TWI724774B - 抗紅化層、光學層疊體以及顯示器裝置 - Google Patents

Abstract

本申請案是有關於一種抗紅化層、光學層疊體以及顯示器 裝置。本申請案可提供一種即使在極端苛刻的條件(例如，極高的溫度條件)下被驅動或保持時亦不會引起所謂的紅化現象的光學層疊體、或應用於所述光學層疊體的抗紅化層。

Description

抗紅化層、光學層疊體以及顯示器裝置

本申請案主張基於2019年3月29日提出申請的韓國專利申請案第10-2019-0037453號的優先權的權利，所述韓國專利申請案的揭露內容全文併入本案供參考。

本申請案是有關於一種抗紅化層(reddening-resistant layer)及包括所述抗紅化層的光學層疊體(optical laminate)與顯示器裝置。

顯示器裝置越來越多地在較苛刻的條件下被驅動及/或保持。舉例而言，用於導航裝置的顯示器裝置、或例如車輛儀表板等車輛顯示器在夏天在極高的溫度下被保持及/或驅動。

依據顯示器裝置的用途，可與被稱為覆蓋玻璃的玻璃基板相接觸地使用光學層疊體，例如偏振片(polarizing plate)。一般而言，相較於光學層疊體，覆蓋玻璃等具有優異的導熱特性。因此，熱量被更佳地傳遞至與覆蓋玻璃接觸的光學層疊體。

因此，例如偏振片等光學層疊體亦需要在較常規條件苛 刻得多的條件下(特別是在較常規條件保持在顯著更高溫度下的條件下)保持耐久性。

本申請案提供一種抗紅化層、光學層疊體及顯示器裝置。

在本說明書中提及的物理性質中，除非另有說明，否則量測溫度及/或量測壓力影響結果的物理性質是在室溫及/或正常壓力下量測的結果。

術語室溫是在未加溫及冷卻的情況下的自然溫度，其指例如在10℃至30℃範圍內的任一溫度、或23℃或約25℃左右的溫度。在本說明書中，除非另有說明，否則溫度的單位為℃。

術語正常壓力是在未加壓及減壓的情況下的自然壓力，其通常指約1個標準大氣壓(atm)左右的大氣壓力。

在本說明書中，除非另有說明，否則其中量測濕度影響結果的物理性質是在自然濕度下量測的物理性質，在室溫及正常壓力狀態下不對所述自然濕度進行單獨控制。

本申請案是有關於一種光學層疊體、顯示器裝置或抗紅化層。光學層疊體或顯示器裝置可包括抗紅化層。在本申請案中，術語抗紅化層可指被應用於包括光學功能層的各種光學層疊體、以能夠防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學層疊體或應用於光 學層疊體的光學功能層的紅化的所有種類的層。具體而言，即使當在極端苛刻的條件(例如，高溫)下使用及保持對熱耐受性極弱的光學功能層(例如，以下將要闡述的偏振層(具體而言，碘系偏振層))時，抗紅化層亦可有效地防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學功能層的紅化。

紅化意指光學層疊體或光學功能層變紅的現象。舉例而言，可藉由所謂的CIE L*a*b*顏色空間的a*值來確認紅化的發生。在CIE L*a*b*顏色空間中，a*值在正方向上增加意指對象變得更紅。此外，其意指隨著a*值在負方向上的絕對值增加，對象變得更綠。因此，光學功能層或光學層疊體的a*值變化相對於初始a*值在正方向上增加的事實意指光學功能層或光學層疊體已經紅化。

在本申請案中，術語抗紅化層可指應用於光學層疊體或與光學功能層一起應用、以能夠防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學層疊體及/或光學功能層在正方向上的a*值變化或增加的所有種類的層。

主要在向光學層疊體及/或光學功能層施加熱量時容易發生紅化，且因此，當光學層疊體及/或光學功能層保持在高溫下時，容易發生紅化。

在本申請案中，術語抗紅化層可指在耐熱測試之後光學層疊體或光學功能層的a*值變化量的絕對值可為2或小於2的層。耐熱測試意指用於將光學層疊體及/或光學功能層在約95℃下保持約750小時左右、或在約105℃下保持約250小時的測試。a*值 變化量可為藉由自耐熱測試之後的a*值(a*_a)減去耐熱測試之前的a*值(初始a*值)(a*_i)而獲得的值(a*_a-a*_i)，或者相反地，可為藉由自初始a*值(a*_i)減去耐熱測試之後的a*值(a*_a)而獲得的值(a*_i-a*_a)。根據抗紅化層的目的，a*值變化量可為藉由自耐熱測試之後的a*值(a*_a)減去初始a*值(a*_i)而獲得的值(a*_a-a*_i)。

耐熱測試可為在較通常的耐熱測試更苛刻的條件下執行的耐熱測試。舉例而言，耐熱測試可為在光學層疊體及/或光學功能層的上表面及下表面(例如，整個上表面及整個下表面)與玻璃基板接觸的狀態下執行的耐熱測試。玻璃基板是相較於光學層疊體或光學功能層熱傳遞一般而言為良好的材料，且因此當在與玻璃基板接觸的狀態下執行耐熱測試時，所施加的熱量對光學層疊體及/或光學功能層的影響變得更大。應用於耐熱測試的玻璃基板的類型不受特別限制，但在本說明書中，所述類型是基於對厚度大約為1.1毫米的鈉鈣玻璃基板的應用。眾所習知玻璃基板具有約0.6瓦/米凱式度(W/mK)至1.38W/mK的導熱率，其中本申請案的光學層疊體或光學功能層即使在具有如上所述的高導熱率的玻璃基板與其接觸的狀態下執行耐熱測試時亦可防止、減輕、減少、抑制及/或延遲紅化。與本文中所提及的耐熱測試相關的色座標及/或透射率值是基於對厚度為1.1毫米左右的鈉鈣玻璃的應用，其中在耐熱測試中，接觸可指光學功能層或包括其的光學層疊體與玻璃基底(厚度為1.1毫米左右的鈉鈣玻璃板)直接接觸的狀態。

本申請案的光學層疊體可包括光學功能層；以及形成於所述光學功能層的至少一個表面上的抗紅化層。由於光學層疊體包括抗紅化層，因此可防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學層疊體或光學功能層的紅化。

舉例而言，對於光學層疊體或光學層疊體中所包括的光學功能層而言，在耐熱測試之後，根據以下方程式1的CIE L*a*b*的色座標a*值的變化量(△a*)的絕對值可在2內。在本申請案中提及的色座標是使用日本分光(JASCO)V-7100分光光度計量測的結果。

[方程式1]△a*=a*_a-a*_i

在方程式1中，△a*是色座標a*的變化量，a*_a是耐熱測試之後的色座標a*值，並且a*_i是耐熱測試之前的色座標a*值(初始a*值)。

在另一實例中，變化量(△a*)的絕對值亦可位於約1.9內、約1.8內、約1.7內、約1.6內、約1.5內、約1.4內、約1.3內、約1.2內、約1.1內、約1.0內、約0.9內、約0.8內、約0.7內、約0.6內、約0.5內、約0.4內、約0.3內、約0.2內、或約0.1內。下限值不受限制，乃因變化量(△a*)的絕對值意指所述值越低，則發生越少的紅化。在一個實例中，變化量(△a*)的絕對值可為0或大於0。在實例中，變化量(△a*)的絕對值可為當a*值相較於初始階段在正方向上變化時的變化量。

如上所述，耐熱測試是將光學層疊體及/或光學功能層在約95℃下保持約750小時左右、或在約105℃下保持約250小時的製程。此種耐熱測試可在相關光學層疊體及/或光學功能層的上表面及下表面(整個上表面及整個下表面)與玻璃基板(厚度為1.1毫米左右的鈉鈣玻璃板)接觸的狀態下執行。接觸可為直接接觸。可以在本文中的實例中描述的方式量測此a*值變化量。

當在光學層疊體及/或光學功能層中發生紅化時，會出現透射率通常降低的現象。由於本申請案的光學層疊體具有優異的抗紅化性，因此亦不存在透射率的變化或透射率的變化被最小化。

舉例而言，在與用於確認方程式1相同的耐熱測試中，對於光學層疊體或光學功能層而言，根據以下方程式2的透射率(當光學層疊體是偏振片或光學功能層是偏振層時的單一透射率)的變化量(△Ts)的絕對值可位於5內。透射率是使用JASCO V-7100分光光度計對可見光區域中的光(例如，在大約380奈米至780奈米範圍內的光)量測的結果。

[方程式2]△Ts=T_a-T_i

在方程式2中，△Ts是透射率(當光學層疊體是偏振片或光學功能層是偏振層時的單一透射率)的變化量，T_a是耐熱測試之後的透射率(當光學層疊體是偏振片或光學功能層是偏振層時的單一透射率)(耐熱持久性測試之後的透射率)，並且T_i是耐熱測試之前的透射率(當光學層疊體是偏振片或光學功能層是偏振 層時的單一透射率)。

在另一實例中，變化量(△Ts)的絕對值可為約4.9或小於4.9、約4.8或小於4.8、約4.7或小於4.7、約4.6或小於4.6、約4.5或小於4.5、約4.4或小於4.4、約4.3或小於4.3、約4.2或小於4.2、約4.1或小於4.1、約4或小於4、約3.9或小於3.9、約3.8或小於3.8、約3.7或小於3.7、約3.6或小於3.6、約3.5或小於3.5、約3.4或小於3.4、約3.3或小於3.3、約3.2或小於3.2、約3.1或小於3.1、約3或小於3、約2.9或小於2.9、約2.8或小於2.8、約2.7或小於2.7、約2.6或小於2.6、約2.5或小於2.5、約2.4或小於2.4、約2.3或小於2.3、約2.2或小於2.2、約2.1或小於2.1、約1.9或小於1.9、約1.8或小於1.8、約1.7或小於1.7、約1.6或小於1.6、約1.5或小於1.5、約1.4或小於1.4、約1.3或小於1.3、約1.2或小於1.2、約1.1或小於1.1、約1.0或小於1.0、約0.9或小於0.9、約0.8或小於0.8、約0.7或小於0.7、約0.6或小於0.6、約0.5或小於0.5、約0.4或小於0.4、約0.3或小於0.3、約0.2或小於0.2、或約0.1或小於0.1。透射率的變化越低，紅化越少，使得變化量(△Ts)的絕對值的下限為0。在另一實例中，此種變化量(△Ts)的絕對值亦可大約大於0。

用於量測透射率變化量的耐熱測試可在與用於量測a*值變化量的耐熱測試相同的條件下執行。可以在本文中的實例中描述的方式量測透射率。

光學層疊體包括光學功能層。術語光學功能層是表現出 至少一種光學預期功能的層。光學預期功能的實例是產生偏振光(例如，線性偏振光或圓偏振光)、反射、折射、吸收、散射及/或相位延遲。在光學領域中，已知具有此類功能的各種層，其中作為在本申請案中將應用的光學功能層的實例，可包括在已知光學功能層中具有紅化問題的所有種類的層。

在一個實例中，光學功能層可為偏振層或延遲層。在本說明書中，描述了光學功能層是偏振層的情形，但光學功能層的種類並非僅限於偏振層。此外，當光學功能層是偏振層時，光學層疊體可為偏振片。

在本說明書中，術語偏振層及偏振片是指其他物體。術語偏振層可指例如僅表現出偏振功能的多層或單層，並且偏振片可指包括不具有偏振功能的其他元件以及偏振層的層疊體。此處，與偏振層一起被包括的其他元件可由以下例示：偏振層的保護膜或保護層、抗紅化層、延遲層、黏著劑層、壓敏黏著劑層、硬塗層或低反射層等，但並非僅限於此。

基本上，在本申請案中應用的偏振層的類型不受限制。已知的最普通的偏振層是線性吸收偏振層，其為所謂的聚(乙烯醇)(以下可被稱為PVA)偏振層。在本說明書中，除非另有說明，否則術語PVA意指聚乙烯醇或其衍生物。作為PVA偏振層，舉例而言，已知其中例如碘或二向色性染料等各向異性吸收材料被吸附並取向的拉伸PVA膜、或藉由將PVA應用於塗佈方法而薄薄形成的所謂的塗佈PVA偏振層等，但在本申請案中，可應用所有上述 偏振層。除了PVA偏振層之外，亦可將由例如溶致液晶(lyotropic liquid crystal，LLC)等液晶化合物形成的偏振片、或藉由以客體-主體(guest-host，GH)方法對可聚合液晶化合物(所謂的反應性液晶原(reactive mesogen，RM))及二向色性染料進行配向而形成的偏振層等應用於本申請案中。

在本申請案中，具體而言，即使在應用碘系偏振層作為偏振層時，亦可有效地防止、減輕、減少、抑制及/或延遲碘系偏振層的紅化。

碘系偏振層是向其施加碘系材料作為各向異性吸收材料的偏振層。通常，作為各向異性吸收材料，可應用碘系材料，或者可應用例如偶氮染料等二向色性染料。前一種情況可被稱為碘系偏振層，且後一種情況可被稱為染料系偏振層。一般而言，相較於染料系偏振層，碘系偏振層可表現出優異的光學效能(例如，高透射率、高偏振度及高對比度)。然而，相較於染料系偏振層，碘系偏振層具有顯著降低的耐熱性。具體而言，碘系偏振層中所包含的碘系材料在高溫及/或高濕度條件下分解以容易地產生I₂材料，所述I₂材料因對可見光區域的不恰當吸收而引起紅化。因此，在必須需要在高溫及/或高濕度條件下具有耐久性的應用中，即使在承受光學特性損失的情況下有時亦會應用染料系偏振層。然而，根據本申請案，即使在應用碘系偏振層時、此外即使在例如顯著高的溫度條件等苛刻條件下保持及使用此種碘系偏振層時，亦可有效地防止、減輕、減少、抑制及/或延遲碘系偏振層的紅化。因此，根 據本申請案，在解決了碘系偏振層的缺點的同時，可利用優點。

碘系偏振層可為碘系PVA偏振層。碘系PVA偏振層是其中碘系材料在拉伸PVA膜或塗佈PVA偏振層中取向的偏振層。

根據本申請案，即使在應用如上所述具有弱耐久性的碘系偏振層時，亦可在有效防止紅化現象的同時利用偏振層的優點，但在本申請案中應用的偏振層的種類並非僅限於碘系偏振層。

在本申請案的實例中應用的偏振層是碘系PVA偏振層，並且此種偏振層通常是藉由對PVA圓碟膜(disc film)執行染色及拉伸而生產的。在PVA偏振層的生產製程中，視情況亦可執行另外的製程(例如，溶脹、交聯、洗滌及/或補色(complementary color)製程)，並且藉由此類製程生產PVA偏振層的製程是眾所習知的。

在一個實例中，可使用包含鋅組分的碘系PVA偏振層作為偏振層，以確保光學層疊體的耐久性、特別是高溫可靠性。此處，鋅組分由鋅及/或鋅離子等例示。PVA偏振層亦可包含鉀組分(例如，鉀或鉀離子)作為附加組分。若使用含有此類組分的偏振層，則可提供一種即使在高溫條件下亦穩定地保持耐久性的光學層疊體。

可進一步調整鉀及/或鋅組分的比率。舉例而言，在一個實例中，PVA偏振層中所包含的鉀組分(K)及鋅組分(Zn)的比率(K/Zn)可在0.2至8的範圍內。在另一實例中，比率(K/Zn)可為約0.4或大於0.4、0.6或大於0.6、0.8或大於0.8、1或大於 1、1.5或大於1.5、2或大於2、或2.5或大於2.5，且可為7.5或小於7.5、7或小於7、6.5或小於6.5、6或小於6、5.5或小於5.5、約5或小於5、約4.5或小於4.5、或約4或小於4。所述比率可為莫耳比或重量比。

PVA偏振層中所包含的鉀組分的含量可為約0.1重量%至2重量%。在另一實例中，鉀組分的比率可為約0.15重量%或大於0.15重量%、約0.2重量%或大於0.2重量%、約0.25重量%或大於0.25重量%、約0.3重量%或大於0.3重量%、約0.35重量%或大於0.35重量%、0.4重量%或大於0.4重量%、或約0.45重量%或大於0.45重量%、約0.5重量%或大於0.5重量%、約0.55重量%或大於0.55重量%、約0.6重量%或大於0.6重量%、約0.65重量%或大於0.65重量%、約0.7重量%或大於0.7重量%、約0.75重量%或大於0.75重量%、或約0.8重量%或大於0.8重量%，且可為約1.95重量%或小於1.95重量%、約1.9重量%或小於1.9重量%、約1.85重量%或小於1.85重量%、約1.8重量%或小於1.8重量%、約1.75重量%或小於1.75重量%、約1.7重量%或小於1.7重量%、約1.65重量%或小於1.65重量%、約1.6重量%或小於1.6重量%、約1.55重量%或小於1.55重量%、約1.5重量%或小於1.5重量%、約1.45重量%或小於1.45重量%、約1.4重量%或小於1.4重量%、約1.35重量%或小於1.35重量%、約1.3重量%或小於1.3重量%、約1.25重量%或小於1.25重量%、約1.2重量%或小於1.2重量%、約1.15重量%或小於1.15重量%、約1.1重量%或小於1.1 重量%、約1.05重量%或小於1.05重量%、約1重量%或小於1重量%、約0.95重量%或小於0.95重量%、約0.9重量%或小於0.9重量%、或約0.85重量%或小於0.85重量%左右。

在一個實例中，可包括鉀組分及鋅組分的比率以滿足以下方程式3。

[方程式3]0.70至1=1/(1+0.025d/R)

在方程式3中，d是PVA偏振層的厚度(微米)，並且R是偏振層中含有的鉀組分的重量比(K，單位：重量%)與鋅組分的重量比(Zn，單位：重量%)的比率(K/Zn)。

藉由在偏振層中包含鉀組分及鋅組分，可提供一種在高溫下具有優異可靠性的偏振層。

在另一實例中，方程式3中1/(1+0.025d/R)的值亦可為約0.75或大於0.75、0.8或大於0.8、或0.85或大於0.85，並且1/(1+0.025d/R)的值亦可為約0.97或小於0.97、約0.95或小於0.95、或約0.93或小於0.93左右。

在上述細節中，可以在本文中的實例中描述的方式量測鉀及/或鋅組分的含量。

在本申請案的實例中應用的偏振層可為根據用於生產偏振層的已知方法而生產的偏振層。此外，在本申請案中，當旨在將包含鉀及/或鋅組分的偏振層用作偏振層時，可藉由控制用於生產偏振層的已知製程中的製程條件使得鋅及/或鉀可包含在偏振層中 來生產偏振層。

如上所述，PVA偏振層通常藉由對PVA膜(圓碟膜)進行染色及拉伸來生產，其中視情況，可在PVA偏振層的生產製程中進一步執行溶脹、交聯、洗滌及/或補色製程。拉伸製程可在單獨的製程中執行，或者亦可與例如染色、溶脹及/或交聯等其他製程同時執行。在此種生產製程中，應用處理溶液(例如，染色溶液、交聯溶液、溶脹溶液、洗滌溶液及/或補色溶液)，其中藉由控制此處理溶液的組分，可判斷是否包含鉀及/或鋅組分，或者可調整比率等。

在染色製程中，各向異性吸收材料可被吸附及/或取向至PVA膜。必要時，此種染色製程可與拉伸製程一起執行。可藉由將膜浸入含有各向異性吸收材料的溶液(例如，碘溶液)中來執行染色。作為碘溶液，可使用藉由碘(I₂)及作為助溶劑的碘化化合物含有碘離子的水溶液等。作為碘化化合物，可使用例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫或碘化鈦等。可鑑於偏振層的所需光學特性來調整碘溶液中碘及/或碘離子(iodide ion)的濃度，並且此種調整方式是已知的。通常，染色溶液(碘溶液)中的碘含量可為約0.01重量%至5重量%左右，並且碘化化合物的濃度可為約0.01重量%至10重量%左右。在另一實例中，碘含量可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、或0.15重量%或大於0.15重量%，並且亦可為4.5重量%或小於4.5重量%、4重量%或小於 4重量%、3.5重量%或小於3.5重量%、3重量%或小於3重量%、2.5重量%或小於2.5重量%、2重量%或小於2重量%、1.5重量%或小於1.5重量%、1重量%或小於1重量%、或0.5重量%或小於0.5重量%左右。在另一實例中，碘化化合物的濃度可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、0.5重量%或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、1.5重量%或大於1.5重量%、或2重量%或大於2重量%，並且亦可為9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、7重量%或小於7重量%、6重量%或小於6重量%、5重量%或小於5重量%、4重量%或小於4重量%、或3重量%或小於3重量%左右。在染色製程中，碘溶液的溫度通常為約20℃至50℃或25℃至40℃左右，並且浸漬時間通常為約10秒至300秒、或20秒至240秒左右，但並非僅限於此。

儘管拉伸製程一般藉由單軸拉伸執行，但必要時，亦可應用其他類型的拉伸，例如雙軸拉伸。此種拉伸亦可與以下將描述的染色製程及/或交聯製程一起執行。拉伸方法不受特別限制，且舉例而言，可應用濕法(wet method)。舉例而言，在此濕法中，通常在染色後執行拉伸。拉伸可與交聯一起執行，並且亦可執行多次或分多階段執行。上述碘化化合物可包含在應用於濕拉伸方法的處理溶液中。碘化化合物在處理溶液中的濃度可為約0.01重量%至10重量%左右。在另一實例中，碘化化合物的濃度可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、0.5重量% 或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、1.5重量%或大於1.5重量%、或2重量%或大於2重量%，並且亦可為9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、7重量%或小於7重量%、6重量%或小於6重量%、5重量%或小於5重量%、4重量%或小於4重量%、或3.5重量%或小於3.5重量%左右。在拉伸時，處理溫度通常在25℃或大於25℃、30℃至85℃、或40℃至70℃左右的範圍內，並且處理時間通常為10秒至800秒、或30秒至500秒，但並非僅限於此。在拉伸製程中，可鑑於取向特性等來調整總延伸比(total draw ratio)，其中以PVA膜的原始長度計，總延伸比可為3至10倍、4至8倍或5至7倍，但並非僅限於此。此處，當在除拉伸製程之外的其他製程(例如，溶脹、染色及/或交聯製程)中亦涉及拉伸時，總延伸比可指包括各製程中的拉伸的累積延伸比。可鑑於偏振層的取向、可加工性或拉伸切割可能性等將此種總延伸比調整至恰當的範圍。

在偏振層的生產製程中，除染色及拉伸之外，還可執行溶脹製程，所述溶脹製程一般在染色製程之前執行。可藉由溶脹來洗滌PVA膜表面上的污染物或抗結塊劑，藉此亦具有能夠減少不均勻性(例如，染色偏差)的效果。

在溶脹製程中，通常可使用水、蒸餾水或純水等。相關處理液的主要組分是水，並且必要時，可在其中包含少量碘化化合物(例如，碘化鉀)或添加劑(例如，界面活性劑或醇)等。溶脹製程中的處理溫度通常為20℃至45℃左右、或20℃至40℃左右， 但並非僅限於此。由於溶脹偏差可導致染色偏差，因此可調整製程變數，使得盡可能地抑制此種溶脹偏差的發生。視情況，亦可在溶脹製程中執行適當的拉伸。以PVA系膜的原始長度計，延伸比可為6.5倍或小於6.5倍、1.2倍至6.5倍、2倍至4倍、或2倍至3倍。溶脹製程中的拉伸可將在溶脹製程之後執行的拉伸製程中的拉伸控制為小，並且可進行控制使得膜不會發生拉伸故障。

可例如使用交聯劑(例如，硼化合物)來執行交聯製程。交聯製程的次序不受特別限制，並且所述製程可例如與染色及/或拉伸製程一起執行，或者可單獨進行。交聯製程亦可執行若干次。作為硼化合物，可使用硼酸或硼砂。硼化合物一般可以水溶液或水及有機溶劑的混合溶液的形式使用，並且通常使用硼酸的水溶液。鑑於其交聯度及耐熱性，可在恰當的範圍內選擇硼酸水溶液中的硼酸濃度。例如碘化鉀等碘化化合物可包含在硼酸等的水溶液中。碘化化合物在硼酸水溶液中的濃度可為約0.01重量%至10重量%左右。在另一實例中，碘化化合物的濃度可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、0.5重量%或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、1.5重量%或大於1.5重量%、或2重量%或大於2重量%，並且亦可為9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、7重量%或小於7重量%、6重量%或小於6重量%、5重量%或小於5重量%、4重量%或小於4重量%、或3.5重量%或小於3.5重量%左右。可藉由將PVA膜浸入硼酸水溶液等中來執行交聯製程，並且在此製程中，處理溫度通常在25℃ 或大於25℃、30℃至85℃、或30℃至60℃的範圍內，並且處理時間通常為約5秒至800秒或約8秒至500秒左右。

在偏振層的生產製程中，可執行金屬離子處理，所述金屬離子處理一般可被稱為補色製程。此種處理例如藉由將PVA膜浸入含有金屬鹽的水溶液中來執行。藉此，例如金屬離子等金屬組分可包含在偏振層中，並且在此製程中，可調整金屬組分的類型或比率。作為可應用的金屬離子，可例示過渡金屬(例如，鈷、鎳、鋅、鉻、鋁、銅、錳或鐵)的金屬離子，並且亦可藉由在所述過渡金屬中選擇合適的種類來調整色調。

為生產含有鋅的偏振層，可在應用於補色製程中的處理液(含有金屬鹽的水溶液)中包含鋅組分。然而，必要時，亦可在其他製程期間應用鋅組分，其中鋅組分亦可包含在另一種處理液(例如，染色溶液或交聯溶液、或單獨的處理液)中。可藉由將選自例如氯化鋅、碘化鋅、硫酸鋅、硝酸鋅、乙酸鋅等中的一或多種鋅鹽溶解在水溶液中來引入鋅組分。在此種情況下，可將鋅鹽的濃度調整至約0.01重量%至10重量%左右，以達成所需的鋅含量。在另一實例中，鋅鹽的濃度可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、0.5重量%或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、1.5重量%或大於1.5重量%、或2重量%或大於2重量%，或者亦可為9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、7重量%或小於7重量%、6重量%或小於6重量%、5重量%或小於5重量%、4重量%或小於4重量%、或3重量%或 小於3重量%左右。必要時，鉀組分亦可包含在處理液中。鉀組分可由例如碘化鉀等鉀鹽例示。鉀鹽的濃度可為約0.01重量%至10重量%左右。在另一實例中，所述濃度亦可為0.05重量%或大於0.05重量%、0.1重量%或大於0.1重量%、0.5重量%或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、1.5重量%或大於1.5重量%、2重量%或大於2重量%、2.5重量%或大於2.5重量%、3重量%或大於3重量%、3.5重量%或大於3.5重量%、4重量%或大於4重量%、4.5重量%或大於4.5重量%、或5重量%或大於5重量%，或者亦可為9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、7重量%或小於7重量%、或6重量%或小於6重量%左右。藉由在補色製程中應用如上所述的鋅鹽或鉀鹽，可在偏振層中包含所需水準的鋅及鉀組分。

在偏振層的生產製程中，可在染色、交聯及拉伸之後執行洗滌製程。通常，此洗滌製程可在補色製程之前執行，所述洗滌製程可用水執行。必要時，在應用於洗滌製程的水中，亦可以恰當的量摻合其他組分，例如碘、碘化物、其他金屬鹽、或液體醇(例如，甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇或丙醇)。

在此類製程之後，可執行乾燥製程以生產偏振層。舉例而言，鑑於偏振層等所需的水分含量，可在恰當的溫度下執行乾燥製程達適當的時間，並且此種條件不受特別限制。

如上所述，在上述製程中，鋅及/或鉀組分可包含在偏振層中。然而，生產包含鋅及/或鉀組分的偏振層的方式並非僅限於 以上所述。舉例而言，在應用於溶脹、染色、交聯、拉伸及/或洗滌處理的處理液中包含鋅鹽，藉此在除補色製程之外的另一製程中，鋅組分亦可包含在偏振層中。此外，由於例如碘化鉀等鉀組分亦可包含在應用於溶脹、染色、交聯、拉伸及/或洗滌處理等的處理液中，因此在此製程中亦可調整鉀組分的比率。在熟習此項技術者恰當地採用用於生產偏振層的一般方法時，可依據目的在偏振層中包含所需水準的鋅及/或鉀組分。

偏振層的厚度不受限制。在本申請案中，由於可應用眾所習知的偏振層，因此應用厚度亦為通常的厚度。通常，偏振層的厚度可在5微米至80微米的範圍內，但並非僅限於此。

本申請案的光學層疊體包括抗紅化層。

本申請案是有關於一種包括抗紅化層的光學層疊體或顯示器裝置，或是有關於抗紅化層。

如以上所提及，術語抗紅化層是能夠防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學層疊體及/或光學功能層的紅化的層。預期光學層疊體及/或光學功能層的紅化是由熱量及/或濕氣引起的、或者至少由熱量及/或濕氣加速。隨著顯示器裝置的應用擴展，光學層疊體及/或光學功能層越來越多地暴露於更高的溫度，因此光學功能層或光學層疊體(其中原來紅化並不是問題)在新的應用中經常引起紅化。

因此，在阻擋施加至光學層疊體及/或光學功能層的熱量、降低所施加的熱量的程度或減慢熱傳遞速率方面發揮作用的層可 被應用為抗紅化層。

在一個實例中，抗紅化層是以下將闡述的含空隙層(多孔層)、或包括含空隙層(多孔層)的層疊體，其可為充分鄰近光學功能層存在的層。藉由將抗紅化層製成含空隙層(多孔層)或包括含空隙層(多孔層)的層，可有效地阻擋熱傳遞。此處，光學功能層可為引起紅化的層，如同前述碘系偏振層。此外，充分鄰近光學功能層存在抗紅化層意指以下情況：調整抗紅化層的位置及抗紅化層與光學功能層之間的距離，使得抗紅化層能夠以能夠防止、減輕、減少、抑制及/或延遲紅化的水準阻擋向光學功能層的熱傳遞。舉例而言，即使存在具有與本申請案的抗紅化層的配置(以下進行闡述)類似的配置的層，此種層亦不能被稱為在本申請案中提及的抗紅化層，除非此種層存在於能夠阻擋向光學功能層的熱傳遞的位置及距離處。舉例而言，充分鄰近存在可指以下情況：引起紅化的光學功能層與抗紅化層之間的距離在約90微米內、在約85微米內、在約80微米內、在約75微米內、在約70微米內、在約65微米內、在約60微米內、在約55微米內、在約50微米內、在約45微米內、在約40微米內、在約35微米內、在約30微米內、在約25微米內、在約20微米內、在約15微米內、在約10微米內、在約5微米內、在約1微米內、在約0.9微米內、在約0.8微米內、在約0.7微米內、在約0.6微米內、在約0.5微米內、在約0.4微米內、在約0.3微米內、或在約0.2微米內。此外，充分鄰近亦包括光學功能層與抗紅化層彼此接觸的情況，其中距離為0微米。 因此，距離的下限為0微米。在另一實例中，距離亦可為約0.01微米或大於0.01微米、約0.02微米或大於0.02微米、約0.03微米或大於0.03微米、約0.04微米或大於0.04微米、約0.05微米或大於0.05微米、約0.09微米或大於0.09微米、或約0.1微米或大於0.1微米左右。此處，所述距離可為抗紅化層及光學功能層的相面向的表面(facing surfaces)之間的最短間隔、最大間隔或平均間隔。

在一個實例中，抗紅化層是以下將闡述的含空隙層(多孔層)、或包括含空隙層(多孔層)的層疊體，其可為具有能夠防止光學功能層的紅化的足夠厚度的層。亦即，即使在將抗紅化層製成含空隙層(多孔層)或包括含空隙層(多孔層)的層時，亦無法有效地阻擋熱傳遞，除非確保合適的厚度。舉例而言，即使存在具有與本申請案的抗紅化層的配置(以下進行闡述)類似的配置的層，此種層亦不能被稱為在本申請案中提及的抗紅化層，除非此種層具有能夠阻擋向光學功能層的熱傳遞的厚度。在一個實例中，足夠的厚度亦可為例如約200奈米或大於200奈米、約250奈米或大於250奈米、約300奈米或大於300奈米、約350奈米或大於350奈米、約400奈米或大於400奈米、約450奈米或大於450奈米、約500奈米或大於500奈米、約550奈米或大於550奈米、約600奈米或大於600奈米、約650奈米或大於650奈米、約700奈米或大於700奈米、約750奈米或大於750奈米、約800奈米或大於800奈米、約850奈米或大於850奈米、或約900奈米或大於 900奈米左右。厚度的上限不受特別限制。抗紅化層越厚，則防止、減輕、減少、抑制及/或延遲熱量的效果被越好地改善。因此，可鑑於光學層疊體等所需的厚度來選擇抗紅化層或含空隙層(多孔層)的厚度的上限，只要確保防止、減輕、減少、抑制及/或延遲熱量的效果即可，對此並無任何特殊限制。在一個實例中，抗紅化層或含空隙層(多孔層)的厚度亦可為約3,000奈米或小於3,000奈米、約2,900奈米或小於2,900奈米、約2,800奈米或小於2,800奈米、約2,700奈米或小於2,700奈米、約2,600奈米或小於2,600奈米、約2,500奈米或小於2,500奈米、約2,400奈米或小於2,400奈米、約2,300奈米或小於2,300奈米、約2,200奈米或小於2,200奈米、約2,100奈米或小於2,100奈米、約2,000奈米或小於2,000奈米、或約1,950奈米或小於1,950奈米左右。

在一個實例中，抗紅化層可為具有預定範圍內的熱擴散率的層。舉例而言，抗紅化層可具有一定水準的熱擴散率，使得在聚合物膜上形成相關的抗紅化層以生產層疊體之後，相對於單獨的聚合物膜的熱擴散率，在95℃下關於層疊體量測的熱擴散率為90%或小於90%。

在此種情況下，抗紅化層可滿足以下方程式4。

在本申請案中，術語抗紅化層可指含空隙層(多孔層)自身、或至少包括含空隙層(多孔層)的層疊體。因此，在以下方程式4中提及的抗紅化層可為含空隙層(多孔層)或包括所述含空隙層的層疊體。

在方程式4中，H_L為聚合物膜及形成於所述聚合物膜的一側上的所述抗紅化層的層疊體的熱擴散率，且H_P為所述聚合物膜的熱擴散率。

在本說明書中，用於量測熱擴散率的聚合物膜的類型不受特別限制。舉例而言，上述方程式4中的聚合物膜可為厚度為約60微米的三乙醯基纖維素(triacetyl cellulose，TAC)膜。在另一實例中，層疊體的熱擴散率(95℃)可為TAC膜的熱擴散率(95℃)(H_P)的約89%或小於89%左右、約88%或小於88%左右、約87%或小於87%左右、約86%或小於86%左右、約85%或小於85%左右、約84%或小於84%左右、約83%或小於83%左右、約82%或小於82%左右、約81%或小於81%左右、約80%或小於80%左右、約79%或小於79%左右、約78%或小於78%左右、約77%或小於77%左右、約76%或小於76%左右、約75%或小於75%左右、約74%或小於74%左右、約73%或小於73%左右、約72%或小於72%左右、約71%或小於71%左右、約70%或小於70%左右、約69%或小於69%左右、約68%或小於68%左右、約67%或小於67%左右、約66%或小於66%左右、或約65%或小於65%左右，或者亦可為TAC膜的熱擴散率(95℃)(H_P)的約10%或大於10%左右、約11%或大於11%左右、約12%或大於12%左右、約13%或大於13%左右、約14%或大於14%左右、約15%或大於15%左右、 約16%或大於16%左右、約17%或大於17%左右、約18%或大於18%左右、約19%或大於19%左右、約20%或大於20%左右、約21%或大於21%左右、約22%或大於22%左右、約23%或大於23%左右、約24%或大於24%左右、約25%或大於25%左右、約26%或大於26%左右、約27%或大於27%左右、約28%或大於28%左右、約29%或大於29%左右、約30%或大於30%左右、約31%或大於31%左右、約32%或大於32%左右、約33%或大於33%左右、約34%或大於34%左右、約35%或大於35%左右、約36%或大於36%左右、約37%或大於37%左右、約38%或大於38%左右、約39%或大於39%左右、約40%或大於40%左右、約41%或大於41%左右、約42%或大於42%左右、約43%或大於43%左右、約44%或大於44%左右、約45%或大於45%左右、約46%或大於46%左右、約47%或大於47%左右、約48%或大於48%左右、約49%或大於49%左右、約50%或大於50%左右、約51%或大於51%左右、約52%或大於52%左右、約53%或大於53%左右、約54%或大於54%左右、約55%或大於55%左右、約56%或大於56%左右、約57%或大於57%左右、約58%或大於58%左右、約59%或大於59%左右、或約60%或大於60%左右。

因此，在方程式4中乘以H_P的係數可為0.89、0.88、0.87、0.86、0.85、0.84、0.83、0.82、0.81、0.80、0.79、0.78、0.77、0.76、0.75、0.74、0.73、0.72、0.71、0.70、0.69、0.68、0.67、0.66或0.65。在方程式4中，H_L亦可為約0.10×H_P或大於0.10×H_P、約0.11×H_P 或大於0.11×H_P、約0.12×H_P或大於0.12×H_P、約0.13×H_P或大於0.13×H_P、約0.14×H_P或大於0.14×H_P、約0.15×H_P或大於0.15×H_P、約0.16×H_P或大於0.16×H_P、約0.17×H_P或大於0.17×H_P、約0.18×H_P或大於0.18×H_P、約0.19×H_P或大於0.19×H_P、約0.20×H_P或大於0.20×H_P、約0.21×H_P或大於0.21×H_P、約0.22×H_P或大於0.22×H_P、約0.23×H_P或大於0.23×H_P、約0.24×H_P或大於0.24×H_P、約0.25×H_P或大於0.25×H_P、約0.26×H_P或大於0.26×H_P、約0.27×H_P或大於0.27×H_P、約0.28×H_P或大於0.28×H_P、約0.29×H_P或大於0.29×H_P、約0.30×H_P或大於0.30×H_P、約0.31×H_P或大於0.31×H_P、約0.32×H_P或大於0.32×H_P、約0.33×H_P或大於0.33×H_P、約0.34×H_P或大於0.34×H_P、約0.35×H_P或大於0.35×H_P、約0.36×H_P或大於0.36×H_P、約0.37×H_P或大於0.37×H_P、約0.38×H_P或大於0.38×H_P、約0.39×H_P或大於0.39×H_P、約0.40×H_P或大於0.40×H_P、約0.41×H_P或大於0.41×H_P、約0.42×H_P或大於0.42×H_P、約0.43×H_P或大於0.43×H_P、約0.44×H_P或大於0.44×H_P、約0.45×H_P或大於0.45×H_P、約0.46×H_P或大於0.46×H_P、約0.47×H_P或大於0.47×H_P、約0.48×H_P或大於0.48×H_P、約0.49×H_P或大於0.49×H_P、約0.50×H_P或大於0.50×H_P、約0.51×H_P或大於0.51×H_P、約0.52×H_P或大於0.52×H_P、約0.53×H_P或大於0.53×H_P、約0.54×H_P或大於0.54×H_P、約0.55×H_P或大於0.55×H_P、約0.56×H_P或大於0.56×H_P、約0.57×H_P或大於0.57×H_P、約0.58×H_P或大於0.58×H_P、約0.59×H_P或大於0.59×H_P、或約0.60×H_P或大於0.60×H_P。

可控制抗紅化層或含空隙層(多孔層)的表面特性。為鄰近光學功能層(其紅化應被防止、減輕、減小、抑制及/或延遲)定位，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可直接貼附至光學功能層，或者可貼附至光學層疊體的鄰近光學功能層的另一層。在此種情況下，藉由控制抗紅化層或含空隙層(多孔層)的表面特性，相關的抗紅化層或含空隙層(多孔層)可貼附至光學功能層或另一層，同時與其具有優異的黏著性，藉此更有效地防止、減輕、減少、抑制及/或延遲紅化。舉例而言，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可包括在藉由原子力顯微鏡(atomic force microscope，AFM)量測時比表面積為約0.02或大於0.02的至少一個表面。舉例而言，抗紅化層的主表面或含空隙層(多孔層)的主表面中的至少一者、或兩個表面皆可具有上述比表面積。在一個實例中，具有至少所述比表面積的抗紅化層或含空隙層(多孔層)的表面可為面向光學功能層、或貼附抗紅化層或含空隙層(多孔層)的另一層的表面。在另一實例中，抗紅化層或含空隙層(多孔層)的比表面積可為約0.022或大於0.022、約0.024或大於0.024、約0.026或大於0.026、約0.028或大於0.028、約0.03或大於0.03、約0.032或大於0.032、或約0.034或大於0.034，或者亦可為約0.5或小於0.5、約0.45或小於0.45、約0.4或小於0.4、約0.35或小於0.35、約0.3或小於0.3、或約0.25或小於0.25左右。可藉由如在實例中描述的方法來量測比表面積。

抗紅化層或含空隙層(多孔層)對於紅外線可表現出所需 水準的反射率。由於熱量亦以紅外線的形式傳遞，因此即使在因此顯示出恰當的反射率時，亦可確保所需的抗紅化特性。在本說明書中，術語紅外線可指具有在大約800奈米至1,300奈米範圍內的任一波長、或在所述範圍中的一些區域的範圍內的波長、或整個區域的波長的電磁波。因此，紅外反射率可為對在800奈米至1,300奈米範圍內的任一波長的反射率，或者可為對所述範圍中的一些區域的範圍或整個區域的平均反射率。可根據在本文中的實例中描述的方式量測反射率。抗紅化層或含空隙層(多孔層)可具有約2%或大於2%的紅外反射率。在另一實例中，反射率可為約2.5%或大於2.5%、約3%或大於3%、約3.5%或大於3.5%、或約4%或大於4%。由於此意指反射率的值越高，則抗紅化層或含空隙層(多孔層)可恰當地阻擋及/或延遲施加至光學層疊體及/或光學功能層的熱量，因此上限不受特別限制。作為範例，紅外反射率亦可為約10%或小於10%、約9%或小於9%、約8%或小於8%、約7%或小於7%、約6%或小於6%、或約5%或小於5%左右。

可應用各種層作為抗紅化層或含空隙層(多孔層)，對此並無特別限制，只要所述層具有可應用於光學層疊體的合適透射率並具有上述特性(熱擴散率、比表面積及/或反射率)即可。若所述層具有上述特性，則可防止、減輕、減少、抑制及/或延遲紅化，使得只要適當地確保透射率，則所有所述層理論上皆可應用於本申請案中。此處，光學層疊體中所需的透射率可為約70%或大於70%、約75%或大於75%、約80%或大於80%、約85%或大於 85%、或約90%或大於90%。透射率的值越高越合適，使得其上限不受特別限制。舉例而言，透射率可為約100%或小於100%、約95%或小於95%、或約90%或小於90%左右。此處，透射率可為對可見光區域中的光(例如，在大約380奈米至780奈米範圍中的任一波長、或者在所述範圍中的預定區域中的波長、或整個區域的波長)的透射率或平均透射率。當應用含空隙層(多孔層)或包括含空隙層(多孔層)的層疊體作為抗紅化層時，熱傳遞可被存在於抗紅化層中的空隙有效地阻擋，但由於所述空隙在光學層疊體中散射或繞射光，因此在透射率方面可能是不利的。然而，在本申請案中，藉由如下所述控制空隙的形狀，透射率不會由於光的散射或繞射而下降，或者可至少將此種下降限制於在使用中不存在問題的水準。

作為抗紅化層，舉例而言，可應用含空隙層(多孔層)或包括含空隙層(多孔層)的層。亦即，如上所述，在本申請案中，抗紅化層可指含空隙層(多孔層)自身，或者亦可指包括含空隙層(多孔層)及其他層的層疊體，只要其滿足防止紅化的目的即可。在一個實例中，抗紅化層可藉由包括含空隙層(多孔層)而表現出上述特性(熱擴散率、比表面積及/或紅外反射率)。因此，上述熱擴散率、比表面積及/或紅外反射率可能是針對含空隙層(多孔層)而言，或者亦可能是針對至少包括含空隙層(多孔層)的層疊體而言。此處，抗紅化層以及含空隙層(多孔層)中所包括的其他元件的類型不受特別限制，其可為例如構成光學層疊體的元件，例如偏 振層或其保護膜及延遲膜。

含空隙層是在其中包括至少一或多個空隙的層，其中抗紅化層可藉由該些空隙執行防止、減輕、減少、抑制及/或延遲熱傳遞的功能。在本申請案中，當含空隙層被稱為多孔層時，至少二或更多個空隙被包括在含空隙層內。為確保例如熱擴散率、比表面積及/或反射率等上述物理性質，重要的是使抗紅化層包括含空隙層(多孔層)。此時，含空隙層(多孔層)中所包括的空隙的形狀不受特別限制，所述形狀可為實質上球形的或橢圓形的，或者其他各種類型的空隙皆可被應用。

空隙的大小(直徑)可在大約0.5奈米至100奈米的範圍內。當相關的空隙是球形的時，空隙的大小意指粒徑，而當所述空隙不是球形的時，假定空隙具有相同體積球體(same volume sphere)，且此時所述大小是球體的粒徑。在另一實例中，空隙的大小可為約1奈米或大於1奈米、約2奈米或大於2奈米、約3奈米或大於3奈米、約4奈米或大於4奈米、約5奈米或大於5奈米、約6奈米或大於6奈米、約7奈米或大於7奈米、約8奈米或大於8奈米、約9奈米或大於9奈米、約10奈米或大於10奈米、約11奈米或大於11奈米、約12奈米或大於12奈米、約13奈米或大於13奈米、約14奈米或大於14奈米、約15奈米或大於15奈米、約16奈米或大於16奈米、約17奈米或大於17奈米、約18奈米或大於18奈米、約19奈米或大於19奈米、約20奈米或大於20奈米、約21奈米或大於21奈米、約22奈米或大 於22奈米、約23奈米或大於23奈米、約24奈米或大於24奈米、約25奈米或大於25奈米、約26奈米或大於26奈米、約27奈米或大於27奈米、約28奈米或大於28奈米、約29奈米或大於29奈米、約31奈米或大於31奈米、約32奈米或大於32奈米、約33奈米或大於33奈米、約34奈米或大於34奈米、約35奈米或大於35奈米、約36奈米或大於36奈米、約37奈米或大於37奈米、或約38奈米或大於38奈米，或者亦可為約99奈米或小於99奈米、98奈米或小於98奈米、約97奈米或小於97奈米、約96奈米或小於96奈米、約95奈米或小於95奈米、約94奈米或小於94奈米、約93奈米或小於93奈米、約92奈米或小於92奈米、約91奈米或小於91奈米、約90奈米或小於90奈米、約89奈米或小於89奈米、約88奈米或小於88奈米、約87奈米或小於87奈米、約86奈米或小於86奈米、約85奈米或小於85奈米、約84奈米或小於84奈米、約83奈米或小於83奈米、約82奈米或小於82奈米、約81奈米或小於81奈米、約79奈米或小於79奈米、約78奈米或小於78奈米、約77奈米或小於77奈米、約76奈米或小於76奈米、約75奈米或小於75奈米、約74奈米或小於74奈米、約73奈米或小於73奈米、約72奈米或小於72奈米、約71奈米或小於71奈米、約69奈米或小於69奈米、約68奈米或小於68奈米、約67奈米或小於67奈米、約66奈米或小於66奈米、約65奈米或小於65奈米、約64奈米或小於64奈米、約63奈米或小於63奈米、約62奈米或小 於62奈米、約61奈米或小於61奈米、約59奈米或小於59奈米、約58奈米或小於58奈米、約57奈米或小於57奈米、約56奈米或小於56奈米、約55奈米或小於55奈米、約54奈米或小於54奈米、約53奈米或小於53奈米、約52奈米或小於52奈米、約51奈米或小於51奈米、約50奈米或小於50奈米、約49奈米或小於49奈米、約48奈米或小於48奈米、約47奈米或小於47奈米、約46奈米或小於46奈米、或約45奈米或小於45奈米左右。

為使抗紅化層的效果最大化以確保上述物理性質(熱擴散率、比表面積及/或反射率等)並保持透射率，可對含空隙層(多孔層)中空隙的位置或分佈進行控制。

舉例而言，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可在小角度X射線散射(small angle X-ray scattering，SAXS)分析的散射強度的對數值曲線圖中在0.06奈米^-1(nm^-1)至0.209奈米^-1的散射向量範圍內表現出至少一個峰值。所述特性是反映空隙之間的平均距離的特性。舉例而言，表現出峰值的散射向量變小的事實意指抗紅化層或含空隙層(多孔層)中的空隙之間的平均距離變得更遠的趨勢，而相反地，所述散射向量變大的事實意指所述空隙之間的平均距離變得更近的趨勢。

當散射向量為約0.06奈米^-1或大於0.06奈米^-1時，在特性上是有利的，乃因由於空隙在抗紅化層或含空隙層(多孔層)中被恰當地緻密化，所施加的熱量可被阻擋或減少。此外，當向量為 約0.209奈米^-1或小於0.209奈米^-1時，空隙在抗紅化層或含空隙層(多孔層)中以恰當的間隔排列，使得抗紅化層或含空隙層(多孔層)等的表面粗糙度保持在恰當的水準，此可使得更容易將抗紅化層或含空隙層(多孔層)應用至光學層疊體。此外，抗紅化層的透射率亦可保持在散射向量範圍內的恰當範圍中。在另一實例中，自其辨識出峰值的散射向量可為約0.065奈米^-1或大於0.065奈米^-1、約0.07奈米^-1或大於0.07奈米^-1、約0.075奈米^-1或大於0.075奈米^-1、約0.08奈米^-1或大於0.08奈米^-1、約0.085奈米^-1或大於0.085奈米^-1、約0.09奈米^-1或大於0.09奈米^-1、約0.095奈米^-1或大於0.095奈米^-1、或0.1奈米^-1或大於0.1奈米^-1，且亦可為約0.205奈米^-1或小於0.205奈米^-1、約0.2奈米^-1或小於0.2奈米^-1、約0.19奈米^-1或小於0.19奈米^-1、約0.185奈米^-1或小於0.185奈米^-1、約0.18奈米^-1或小於0.18奈米^-1、或約0.16奈米^-1或小於0.16奈米^-1。

此處，峰值是在藉由分析辨識出的散射強度的對數值曲線圖中的極值或拐點，散射強度的對數值向上凸出。散射向量是由以下方程式5定義的值，其中可在此散射向量的範圍內辨識出至少一或多個峰值。

[方程式5]q=4πsin(θ/λ)

在方程式5中，q是散射向量，θ是散射角度的1/2倍值，並且λ是照射的X射線的波長(單位：奈米)。

執行小角度X射線散射評估的方式是依據對本文中的實例的描述。

抗紅化層或含空隙層(多孔層)可具有1.5或小於1.5的A值、在0至0.01範圍內的B值及在0至0.001範圍內的C值，所述值滿足以下方程式6。

在方程式6中，n(λ)是抗紅化層或含空隙層(多孔層)在波長λ下的折射率，並且λ是在300奈米至1800奈米範圍內的任一波長。

方程式6擬合根據所謂的柯西(Cauchy)模型藉由抗紅化層或含空隙層(多孔層)的橢偏儀法量測的偏振的橢圓率。當抗紅化層或含空隙層(多孔層)具有在滿足以上方程式6的上述範圍內的A、B及C值時，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可具有可表達紅化功能的空隙特性。以上方程式6反映抗紅化層或含空隙層(多孔層)的折射率特性。抗紅化層或含空隙層(多孔層)的總折射率由構成抗紅化層或含空隙層(多孔層)的空隙的折射率及除空隙之外的其他組分(例如，黏合劑)的折射率決定。因此，以上方程式6中的抗紅化層或含空隙層(多孔層)的A、B及C值可反映抗紅化層中的空隙的數量。在一個實例中，當A、B及/或C值在以上範圍內時，抗紅化層或含空隙層(多孔層)等的表面粗糙度保持在恰當的水準，而抗紅化層或含空隙層(多孔層)中的空隙 以能夠恰當阻擋或延遲熱量移動的水準存在，使得可更容易地執行將抗紅化層或含空隙層(多孔層)應用至光學層疊體。此外，在A、B及/或C值的範圍內，光學層疊體中的抗紅化層或含空隙層(多孔層)的透射率亦可穩定地保持。

在另一實例中，A值可為約1.1或大於1.1、約1.15或大於1.15、約1.2或大於1.2、約1.25或大於1.25、或約1.3或大於1.3。此處，在另一實例中，B值可為約0.0001或大於0.0001、約0.0002或大於0.0002、約0.0003或大於0.0003、約0.0004或大於0.0004、約0.0005或大於0.0005、約0.0006或大於0.0006、或約0.0007或大於0.0007，或者亦可為約0.009或小於0.009、約0.008或小於0.008、約0.007或小於0.007、約0.006或小於0.006、約0.005或小於0.005、或約0.004或小於0.004左右。此處，在另一實例中，C值可為約0.000001或大於0.000001、約0.000002或大於0.000002、約0.000003或大於0.000003、約0.000004或大於0.000004、約0.000005或大於0.000005、約0.000006或大於0.000006、約0.000007或大於0.000007、約0.000008或大於0.000008、約0.000009或大於0.000009、約0.00001或大於0.00001、約0.00002或大於0.00002、約0.00003或大於0.00003、約0.00004或大於0.00004、約0.00005或大於0.00005、約0.00006、或約0.00007或大於0.00007，或者亦可為約0.0009或小於0.0009、約0.0008或小於0.0008、約0.0007或小於0.0007、約0.0006或小於0.0006、約0.0005或小於0.0005、或約0.0004或小於0.0004左 右。

在方程式6中，λ可為在約300奈米至約1800奈米範圍內的任一波長，並且在一個實例中，λ可為約400奈米或大於400奈米、或約500奈米或大於500奈米，或者可為約1700奈米或小於1700奈米、約1600奈米或小於1600奈米、約1500奈米或小於1500奈米、約1400奈米或小於1400奈米、約1300奈米或小於1300奈米、約1200奈米或小於1200奈米、約1100奈米或小於1100奈米、約1000奈米或小於1000奈米、約900奈米或小於900奈米、約800奈米或小於800奈米、約700奈米或小於700奈米、或約600奈米或小於600奈米，或者可為約550奈米的波長範圍。滿足方程式6的抗紅化層或含空隙層(多孔層)可具有約1.5或小於1.5的折射率(基於550奈米的波長)，並且在另一實例中，折射率可為約1.1或大於1.1、或約1.15或大於1.15。

抗紅化層或含空隙層(多孔層)中空隙的體積分數(volume fraction)可為約0.1或大於0.1。當抗紅化層或含空隙層(多孔層)的總體積已經被轉換為1時，體積分數是空隙所佔據的空間體積的比率。在此範圍內，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可恰當地阻擋或減少熱傳遞。此外，在所述範圍內，光學層疊體中的抗紅化層或含空隙層(多孔層)的透射率亦可穩定地保持。體積分數可藉由用浮力法等確認抗紅化層或含空隙層(多孔層)的密度、質量及體積來量測，或者當如下所述藉由使用中空顆粒形成抗紅化層或含空隙層(多孔層)時，可藉由所應用的中空顆粒的量及 黏合劑的量等來確認所述體積分數。

可以各種方式形成抗紅化層或含空隙層(多孔層)。形成含有空隙的層的代表性方法是應用中空顆粒的方式。因此，在一個實例中，抗紅化層可至少包括黏合劑及中空顆粒。

藉由控制黏合劑及中空顆粒的殼部分的折射率、中空顆粒及其中的孔的大小分佈、中空顆粒的量等，可滿足上述特性(熱擴散率(方程式4)、表面特性(AFM的比表面積)、紅外反射率、可見光透射率、SAXS特性、體積分數及/或折射率特性)。

可應用各種類型的黏合劑，對此並無特別限制。舉例而言，作為黏合劑，可應用可適用於光學器件的各種可固化樹脂組成物。可適用於光學器件的樹脂包括例如丙烯酸系列樹脂、環氧系列樹脂及/或矽酮系列樹脂等，其中黏合劑可藉由施加樹脂或能夠形成樹脂的前驅物來形成。此種樹脂或前驅物可為可固化的，其可為例如藉由照射光(例如，紫外線或電子束)而固化的材料、藉由熱量而固化的材料、或藉由其他作用(例如，濕氣)而固化的材料。

作為黏合劑，可應用折射率(基於550奈米的波長)在大約1.1至1.6的範圍內的該些黏合劑。如上所述的滿足方程式6的抗紅化層可藉由將在此折射率範圍下的所述黏合劑與中空顆粒組合而容易地形成。在另一實例中，折射率可為約1.15或大於1.15、約1.2或大於1.2、約1.25或大於1.25、約1.3或大於1.3、約1.35或大於1.35、或約1.4或大於1.4，或者可為約1.55或小於1.55、或約1.5或小於1.5左右。

滿足此種折射率的典型黏合劑是丙烯酸黏合劑。抗紅化層的黏合劑可包括可聚合丙烯酸化合物的聚合單元。

在一個實例中，作為丙烯酸化合物，可使用：(甲基)丙烯酸烷基酯或(甲基)丙烯酸烷氧基酯，具有含1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的烷基或烷氧基；單官能丙烯酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯或(甲基)丙烯酸8-羥辛酯；雙官能丙烯酸酯，例如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羥基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二(甲基)丙烯酸酯、經己內酯改質的二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質的二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯醯基氧基乙基異氰脲酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質的六氫鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、經新戊二醇改質的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二(甲基)丙烯酸酯或9,9-雙[4-(2-丙烯醯基氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、經丙酸改質的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯 酸酯或三(甲基)丙烯醯基氧基乙基異氰脲酸酯；四官能丙烯酸酯，例如二甘油四(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五官能丙烯酸酯，例如經丙酸改質的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；以及六官能丙烯酸酯，例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、經己內酯改質的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(例如，異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯的反應產物)等。

作為多官能丙烯酸酯，可使用在工業上被稱為所謂的可光固化寡聚物的化合物，例如胺基甲酸酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯等。可選擇並使用該些化合物中的一或兩種或更多種恰當的種類。

用於形成抗紅化層或含空隙層(多孔層)的黏合劑的種類並非僅限於以上所述，並且用於光學器件的各種其他材料皆可應用。

為結合中空顆粒確保滿足所需特性(熱擴散率(方程式4)、表面特性(AFM的比表面積)、紅外反射率、可見光透射率、SAXS特性、體積分數及/或折射率特性)的恰當空隙特性，可應用來自上述種類的多官能丙烯酸酯作為黏合劑。亦即，黏合劑可包括多官能丙烯酸酯的聚合物。多官能丙烯酸酯是具有至少二或更多個可聚合官能基(丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯基氧基或甲基丙烯醯基氧基)的化合物。在另一實例中，丙烯酸可聚合官能基的數目可為3或大於3，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於 8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4、或3或小於3。在形成其中藉由所需交聯度及孔特性穩定地確保熱擴散率(方程式4)、表面特性(AFM的比表面積)、紅外反射率、可見光透射率、SAXS特性、體積分數及/或折射率特性的抗紅化層時，應用不含任何羥基及任何環結構(例如，芳環結構或二環戊二烯結構)的化合物作為此種多官能丙烯酸酯是有利的。出於同樣的原因，較佳的是羥基或環結構不存在於抗紅化層(含空隙層(多孔層))的黏合劑中，或者即便存在所述羥基或環結構，其比率亦為有限的。此外，在形成其中藉由所需交聯度及孔特性穩定地確保熱擴散率(方程式4)、表面特性(AFM的比表面積)、紅外反射率、可見光透射率、SAXS特性、體積分數及/或折射率特性的抗紅化層時，使用分子量在約150克/莫耳至約1,000克/莫耳的範圍內的化合物作為多官能丙烯酸酯是有利的。在另一實例中，分子量可為約170克/莫耳或大於170克/莫耳、約190克/莫耳或大於190克/莫耳、約210克/莫耳或大於210克/莫耳、約230克/莫耳或大於230克/莫耳、約250克/莫耳或大於250克/莫耳、約270克/莫耳或大於270克/莫耳、或約290克/莫耳或大於290克/莫耳，或者亦可為約980克/莫耳或小於980克/莫耳、約960克/莫耳或小於960克/莫耳、約940克/莫耳或小於940克/莫耳、約920克/莫耳或小於920克/莫耳、約900克/莫耳或小於900克/莫耳、約880克/莫耳或小於880克/莫耳、約860克/莫耳或小於860克/莫耳、約840克/莫耳或小於840克/莫耳、約820克/莫耳或小於820克/莫耳、約800 克/莫耳或小於800克/莫耳、約780克/莫耳或小於780克/莫耳、約760克/莫耳或小於760克/莫耳、約740克/莫耳或小於740克/莫耳、約720克/莫耳或小於720克/莫耳、約700克/莫耳或小於700克/莫耳、約680克/莫耳或小於680克/莫耳、約660克/莫耳或小於660克/莫耳、約640克/莫耳或小於640克/莫耳、約620克/莫耳或小於620克/莫耳、約600克/莫耳或小於600克/莫耳、約580克/莫耳或小於580克/莫耳、約560克/莫耳或小於560克/莫耳、約540克/莫耳或小於540克/莫耳、約520克/莫耳或小於520克/莫耳、約500克/莫耳或小於500克/莫耳、約480克/莫耳或小於480克/莫耳、約460克/莫耳或小於460克/莫耳、約440克/莫耳或小於440克/莫耳、約420克/莫耳或小於420克/莫耳、約400克/莫耳或小於400克/莫耳、約380克/莫耳或小於380克/莫耳、約360克/莫耳或小於360克/莫耳、約340克/莫耳或小於340克/莫耳、約320克/莫耳或小於320克/莫耳、或約300克/莫耳或小於300克/莫耳左右。就更高效地確保所需特性而言，黏合劑可實質上包含多官能丙烯酸酯作為主要組分。因此，黏合劑中多官能丙烯酸酯的重量比可為約50%或大於50%、約52%或大於52%、約54%或大於54%、約56%或大於56%、約58%或大於58%、約60%或大於60%、約62%或大於62%、約64%或大於64%、約66%或大於66%、約68%或大於68%、約70%或大於70%、約72%或大於72%、約74%或大於74%、約76%或大於76%、約78%或大於78%、約80%或大於80%、約82%或大於82%、約84%或大於84%、 約86%或大於86%、約88%或大於88%、約90%或大於90%、約92%或大於92%、約94%或大於94%、約96%或大於96%、或約98%或大於98%左右，並且此比率亦可為約100%或小於100%、或小於約100%左右。所述比率可為黏合劑中多官能丙烯酸酯的比率，並且舉例而言，當含空隙層(多孔層)是包含黏合劑及中空顆粒的層時，所述比率可為基於藉由自含空隙層(多孔層)的總重量減去中空顆粒而獲得的重量的比率。

作為中空顆粒，舉例而言，可使用具有特定粒度分佈的顆粒以滿足上述物理性質中的每一者。舉例而言，作為中空顆粒，可應用以下顆粒：對所述顆粒而言，在粒度分佈的權重累積曲線中，在約20奈米至約50奈米的範圍內的D10粒徑、在約55奈米至約100奈米的範圍內的D50粒徑及在約100奈米至約200奈米或者約110奈米至約180奈米的範圍內的D90粒徑。此處，當中空顆粒的總重量為100重量時，在指示每一粒徑的權重的累積分佈曲線圖中，D10粒徑、D50粒徑及D90粒徑分別為對應於最大值(100重量%)的約10重量%、約50重量%及約90重量%的值。藉由應用具有如上所述粒徑分佈的顆粒，可有效地形成所需的抗紅化層。

在另一實例中，D10粒徑可為約21奈米或大於21奈米、約22奈米或大於22奈米、約23奈米或大於23奈米、約24奈米或大於24奈米、約25奈米或大於25奈米、約26奈米或大於26奈米、約27奈米或大於27奈米、約28奈米或大於28奈米、約 29奈米或大於29奈米、約30奈米或大於30奈米、約31奈米或大於31奈米、或約32奈米或大於32奈米，或者亦可為約49奈米或小於49奈米、約48奈米或小於48奈米、約47奈米或小於47奈米、約46奈米或小於46奈米、約45奈米或小於45奈米、約44奈米或小於44奈米、約43奈米或小於43奈米、約42奈米或小於42奈米、約41奈米或小於41奈米、約40奈米或小於40奈米、約39奈米或小於39奈米、約38奈米或小於38奈米、約37奈米或小於37奈米、約36奈米或小於36奈米、約35奈米或小於35奈米、約34奈米或小於34奈米、或約33奈米或小於33奈米左右。

在另一實例中，D50粒徑可為約56奈米或大於56奈米、約57奈米或大於57奈米、約58奈米或大於58奈米、約59奈米或大於59奈米、約60奈米或大於60奈米、約61奈米或大於61奈米、或62奈米或大於62奈米，或者亦可為約99奈米或小於99奈米、約98奈米或小於98奈米、約97奈米或小於97奈米、或約96奈米或小於96奈米、約95奈米或小於95奈米、約94奈米或小於94奈米、約93奈米或小於93奈米、約92奈米或小於92奈米、約91奈米或小於91奈米、約90奈米或小於90奈米、約89奈米或小於89奈米、約88奈米或小於88奈米、約87奈米或小於87奈米、約86奈米或小於86奈米、約85奈米或小於85奈米、約84奈米或小於84奈米、約83奈米或小於83奈米、約82奈米或小於82奈米、約81奈米或小於81奈米、約79奈米或小 於79奈米、約78奈米或小於78奈米、約77奈米或小於77奈米、約76奈米或小於76奈米、約75奈米或小於75奈米、約74奈米或小於74奈米、約73奈米或小於73奈米、約72奈米或小於72奈米、約71奈米或小於71奈米、或約70奈米或小於70奈米左右。

在另一實例中，D90粒徑可為約111奈米或大於111奈米、約112奈米或大於112奈米、約113奈米或大於113奈米、約114奈米或大於114奈米、約115奈米或大於115奈米、約116奈米或大於116奈米、約117奈米或大於117奈米、約118奈米或大於118奈米、約119奈米或大於119奈米、約120奈米或大於120奈米、或約121奈米或大於121奈米、約122奈米或大於122奈米、或123奈米或大於123奈米，或者亦可為約179奈米或小於179奈米、約178奈米或小於178奈米、約177奈米或小於177奈米、約176奈米或小於176奈米、約175奈米或小於175奈米、約174奈米或小於174奈米、約173奈米或小於173奈米、約172奈米或小於172奈米、約171奈米或小於171奈米、約170奈米或小於170奈米、約169奈米或小於169奈米、約168奈米或小於168奈米、約167奈米或小於167奈米、約166奈米或小於166奈米、約165奈米或小於165奈米、約164奈米或小於164奈米、約163奈米或小於163奈米、約162奈米或小於162奈米、約161奈米或小於161奈米、約160奈米或小於160奈米、約159奈米或小於159奈米、約158奈米或小於158奈米、約157奈米或小 於157奈米、約156奈米或小於156奈米、約155奈米或小於155奈米、約154奈米或小於154奈米、約153奈米或小於153奈米、約152奈米或小於152奈米、約151奈米或小於151奈米、約150奈米或小於150奈米、約149奈米或小於149奈米、約148奈米或小於148奈米、約147奈米或小於147奈米、約146奈米或小於146奈米、約145奈米或小於145奈米、約144奈米或小於144奈米、約143奈米或小於143奈米、約142奈米或小於142奈米、約141奈米或小於141奈米、約140奈米或小於140奈米、約139奈米或小於139奈米、約138奈米或小於138奈米、約137奈米或小於137奈米、約136奈米或小於136奈米、約135奈米或小於135奈米、約134奈米或小於134奈米、約133奈米或小於133奈米、約132奈米或小於132奈米、約131奈米或小於131奈米、約130奈米或小於130奈米、約129奈米或小於129奈米、約128奈米或小於128奈米、約127奈米或小於127奈米、或約126奈米或小於126奈米左右。

作為中空顆粒，可應用孔徑(pore size)對應於空隙大小的顆粒。因此，孔徑可在約0.5奈米至約100奈米的範圍內。

在另一實例中，孔徑可為約1奈米或大於1奈米、約2奈米或大於2奈米、約3奈米或大於3奈米、約4奈米或大於4奈米、約5奈米或大於5奈米、約6奈米或大於6奈米、約7奈米或大於7奈米、約8奈米或大於8奈米、約9奈米或大於9奈米、約10奈米或大於10奈米、約11奈米或大於11奈米、約12 奈米或大於12奈米、約13奈米或大於13奈米、約14奈米或大於14奈米、約15奈米或大於15奈米、約16奈米或大於16奈米、約17奈米或大於17奈米、約18奈米或大於18奈米、約19奈米或大於19奈米、約20奈米或大於20奈米、約21奈米或大於21奈米、約22奈米或大於22奈米、約23奈米或大於23奈米、約24奈米或大於24奈米、約25奈米或大於25奈米、約26奈米或大於26奈米、約27奈米或大於27奈米、約28奈米或大於28奈米、約29奈米或大於29奈米、約31奈米或大於31奈米、約32奈米或大於32奈米、約33奈米或大於33奈米、約34奈米或大於34奈米、約35奈米或大於35奈米、約36奈米或大於36奈米、約37奈米或大於37奈米、或約38奈米或大於38奈米，或者亦可為約99奈米或小於99奈米、約98奈米或小於98奈米、約97奈米或小於97奈米、約96奈米或小於96奈米、約95奈米或小於95奈米、約94奈米或小於94奈米、約93奈米或小於93奈米、約92奈米或小於92奈米、約91奈米或小於91奈米、約90奈米或小於90奈米、約89奈米或小於89奈米、約88奈米或小於88奈米、約87奈米或小於87奈米、約86奈米或小於86奈米、約85奈米或小於85奈米、約84奈米或小於84奈米、約83奈米或小於83奈米、約82奈米或小於82奈米、約81奈米或小於81奈米、約79奈米或小於79奈米、約78奈米或小於78奈米、約77奈米或小於77奈米、約76奈米或小於76奈米、約75奈米或小於75奈米、約74奈米或小於74奈米、約73 奈米或小於73奈米、約72奈米或小於72奈米、約71奈米或小於71奈米、約69奈米或小於69奈米、約68奈米或小於68奈米、約67奈米或小於67奈米、約66奈米或小於66奈米、約65奈米或小於65奈米、約64奈米或小於64奈米、約63奈米或小於63奈米、約62奈米或小於62奈米、約61奈米或小於61奈米、約59奈米或小於59奈米、約58奈米或小於58奈米、約57奈米或小於57奈米、約56奈米或小於56奈米、約55奈米或小於55奈米、約54奈米或小於54奈米、約53奈米或小於53奈米、約52奈米或小於52奈米、約51奈米或小於51奈米、約50奈米或小於50奈米、約49奈米或小於49奈米、約48奈米或小於48奈米、約47奈米或小於47奈米、約46奈米或小於46奈米、或約45奈米或小於45奈米左右。

可應用各種種類的中空顆粒，對此並無特別限制，只要所述中空顆粒可具有如上所述的特性並且表現出上述特性(熱擴散率(方程式4)、表面特性(AFM的比表面積)、紅外反射率、可見光透射率、SAXS特性、體積分數及/或折射率特性)即可。

舉例而言，作為中空顆粒，可使用其中殼部分由有機物質製成的有機顆粒、其中殼部分由無機物質製成的無機顆粒及/或其中殼部分由有機-無機物質製成的有機-無機顆粒等。此類顆粒可由丙烯酸顆粒(例如，聚(甲基丙烯酸甲酯)(poly(methyl methacrylate)，PMMA))、環氧顆粒、尼龍顆粒、苯乙烯顆粒及/或苯乙烯/乙烯基單體的共聚物顆粒等、或無機顆粒(例如，二氧化 矽顆粒、氧化鋁顆粒、氧化銦顆粒、氧化錫顆粒、氧化鋯顆粒、氧化鋅顆粒及/或二氧化鈦顆粒等)例示，但並非僅限於此。

抗紅化層或含空隙層(多孔層)可以約5重量%或大於5重量%的比率包含中空顆粒。在另一實例中，所述比率可為約10重量%或大於10重量%、約15重量%或大於15重量%、約20重量%或大於20重量%、約25重量%或大於25重量%、約30重量%或大於30重量%、約35重量%或大於35重量%、約40重量%或大於40重量%、約45重量%或大於45重量%、約50重量%或大於50重量%、約55重量%或大於55重量%、約60重量%或大於60重量%、約65重量%或大於65重量%、約70重量%或大於70重量%、約75重量%或大於75重量%、約80重量%或大於80重量%、約85重量%或大於85重量%、約90重量%或大於90重量%、約95重量%或大於95重量%、約100重量%或大於100重量%、約105重量%或大於105重量%、約110重量%或大於110重量%、約115重量%或大於115重量%、約120重量%或大於120重量%、約125重量%或大於125重量%、約130重量%或大於130重量%、約135重量%或大於135重量%、約140重量%或大於140重量%、約145重量%或大於145重量%、約150重量%或大於150重量%、約155重量%或大於155重量%、約160重量%或大於160重量%、約165重量%或大於165重量%、約170重量%或大於170重量%、約175重量%或大於175重量%、或約180重量%或大於180重量%。在另一實例中，所述比率亦可為約9,000重量%或小 於9,000重量%、約8,000重量%或小於8,000重量%、約7,000重量%或小於7,000重量%、約6,000重量%或小於6,000重量%、約5,000重量%或小於5,000重量%、約4,000重量%或小於4,000重量%、約3,000重量%或小於3,000重量%、約2,000重量%或小於2,000重量%、約1,000重量%或小於1,000重量%、約900重量%或小於900重量%、約800重量%或小於800重量%、約700重量%或小於700重量%、約600重量%或小於600重量%、約500重量%或小於500重量%、約400重量%或小於400重量%、約300重量%或小於300重量%、約250重量%或小於250重量%、約240重量%或小於240重量%、約230重量%或小於230重量%、約220重量%或小於220重量%、約210重量%或小於210重量%、或約200重量%或小於200重量%左右。

可根據所需的特性調整中空顆粒的比率。在一個實例中，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可僅包含中空顆粒作為顆粒。亦即，在此種實例中，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可不包含所謂的實心顆粒。因此，可更恰當地實施抗紅化層或含空隙層(多孔層)的所需特性。

除了上述組分之外，必要時，抗紅化層或含空隙層(多孔層)還可包含此項技術中已知的任何添加劑。此種添加劑可由黏合劑的硬化劑或起始劑、抗氧化劑、紫外線穩定劑、紫外線吸收劑、著色劑、消泡劑、界面活性劑及/或增塑劑等例示。

可控制抗紅化層或含空隙層(多孔層)的厚度以表達所 需的抗紅化能力。舉例而言，抗紅化層或含空隙層(多孔層)可具有約200奈米或大於200奈米的厚度。在此厚度範圍內，可有效地表達所需的抗紅化能力。在另一實例中，所述厚度亦可為約250奈米或大於250奈米、約300奈米或大於300奈米、約350奈米或大於350奈米、約400奈米或大於400奈米、約450奈米或大於450奈米、約500奈米或大於500奈米、約550奈米或大於550奈米、約600奈米或大於600奈米、約650奈米或大於650奈米、約700奈米或大於700奈米、約750奈米或大於750奈米、約800奈米或大於800奈米、約850奈米或大於850奈米、或約900奈米或大於900奈米左右。厚度的上限不受特別限制。一般而言，抗紅化層越厚，則防止、減輕、減少、抑制及/或延遲熱量的效果被越好地改善。因此，可鑑於光學層疊體等所需的厚度來選擇抗紅化層或含空隙層(多孔層)的厚度的上限，對此並無特別限制，只要確保防止、減輕、減少、抑制及/或延遲熱量的效果即可。在一個實例中，抗紅化層或含空隙層(多孔層)的厚度亦可為約3,000奈米或小於3,000奈米、約2,900奈米或小於2,900奈米、約2,800奈米或小於2,800奈米、約2,700奈米或小於2,700奈米、約2,600奈米或小於2,600奈米、約2,500奈米或小於2,500奈米、約2,400奈米或小於2,400奈米、約2,300奈米或小於2,300奈米、約2,200奈米或小於2,200奈米、約2,100奈米或小於2,100奈米、約2,000奈米或小於2,000奈米、或約1,950奈米或小於1,950奈米左右。

亦可控制光學層疊體中抗紅化層的位置，以確保所需的 抗紅化效能。

抗紅化層可為單獨包括在光學層疊體中的層，或者可為藉由在已經存在於光學層疊體中的層(例如，黏著劑層或壓敏黏著劑層)中形成空隙而實施的層。

可出於所述目的(即防止、減輕、減少、抑制及/或延遲紅化)來控制光學層疊體中的抗紅化層的位置。

舉例而言，抗紅化層的位置可盡可能靠近光學功能層，所述光學功能層是光學層疊體中發生紅化的主要原因。亦即，可控制光學層疊體中的抗紅化層與光學功能層之間的距離。此處，所述距離可為抗紅化層及光學功能層的相面向的表面之間的最短間隔、最大間隔或平均間隔。在一個實例中，抗紅化層與光學功能層之間的距離可在約90微米內、在約85微米內、在約80微米內、在約75微米內、在約70微米內、在約65微米內、在約60微米內、在約55微米內、在約50微米內、在約45微米內、在約40微米內、在約35微米內、在約30微米內、在約25微米內、在約20微米內、在約15微米內、在約10微米內、在約5微米內、在約1微米內、在約0.9微米內、在約0.8微米內、在約0.7微米內、在約0.6微米內、在約0.5微米內、在約0.4微米內、在約0.3微米內、或在約0.2微米內。光學功能層與抗紅化層的位置最接近的情況是所述兩個層彼此接觸的情況，且在此種情況下，距離為0微米。因此，距離的下限為0微米。在另一實例中，距離可為約0.01微米或大於0.01微米、約0.02微米或大於0.02微米、約0.03微米或 大於0.03微米、約0.04微米或大於0.04微米、約0.05微米或大於0.05微米、約0.09微米或大於0.09微米、或約0.1微米或大於0.1微米左右。

此抗紅化層可設置在不形成光學層疊體的最外表面的位置處。亦即，抗紅化層可能並非為光學層疊體的最外層。可能需要此種定位來表達光學層疊體及/或光學功能層的抗紅化特性。

在另一實例中，光學層疊體包括附加層以及抗紅化層及光學功能層，其中抗紅化層可位於光學功能層與附加層之間。圖1是此種層配置的一個實例，其示出了依次形成附加層30、抗紅化層20及光學功能層10的情況。此處，附加層可為保護膜、壓敏黏著劑層、黏著劑層、硬塗層、抗反射層、延遲層或亮度增強層等，或者可為以下將闡述的覆蓋玻璃，但並非僅限於此。

藉由此種佈置，本申請案的光學層疊體可表現出略高的表面反射率。亦即，本申請案的抗紅化層可發揮以其配置降低反射率的作用，但由於此種抗紅化層不存在於表面上，因此除非形成單獨的抗反射層等，否則光學功能層的表面反射率可為略微較高。舉例而言，光學層疊體可具有約2%或大於2%的反射率。此處，反射率可為對可見光區域中的光(例如，在大約380奈米至780奈米範圍內的任一波長、或者在所述範圍中的預定區域中的波長、或整個區域的波長)的反射率或平均反射率。在另一實例中，所述反射率可為約2.5%或大於2.5%、約3%或大於3%、約3.5%或大於3.5%、或約4%或大於4%，或者亦可為約10%或小於10%、約9% 或小於9%、約8%或小於8%、約7%或小於7%、約6%或小於6%、或約5%或小於5%左右。

藉由此種佈置，可有效地防止、減輕、減少、抑制及/或延遲光學功能層及/或光學層疊體的紅化現象。

光學層疊體可包括各種其他層，只要光學層疊體包括抗紅化層及光學功能層即可。

此種層可由例如用於光學層疊體的保護膜、壓敏黏著劑層、黏合劑層、延遲膜、硬塗層或低反射層等例示。所述層亦可為上述附加層。

作為附加層的類型，可應用此項技術中已知的一般配置。舉例而言，作為保護膜，可使用具有優異的透明度、機械強度、熱穩定性、防潮性質或各向同性等的樹脂膜，並且此種膜的實例可由以下例示：纖維素樹脂膜，例如三乙醯基纖維素(TAC)膜、聚酯膜、聚醚碸膜、聚碸膜、聚碳酸酯膜、聚醯胺膜、聚醯亞胺膜、聚烯烴膜、丙烯酸膜、環狀聚烯烴膜(例如，降冰片烯樹脂膜)、聚芳酯膜、聚苯乙烯膜、聚乙烯醇膜等。此外，除了膜形式的保護層之外，藉由固化熱固性樹脂或可光固化樹脂(例如，(甲基)丙烯酸系列、胺基甲酸酯系列、丙烯酸胺基甲酸酯系列、環氧系列或矽酮系列)獲得的固化樹脂層亦可用作保護膜。此種保護膜可形成於光學功能層的一側或兩側上。

作為延遲膜，可應用一般材料。舉例而言，可應用經單軸或雙軸拉伸的雙折射聚合物膜或液晶聚合物的配向膜、或可聚 合液晶化合物的聚合層等。延遲膜的厚度亦不受特別限制。

如上所述的保護膜或延遲膜可藉由黏著劑等貼附至光學功能層等，其中此種保護膜等可經受容易的黏附處理，例如電暈處理、電漿處理、底漆處理或皂化處理。此外，當保護膜貼附至光學功能層或抗紅化層時，硬塗層、低反射層、抗反射層、抗黏層、擴散層或霧度層等可存在於與保護膜的貼附有光學功能層或抗紅化層的表面相對的一側上。

除了保護膜或延遲膜之外，舉例而言，在光學層疊體中亦可存在例如反射板或半透射板等各種元件，其中所述元件的種類不受特別限制。

為黏附光學層疊體中的各個層，可使用黏著劑。所述黏著劑可由異氰酸酯系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、明膠系黏著劑、乙烯基系列乳膠系列或水系聚酯等例示，但並非僅限於此。作為黏著劑，一般可使用水系黏著劑，但亦可依據待貼附的膜的類型而使用無溶劑的可光固化黏著劑。

光學層疊體可包括壓敏黏著劑層，用於與例如液晶面板或覆蓋玻璃等其他構件黏附。用於形成壓敏黏著劑層的壓敏黏著劑不受特別限制，且舉例而言，所述壓敏黏著劑可恰當地選自使用丙烯酸聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚或聚合物(例如，氟系列或橡膠系列)作為基礎聚合物的黏著劑並被使用。出於防止污染等目的，可向此種壓敏黏著劑層的被暴露出的表面臨時貼附及覆蓋離型膜，直至所述黏著劑層被提供用於 實際使用。

此種光學層疊體可具有各種形式的結構。舉例而言，圖2是在偏振片的結構中引入抗紅化層20的結構，其中偏振片是最基本的光學層疊體。亦即，基本的偏振片具有其中保護膜301貼附至偏振層100的至少一側的結構，其中抗紅化層20可定位於偏振層100與保護膜301之間。在圖2的結構中，黏著劑或壓敏黏著劑可用於黏結各個層(100、20、301)。在一個實例中，圖2的抗紅化層20可為單獨的層，或者其自身可為黏著劑或壓敏黏著劑。亦即，可將中空顆粒等引入至黏著劑或壓敏黏著劑中，以形成充當抗紅化層的含空隙層(多孔層)。

在圖2中，保護膜302亦貼附至偏振層100的底部(即，與抗紅化層20相對的表面)，但可省略此保護膜302，或者可將另一種層(例如，如上所述的延遲膜或固化樹脂層等)貼附至所述保護膜。舉例而言，壓敏黏著劑層可形成於保護膜302的底部上存在於與抗紅化層20相對的表面上(即，位於與保護膜302的朝向偏振層100的表面相對的表面上)，或者可形成壓敏黏著劑層來代替保護膜302。

作為經修改的結構，圖3是兩個保護膜(301、302)存在於偏振層100的一側上並且抗紅化層20存在於保護膜(301、302)之間的情況。在此種情況下，可應用壓敏黏著劑或黏著劑對層進行黏附，其中抗紅化層20亦可為壓敏黏著劑或黏著劑。在此種結構中，存在於偏振層100底部上的保護膜303的細節與在圖 2的結構中存在於偏振層100底部上的保護膜302的細節相同。

圖2及圖3是本申請案的一個實例，其中本申請案的光學層疊體可由除該些結構之外的各種結構構成。

本申請案亦有關於一種包括所述光學層疊體的顯示器裝置。顯示器裝置的類型可不受特別限制地變化，舉例而言，所述類型可為已知的液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)或有機發光顯示器(organic light emitting display，OLED)等，並且在此種顯示器裝置中，可藉由傳統方法來應用光學層疊體。

具體而言，光學層疊體被有效地應用於包括所謂的覆蓋玻璃的顯示器裝置。

此種裝置通常包括覆蓋玻璃及藉由所謂的光學透明黏著劑(optical clear adhesive，OCA)或光學透明樹脂(optical clear resin，OCR)等貼附至覆蓋玻璃的光學層疊體，其中本申請案的層疊體可用作光學層疊體。因此，所述顯示器裝置包括覆蓋玻璃及貼附至所述覆蓋玻璃的光學層疊體，其中所述光學層疊體可包括：光學功能層；以及形成於所述光學功能層的至少一側上的抗紅化層，其中所述抗紅化層可位於所述覆蓋玻璃與所述光學功能層之間。

一般而言，將包括覆蓋玻璃的顯示器裝置應用於例如車輛導航等應用，其中由於覆蓋玻璃具有高導熱率而使紅化現象更成問題。

然而，可將本申請案的光學層疊體應用於具有上述結構的裝置以解決上述問題。

顯示器裝置的具體結構不受特別限制，只要應用本申請案的光學層疊體即可，此可遵循已知結構。

本申請案可提供一種即使在極端苛刻的條件(例如，極高的溫度條件)下被驅動或保持時亦不會引起所謂的紅化現象的光學層疊體、或應用於所述光學層疊體的抗紅化層。

10:光學功能層

20:抗紅化層

30:附加層

100:偏振層

301、302、303:保護膜

圖1至圖3是用於解釋本申請案的光學層疊體的示例性結構的圖式。

在下文中，將參照根據本申請案的實例等更詳細地闡述偏振層等，但本申請案的範圍並非僅限於此。

在下文中，由以下方式量測了本文中的物理性質。

1.量測厚度

可藉由應用透射電子顯微術(transmission electron microscopy，TEM)儀器來量測偏振層及抗紅化層等的厚度。在用TEM儀器拍攝偏振層或抗紅化層的橫截面後，可自所拍攝的影像確認相關層的厚度。在此實例中，使用日立公司(Hitachi)的H-7650產品作為TEM儀器。

2.量測中空顆粒的粒度分佈及孔徑

使用大塚電子株式會社(Otsuka Electronics)的ELSZ-2000設備量測了中空顆粒的粒度分佈。此外，藉由應用透射電子顯微術(TEM)儀器量測了中空顆粒的粒徑及孔徑。在此實例中，使用日立公司的H-7650產品作為TEM儀器。藉由在使用TEM儀器拍攝(10000倍放大率)在實例等中生產的每個光學層疊體(偏振片)中的抗紅化層的橫截面之後視情況選擇50個中空顆粒而分別獲得了粒徑及孔徑，並且取算術平均值作為粒徑及孔徑的代表值。

3.量測CIE色座標

使用JASCO V-7100分光光度計量測了色座標。JASCO V-7100分光光度計是一種儀器，其在將量測目標偏振片的吸收軸相對於內置於相關儀器中的偏振器的吸收軸旋轉0度至360度之後，量測透射率最小的點處的色座標(TD色座標)，並在透射率最小的點處再次將量測目標偏振片的吸收軸順時針旋轉90度以量測色座標(MD色座標)，基於各量測值得到色座標的代表值。在本說明書的實例中描述的色座標是藉由JASCO V-7100分光光度計確認的色座標。

4.量測透射率

使用JASCO V-7100分光光度計量測偏振片等的單一透射率。JASCO V-7100分光光度計是在380奈米至780奈米的範圍內量測偏振片等的透射率以得到所述波長範圍的代表值的儀器， 並且在此實例中，已經描述了在JASCO V-7100分光光度計上識別的透射率。

5.量測偏振層中鉀(K)及鋅(Zn)的重量比

由以下方式量測了在偏振層中存在的鉀(K)及鋅(Zn)的重量比。首先，在室溫(約25℃)下將0.1克左右的偏振層以約65重量%的濃度溶解在了硝酸的水溶液(2毫升)中，接著用去離子水將其稀釋至40毫升，且然後使用ICP-OES(歐迪瑪(Optima)5300)分別量測了偏振層中含有的鉀(K)及鋅(Zn)的重量。

6.抗紅化層的熱擴散率評估

由以下方式量測了抗紅化層的熱擴散率。在抗紅化層形成於厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜(由曉星公司(Hyosung)製造，PG601F)上的狀態下，以在以下實例中所述的方式評估了熱擴散率。此時，在每個實例中描述了抗紅化層的厚度。對TAC膜/抗紅化層的層疊體的頂部及底部執行了石墨塗佈。使用克拉姆林公司(CRAMLIN)的石墨(GRAPHITE)產品形成了石墨塗層。所述產品是可藉由噴塗方法塗佈石墨的產品，並且將相關的產品噴塗在了層疊體的頂部(抗紅化層的表面)及底部(TAC膜)上一次左右，且然後進行了乾燥以形成石墨層。此後，使用耐馳公司(NETZSCH)的LFA 457微閃(MicroFlash)產品量測了熱擴散率。基於95℃的溫度量測了熱擴散率，藉由自一個石墨表面至另一石墨表面的溫度傳遞而確認了所述熱擴散率。以此 種方式，評估了層疊體(抗紅化層/TAC膜)的熱擴散率，並且在每個實例中，描述了層疊體的熱擴散率相對於TAC膜的相對比率。

7.抗紅化層的紅外反射率評估

藉由以下方法確認了抗紅化層的紅外反射率。在抗紅化層形成於厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜上的狀態下，以在以下實例中所述的方式評估了紅外反射率。此時，在每個實例中描述了抗紅化層的厚度。將黑膠帶(巴川公司(TOMOEGAWA)，PET膜)貼附到了抗紅化層/TAC膜的層疊體中的TAC膜的底部(膜的上面未形成抗紅化層的表面)以執行暗化處理，並且使用日本島津公司(SHIMADZU)的索利得斯巴克(Solidspec)3700設備以反射率模式量測了在800奈米至1300奈米的波長區域中的平均反射率。若使用所述儀器，則可在800奈米至1300奈米的範圍內確認以1奈米為間隔的波長範圍的反射率，並且在此實例中，取對每個波長的反射率的算術平均值作為紅外反射率的代表值。

8.抗紅化層的小角度X射線散射(SAXS)評估

由以下方式執行了對抗紅化層的小角度X射線散射評估。在抗紅化層形成於厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜上的狀態下，以在以下實例中所述的方式執行了評估。此時，在每個實例中描述了抗紅化層的厚度。藉由切割TAC膜/抗紅化層的層疊體使得寬度及長度各為約1公分左右而製造了測試樣本。用波長為0.0733奈米的X射線以相距4米的距離照射了測 試樣本的抗紅化層，以根據散射向量獲得散射強度。在浦項(Pohang)加速器4C束線(beamline)上執行了量測，並且使用了垂直大小為0.023毫米左右且水平大小為0.3毫米左右的X射線。使用2D馬爾(mar)CCD作為偵測器。在獲得散射的2D繞射圖案影像之後，使用藉由標準樣品(聚乙烯-嵌段-聚丁二烯-嵌段-聚苯乙烯，SEBS)獲得的樣品至偵測器距離(sample-to-detector distance)對其進行了校準，並且藉由圓平均值(circular average)對根據散射向量(q)的散射強度進行了轉換。此時，根據以下方程式A獲得了散射向量。

[方程式A]q=4πsinθ/λ

在方程式A中，q是散射向量，θ是散射角度(單位：度)的1/2倍值，並且λ是照射的X射線的波長(單位：埃(Å))。

9.量測柯西參數

由以下方式執行了抗紅化層的折射率及柯西參數。在抗紅化層形成於厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜上的狀態下，以在以下實例中所述的方式執行了評估。此時，在每個實例中描述了抗紅化層的厚度。針對層疊體(抗紅化層/TAC膜)的抗紅化層，使用設備(J.A.伍拉姆Co.M-2000(J.A.Woollam Co.M-2000))對特性進行了評估。針對抗紅化層，藉由應用所述設備以70度的入射角在380奈米至1,000奈米的波長範圍內量測了線性偏振光。使用容易完成(Complete EASE)軟體對量測的線性 偏振光資料(橢偏儀法資料(皮薩爾(Ψ)、德爾塔(△)))進行了擬合，使得以下方程式1的柯西模型的均方誤差(mean square error，MSE)為25或小於25，並且獲得了以下方程式6的n(λ)、A、B及C。在擬合過程中，在-20奈米至50奈米的範圍上應用了粗糙度函數。

在方程式6中，n(λ)是在λ奈米的波長下的折射率。

10.評估比表面積

使用AFM儀器(原子力顯微鏡，帕克系統(Park Systems)，XE7)量測了抗紅化層(含空隙層(多孔層))的比表面積。使用碳帶將如在實例中所述藉由切割層疊體(在TAC膜的一側上形成有抗紅化層(含空隙層(多孔層)))以使寬度及長度為1公分而製造的樣品固定在了儀器的平台上，並執行了量測。作為用於量測的探針(尖端)，使用PPP-NCHR 10(力常數：42牛/米(N/m)，共振頻率330千赫茲(kHz))。量測條件如下。

<量測條件>

x掃描大小：1微米

y掃描大小：1微米

掃描速率：0.7赫茲至1赫茲

Z伺服增益：1

設置點：10奈米至15奈米

使用XEI程式在以下條件下使在該些條件下量測的資料扁平化(flattened)。

<扁平化條件>

範圍：線

取向：X及Y軸

迴歸次數(Regression Order)：1

在扁平化後，自XEI程式中的區域欄標(Region tab)中提取比表面積。

生產例1.生產偏振層(A)

將厚度為約30微米的聚(乙烯醇)(PVA)膜(日本合成有限公司(Japan Synthetic Co.,Ltd.)，M3004L)浸入在28℃下含有0.2重量%的碘(I₂)及2.5重量%的碘化鉀(KI)的染料溶液中達60秒並進行了染色。隨後，將經染色的PVA膜浸入在35℃下含有1重量%的硼及3重量%的碘化鉀(KI)的水溶液(交聯溶液)中達60秒並進行了交聯。此後，使用輥間拉伸方法(inter-roll stretching method)以5.4倍的延伸比對經交聯的PVA膜進行了拉伸。將經拉伸的PVA膜浸入25℃下的離子交換水中達60秒且進行了洗滌，並將所述經拉伸的PVA膜浸入在25℃下含有2重量%的硝酸鋅及5重量%的碘化鉀(KI)的水溶液中達30秒。此後，在80℃的溫度下將PVA膜乾燥了60秒以生產PVA偏振層。所生產的偏振層的最終厚度為約12微米左右，鉀含量為約0.9重量%，且鋅含量為約0.3重量%。此外，1/(1+0.025d/R)為約0.9。此處， d是偏振層的厚度(12微米)，並且R是偏振層中含有的鉀組分的重量比(K，單位：重量)與鋅組分的重量比(Zn，單位：重量)的比率(K/Zn)。

生產例2.生產偏振層(B)

使用厚度為約45微米的聚(乙烯醇)(PVA)膜(日本合成有限公司，M4504L)作為圓碟膜生產了偏振層。首先，對圓碟膜執行了溶脹處理。藉由將圓碟膜浸入在25℃的溫度下的純水中達30秒而執行了溶脹處理。執行了拉伸以在溶脹處理製程中拉伸至最終延伸比的約28%。隨後，使用其中分別以約0.2重量%及約2.5重量%左右的濃度溶解有碘(I₂)及碘化鉀(KI)的染料溶液對圓碟膜進行了染色處理。藉由將圓碟膜浸入28℃下的染料溶液中達約2分鐘而執行了染色處理。在此製程中，執行了拉伸以拉伸至最終延伸比的約40%左右。此後，將經染色的PVA膜浸入在35℃下含有1重量%的硼及3重量%的碘化鉀的水溶液(交聯溶液)中達60秒並進行了交聯。隨後，對圓碟膜進行了拉伸。所述拉伸是在分別以約3重量%左右的濃度含有硼酸及碘化鉀的水溶液(處理溶液)中執行的。處理溶液的溫度為約50℃左右。隨後，用水溶液洗滌了經拉伸的膜。此時，水溶液的溫度為約25℃左右，並且在1分鐘內執行了洗滌處理。此後，對膜進行了乾燥以生產PVA偏振層(厚度：27微米，總延伸比：5.4倍)。

生產例3.生產抗紅化層(A)材料

藉由應用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropane triacrylate，TMPTA)作為黏合劑並應用中空二氧化矽顆粒而生產了抗紅化層。作為中空二氧化矽顆粒，使用D10、D50及D90粒徑分別為32.1奈米、62.6奈米及123.4奈米的顆粒。在此種情況下，在形成抗紅化層之後，藉由TEM量測的孔徑的平均值大約為38.3奈米左右，並且粒徑大約為53奈米左右。將黏合劑、中空二氧化矽顆粒、含氟化合物(DIC公司的RS-90)及起始劑(汽巴公司(Ciba)的易璐佳(Irgacure)127)以基於固體含量計為31：65：0.1：3.9(黏合劑：中空二氧化矽顆粒：含氟化合物：起始劑)的重量比稀釋在作為溶劑的甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone，MIBK)中，以製備塗佈溶液。

生產例4.生產抗紅化層(B)材料

藉由應用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)作為黏合劑並應用中空二氧化矽顆粒而生產了抗紅化層。作為中空二氧化矽顆粒，使用D10、D50及D90粒徑分別為39.9奈米、70.6奈米及126.0奈米的顆粒。在此種情況下，在形成抗紅化層之後，藉由TEM量測的孔徑的平均值大約為44.1奈米左右，並且粒徑大約為61奈米左右。將黏合劑、中空二氧化矽顆粒、含氟化合物(DIC公司的RS-90)及起始劑(汽巴公司的Irgacure 127)以55.1：40：1.1：3.8(黏合劑：中空二氧化矽顆粒：含氟化合物：起始劑)的重量比稀釋在作為溶劑的甲基異丁基酮(MIBK)中，以製備塗佈溶液。

生產例5.生產抗紅化層(C)材料

藉由應用季戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate，PETA)作為黏合劑並應用中空二氧化矽顆粒而生產了抗紅化層。作為中空二氧化矽顆粒，使用D10、D50及D90粒徑分別為39.9奈米、70.6奈米及126.0奈米的顆粒。在此種情況下，在形成抗紅化層之後，藉由TEM量測的孔徑的平均值大約為44.1奈米左右，並且粒徑大約為61奈米左右。將黏合劑、中空二氧化矽顆粒、含氟化合物(DIC公司的RS-90)及起始劑(汽巴公司的Irgacure 127)以76.5：20：0.5：3.0(黏合劑：中空二氧化矽顆粒：含氟化合物：起始劑)的重量比稀釋在作為溶劑的甲基異丁基酮(MIBK)中，以製備塗佈溶液。

生產例6.生產抗紅化層(D)材料

藉由應用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)作為黏合劑並應用中空二氧化矽顆粒而生產了抗紅化層。作為中空二氧化矽顆粒，使用D10、D50及D90粒徑分別為39.9奈米、70.6奈米及126.0奈米的顆粒。在此種情況下，在形成抗紅化層之後，藉由TEM量測的孔徑的平均值大約為44.1奈米左右，並且粒徑大約為61奈米左右。將黏合劑、中空二氧化矽顆粒、含氟化合物(DIC公司的RS-90)及起始劑(汽巴公司的Irgacure 127)以86.5：10：0.5：3.0(黏合劑：中空二氧化矽顆粒：含氟化合物：起始劑)的重量比稀釋在作為溶劑的甲基異丁基酮(MIBK)中，以製備塗佈溶液。

生產例7.生產樹脂層(A)材料

藉由應用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)作為黏合劑並應用實心二氧化矽顆粒代替中空二氧化矽顆粒而生產了樹脂層材料。 作為實心二氧化矽顆粒，使用D10、D50及D90粒徑分別為43.1奈米、69.9奈米及125.8奈米的顆粒。在此種情況下，在形成樹脂層之後，藉由TEM量測的粒徑大約為60奈米左右。將黏合劑、實心二氧化矽顆粒、含氟化合物(DIC公司的RS-90)及起始劑(汽巴公司的Irgacure 127)以31：65：0.1：3.9(黏合劑：實心二氧化矽顆粒：含氟化合物：起始劑)的重量比稀釋在作為溶劑的甲基異丁基酮(MIBK)中，以製備塗佈溶液。

實例1.

在厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜(曉星公司，PG601F)上形成了抗紅化層(含空隙層)。所述抗紅化層是藉由以下方式形成的：在所述TAC膜上用麥耶棒(Mayer bar)塗佈生產例3的抗紅化層(A)材料，在60℃左右將所述材料乾燥1分鐘左右，且然後用紫外線(252毫焦耳/平方公分(mJ/cm²))照射所述材料以具有約450奈米左右的最終厚度。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.148的水準下。

實例2.

藉由以下方式形成了抗紅化層：使用麥耶棒在與實例1相同的TAC膜上塗佈生產例4的塗佈溶液，在60℃下將所述塗佈溶液乾燥1分鐘，且然後用紫外線(252毫焦耳/平方公分)照射所述塗佈溶液以具有600奈米的最終厚度。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約 0.0359的水準下。

實例3.

以與實例1中相同的方式使用生產例5的塗佈材料形成了抗紅化層(含空隙層)，但將所述抗紅化層形成為具有大約950奈米左右的最終厚度。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.109的水準下。

實例4.

除了將含空隙層的厚度改變為約300奈米左右之外，以與實例1中相同的方式生產了抗紅化層。在與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面上量測的比表面積在約0.0715的水準下。

實例5.

除了將含空隙層的厚度改變為約400奈米左右之外，以與實例1中相同的方式生產了抗紅化層。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.1643的水準下。

實例6.

除了藉由應用生產例5的抗紅化層的塗佈材料形成厚度為約500奈米的含空隙層之外，以與實例1中相同的方式生產了抗紅化層。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.2207的水準下。

實例7.

除了應用生產例4的用於抗紅化層的塗佈材料之外，以與實例6中相同的方式生產了抗紅化層。在與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面上量測的比表面積在約0.0387的水準下。

實例8.

除了應用生產例3的用於抗紅化層的塗佈材料之外，以與實例6中相同的方式生產了抗紅化層。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.0513的水準下。

實例9

除了藉由應用生產例6的材料形成厚度為約3000奈米的含空隙層之外，以與實例6中相同的方式生產了抗紅化層。針對與所形成的抗紅化層的和TAC膜接觸的表面相對的表面量測的比表面積在約0.0611的水準下。

比較例1.

在厚度大約為60微米左右的三乙醯基纖維素(TAC)膜(曉星公司，PG601F)上形成了樹脂層。所述樹脂層是藉由以下方式形成的：用麥耶棒塗佈生產例7的樹脂層(A)材料，在60℃左右將所述材料乾燥1分鐘左右，且然後用紫外線(252毫焦耳/平方公分)照射所述材料以具有約450奈米左右的最終厚度。在與所形成的樹脂層的和TAC膜接觸的表面相對的表面上量測的比表面積在約0.01的水準下。

在上述實例中的每一者中形成的抗紅化層的特性總結及描述於下表1中。

實例10.藉由應用一般光學水系黏著劑層(厚度：100奈米)將厚度大約為30微米左右的作為保護膜的環烯烴聚合物(cycloolefin polymer，COP)膜(製造商：日本瑞翁公司(Zeon))貼附到了在生產例1中獲得的偏振層(A)。用相同的水系黏著劑(厚度：100奈米)將實例1的抗紅化層的含空隙層貼附到了以上所生產的COP膜及偏振層(B)的層疊體中的偏振層(B)。隨後，在偏振片的底部上形成了丙烯酸壓敏黏著劑層，以生產具有如下結構的偏振片(光學層疊體)：在所述結構中，保護膜(COP膜)、 黏著劑層、偏振層、黏著劑層、抗紅化層(含空隙層)、保護膜(TAC膜)及壓敏黏著劑層依次層疊。

實例11.

除了應用在實例2中生產的抗紅化層之外，以與實例10中相同的方式生產了偏振片。

實例12.

除了應用在實例3中生產的抗紅化層之外，以與實例10中相同的方式生產了偏振片。

比較例2.

除了不應用抗紅化層之外，以與實例10中相同的方式生產了偏振片。

實例13.

除了應用在實例4中生產的抗紅化層之外，以與實例10中相同的方式生產了偏振片。

實例14.

除了應用在實例5中生產的抗紅化層之外，以與實例10中相同的方式生產了偏振片。

比較例3.

除了不應用抗紅化層之外，以與實例13中相同的方式生產了偏振片。

實例15.

除了應用在實例6中生產的抗紅化層之外，以與實例10 中相同的方式生產了偏振片。

實例16.

除了應用在實例7中生產的抗紅化層之外，以與實例15中相同的方式生產了偏振片。

實例17.

除了應用在實例8中生產的抗紅化層之外，以與實例15中相同的方式生產了偏振片。

實例18

除了應用在實例9中生產的抗紅化層之外，以與實例15中相同的方式生產了偏振片。

比較例4.

藉由應用一般光學水系黏著劑層(厚度：100奈米)將厚度大約為30微米左右的作為保護膜的環烯烴聚合物(COP)膜(製造商：日本瑞翁公司)貼附到了在生產例1中獲得的偏振層(A)。用與上述相同的水系黏著劑(厚度：100奈米)將比較例1的樹脂層貼附到了以上所生產的COP膜及偏振層(A)的層疊體中的偏振層(A)。隨後，在偏振片的底部上形成了丙烯酸壓敏黏著劑層，以生產具有如下結構的偏振片(光學層疊體)：在所述結構中，保護膜(COP膜)、黏著劑層、偏振層、黏著劑層、樹脂層、保護膜(TAC膜)及壓敏黏著劑層依次層疊。

在對上述實例及比較例中的光學層疊體(偏振片)執行耐熱測試之後，評估了單一透射率及色座標a*變化量，並且將結 果總結及描述在下表2中。此處，藉由以下方式執行了耐熱測試：使在實例或比較例的每一者中生產的偏振片的整個頂表面及整個底表面與厚度為約1.1毫米左右的鈉鈣玻璃(世源科技公司(SEWON TECH))接觸並使其層疊、且然後將所得物在105℃下保持250小時。此外，在觀察是否用肉眼確認出紅化現象之後，在確認出所述紅化現象的情況下將結果總結為不良(NG)，且在未確認出所述紅化現象的情況下將結果總結為通過(PASS)，並在下表2中進行了描述(在下表2中，透射率的單位是%)。

10:光學功能層

20:抗紅化層

30:附加層

Claims (12)

1. 一種抗紅化層，其為含空隙層或包括所述含空隙層，其中所述含空隙層在小角度X射線散射的散射強度的對數值曲線圖中在0.06奈米^-1至0.209奈米^-1的散射向量範圍內表現出峰值，並且其中所述含空隙層滿足以下方程式4：

   

   其中H_L為聚合物膜及形成於所述聚合物膜的一側上的所述含空隙層的層疊體的熱擴散率，且H_P為所述聚合物膜的熱擴散率。
2. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述含空隙層中空隙的直徑為0.5奈米至100奈米。
3. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述含空隙層中的空隙的體積分數為0.1或大於0.1。
4. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述含空隙層包含黏合劑及中空顆粒。
5. 如請求項4所述的抗紅化層，其中所述黏合劑包含衍生自具有2至10個可聚合官能基的多官能丙烯酸酯的聚合物。
6. 如請求項4所述的抗紅化層，其中在粒度分佈的權重累積曲線中，所述中空顆粒具有在25奈米至50奈米範圍內的D10粒徑、在55奈米至95奈米範圍內的D50粒徑、以及在100奈米至200奈米範圍內的D90粒徑。
7. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述含空隙層不包含實心顆粒。
8. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述含空隙層具有200奈米或大於200奈米的厚度。
9. 如請求項1所述的抗紅化層，其中所述抗紅化層鄰近光學功能層存在，並且其中所述抗紅化層與所述光學功能層之間的距離在90微米內。
10. 如請求項9所述的抗紅化層，其中所述光學功能層是碘系偏振層。
11. 一種光學層疊體，包括：光學功能層；以及如請求項1所述的抗紅化層，形成於所述光學功能層的至少一側上。
12. 一種顯示器裝置，包括：覆蓋玻璃；以及光學層疊體，貼附至所述覆蓋玻璃，其中所述光學層疊體包括光學功能層、以及形成於所述光學功能層的至少一側上的如請求項1所述的抗紅化層。

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