S1且相鄰於第一進水通道14。為了讓水冷頭1內的工作介質不會中斷供應,因此本實施例特別在水冷頭1內規劃了儲水腔SC,並且讓第一進水通道14與第二進水通道15均與儲水腔SC連通。在本實施例所提供的水冷頭1中,第一進水通道14與第二進水通道15配置在儲水腔SC的不同側,也就是第一進水通道14配置於殼體11的第一側S1,第二進水通道15配置於殼底11的第二側S2,因此,在本案所揭露的水冷頭1中,可經由配置在儲水腔SC的不同側、不同位置的第一進水通道14、第二進水通道15以供應工作介質至儲水腔SC,然而,上揭結構僅為本發明的其中之一實施例,在其它的實施例中,第一進水通道14、第二進水通道15也可分別設置在儲水腔SC的其他位置,例如,儲水腔SC的相鄰兩側。在第一進水通道14、第二進水通道15分別配置在水冷頭1之不同側的設計中,可增加使用者之安裝彈 性,使用者可依照其產品結構之設計需求而選擇適當的進水通道來供應工作介質。
需特別說明的是,在本實施例中,水冷頭1具有分別與儲水腔SC連通的第一進水通道14與第二進水通道15,但本發明並不限定進水通道的數量,可依照實際情況的需求而有所增減,例如是僅配置一個進水通道或是配置兩個以上的進水通道。
水冷頭1的殼體11可藉由上蓋18而予以覆蓋,舉例來說,可藉由螺絲將上蓋18鎖固於殼體11的螺孔,上蓋18覆蓋於殼體11後,泵浦17會露出於上蓋18,以利泵浦17與外界的電源連接。而在其他實施例中,也可藉由加熱固接或其他接合手段來將上蓋18與殼體11封合,本發明並不予以限制。此外,上蓋18也可是一個透明或透光的蓋體,幫助使用者觀察工作介質的供給情況。
如圖3與圖5所示,本實施例的殼體11包括機電腔室111與凹槽112。機電腔室111的開口O1位於殼體11的頂側,凹槽112的開口O2位於殼體11相對頂側的底側。本實施例的泵浦17包括電路板171、第一磁性元件172、扇葉173以及第二磁性元件174。泵浦17的電路板171與第一磁性元件172配置於殼體11的機電腔室111內,電路板171位於第一磁性元件172的上方,且電路板171從機電腔室111的開口O1露出。泵浦17的扇葉173與第二磁性元件174配置於殼體11的凹槽112內,第二磁性元件174位於第一磁性元件172與扇葉173之間,且第二磁性元件174穿過第一磁性元件172而與第一磁性元件172共軸配置。
此外,本實施例所提供的水冷頭1,也具有薄型化的設計,將用來安裝泵浦17的機電腔室111以及凹槽112與儲水腔SC分隔開 來,以分別配置在相對於殼體11之不同水平位置,因而不會在垂直方向上有所重疊,如此便可減少水冷頭1的高度。
在本實施例中,泵浦17的電路板171會再與電源(圖中未示)連接,包括利用電線的有線連接方式,或是以電磁感應等其他無線連接方式,提供泵浦17運轉所需的電力。殼體11的機電腔室111是與水隔絕的空間,因而能夠保護電路板171與第一磁性元件172或是電線等通電的元件,不會發生短路的情況。此外,泵浦17的扇葉173以及第二磁性元件174設置在殼體11的凹槽112內,也就是位在工作介質流經的路徑上,因此,當泵浦17運轉並使扇葉173產生轉動時,工作介質就可被扇葉173與殼體11共同導引而產生流動。
在本實施例中,第一磁性元件172與第二磁性元件174為彼此共軸配置,兩者之間藉由殼體11而獨立分隔開來,而第一磁性元件172與第二磁性元件174可以選自磁鐵或是其他可以被磁場所驅動或吸引的材料。此外,第二磁性元件174則與扇葉173結合在一起。當泵浦17通電時,在電路板171、第一磁性元件172以及第二磁性元件174的共同作用下,與第二磁性元件174連接在一起的扇葉173就可被驅動而產生轉動。
如圖1至圖3所示,本實施例的底座13主要負責吸收熱能,因此在材質上可選自金屬或其他導熱性良好的材料。底座13在結構上可以是一件式的結構,也可是複數層或複數個元件所組成的複合結構,本發明並不加以限制底座13組成結構。底座13的外側,也就是相對於殼體11的另一側具有吸熱底面131,底座13的頂面132,也就是面對殼體11的一側則形成或配置傳熱結構133,且上述導流擋板12覆蓋於底座13的傳熱結構133(如圖6所示)。當底座13的吸熱底面131與發熱源 直接或間接做熱接觸後,吸熱底面131會吸收其熱能並傳遞至上方的傳熱結構133,傳熱結構133則會再透過與工作介質(圖中未示)的接觸而將熱能傳遞至工作介質。底座13的傳熱結構133,可選自切削式鰭片(skived fin),或是其他柱狀、片狀、甚至於是不規則的形狀的鰭片。相鄰鰭片間的縫隙可供工作介質通過,並且在增加與工作介質接觸面積的情況下(例如增加排列的密度),就可讓熱能更快地傳遞至工作介質。此外,為了避免導流擋板12與傳熱結構133直接接觸而造成彼此之間的磨損,可選擇性地於導流擋板12與傳熱結構133之間配置海棉(圖中未示)。
如圖6至圖8所示,並請同時參閱圖1至圖3,在本實施例中,水冷頭1的底座13從殼體11的下方藉由鎖固或其他固定方式而與殼體11結合在一起,水冷頭1的殼體11與底座13兩者結合後可與導流擋板12共同界定出一個供工作介質流動的作用空間WS,作用空間WS大致上可由泵浦17的扇葉173而區隔出吸熱空間WS1以及排水空間WS2,殼體11的凹槽112包括排水空間WS2,且部分吸熱空間WS1位於導流擋板12的下方,不依靠其他的隔牆或是隔間,因而能夠簡化水冷頭1內部的結構,而上述配置在底座13的頂面132的傳熱結構133位於吸熱空間WS1內,此外,本實施例的底座13更包括凹陷空間134,此凹陷空間134凹設於底座13的頂面132並位於傳熱結構133的一側,且凹陷空間134也位於吸熱空間WS1內。在本實施例所提供的水冷頭1中,導流擋板12的連通開口120在結構上為上下連通儲水腔SC以及吸熱空間WS1,用以讓工作介質從儲水腔SC流入吸熱空間WS1內。需特別說明的是,在本實施例中,導流擋板12的連通開口120是開設在鄰近第二進水通道15的位置,但本發明並不以此為限,導流擋板12的連通開口 120可因應進水通道的配置位置不同而有所調整。詳細的工作介質於水冷頭1內的流動路徑如下段說明的敘述。
如圖6至圖8所示,在本實施例中,進入水冷頭1的工作介質可以選擇從第一進水通道14沿箭頭A方向流入儲水腔SC,或是由第二進水通道15沿箭頭B方向流入儲水腔SC;之後工作介質會在導流擋板12的連通開口120轉向,沿箭頭C的方向進入吸熱空間WS1;之後,工作介質會沿箭頭D的方向通過位於吸熱空間WS1的傳熱結構133內部以藉由傳熱結構133吸收工作介質所吸取的熱能;之後扇葉173就如箭頭E的方向,將工作介質直接從吸熱空間WS1吸取到排水空間WS2,最後,工作介質經由與排水空間WS2連通的排水通道16沿著箭頭F的方向被排出水冷頭1的外部並進行吸熱後的工作介質冷卻的動作。
此外,需特別說明的是,上述第一進水通道14、第二進水通道15以及排水通道16,可分別再向外延伸或是與接頭連接,接頭則再藉由管路(圖中未示)來與冷凝裝置例如水冷排做連通。
請參閱圖9至圖11,圖9為圖3所示的泵浦的扇葉與底座的組裝示意圖。圖10為圖3所示泵浦的扇葉於一視角的外觀結構示意圖。圖11為圖10所示泵浦的扇葉於另一視角的外觀結構示意圖。如圖9與圖11所示,在水冷頭1的吸熱空間WS1中,在底座13的凹陷空間134的上方裝設扇葉173以及固定件1731,也就是固定件1731位於扇葉173與底座13之間,這是為了確保工作介質在吸收傳熱結構133的熱能之後,就可直接被扇葉173的鏤空部1732所吸附,而工作介質在進入扇葉173前,也只會些許地被固定件1731所阻礙,殼體11內也不再設有其他的隔牆或隔間或是蓋體等來導引工作介質,因而簡化水冷頭1內部 的結構。此外,扇葉173與第二磁性元件174不但藉由固定件1731而固定在底座13,同時也設置於殼體11的凹槽112內。
如圖10與圖11所示,如同前述,本實施例所提供的水冷頭1中,作用空間WS大致上是由泵浦17的扇葉173來區隔出吸熱空間WS1以及排水空間WS2,因此,扇葉173本身同時具備有吸取工作介質以及排出工作介質的雙重功能。為了達成上述的功能,本發明所提供的扇葉173設置在作用空間WS內並鄰近排水通道16,用以將工作介質直接從吸熱空間WS1吸取到排水空間WS2後排出水冷頭1。扇葉173的結構除了鏤空部1732外,更包括頂壁1733、底盤1734、間隔牆1735、軸套1736以及軸棒1737,其中底盤1734與軸套1736的交界處形成有鏤空部1732,並且底盤1734與軸套1736在相鄰的鏤空部1732之間靠肋條1738來連接。底盤1734是扇葉173中主要負責將作用空間WS劃分為吸熱空間WS1與排水空間WS2的結構,而吸熱空間WS1與排水空間WS2則藉由鏤空部1732來進行液體的耦合(fluidly coupling),也就是工作介質得以從吸熱空間WS1經由鏤空部1732而進入排水空間WS2。頂壁1733與底盤1734間隔設置,兩者之間連接有複數個間隔牆1735,因而能夠區隔出複數個排水腔1739。當工作介質從吸熱空間WS1經由鏤空部1732而向上傳遞至排水空間WS2的過程中,工作介質會碰觸到頂壁1733後轉向,再流向各個排水腔1739,然後藉由離心力的作用而讓各排水腔1739內的工作介質被甩入排水通道16後排出水冷頭1。扇葉173的頂壁1733除了具有一個可以改變流向的導引功能外,同時也可防止間隔牆1735直接碰觸到殼體11,降低磨耗發生的機會。
此外,本實施例所提供的泵浦17,其扇葉173是藉由第一磁性元件172與第二磁性元件174彼此間的電磁感應而被驅動,並非經由 軸棒1737來驅動,因此扇葉173與軸棒1737之間沒有連動的關係。但為了能夠維持扇葉173的耐用度與穩定度,使其旋轉時不致偏軸或是碰觸到殼體11而產生磨耗,因此,本實施例所提供的扇葉173特別在其內部設置有中空結構的軸套1736,並將其套設於軸棒1737上。此外,為了將軸棒1737予以固定,因此水冷頭1內也設置有固定件1731用來容納軸棒1737的一端部。固定件1731具有盲孔以供軸棒1737架設。此外,固定件1731可收納並固定於殼體11底面面對該作用空間WS的嵌設槽110內,或是將固定件1731安裝在底座132的凹陷空間134內,本發明並不予以限制。
綜上所述,本發明實施例的水冷頭,其藉由導流擋板與殼體之間共同界定出儲水腔,並且此儲水腔可與兩個進水通道(也就是第一進水通道與第二進水通道)連通,除了能夠暫時儲存工作介質而確保工作介質不中斷外,亦可增加水冷頭安裝時的便利性與彈性。
惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,當不能以此限定本發明實施之範圍,即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。 另外,本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外,摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用,並非用來限制本發明之權利範圍。此外,本說明書或申請專利範圍中提及的”第一”、”第二”等用語僅用以命名元件(element)的名稱或區別不同實施例或範圍,而並非用來限制元件數量上的上限或下限。
1‧‧‧水冷頭
11‧‧‧殼體
12‧‧‧導流擋板
13‧‧‧底座
14‧‧‧第一進水通道
15‧‧‧第二進水通道
16‧‧‧排水通道
17‧‧‧泵浦
18‧‧‧上蓋
111‧‧‧機電腔室
120‧‧‧連通開口
131‧‧‧吸熱底面
132‧‧‧頂面
133‧‧‧傳熱結構
134‧‧‧凹陷空間
171‧‧‧電路板
172‧‧‧第一磁性元件
173‧‧‧扇葉
174‧‧‧第二磁性元件
1731‧‧‧固定件
O1‧‧‧開口

Claims (9)

  1. 一種水冷頭,包括:一殼體;一導流擋板,配置於該殼體並與該殼體共同界定出一儲水腔,該儲水腔可填充一工作介質,該導流擋板包括一連通開口;一底座,該底座與該殼體、該導流擋板共同界定出一作用空間,且該導流擋板位於該底座與該殼體之間,該工作介質通過該連通開口而流入該作用空間,該底座用以吸收熱能後將熱能傳遞至該工作介質;一第一進水通道,連通於該儲水腔,該第一進水通道用以讓冷卻後的該工作介質流入該儲水腔;一排水通道,連通於該作用空間,該排水通道用以供吸熱的該工作介質從該作用空間排出;以及一泵浦,配置於該殼體內,該泵浦用以將位於該作用空間內該工作介質引導至該排水通道而排出該作用空間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的水冷頭,更包括一第二進水通道,該第二進水通道連通於該儲水腔,且該第一進水通道位於該殼體的一第一側,該第二進水通道位於相對該第一側的一第二側,該排水通道位於該殼體的該第一側且相鄰於該第一進水通道。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的水冷頭,其中該殼體包括一機電腔室與一凹槽,該機電腔室的開口位於該殼體的頂側,該凹槽的開口位於該殼體相對該頂側的底側。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的水冷頭,其中該泵浦包括一電路板、一第一磁性元件、一扇葉以及一第二磁性元件,該電路板與該第一 磁性元件配置於該機電腔室內,該電路板位於該第一磁性元件的上方,且該電路板從該機電腔室的開口露出,該扇葉與該第二磁性元件配置於該凹槽內,該第二磁性元件位於該第一磁性元件與該扇葉之間,且該第二磁性元件穿過該第一磁性元件而與該第一磁性元件共軸配置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的水冷頭,其中該泵浦更包括一固定件,該固定件位於該扇葉與該底座之間,該固定件固定於該殼體上,使得該扇葉與該第二磁性元件固定於該凹槽內。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的水冷頭,其中該扇葉包括一底盤與一鏤空部,該底盤將該作用空間區隔為一吸熱空間與一排水空間,該凹槽包括該排水空間,部分該吸熱空間位於該導流擋板的下方,且該吸熱空間與該排水空間內的該工作介質藉由該鏤空部而進行液體耦合,該工作介質通過該連通開口而流入該吸熱空間,而該扇葉從該吸熱空間吸取該工作介質並經由該鏤空部而傳遞至該排水空間。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的水冷頭,其中該底座包括彼此相對的一頂面與一吸熱底面,該吸熱底面與一發熱源接觸而吸收熱能,該頂面配置有一傳熱結構,該傳熱結構位於該吸熱空間內,該導流擋板覆蓋於該傳熱結構上,該傳熱結構用以將該吸熱面所吸收的熱能傳導至該工作介質。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的水冷頭,其中該底座更包括一凹陷空間,該凹陷空間凹設於該頂面並位於該傳熱結構的一側,該吸熱空間包括該凹陷空間。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的水冷頭,更包括一上蓋,該上蓋覆蓋於該殼體,該殼體位於該上蓋與該底座之間,且該泵浦露出於該上蓋。
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