TWI710745B

TWI710745B - 集約化卡式散熱模組之裝置

Info

Publication number: TWI710745B
Application number: TW108143302A
Authority: TW
Inventors: 孫源興
Original assignee: 孫源興
Priority date: 2019-11-28
Filing date: 2019-11-28
Publication date: 2020-11-21
Also published as: TW202120885A

Abstract

本發明係一種集約化卡式散熱模組之裝置，包含有一熱沉、一放大式迴路熱管、一冷凝吸熱沉塊及一應用物件，熱沉有一嵌置空間供數致冷晶片貼觸及供冷凝吸熱沉塊嵌入，熱沉以放大式迴路熱管作散熱，冷凝吸熱沉塊穿設有冷面迴路熱管傳遞冷源於應用物件，致冷晶片傳遞能量於冷凝吸熱沉塊及冷面迴路熱管供應於應用物件所需能量。

Description

集約化卡式散熱模組之裝置

本發明係有關於一種集約化卡式散熱模組之裝置，更詳而言之，尤指以熱沉設有一嵌置空間供數致冷晶片貼觸及供冷凝吸熱沉塊嵌入，以一放大式迴路熱管散熱致冷晶片，以一冷凝吸熱沉塊傳遞致冷晶片之冷源於一應用物件，供應於應用物件所需能量的一種集約化卡式散熱模組之裝置。

按，先行所知，致冷晶片使用上僅需輸入電流，就可進行冷卻或加熱，操作簡單也易於維修，因無機械零件、無噪音產生，且不使用冷媒，響應環保概念，致冷晶片應用市場成長極快，主要應用在光通訊精密溫控、生醫與半導體製程設備熱循環、消費性家電、中央處理器(CPU)、電器、電腦、電源控制、儀器等，在處理工作時所產生的高溫會影響其中電子零件的壽命，傳統以散熱片組和散熱風扇裝作散熱；然而，目前並未在散熱效率上有大幅快速的突破，各種散熱技術包括常見的散熱片、風扇、熱管及水冷系統等，大部分都是應用材料本身的熱傳導特性，或是工作流體相變化所吸收的潛熱，將電子元件的熱能帶走，基本上都將熱能由高溫傳導至低溫，或者是將熱能做主動傳輸，熱能由低溫端持續往高溫端傳送的功能，致冷晶片屬於主動式致冷，和壓縮機系統相比較，雖然在能源效益比值尚不及壓縮機系統，但在要求小體積、無動件、低噪音、輕量化且精確控溫等應用需求領域，有獨特的優勢，在民生領域方面，如小尺寸冰箱、或是講究無震動的紅酒櫃等，一直是致冷晶片廣泛應用的市場，工業與科學應用方面，由於致冷晶片易於操控溫度，特別適合用在生醫儀器、冰水機及低溫儀器儀表等需要溫度反覆變化的熱循環應用情境，在生醫領域複製DNA，需要在高熱通量負載下進行長期的溫度循環，特別適合致冷晶片的發揮，在半導體工業方面，致冷晶片也已經被大量導入在半導體晶圓的製程溫度控制上。

傳統應用於致冷晶片之散熱模組只有單純以傳統熱管，或均溫板，或傳統單體迴路管，或迴路熱管貫穿於各散熱器內，其缺失如下：

一、目前有使用傳統熱管，或均溫板，或傳統單體迴路管，或迴路熱管作能傳遞，傳遞速度慢、發揮效率不高，熱能傳遞量較小。

二、致冷晶片與導熱塊之接觸通常是以螺柱定位，組裝上速度慢且不方便。

三、散熱器以散熱鰭片為主，散熱效率有限。

四、目前各式熱管與熱沉之間，皆為分別個體式組裝，容易折損散熱效率。

五、目前各式的吸熱沉都是應用於平面式的發熱源，無法因應未來發展的立體式2.5D或3D的發熱源(如加高、加厚的中央處理器(CPU)，頂面及四周面均需散熱)。

目前應用於器具散熱或致冷晶片之散熱模組散熱效率未能提高，致應用在光通訊精密溫控、生醫與半導體製程設備熱循環、消費性家電、中央處理器(CPU)、電器、電腦、電源控制、儀器等，高溫影響其中電子零件的壽命，及工作效率。

有鑑於此，本案發明人乃基於上述弊端，積極努力開發、研究改良，並不斷試驗組裝，累積經驗，而終於有一足以解決上述弊端之本發明產生。

緣是，一種集約化卡式散熱模組之裝置，其係包含有：一熱沉，具有兩相對面之熱面吸熱沉塊，該兩熱面吸熱沉塊頂端為一隔熱蓋，該熱面吸熱沉塊供一熱面迴路熱管穿越，該兩熱面吸熱沉塊與該隔熱蓋之相對形成一凹入的嵌置空間，該嵌置空間內兩側各為數片致冷晶片，該致冷晶片有一致冷面及一散熱面，該散熱面貼觸於該熱面吸熱沉塊內面；一放大式迴路熱管，具有至少一熱面迴路熱管、至少一第一蒸發管、一副迴路熱管、一第一散熱鰭片及一第二散熱鰭片，該熱面迴路熱管穿越該熱面吸熱沉塊後再穿入於該第一蒸發管及該第二散熱鰭片，該第一蒸發管有該副迴路熱管的兩端導入，該第一散熱鰭片上方有風扇，該第二散熱鰭片側邊有風扇；一冷凝吸熱沉塊，與數片致冷晶片共同嵌入於該嵌置空間內，該致冷晶片之致冷面貼觸於該冷凝吸熱沉塊外側面，該冷凝吸熱沉塊供一冷面迴路熱管穿越；一應用物件，結合於該冷凝吸熱沉塊，為該致冷晶片傳遞能量於該冷凝吸熱沉塊及該冷面迴路熱管供應於該應用物件所需能量，該應用物件為該冷面迴路熱管穿越一第四散熱鰭片、一第五散熱鰭片及一冷媒管，該第五散熱鰭片下方有一風扇，該冷凝吸熱沉塊下方有一第三散熱鰭片，該第三散熱鰭片下方有一風扇。

本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，其主要目的係以熱沉設有一嵌置空間供致冷晶片貼觸及供冷凝吸熱沉塊嵌入，提供快速方便嵌置及快速拆卸冷凝吸熱沉塊的作用。

本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，其另一目的係提供以一放大式迴路熱管散熱致冷晶片，使致冷晶片可有效地、漸次地快速散熱。

本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，其再一目的係提供以一冷凝吸熱沉塊傳遞致冷晶片之冷源，使致冷晶片可有效地、漸次地快速冷房或冷源有效傳遞，應用於各式應用物件，供應於應用物件所需能量，或降溫應用物件。

本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，其次一要目的係以熱沉設有一嵌置空間供立體式中央處理器(如加高、加厚的CPU)貼觸嵌入，提供有效地、快速散熱。

〔本發明〕

10:熱沉

20:放大式迴路熱管

30:冷凝吸熱沉塊

300:應用物件

11:熱面吸熱沉塊

12:隔熱蓋

21:熱面迴路熱管

13:嵌置空間

14:致冷晶片

141:致冷面

142:散熱面

31:冷面迴路熱管

22:第一蒸發管

24:副迴路熱管

25:第一散熱鰭片

26:第二散熱鰭片

251:風扇

261:風扇

32:第四散熱鰭片

35:第五散熱鰭片

36:冷媒管

351:風扇

37:第三散熱鰭片

371:風扇

23:蒸發管

210:熱面迴路熱管

230:蒸發管

2300:蒸發管

310:冷面迴路熱管

2100:熱面迴路熱管

3100:冷面迴路熱管

90:熱沉

100:放大式迴路熱管

91:熱面吸熱沉塊

911:頂塊

912:側塊

101:上熱面迴路熱管

102:下熱面迴路熱管

92:嵌置空間

921:內面

922:內頂面

120:積體電路物

1031:副迴路熱管

103:蒸發管

104:上散熱鰭片

105:下散熱鰭片

1041:上風扇

1051:下風扇

103:蒸發管

121:主機板

110:熱沉

1200:放大式迴路熱管

111:熱面吸熱沉塊

1111:頂塊

1112:側塊

1201:上熱面迴路熱管

1202:下熱面迴路熱管

112:嵌置空間

1121:內面

1122:內頂面

1231:副迴路熱管

123:蒸發管

124:內散熱鰭片

125:外散熱鰭片

1241:內風扇

1251:外風扇

123:蒸發管

第一圖係本發明第一實施例之前視平面示意圖。

第二圖係本發明第一實施例熱沉、兩致冷晶片與冷凝吸熱沉塊之立體結合示意圖。

第三圖係本發明第一實施例熱沉、兩致冷晶片與冷凝吸熱沉塊之立體分解示意圖。

第四圖係本發明第一實施例之左視平面示意圖。

第五圖係本發明第一實施例之俯視平面示意圖。

第六圖係本發明第二實施例之俯視平面示意圖。

第七圖係本發明第三實施例熱沉之剖面示意圖。

第八圖係本發明第四實施例熱沉及放大式迴路熱管之平面示意圖。

第九圖係本發明第四實施例熱沉及放大式迴路熱管之俯視平面示意圖。

第十圖係本發明第五實施例熱沉及放大式迴路熱管之平面示意圖。

第十一圖係本發明第五實施例熱沉及放大式迴路熱管之俯視平面示意圖。

本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，第一實施例如第一、二、三、四、五圖所示，其係包含有一熱沉10、一放大式迴路熱管20、一冷凝吸熱沉塊30及一應用物件300，熱沉10具有兩面對面之熱面吸熱沉塊11，兩熱面吸熱沉塊11頂端為一隔熱蓋12，可以在兩熱面吸熱沉塊11兩側頂端以螺柱(圖未示)定位隔熱蓋12，或兩熱面吸熱沉塊11與隔熱蓋12一體成型，熱面吸熱沉塊11供一熱面迴路熱管21穿越，兩熱面吸熱沉塊11之相對距離形成一倒U形體凹入的嵌置空間13，嵌置空間13內兩側各為兩片致冷晶片14，致冷晶片14有一致冷面141及一散熱面142，散熱面142貼觸於熱面吸熱沉塊11內面，冷凝吸熱沉塊30嵌入於嵌置空間13內，冷凝吸熱沉塊30供一冷面迴路熱管31穿越，致冷面141貼觸於冷凝吸熱沉塊30外側面，放大式迴路熱管20具有至少一熱面迴路熱管21(純水工作液)、至少一第一蒸發管22(毛細蒸發器，使用低溫工作液，或常溫工作液，或甲醇，或氨水等)、一副迴路熱管24、一第一散熱鰭片25及一第二散熱鰭片26，熱面迴路熱管21穿越熱面吸熱沉塊11後再穿入於第一蒸發管22及第二散熱鰭片26，副迴路熱管24入於第一散熱鰭片25，第一蒸發管22供副迴路熱管24的兩端導入，第一散熱鰭片25上方有風扇251，第二散熱鰭片26側邊有風扇261，應用物件300係結合於冷凝吸熱沉塊30，為致冷晶片14傳遞能量於冷凝吸熱沉塊30及冷面迴路熱管31供應於應用物件40所需能量，其中該應用物件300實施為冷面迴路熱管31穿越第四散熱鰭片32、第五散熱鰭片35及一冷媒管36，第五散熱鰭片35下方有風扇351，冷凝吸熱沉塊30下方有第三散熱鰭片37，第三散熱鰭片37下方有風扇371，有關熱面迴路熱管21與副迴路熱管24分別行經的路徑其管徑有大有小，決定其對流順暢方向及停留時間的長短。

藉由上述之結構組合，第一實施例以致冷晶片14之致冷面141 貼觸於冷凝吸熱沉塊30，再將冷凝吸熱沉塊30嵌入於熱沉10之嵌置空間13內而定位，一方面嵌置空間13產生對冷凝吸熱沉塊30夾持力，另一方面當致冷面141產生冷源會對冷凝吸熱沉塊30凝結而定位，若要自熱沉10之嵌置空間13拆卸冷凝吸熱沉塊30，只將電流正負極互換，致冷晶片14冷熱面互換冷熱源，自然解凍冷凝吸熱沉塊30與致冷晶片14，而可順利拆卸冷凝吸熱沉塊30；致冷晶片14之散熱面142產生之熱源經熱面吸熱沉塊11至熱面迴路熱管21再通過第一蒸發管22(如第一圖箭頭所示)，通過第一蒸發管22時(熱面迴路熱管21只通過第一蒸發管22，各自工作液互不相溶入)，第一蒸發管22內的工作液受到溫度提升而氣化，由末端的副迴路熱管24進入至第一散熱鰭片25散熱再迴流循環至副迴路熱管24的前端，重新進入第一蒸發管22，出了第一蒸發管22的熱面迴路熱管21再至第二散熱鰭片26迴流至熱面吸熱沉塊11內，如此循環不斷，將致冷晶片14之散熱面142產生之熱源由第一蒸發管22、第一散熱鰭片25及第二散熱鰭片26傳導散熱，再經風扇251、261不斷地快速有效地散出熱流；而致冷晶片14之致冷面141產生冷源經冷凝吸熱沉塊30至冷面迴路熱管31(如第五圖箭頭所示)，冷面迴路熱管31穿越冷媒管36，經第五散熱鰭片35與第四散熱鰭片32，迴流至冷凝吸熱沉塊30，如此循環不斷，將致冷晶片14之致冷面141產生冷源經第五散熱鰭片35、第四散熱鰭片32及第三散熱鰭片37(第四、五圖)傳遞冷源，以風扇351及風扇371散出冷流作冷房效果。

第一實施例如第五圖所示，有關熱面迴路熱管21為兩組，兩組管體不相連個別獨立，各有蒸發管23，冷面迴路熱管31為單一管體；第二實施例如第六圖所示，有關熱面迴路熱管210為一組，但於熱沉10內有兩蒸發管230，熱面迴路熱管210通過蒸發管230(上方)再入蒸發管230(下方)，冷面迴路熱管310為單一管體；第三實施例如第七圖所示，有關熱面迴路熱管2100為兩組各穿越蒸發管2300，冷面迴路熱管3100也為兩組。

第四實施例如第八、九圖所示，其係包含有一熱沉90及一放大式迴路熱管100，熱沉90具有倒U形體之熱面吸熱沉塊91，熱面吸熱沉塊91有一頂塊911及兩側塊912，頂塊911供兩上熱面迴路熱管101穿越，兩側塊912各供一下熱面迴路熱管102穿越，兩側塊912之相對距離形成一凹入的嵌置空間92，嵌置空間92內有兩內面921及一內頂面922，一積體電路物120件嵌入於嵌置空間92內，積體電路物件120可為一中央處理器(CPU：Central Processing Unit或GPU：Graphics Processing Unit)，放大式迴路熱管100兩邊各具有上熱面迴路熱管101、下熱面迴路熱管102、一副迴路熱管1031、一蒸發管103、一上散熱鰭片104、一下散熱鰭片105及一上風扇1041、一下風扇1051，上熱面迴路熱管101分別穿越熱面吸熱沉塊91之頂塊911後再分別穿入於蒸發管103及下散熱鰭片105上方後形成一迴路，該上熱面迴路熱管101其中一段受蒸發管103包覆，蒸發管103有連通副迴路熱管1031，副迴路熱管1031穿入於上散熱鰭片104，下熱面迴路熱管102穿越熱面吸熱沉塊91之側塊912後再穿入於下散熱鰭片105下方後形成一迴路。

目前電腦、手機及其它電子產品都為單面發熱體，未來的積體電路物件120(中央處理器GPU)有往2.5D與3D面產生熱源發展，即頂面、左、右、前、後面產生熱源，第四實施例積體電路物件120之底面可為一主機板121，積體電路物件120之頂面與兩側面(散熱面)貼觸於熱面吸熱沉塊91之嵌置空間92之內頂面922及兩內面921內而定位，積體電路物件120之散熱面產生之熱源經熱面吸熱沉塊91之頂塊911至上熱面迴路熱管101分別再通過左右兩側之蒸發管103作降溫，再通過下散熱鰭片105，循環至熱面吸熱沉塊頂塊91內，並蒸發管103之副迴路熱管1031的工作液氣化後循環至上散熱鰭片104一圈後迴流於蒸發管103內，如此循環不斷，而積體電路物件120 之散熱面(兩側面)產生之熱源經熱面吸熱沉塊91之兩側塊912至下熱面迴路熱管102再通過下散熱鰭片105循環至熱面吸熱沉塊91之兩側塊912，如此循環不斷，將積體電路物件120之散熱面產生之熱源不斷地快速有效地散出，除了積體電路物件120外，也可應用三片的致冷晶片分別貼處於嵌置空間92內之兩內面921及內頂面922，達成致冷晶片的散熱效果。

第五實施例如第十、十一圖所示，其係包含有一熱沉110及一放大式迴路熱管1200，熱沉110為一熱面吸熱沉塊111，熱面吸熱沉塊111有一頂塊1111及兩側塊1112，頂塊1111供兩上熱面迴路熱管1201穿越，兩側塊1112各供一下熱面迴路熱管1202穿越，兩側塊912之相對距離形成一凹入的嵌置空間112，嵌置空間112內有數內面1121(可為兩內面或四內面)及一內頂面1122，一積體電路物120件嵌入於嵌置空間112內，積體電路物件120可為一中央處理器(CPU或GPU)，放大式迴路熱管1200兩邊各具有上熱面迴路熱管1201、下熱面迴路熱管1202、一副迴路熱管1231、一蒸發管123、一內散熱鰭片124、一外散熱鰭片125及一內風扇1241、一外風扇1251，上熱面迴路熱管1201分別穿越熱面吸熱沉塊111之頂塊1111後再分別穿入於蒸發管123及內散熱鰭片124後形成一迴路，該上熱面迴路熱管1201其中一段受蒸發管123包覆，蒸發管123有連通副迴路熱管1231，副迴路熱管1231穿入於外散熱鰭片125，下熱面迴路熱管1202穿越熱面吸熱沉塊111之側塊1112後再穿入於內散熱鰭片124後形成一迴路。

第五實施例積體電路物件120之底面可為一主機板121，積體電路物件120之頂面與兩側面(散熱面)貼觸於熱面吸熱沉塊111之嵌置空間112之內頂面1122及兩內面1121內而定位，積體電路物件120之散熱面產生之熱源經熱面吸熱沉塊111之頂塊1111至上熱面迴路熱管1201分別再通過左右兩側之蒸發管123作降溫，再通過內散熱鰭片124，循環至熱面吸熱沉塊頂塊111內，並蒸發管123之副迴路熱管1231的工作液氣化後循環至外散熱鰭片125一圈後迴流於蒸發管123內，如此循環不斷，而積體電路物件120之散熱面(兩側面)產生之熱源經熱面吸熱沉塊111之兩側塊1112至下熱面迴路熱管1202再通過內散熱鰭片124循環至熱面吸熱沉塊111之兩側塊1112，如此循環不斷，將積體電路物件120之散熱面產生之熱源不斷地快速有效地散出，若熱面吸熱沉塊111之嵌置空間112有五內面(即方形嵌置空間)可應用在2.5D型中央處理器(GPU)(即3面散熱，頂面、左面及右面)，或可應用在3D型中央處理器(GPU)(即5面散熱，頂面、左面、右面、前面及後面)；除了積體電路物件120外，也可應用三片的致冷晶片分別貼處於嵌置空間112之內頂面1122及兩內面1121，達成致冷晶片的散熱效果。

綜上所述，本發明一種集約化卡式散熱模組之裝置，其新穎性、實用性及進步性乃毋庸置疑，完全符合專利之要件，爰依法提請。