TWI722108B - 研磨墊及研磨墊之製造方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 123
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 53
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims abstract description 45
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 claims description 32
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 23
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 23
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 8
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 8
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 8
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000103 Expandable microsphere Polymers 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- WTPYFJNYAMXZJG-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)phenoxy]ethanol Chemical compound OCCOC1=CC=C(OCCO)C=C1 WTPYFJNYAMXZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 2
- JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCC(CO)(CO)C(O)=O JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQSQUYVFNGIECQ-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dimethyl-1-n,4-n-dinitrosobenzene-1,4-dicarboxamide Chemical compound O=NN(C)C(=O)C1=CC=C(C(=O)N(C)N=O)C=C1 CQSQUYVFNGIECQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJGXPIYXMGYKTR-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpentane-1,5-diol Chemical compound OCC(C)C(C)CCO MJGXPIYXMGYKTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 2-methyloctane-1,8-diol Chemical compound OCC(C)CCCCCCO SDQROPCSKIYYAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDGCBNTXZHJTHJ-UHFFFAOYSA-N 2h-1,3-oxazol-2-id-4-one Chemical class O=C1CO[C-]=N1 WDGCBNTXZHJTHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-methylene-bis-(2-chloroaniline) Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(hydrazinesulfonyl)phenoxy]benzenesulfonohydrazide Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)NN)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)NN)C=C1 NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICGLPKIVTVWCFT-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonohydrazide Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)NN)C=C1 ICGLPKIVTVWCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBLXROPVLQTBSS-UHFFFAOYSA-N CCCc(cc1)ccc1S([O-])(=C)=[O]=C Chemical compound CCCc(cc1)ccc1S([O-])(=C)=[O]=C OBLXROPVLQTBSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDPPXFUBIJJIKR-UHFFFAOYSA-N C[N](C)(C)CCO Chemical compound C[N](C)(C)CCO GDPPXFUBIJJIKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLQCBYXJLRBGBG-UHFFFAOYSA-N C[N](CCO)(CCO)CCO Chemical compound C[N](CCO)(CCO)CCO DLQCBYXJLRBGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- MWRWFPQBGSZWNV-UHFFFAOYSA-N Dinitrosopentamethylenetetramine Chemical compound C1N2CN(N=O)CN1CN(N=O)C2 MWRWFPQBGSZWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 241001112258 Moca Species 0.000 description 1
- 0 O=C(N(*N=C=O)C(N1*N=C=O)=O)N(*N=C=O)C1=O Chemical compound O=C(N(*N=C=O)C(N1*N=C=O)=O)N(*N=C=O)C1=O 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- CVXBEEMKQHEXEN-UHFFFAOYSA-N carbaryl Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)NC)=CC=CC2=C1 CVXBEEMKQHEXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005286 carbaryl Drugs 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002666 chemical blowing agent Substances 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLTXFEAAEJABQN-UHFFFAOYSA-N heptane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCCCC(O)(O)O CLTXFEAAEJABQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N n-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1NN=NC1=CC=CC=C1 ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-M urea-1-carboxylate Chemical compound NC(=O)NC([O-])=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
- B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
本發明係一種高分子體等,該高分子體係包含聚胺基甲酸酯樹脂者,上述聚胺基甲酸酯樹脂具備源自包含羥基之化合物之第1結構單元與源自包含異氰酸基之化合物之第2結構單元,上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
Description
本案主張日本專利特願2016-024739號之優先權,以引用之方式組入本案說明書之記載中。
本發明係關於一種高分子體、研磨墊、及高分子體之製造方法。
包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體用於各種用途。
例如該高分子體可用作研磨被研磨物(例如矽晶圓等)之研磨墊等(例如專利文獻1等)。
[專利文獻1]日本專利特開2015-6729號公報
作為使用上述研磨墊研磨被研磨物之方法,例如存在以下方法。
首先,於研磨機之上壓盤之下表面貼附圓盤狀之被研磨物,又,於上述研磨機之下壓盤之上表面貼附圓盤狀之研磨墊。其後,藉由上述上壓盤
及上述下壓盤將上述被研磨物壓抵於上述研磨墊。其次,於將上述被研磨物壓抵於上述研磨墊之狀態下,一面向上述研磨墊上供給研磨用漿料,一面使上述上壓盤及上述下壓盤旋轉,藉此研磨上述被研磨物。
作為上述研磨用漿料,使用含有水與研磨粒之研磨用漿料等。
然而,於研磨被研磨物時,若研磨墊較硬則容易損傷被研磨物。
近年來,存在要求不易損傷被研磨物之研磨方法之情況,從而存在亦要求硬度較低之研磨墊之情況。
然而,硬度較低之研磨墊存在缺乏操作性之問題。
例如圓盤狀之研磨墊通常直徑為1000~2500mm左右,此種尺寸之研磨墊若過軟,則搬運時容易變形,其結果存在難以將研磨墊自研磨機外搬運至研磨機之壓盤上之特定位置之問題。
又,將研磨墊貼附於壓盤上之方法通常為以下方法。即,將雙面膠帶之一面側貼附於研磨墊,其後,將貼附於研磨墊之雙面膠帶之另一面側貼附於壓盤,藉此將研磨墊貼附於壓盤。然而,研磨墊若過軟則操作性較低,因此存在貼附於研磨墊之雙面膠帶之另一面側於壓盤上之貼附位置偏離所需位置之問題。
又,研磨墊之製作方法通常為如下方法:暫時製作大於研磨墊所需尺寸之高分子體,其後,對該高分子體進行切片,藉此製作研磨墊,但高分子體若過軟則存在難以進行切片之問題。
著眼於此種問題,本發明者經過努力研究,結果發現於研磨被研磨物時要求硬度較低之研磨墊,其以外時則要求硬度較高之研磨墊。
即,本發明者經過努力研究,結果發現藉由提供於特定狀況下硬度變低之高分子體,而可提供適於研磨墊等之高分子體。
因此,本發明鑒於上述要求點,其課題在於提供一種於特定狀況下硬度變低之高分子體,並且提供具備該高分子體之研磨墊、及製作該高分子體之高分子體之製造方法。
本發明之高分子體係包含聚胺基甲酸酯樹脂者,上述聚胺基甲酸酯樹脂具備源自包含羥基之化合物之第1結構單元與源自包含異氰酸基之化合物之第2結構單元,且上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
又,本發明之高分子體較佳為上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子。
進而,該源自有機陽離子之結構單元較佳為源自離子液體。
進而,本發明之高分子體較佳為上述聚胺基甲酸酯樹脂具有交聯結構。
又,本發明之高分子體較佳為包含上述聚胺基甲酸酯樹脂之聚胺基甲酸酯樹脂發泡體。
進而,本發明之高分子體較佳為研磨墊用,用作構成該研磨墊之至少研磨面之部分。
又,本發明之研磨墊具備上述高分子體。
進而,本發明之高分子體之製造方法係獲得包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體者,藉由使包含羥基之化合物與包含異氰酸基之化合物鍵結而獲得上述高分子體,且
上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
又,本發明之高分子體之製造方法較佳為上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子,上述有機陽離子源自離子液體,於上述離子液體之熔點以上之溫度下進行上述鍵結。
圖1係實施例2之高分子體之剖面之SEM(Scanning Electron Microscope,掃描式電子顯微鏡)照片。
圖2係比較例2之高分子體之剖面之SEM照片。
圖3係實施例3之高分子體之剖面之SEM照片。
以下對發明之一實施形態進行說明。
首先,關於本實施形態之高分子體,以作為包含聚胺基甲酸酯樹脂之聚胺基甲酸酯樹脂發泡體的研磨墊用高分子體為例進行說明。
本實施形態之高分子體係用作構成上述研磨墊之至少研磨面之部分。
本實施形態之高分子體為包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體。
上述聚胺基甲酸酯樹脂具備源自包含羥基之化合物(以下亦稱為「羥基化合物」)之第1結構單元與源自包含異氰酸基之化合物(以下亦稱為「異氰酸酯化合物」)之第2結構單元。
上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
上述聚胺基甲酸酯樹脂為使作為羥基化合物之多元醇與作為異氰酸
酯化合物之聚異氰酸酯鍵結而得之樹脂。
上述有機陽離子係藉由使異氰酸酯化合物之異氰酸基與羥基反應而進入至聚胺基甲酸酯樹脂之分子中。
上述有機陽離子可為一元醇亦可為多元醇。即,由有機陽離子形成之結構單元可存在於聚胺基甲酸酯樹脂之分子之末端,或亦可存在於較末端而言之內部。
上述第1結構單元之1個以上較佳為源自包含羥基之有機陽離子。
上述源自有機陽離子之結構單元較佳為源自離子液體。
上述離子液體之熔點較佳為150℃以下,更佳為100℃以下。
再者,離子液體之熔點例如可使用示差掃描熱量計裝置(DSC)求出。更具體而言,可一面通入氮氣,一面以5℃/min之升溫速度使試樣(離子液體)自較所預測熔點低30℃以上之溫度升溫至高30℃以上之溫度,根據此時所獲得之DSC曲線而求出。
上述離子液體較佳為具備具有2個以上羥基之陽離子。藉由上述離子液體具備具有2個以上羥基之陽離子,可使所獲得之聚合物內帶有更多之基於陽離子之電荷。其結果具有以下優點:可更進一步提高與液狀之極性物質(水等)之親和性,可更進一步擴大與液狀之極性物質接觸之狀態和不與液狀之極性物質接觸之狀態的硬度差。
作為具備具有2個以上羥基之陽離子之離子液體,例如可列舉下述式(1)~(3)之離子液體。
又,作為具備僅具有1個羥基之陽離子之離子液體,例如可列舉下述式(4)、(5)之離子液體。
作為離子液體,就可賦予分子內較多之電荷之觀點而言,較佳為具備
具有2個以上羥基之陽離子之離子液體。
上述有機陰離子係藉由使異氰酸酯化合物之異氰酸基與羥基反應而進入至聚胺基甲酸酯樹脂之分子中。
上述有機陰離子可為一元醇亦可為多元醇。即,由有機陰離子形成之結構單元可存在於聚胺基甲酸酯樹脂之分子之末端,或亦可存在於較末端而言之內部。
上述有機陰離子源自2,2-雙(羥甲基)丁酸(DMBA)(下述式(6)之化合物)等。再者,DMBA中之「COOH基」可解離為「COO-」與「H+」。
上述多元醇可列舉多元醇單體或多元醇預聚物。
作為該多元醇單體,例如可列舉:1,4-苯二甲醇、1,4-雙(2-羥基乙氧基)苯、乙二醇、1,2-丙二醇1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、三丙二醇、分子量400以下之聚乙二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇等直鏈脂肪族二醇,可列舉:新戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、2-甲基-1,8-辛二醇等支鏈脂肪族二醇,可列舉:1,4-環己二醇、1,4-環己烷二甲醇、氫化雙酚A等脂環族二醇,可列舉:甘油、三羥甲基丙烷、三羥丁基丙烷、季戊四醇、山梨醇等多官能多元醇等。
作為上述多元醇單體,就反應時之強度容易變得更高,包含所製造之發泡聚胺基甲酸酯之研磨墊之剛性容易變得更高,相對廉價之方面而言,較佳為乙二醇、二乙二醇。
作為上述多元醇預聚物,可列舉:聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚酯聚碳酸酯多元醇及聚碳酸酯多元醇等。再者,作為多元醇預聚物,亦可列舉分子中具有3個以上羥基之多官能多元醇預聚物。
詳細而言,作為上述聚醚多元醇,可列舉:聚四亞甲基二醇(PTMG)、聚丙二醇(PPG)、聚乙二醇(PEG)、環氧乙烷加成聚丙烯多元醇等。
作為上述聚酯多元醇,可列舉:聚己二酸丁二酯、聚己二酸己二酯及
聚己內酯多元醇等。
作為上述聚酯聚碳酸酯多元醇,可列舉:聚己內酯多元醇等聚酯二醇與碳酸伸烷酯之反應產物、使碳酸乙二酯與多元醇反應所得之反應混合物進而與有機二羧酸反應而獲得之反應產物等。
作為上述聚碳酸酯多元醇,可列舉:1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、或聚四亞甲基二醇等二醇與碳醯氯、碳酸二烯丙酯(例如碳酸二苯酯)或環式碳酸酯(例如碳酸丙二酯)之反應產物等。
作為上述多元醇預聚物,就容易獲得具有彈性之發泡聚胺基甲酸酯之方面而言,較佳為數量平均分子量為800~8000者,具體而言,較佳為聚四亞甲基二醇(PTMG)、環氧乙烷加成聚丙烯多元醇。
作為上述聚異氰酸酯,可列舉:聚異氰酸酯、聚異氰酸酯預聚物。
作為上述聚異氰酸酯,可列舉:芳香族二異氰酸酯、脂肪族二異氰酸酯、脂環族二異氰酸酯等。
作為上述芳香族二異氰酸酯,可使用藉由使由苯胺與甲醛縮合所得之胺混合物於不活性溶劑中與碳醯氯反應等而獲得之粗二苯基甲烷二異氰酸酯(粗MDI)、精製該粗MDI而獲得之二苯基甲烷二異氰酸酯(純MDI)、聚亞甲基聚伸苯基聚異氰酸酯(聚合MDI)、及該等之改性物等,又,可使用甲苯二異氰酸酯(TDI)、1,5-萘二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、1,3-苯二異氰酸酯、1,4-苯二異氰酸酯等。再者,該等芳香族二異氰酸酯可單獨或組合複數個使用。
作為二苯基甲烷二異氰酸酯之改性物,例如可列舉:碳二醯亞胺改性物、胺基甲酸酯改性物、脲基甲酸酯改性物、脲改性物、縮二脲改性物、
異氰尿酸酯改性物、唑啶酮改性物等。作為該改性物,具體而言,例如可列舉碳二醯亞胺改性二苯基甲烷二異氰酸酯(碳二醯亞胺改性MDI)。
作為上述脂肪族二異氰酸酯,例如使用二異氰酸乙二酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等。
作為上述聚異氰酸酯預聚物,可列舉由多元醇與芳香族二異氰酸酯、脂肪族二異氰酸酯、脂環族二異氰酸酯中之至少某一種二異氰酸酯鍵結而成之預聚物等。
作為上述聚異氰酸酯,就其蒸汽壓更低而不易揮發,從而容易控制作業環境之方面而言,較佳為二苯基甲烷二異氰酸酯(純MDI)、聚合MDI、或其改性物。又,就黏度更低、易於操作之方面而言,較佳為碳二醯亞胺改性MDI、聚合MDI、或該等與MDI之混合物。
上述聚胺基甲酸酯樹脂較佳為具有交聯結構。
上述交聯結構較佳為源自具有異氰酸基及羥基中之至少一種官能基、且具有異氰酸基與羥基合計3個以上的多官能化合物。
作為該多官能化合物,例如可列舉下述式(7)之化合物等。此處,「下述式(7)」之「R」可列舉「(CnH2n)」(n為正整數,例如n=1~10)。
作為下述式(7)之化合物,可列舉1,6-六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(R=C6H12)。
又,上述多官能化合物亦可為作為離子液體之上述式(1)之化合物。
上述聚胺基甲酸酯樹脂中之上述交聯濃度較佳為0.06~0.80mmol/g。
再者,交聯濃度係以莫耳單位表示聚胺基甲酸酯樹脂1g中之交聯點之量者。
本實施形態之高分子體係以如上方式構成,其次,對本實施形態之高分子體之製造方法進行說明。
藉由本實施形態之高分子體之製造方法而獲得具有聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體。
又,於本實施形態之高分子體之製造方法中,藉由使包含羥基之化合物與包含異氰酸基之化合物鍵結而獲得上述高分子體。
於本實施形態之高分子體之製造方法中,具體而言,將包含羥基之化合物、包含異氰酸基之化合物及發泡劑進行混合而獲得混合物,使該混合物聚合發泡,藉此獲得高分子體。
上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
於本實施形態之高分子體之製造方法中,較佳為上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子,上述有機陽離子源自離子液體,於上述離子液體之熔點以上之溫度下進行上述鍵結。
作為上述發泡劑,只要為於成形上述發泡聚胺基甲酸酯時產生氣體而成為氣泡,從而於上述發泡聚胺基甲酸酯中形成氣泡者,則無特別限定,例如可單獨或組合使用於加熱下分解而產生氣體之有機化學發泡劑、沸點為-5~70℃之低沸點烴、鹵代烴、水、液化二氧化碳等。
作為上述有機化學發泡劑,例如可列舉:偶氮系化合物(偶氮二甲醯胺、偶氮二異丁腈、重氮胺基苯、偶氮二羧酸鋇等)、亞硝基化合物(N,N'-二亞硝基五亞甲基四胺、N,N'-二亞硝基-N,N'-二甲基對苯二甲醯胺等)、磺醯肼化合物[p,p'-氧基雙(苯磺醯肼)、對甲苯磺醯肼等]等。
作為上述低沸點烴,例如可列舉:丁烷、戊烷、環戊烷、及該等之混合物等。
作為上述鹵代烴,可列舉二氯甲烷、HFC(氫氟碳類)等。
又,上述發泡劑亦可為加熱膨脹性微小球狀體。該加熱膨脹性微小球狀體之粒徑例如為20~30μm。該加熱膨脹性微小球狀體具備由熱塑性樹脂形成之中空體與設置於中空體之中空部分之液狀烴。作為上述加熱膨脹性微小球狀體,例如可列舉日本Fillite公司製造之Expancel(註冊商標)或松本油脂製藥公司製造之熱膨脹性微膠囊等。
於製作發泡聚胺基甲酸酯樹脂時使用水作為發泡劑之情形時,藉由上述離子性化合物而使水容易分散於混合物中,因此具有發泡聚胺基甲酸酯樹脂之氣泡容易變得微細之優點。換言之,具有發泡聚胺基甲酸酯樹脂變得不易產生粗大氣泡之優點。其結果具有被研磨物變得不易受損之優點。
本實施形態之研磨墊具備本實施形態之高分子體。
本實施形態之高分子體、研磨墊、及高分子體之製造方法係以如上方式構成,因此具有以下優點。
本實施形態之高分子體係包含聚胺基甲酸酯樹脂者。
上述聚胺基甲酸酯樹脂具備源自包含羥基之化合物之第1結構單元與源自包含異氰酸基之化合物之第2結構單元。
上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
該高分子體之聚胺基甲酸酯樹脂成為具有陽離子及陰離子中之至少一者之化學結構,其結果成為與液狀之極性物質(水等)之親和性優異之化學結構。因此,藉由該聚胺基甲酸酯樹脂與液狀之極性物質接觸,而極性分子(H2O分子等)容易進入至聚胺基甲酸酯樹脂之聚合物分子間。其結果該聚胺基甲酸酯樹脂成為於與液狀之極性物質接觸之狀態下之硬度低於不與液狀之極性物質接觸之狀態下之硬度者。
因此,該高分子體成為於與液狀之極性物質接觸之狀態下之硬度低於不與液狀之極性物質接觸之狀態下之硬度者。
即,該高分子體成為於特定狀況下硬度變低之高分子體。
又,於本實施形態之高分子體中,較佳為上述聚胺基甲酸酯樹脂具有交聯結構。
該高分子體由於上述聚胺基甲酸酯樹脂具有交聯結構,故而具有如下優點:可抑制於與液狀之極性物質(水等)接觸時因該液狀之極性物質所致之膨脹,其結果可抑制因與該液狀之極性物質接觸所致之變形。
又,本實施形態之研磨墊具備上述高分子體。
進而,本實施形態之高分子體之製造方法係獲得包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體者。
又,本實施形態之高分子體之製造方法藉由使包含羥基之化合物與包
含異氰酸基之化合物鍵結而獲得上述高分子體。
上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者。
又,於本實施形態之高分子體之製造方法中,較佳為上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子。上述有機陽離子源自離子液體。於本實施形態之高分子體之製造方法中,於上述離子液體之熔點以上之溫度下進行上述鍵結。
於該高分子體之製造方法中,由於在上述離子液體之熔點以上之溫度下進行上述鍵結,故而具有如下優點:容易使上述離子液體與其他材料於上述鍵結前均勻混合,而可獲得均勻性優異之高分子體。
如上所述,根據本實施形態,可提供一種於特定狀況下硬度變低之高分子體,並且提供具備該高分子體之研磨墊、及製作該高分子體之高分子體之製造方法。
再者,本發明之高分子體、研磨墊、及高分子體之製造方法並不限定於上述實施形態。又,本發明之高分子體、研磨墊、及高分子體之製造方法並不限定於上述作用效果。本發明之高分子體、研磨墊、及高分子體之製造方法可於未脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
即,本實施形態之高分子體係使上述混合物中含有發泡劑而形成,但亦可藉由攪拌使上述混合物中混入空氣而形成。
又,本實施形態之高分子體為聚胺基甲酸酯樹脂發泡體,但本發明之高分子體亦可為於不織布中含浸聚胺基甲酸酯樹脂而成之高分子體。
進而,本發明之高分子體之聚胺基甲酸酯樹脂亦可使上述混合物中含有微小中空體而形成。
又,本實施形態之高分子體為研磨墊用之高分子體,但本發明之高分子體亦可用於其他用途,例如亦可用作化妝品之材料、商務用海綿、清潔用海綿、樹脂改質用填料等。
其次,列舉實施例及比較例而更具體地說明本發明。
(實施例1)
將藉由使甲苯二異氰酸酯(TDI)、聚丙二醇(PPG)及二乙二醇(DEG)反應而獲得之胺基甲酸酯預聚物與六亞甲基二異氰酸酯之三聚物進行混合,藉此製作主劑。又,藉由將下述式(1)之離子液體、1,4-苯二甲醇及1,4-雙(2-羥基乙氧基)苯進行混合而製作硬化劑。其後,將上述主劑、上述硬化劑及作為發泡劑之水進行混合,使之於70℃下反應,藉此獲得高分子體。
再者,主劑、硬化劑及發泡劑中之離子液體之濃度設為5質量%。
(比較例1)
將藉由使甲苯二異氰酸酯(TDI)、聚四亞甲基醚二醇(PTMG)及二乙二醇(DEG)反應而獲得之胺基甲酸酯預聚物、亞甲基雙鄰氯苯胺(MOCA)及作為發泡劑之水進行混合,使之於70℃下反應,藉此獲得高分子體。
(吸水試驗)
將實施例1及比較例1之高分子體供於吸水試驗。
即,首先,測定高分子體(長:50mm、寬:50mm、高:1mm)之質量(G1)。其後,使高分子體於40℃之溫水中浸漬24小時,測定浸漬後之高分子體之質量(G2)。其後,藉由下述式算出吸水率P。
P=(G2-G1)/G1×100(%)
實施例1之高分子體之吸水率為20%。另一方面,比較例1之高分子體之吸水率為5%。
因此,可知實施例1之高分子體其吸水率高於比較例1之高分子體,成為容易吸收水之結構。
(實施例2)
將藉由使甲苯二異氰酸酯(TDI)、聚丙二醇(PPG)及二乙二醇(DEG)反應而獲得之胺基甲酸酯預聚物與六亞甲基二異氰酸酯之三聚物進行混合,藉此製作主劑。又,藉由將下述式(3)之離子液體與1,4-雙(2-羥基乙氧基)苯進行混合而製作硬化劑。其後,將上述主劑、上述硬化劑及作為發泡劑之水進行混合,使之於70℃下反應,藉此獲得高分子體。
再者,主劑、硬化劑及發泡劑中之離子液體之濃度設為10質量%。
(比較例2)
使用三乙醇胺(TEOA)代替上述離子液體,除此以外,藉由與實施例2相同之方式獲得高分子體。
(實施例3)
使用2,2-雙(羥甲基)丁酸(DMBA)代替上述離子液體,除此以外,藉由與實施例2相同之方式獲得高分子體。
(密度)
密度(表觀密度)係藉由測定高分子體之長方體狀之試片之長、寬、厚,進而測定該試片之質量而求出。
(硬度(JIS-A))
硬度(JIS-A)係依據基於JIS K7312-1996之A型之硬度試驗,於23℃下進行測定。
再者,濕潤時之硬度意指使高分子體於40℃之溫水中浸漬24小時後高分子體之硬度。
(硬度(Asker-C))
硬度(Asker-C)係依據SRIR0101,於23℃下進行測定。
再者,濕潤時之硬度意指使高分子體於40℃之溫水中浸漬24小時後高分子體之硬度。
(切片試驗)
使用刀具將圓筒狀之高分子體(直徑:90mm、厚度:90mm)切成厚度1~2mm之切片。此處,藉由固定高分子體,使刀具於水平方向上朝向該高分子體移動而對該高分子體進行切片。作為上述刀具,使用被稱為超硬刀具之由碳化鎢與鈷之混合物經煅燒固化而成之刀具。
進而,按照以下之基準進行評價。
○:能夠進行切片
×:無法進行切片
(氣泡之尺寸)
為了確認氣泡之尺寸,利用掃描式電子顯微鏡(SEM)拍攝高分子體之剖面之圖片。
將SEM照片之結果示於圖1~3。又,將其以外之結果示於下述表1。
如表1所示,與比較例2之高分子體相比,實施例2、3之高分子體藉由與水之接觸而硬度大幅度降低。因此,可知本發明之高分子體為於特定狀況下硬度變低之高分子體。
又,如表1所示,與實施例3之高分子體相比,實施例2之高分子體藉由與水之接觸而硬度大幅度降低。因此,可知與實施例3之高分子體相比,實施例2之高分子體為於特定狀況下硬度變低之高分子體。
推測出現該結果之原因如下。實施例3之高分子體成為結構單元中包含羧酸之結構。認為羧酸於與pKa為4左右、pH值為7之水接觸之情形時,0.01%左右之羧基變為陰離子。另一方面,離子液體於與水接觸之情形時,大部分能夠以陽離子之形式存在。認為其結果與實施例3之高分子體相比,
實施例2之高分子體藉由與水之接觸而硬度大幅度降低。
如圖1~3所示,與比較例2及實施例3之高分子體相比,實施例2之高分子體中之氣泡較小。
Claims (8)
- 一種研磨墊,其係具備包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體者,上述聚胺基甲酸酯樹脂具備源自包含羥基之化合物之第1結構單元與源自包含異氰酸基之化合物之第2結構單元,且上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者,上述高分子體至少用作構成研磨面之部分。
- 如請求項1之研磨墊,其中上述第1結構單元之1個以上源自包含羥基之有機陽離子。
- 如請求項2之研磨墊,其中上述源自有機陽離子之結構單元源自離子液體。
- 如請求項1至3中任一項之研磨墊,其中上述聚胺基甲酸酯樹脂具有交聯結構。
- 如請求項1至3中任一項之研磨墊,其中上述高分子體為包含上述聚胺基甲酸酯樹脂之聚胺基甲酸酯樹脂發泡體。
- 如請求項4之研磨墊,其中上述高分子體為包含上述聚胺基甲酸酯樹脂之聚胺基甲酸酯樹脂發泡體。
- 一種研磨墊之製造方法,其係獲得具備包含聚胺基甲酸酯樹脂之高分子體之研磨墊者,藉由使包含羥基之化合物與包含異氰酸基之化合物鍵結而獲得上述高分子體,且上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子及包含羥基之有機陰離子中之至少一者,上述高分子體至少用作構成研磨面之部分。
- 如請求項7之研磨墊之製造方法,其中上述包含羥基之化合物具有包含羥基之有機陽離子,上述有機陽離子源自離子液體,且於上述離子液體之熔點以上之溫度下進行上述鍵結。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP??2016-024739 | 2016-02-12 | ||
JP2016024739A JP6639939B2 (ja) | 2016-02-12 | 2016-02-12 | 研磨パッド、および、研磨パッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201800480A TW201800480A (zh) | 2018-01-01 |
TWI722108B true TWI722108B (zh) | 2021-03-21 |
Family
ID=59563179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106104240A TWI722108B (zh) | 2016-02-12 | 2017-02-09 | 研磨墊及研磨墊之製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6639939B2 (zh) |
TW (1) | TWI722108B (zh) |
WO (1) | WO2017138564A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10464188B1 (en) * | 2018-11-06 | 2019-11-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pad and polishing method |
US10569384B1 (en) | 2018-11-06 | 2020-02-25 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pad and polishing method |
KR20220117220A (ko) * | 2019-12-13 | 2022-08-23 | 주식회사 쿠라레 | 폴리우레탄, 연마층, 연마 패드 및 연마 방법 |
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JP6536144B2 (ja) * | 2015-04-15 | 2019-07-03 | 東ソー株式会社 | 硬質ポリウレタンフォーム及びその製造方法 |
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2016
- 2016-02-12 JP JP2016024739A patent/JP6639939B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-08 WO PCT/JP2017/004579 patent/WO2017138564A1/ja active Application Filing
- 2017-02-09 TW TW106104240A patent/TWI722108B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6639939B2 (ja) | 2020-02-05 |
WO2017138564A1 (ja) | 2017-08-17 |
TW201800480A (zh) | 2018-01-01 |
JP2017141393A (ja) | 2017-08-17 |
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