TWI701759B - 真空處理裝置 - Google Patents

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TWI701759B
TWI701759B TW108136031A TW108136031A TWI701759B TW I701759 B TWI701759 B TW I701759B TW 108136031 A TW108136031 A TW 108136031A TW 108136031 A TW108136031 A TW 108136031A TW I701759 B TWI701759 B TW I701759B
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Abstract

本發明是在於提供一種在沿著以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成的搬送路徑來搬送複數的基板保持器的真空處理裝置中，可抑制基板保持器的搬送時的粉塵的發生之技術。 本發明是在具有以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成的搬送路徑且形成單一的真空環境之真空槽(2)內，具有被安裝於對於此搬送路徑的搬送方向設在外方側的第1驅動部(36)之下垂防止構件(35)。下垂防止構件(35)的行走滾輪(54)會被設在位於基板保持器搬送機構(3)的下方側的復路側搬送部(33c)的下方，且被引導支撐於延伸於第2搬送方向(P2)的引導部(17)而行走，第1驅動部(36)會被構成為與基板保持器(11)的第1被驅動部(12)接觸而將基板保持器(11)沿著搬送路徑來朝第2搬送方向(P2)驅動。

Description

真空處理裝置
本發明是有關在真空中通過被保持於基板保持器的基板的兩面進行成膜等的真空處理之真空處理裝置的技術。
以往，將複數的被處理基板載置於托盤等的基板保持器而邊通過邊進行成膜等的處理之真空處理裝置為人所知，近年來，具有環狀的搬送路徑的真空處理裝置也被提案。
圖22是表示以往技術的真空處理裝置的全體的概略構成圖。 如圖22所示般，此真空處理裝置101是具有被連接至真空排氣裝置101a的形成單一的真空環境的真空槽102。
在真空槽102的內部是設有沿著搬送路徑來複數連續搬送保持基板(未圖示)的基板保持器111的基板保持器搬送機構103。
在此，基板保持器搬送機構103是一連串的搬送驅動構件133被架設於在將旋轉軸線形成平行的狀態下取預定距離而配置的一對的驅動輪131、132的構造體會取預定的距離來平行配置，藉此形成對於鉛直面成為一連串的環狀的搬送路徑。
在基板保持器搬送機構103是設有：導入基板保持器111的基板保持器導入部130A、將基板保持器111折返而搬送的搬送折返部130B、及將基板保持器111排出的基板保持器排出部130C。
在真空槽102內是在基板保持器搬送機構103的上部設有第1處理區域104且在基板保持器搬送機構103的下部設有第2處理區域105，搬送驅動構件133的上側的往路側搬送部133a會被構成為直線地沿著第1搬送方向P1來通過第1處理區域104，下側的復路側搬送部133c會被構成為直線地沿著第2搬送方向P2來通過第2處理區域105。
而且，在基板保持器搬送機構103的搬送折返部130B的附近是設有：在維持上下關係的狀態下從第1搬送方向P1往第2搬送方向P2將基板保持器111方向轉換的方向轉換機構140。
另一方面，在與真空槽102內的基板保持器搬送機構103的驅動輪131鄰接的位置是設有基板搬入搬出機構106。
此基板搬入搬出機構106是具有：被設在藉由昇降機構160來驅動於鉛直上下方向的驅動桿161的前(上)端部之支撐部162，在被設於此支撐部162上的搬送機械手164上支撐上述的基板保持器111而使基板保持器111移動於鉛直上下方向。
而且，利用此搬送機械手164，從基板搬入搬出機構106，對於基板保持器搬送機構103的基板保持器導入部130A交接基板保持器111，且被構成為以基板搬入搬出機構106來接受從基板保持器搬送機構103的基板保持器排出部130C排出的基板保持器111。
圖23是表示以往的基板保持器搬送機構的概略構成圖。 如圖23所示般，在基板保持器搬送機構103的一對的搬送驅動構件133是複數的第1驅動部136會被設成分別取預定的間隔來對於環狀的搬送驅動構件133的搬送方向突出至外方側(以下稱為「搬送方向外方側」)。
第1驅動部136是例如被形成J鉤形狀(形成有搬送方向上游側的突部136b的高度會比搬送方向下游側的突部136a的高度更高的溝部之形狀)，被構成為與藉由基板保持器支撐機構118所支撐的基板保持器111的第1被驅動部112接觸而將該基板保持器111驅動於第1或第2搬送方向P1、P2。
在此搬送驅動構件133的復路側搬送部133c的下方是設有防止復路側搬送部133c的下垂且用以引導的直線狀的引導部117，被構成為藉由第1驅動部136的搬送方向上游側的突部136b的前端部(下端部)邊與引導部117接觸邊移動來防止復路側搬送部133c的下垂。
但，以往技術是第1驅動部136的搬送方向上游側的突部136b的前端部會與引導部117接觸，因此產生粉塵，會有影響真空處理的問題。
又，亦有想要縮短將從基板保持器搬送機構103的基板保持器排出部130C排出的基板保持器111交接至基板搬入搬出機構106的時間之期望。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2007-031821號公報
本發明是考慮如此的以往的技術的課題而研發者，其目的是在於提供一種在沿著以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成的搬送路徑來搬送複數的基板保持器的真空處理裝置中，可抑制基板保持器的搬送時的粉塵的發生之技術。
又，本發明的其他的目的是在於提供一種可縮短將從基板保持器搬送機構的基板保持器排出部排出的基板保持器交接至基板搬入搬出機構的時間之技術。
為了達成上述目的而研發的本發明為一種真空處理裝置，其係具有：真空槽；第1及第2處理區域，其係被設在前述真空槽內，在被保持於基板保持器的基板上進行預定的真空處理；搬送路徑，其係以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成，搬送前述基板保持器；及基板保持器搬送機構，其係被設在前述真空槽內的形成單一的真空環境的區域，沿著前述搬送路徑來搬送具有第1及第2被驅動部的複數的前述基板保持器，前述搬送路徑，係具有：第1搬送部，其係將被導入的前述基板保持器形成水平的狀態下沿著前述搬送路徑來搬送於第1搬送方向；第2搬送部，其係將前述基板保持器形成水平的狀態下沿著前述搬送路徑來搬送於與前述第1搬送方向相反方向的第2搬送方向而排出；及搬送折返部，其係將前述基板保持器從前述第1搬送部朝向前述第2搬送部折返而搬送，前述第1搬送部，係被構成為通過前述第1及第2處理區域之中一方，且前述第2搬送部，係被構成為通過前述第1及第2處理區域之中另一方，前述基板保持器搬送機構，係對於該搬送路徑的搬送方向，在外方側具有與前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該基板保持器沿著前述搬送路徑來驅動的複數的第1驅動部， 在前述搬送路徑的搬送折返部的附近設有方向轉換機構，該方向轉換機構具有：複數的第2驅動部，其係與前述基板保持器的第2被驅動部接觸來將該基板保持器分別驅動於前述第1及第2搬送方向；及第1及第2方向轉換路徑，其係用以將該基板保持器從前述第1搬送方向往前述第2搬送方向轉換方向的方式分別引導前述基板保持器的第1及第2被驅動部而搬送，使前述基板保持器搬送機構的第1驅動部與前述方向轉換機構的第2驅動部同步動作，沿著前述方向轉換機構的第1及第2方向轉換路徑來分別引導前述基板保持器的第1及第2被驅動部而搬送，藉此被構成為在維持上下關係的狀態下將前述基板保持器從前述搬送路徑的第1搬送部交接至第2搬送部，設有下垂防止構件，其係被安裝於前述基板保持器搬送機構的第1驅動部而構成，在對於前述搬送方向外方側的部分具有可以延伸於對於該搬送方向正交的方向的旋轉軸線作為中心旋轉的行走滾輪，防止構成前述搬送路徑的第2搬送部的搬送驅動構件的下垂，且在位於前述基板保持器搬送機構的下方側的前述搬送路徑的第2搬送部的下方設有延伸於前述第2搬送方向的引導部，前述下垂防止構件，係被構成為在前述行走滾輪被引導支撐於前述引導部的狀態下，沿著前述搬送路徑的第2搬送部來行走，且前述基板保持器搬送機構的第1驅動部與前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該基板保持器沿著前述搬送路徑來朝第2搬送方向驅動。 在本發明的真空處理裝置中，前述搬送驅動構件為輸送機鏈。 在本發明的真空處理裝置中，在前述下垂防止構件的第1驅動部設有與延伸至下方的前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該第1被驅動部驅動於搬送方向的驅動面，在前述引導部設有以朝向第2搬送方向延伸至斜上方的方式形成的上方傾斜部。 在本發明的真空處理裝置中，前述第1及第2處理區域為在真空中進行成膜。 在本發明的真空處理裝置中，前述基板保持器，係被構成為在對於前述第1及第2搬送方向正交的方向排列複數的成膜對象基板而保持。
由於本發明是在具有以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成的搬送路徑且形成單一的真空環境之真空槽內，被安裝於對於此搬送路徑的搬送方向設在外方側的第1驅動部之下垂防止構件的行走滾輪會被設在位於基板保持器搬送機構的下方側的第2搬送部的下方，沿著延伸於第2搬送方向的引導部而行走，且基板保持器搬送機構的第1驅動部會被構成為與基板保持器的第1被驅動部接觸而將基板保持器沿著搬送路徑來朝第2搬送方向驅動，因此可一面防止構成搬送路徑的第2搬送部的搬送驅動構件(例如輸送機鏈)的下垂，一面比以往技術更可抑制基板保持器的搬送時的粉塵的發生。
在本發明中，在下垂防止構件的第1驅動部設有與延伸至下方的前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該第1被驅動部驅動於搬送方向的驅動面，且在引導部設有朝向第2搬送方向延伸至斜上方的上方傾斜部的情況，沿著引導部來將下垂防止構件移動於第2搬送方向時，藉由通過引導部的上方傾斜部，相對於基板保持器的第1被驅動部之下垂防止構件的行走滾輪進而第1驅動部的高度位置會慢慢地移動至上方，藉此可解除在搬送路徑的第2搬送部的直線部分中第1驅動部的驅動面與基板保持器的第1被驅動部的接觸。
其結果，若根據本發明，則可不使下垂防止構件的第1驅動部與基板保持器的第2被驅動部接觸，使基板保持器沿著第2搬送部來朝第2搬送方向移動，因此與以往技術(例如下垂防止構件的第1驅動部沿著藉由鏈輪齒所形成的圓弧狀的軌跡來朝斜上方移動的情況)作比較，可縮短解開下垂防止構件的第1驅動部與基板保持器的第1被驅動部的接觸的動作時的移動距離，且可縮短該動作時間，藉此可大幅度提早從基板保持器搬送機構排出基板保持器的時機。並且，有關在該排出時基板保持器的第2被驅動部會與下垂防止構件的第1驅動部的驅動面干擾的情形也可同時回避。
另一方面，在本發明中，前述基板保持器會被構成為在對於該搬送方向正交的方向排列複數的基板而保持的情況，例如與以往技術那樣搬送在基板的搬送方向排列複數的基板而保持的基板保持器來進行處理的情況作比較，可削減基板保持器的長度及伴隨於此的剩餘空間，所以可達成真空處理裝置的更省空間化。
以下，參照圖面詳細說明本發明的實施形態。
圖1是表示本發明的真空處理裝置的實施形態的全體的概略構成圖。
又，圖2(a)(b)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構及方向轉換機構的基本構成者，圖2(a)是平面圖，圖2(b)是正面圖。
又，圖3(a)(b)是表示使用在本實施形態的基板保持器的構成者，圖3(a)是平面圖，圖3(b)是正面圖。
又，圖4是表示本實施形態的方向轉換機構的構成的正面圖。
如圖1所示般，本實施形態的真空處理裝置1是具有被連接至真空排氣裝置1a的真空槽2。
在真空槽2的內部是設有沿著搬送路徑來搬送後述的基板保持器11的基板保持器搬送機構3。
此基板保持器搬送機構3是被構成為被設在真空槽2內的形成單一的真空環境的區域，連續搬送保持基板10的複數的基板保持器11。
在此，基板保持器搬送機構3是具有例如由鏈輪齒等所成，從驅動機構(未圖示)傳達旋轉驅動力而動作的同一直徑的圓形的第1及第2驅動輪31、32，該等第1及第2驅動輪31、32會在使各自的旋轉軸線平行的狀態下取預定距離而配置。
而且，在第1及第2驅動輪31、32是架設有例如由輸送機鏈等所成的一連串的搬送驅動構件33。
進一步，搬送驅動構件33被架設於該等第1及第2驅動輪31、32的構造體會取預定的距離來平行地配置(參照圖2(a))，藉由該等一對的搬送驅動構件33來形成對於鉛直面成為一連串的環狀的搬送路徑。
在本實施形態中，在構成搬送路徑的搬送驅動構件33之中上側的部分形成有從第1驅動輪31朝向第2驅動輪32移動而將基板保持器11般送於第1搬送方向P1的往路側搬送部(第1搬送部)33a，且形成有藉由第2驅動輪32的周圍的部分的搬送驅動構件33來將基板保持器11的搬送方向折返而轉換成相反方向的折返部33b，且在搬送驅動構件33之中下側的部分形成有從第2驅動輪32朝向第1驅動輪31移動而將基板保持器11搬送於第2搬送方向P2的復路側搬送部(第2搬送部)33c。
本實施形態的基板保持器搬送機構3是被構成為位於各搬送驅動構件33的上側的往路側搬送部33a與位於各搬送驅動構件33的下側的復路側搬送部33c會分別對向，重疊於鉛直方向。
並且，在基板保持器搬送機構3是設有：將基板保持器11導入的基板保持器導入部30A，及將基板保持器11折返而搬送的搬送折返部30B，及將基板保持器11排出的基板保持器排出部30C。
在此，在搬送折返部30B的附近是設有後述的方向轉換機構40。
在真空槽2內是設有第1及第2處理區域4、5。
本實施形態是在真空槽2內，在基板保持器搬送機構3的上部設置例如具有濺射源4T的第1處理區域4，在基板保持器搬送機構3的下部設置例如具有濺射源5T的第2處理區域5。
在本實施形態中，上述的搬送驅動構件33的往路側搬送部33a會被構成為直線地在水平方向通過上述第1處理區域4，復路側搬送部33c會被構成為直線地在水平方向通過上述第2處理區域5。
而且，當基板保持器11通過構成搬送路徑的該等搬送驅動構件33的往路側搬送部33a及復路側搬送部33c時，被保持於基板保持器11的複數的基板10(參照圖2(a))會以水平狀態來搬送。
在真空槽2內的基板保持器搬送機構3的附近的位置，例如與第1驅動輪31鄰接的位置是設有用以在與基板保持器搬送機構3之間交接或接受基板保持器11的基板搬入搬出機構6。
本實施形態的基板搬入搬出機構6是具有被設在藉由昇降機構60來例如被驅動於鉛直上下方向的驅動桿61的前(上)端部之支撐部62。
本實施形態是在基板搬入搬出機構6的支撐部62上設有搬送機械手64，在此搬送機械手64上支撐上述的基板保持器11而使基板保持器11移動於鉛直上下方向，且被構成為藉由搬送機械手64在與基板保持器搬送機構3之間進行基板保持器11的交接。
此情況，如後述般，被構成為從基板搬入搬出機構6將基板保持器11交接至基板保持器搬送機構3的往路側搬送部33a的基板保持器導入部30A(將此位置稱為「基板保持器交接位置」)，且從基板保持器搬送機構3的復路側搬送部33c的基板保持器排出部30C取出基板保持器11(將此位置稱為「基板保持器取出位置」)。
在真空槽2的例如上部是設有用以將基板10搬入至真空槽2內且從真空槽2搬出基板10的基板搬入搬出室2A。
此基板搬入搬出室2A是例如經由連通口2B來設於上述的基板搬入搬出機構6的支撐部62的上方的位置，例如在基板搬入搬出室2A的上部設有可開閉的蓋部2a。
而且，如後述般，被構成為使被搬入至基板搬入搬出室2A內的處理前的基板10a交接至基板搬入搬出機構6的支撐部62的搬送機械手64上的基板保持器11而保持，且將處理完了的基板10b從基板搬入搬出機構6的支撐部62的搬送機械手64上的基板保持器11搬出至例如真空槽2的外部的大氣中。
另外，本實施形態的情況，在基板搬入搬出機構6的支撐部62的上部的緣部設有用以在搬入及搬出基板10時用以隔離基板搬入搬出室2A與真空槽2內的環境的例如O型環等的密封構件63。
此情況，使基板搬入搬出機構6的支撐部62朝向基板搬入搬出室2A側而上昇，使支撐部62上的密封構件63緊貼於真空槽2的內壁而阻塞連通口2B，藉此被構成為對於真空槽2內的環境隔離基板搬入搬出室2A內的環境。
如圖2(a)(b)所示般，在本實施形態的基板保持器搬送機構3的一對的搬送驅動構件33是以後述的下垂防止構件35會分別取預定的間隔來突出至搬送驅動構件33的搬送方向外方側的方式設置複數個。
下垂防止構件35是分別具有後述的行走構件50及第1驅動部36，第1驅動部36會被構成為與藉由以下說明的基板保持器支撐機構18所支撐的基板保持器11的後述的第1被驅動部12接觸而將該基板保持器11驅動於第1或第2搬送方向P1、P2。
在一對的搬送驅動構件33的內側是設有支撐搬送的基板保持器11的一對的基板保持器支撐機構18。
基板保持器支撐機構18是例如由複數的滾輪等的可旋轉的構件所成者，分別被設在搬送驅動構件33的附近。
本實施形態是在搬送驅動構件33的往路側搬送部33a的上方附近設有往路側基板保持器支撐機構18a，且在搬送驅動構件33的復路側搬送部33c的下方附近設有復路側基板保持器支撐機構18c，以支撐被搬送的基板保持器11的下面的兩緣部之方式配置構成。
另外，往路側基板保持器支撐機構18a是被設至後述的方向轉換機構40的第1方向轉換路徑51的進入口的附近，復路側基板保持器支撐機構18c是被設至後述的方向轉換機構40的第2方向轉換路徑52的排出口的附近。
使用在本實施形態的基板保持器11是用以在基板10的兩面上進行真空處理者，由具有開口部的托盤狀者所成。
如圖2(a)及圖3(a)所示般，本實施形態的基板保持器11是例如被形成長矩形的平板狀，在其長度方向亦即對於第1及第2搬送方向P1、P2正交的方向(以下稱為「對於搬送方向正交的方向」)設有例如將矩形狀的複數的基板10排列成一列而分別保持的複數的保持部14。
在此，在各保持部14是以和各基板10同等的大小及形狀來設置各基板10的兩面會全面地露出的例如矩形狀的開口部，被構成為藉由未圖示的保持構件來保持各基板10。
在本發明中，雖無特別加以限定，但由縮小設置面積，且使處理能力提升的觀點，有關基板保持器11，最好如本實施形態般，構成為在對於搬送方向正交的方向將複數的基板10排列成一列而分別保持。
但，由使處理效率提升的觀點來看，亦可在對於搬送方向正交的方向將複數的基板10排列成複數列。
另一方面，在基板保持器11的長度方向的兩端部，在第2搬送方向P2側的端部分別設有第1被驅動部12，且在第1搬送方向P1側的端部分別設有第2被驅動部13。
該等第1及第2被驅動部12、13是分別由以在對於基板保持器11的長度方向亦即第1及第2搬送方向P1、P2正交的方向延伸的旋轉軸線作為中心而形成剖面圓形狀的軸構件所成(參照圖3(a)(b))。
在本實施形態中，以第2被驅動部13的長度會比第1被驅動部12的長度更長的方式設定其尺寸。
具體而言，如圖2(a)所示般，以將基板保持器11配置於基板保持器搬送機構3時，基板保持器11的兩側部的第1被驅動部12會與基板保持器搬送機構3的第1驅動部36接觸，且將基板保持器11配置於後述的方向轉換機構40時，第2被驅動部13會與後述的第2驅動部46接觸的方式，決定第1及第2被驅動部12、13的尺寸。
在一對的搬送驅動構件33的第1搬送方向P1側是設有同一構成的一對的方向轉換機構40。
本實施形態的情況，一對的方向轉換機構40是分別針對第1及第2搬送方向P1、P2配置於一對的搬送驅動構件33的外側的位置。
又，該等一對的方向轉換機構40是分別以第2搬送方向P2側的部分會與各搬送驅動構件33的第1搬送方向P1側的部分若干重疊的方式設置。
如圖4所示般，本實施形態的方向轉換機構40是具有第1引導構件41、第2引導構件42、第3引導構件43，該等第1~第3引導構件41~43是從第1搬送方向P1的上游側依序配置。
在本實施形態中，第1~第3引導構件41~43是分別被配置於一對的搬送驅動構件33的外側附近的位置，進一步，後述的搬送驅動構件45會分別被配置於第1~第3引導構件41~43的外側附近的位置。
另外，在圖2(b)中，省略方向轉換機構40的一部分，且以無視構件的重疊關係而有關搬送方向的構件間的位置關係形成明確的方式顯示。
如圖2(a)及圖4所示般，第1~第3引導構件41~43是例如由板狀的構件所成，分別朝向鉛直方向而設。
在此，第1引導構件41的第1搬送方向P1側的部分是被形成朝向第1搬送方向P1側而成為凸的曲面形狀，又，第2引導構件42的第2搬送方向P2側的部分是被形成朝向第1搬送方向P1側而成為凹的曲面形狀。
第1及第2引導構件41、42是第1引導構件41的第1搬送方向P1側的部分與第2引導構件42的第2搬送方向P2側的部分被形成同等的曲面形狀，該等的部分會以設置比基板保持器11的第1被驅動部12的直徑大若干的間隙來對向的方式接近配置。而且，藉由此間隙來設置引導基板保持器11的第1被驅動部12的第1方向轉換路徑51。
又，第2引導構件42的第1搬送方向P1側的部分是被形成朝向第1搬送方向P1側而成為凸的曲面形狀，又，第3引導構件43的第2搬送方向P2側的部分是被形成朝向第1搬送方向P1側而成為凹的曲面形狀。
第2及第3引導構件42、43是第2引導構件42的第1搬送方向P1側的部分與第3引導構件43的第2搬送方向P2側的部分會被形成同等的曲面形狀，該等的部分會以設置比基板保持器11的第2被驅動部13的直徑大若干的間隙來對向的方式接近配置。而且，藉由此間隙來設置引導基板保持器11的第2被驅動部13的第2方向轉換路徑52。
然後，藉由如此的構成，第1方向轉換路徑51及第2方向轉換路徑52會被形成同等的曲面形狀。
進一步，在本實施形態中，有關第1及第2方向轉換路徑51、52的各部分的水平方向的距離會以成為和基板保持器11的第1及第2被驅動部12、13之間的距離同等的方式決定其尺寸。
並且，在本實施形態中，第1方向轉換路徑51的上側的口會成為基板保持器11的第1被驅動部12的進入口，其高度位置會被構成為比被支撐於往路側基板保持器支撐機構18a的基板保持器11的第2被驅動部13的高度位置低的位置(參照圖2(b))。
進一步，第1方向轉換路徑51的下側的口會成為基板保持器11的第1被驅動部12的排出口，其高度位置會被構成為比被支撐於復路側基板保持器支撐機構18c的基板保持器11的第2被驅動部13的高度位置高的位置(參照圖2(b))。
又，有關第2方向轉換路徑52是其上側的口會成為基板保持器11的第2被驅動部13的進入口，其高度位置會被構成為與被支撐於往路側基板保持器支撐機構18a的基板保持器11的第2被驅動部13的高度位置同等的位置(參照圖2(b))。
另一方面，第2方向轉換路徑52的下側的口會成為基板保持器11的第2被驅動部13的排出口，其高度位置會被構成為與被支撐於復路側基板保持器支撐機構18c的基板保持器11的第2被驅動部13的高度位置同等的位置(參照圖2(b))。
本實施形態的方向轉換機構40是例如具有由一對的鏈輪齒及被架設在該等一對的鏈輪齒的輸送機鏈所成的搬送驅動構件45，此搬送驅動構件45是被構成為對於鉛直面成為一連串的環狀。
此搬送驅動構件45是被構成為其折返部分的曲率半徑會成為與基板保持器搬送機構3的搬送驅動構件33的折返部33b的曲率半徑同等。
並且，以搬送驅動構件45的上側的部分會移動於第1搬送方向P1，下側的部分會移動於第2搬送方向P2的方式驅動。
在搬送驅動構件45是複數的第2驅動部46會被設成取預定的間隔來突出至搬送驅動構件45的外方側。
第2驅動部46是被構成為在搬送驅動構件45的外方側的部分形成有凹部，此凹部的緣部會與基板保持器11的第2被驅動部13接觸而沿著第2方向轉換路徑52來支撐驅動該基板保持器11。
又，本實施形態的第2驅動部46是如後述般，以到達第2方向轉換路徑52的進入口及排出口的位置時，其凹部側的端部會從第2方向轉換路徑52退避的方式，設定搬送驅動構件45的路徑及第2驅動部46的尺寸(參照圖2(b))。
在本實施形態中，如後述般，以第2驅動部46會與設在搬送驅動構件33的下垂防止構件35的第1驅動部36同步而動作的方式，控制搬送驅動構件33與方向轉換機構40的搬送驅動構件45的動作。
而且，在本實施形態中，藉由下垂防止構件35的第1驅動部36來使基板保持器11驅動於第1搬送方向P1而使第1及第2被驅動部12、13進入至第1及第2方向轉換路徑51、52內時，以基板保持器11會一面保持上下關係一面藉由第1及第2驅動部36、46來支撐第1及第2被驅動部12、13而移動，順利地從第1及第2方向轉換路徑51、52排出的方式，分別設定第1及第2驅動部36、46、以及第1及第2方向轉換路徑51、52的形狀及尺寸。
另一方面，在第1引導構件41與第2引導構件42的下方，第1方向轉換路徑51的排出口的附近是設有用以將基板保持器11從方向轉換機構40順利地交接至基板保持器支撐機構18的復路側基板保持器支撐機構18c的交接構件47。
此交接構件47是例如由延伸於水平方向的細長的構件所成，被構成為以在其第2搬送方向P2側的端部設於復路側基板保持器支撐機構18c的下方的位置之延伸於第1及第2搬送方向P1、P2的旋轉軸48作為中心來旋轉移動於上下方向。而且，交接構件47是第1搬送方向P1側的部分會藉由未圖示的彈性構件來彈撥至上方。
在交接構件47的上部是設有：在第1方向轉換路徑51的排出口的第2搬送方向P2側的附近的部分，以和第1方向轉換路徑51連續且和基板保持器支撐機構18的復路側基板保持器支撐機構18c連續的方式形成曲面形狀的交接部47a(參照圖2(b))。
並且，在交接構件47的上部是設有：在第1搬送方向P1側的部分，朝向第1搬送方向P1而傾斜至下側的傾斜面47b。此傾斜面47b是被設於與第2方向轉換路徑52的排出口對向的高度位置。
圖5(a)~(d)是表示使用在本實施形態的第1驅動部的構成者，圖5(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖5(b)是正面圖，圖5(c)是從搬送方向上游側所見的側面圖，圖5(d)是立體圖。
如圖5(a)~(d)所示般，本實施形態的第1驅動部36是例如被形成J鉤形狀(形成有搬送方向下游側的第1突部36a的高度比搬送方向上游側的第2突部36b的高度還要低之溝部36c的形狀)。
此溝部36c是被形成延伸於對於搬送方向正交的方向(寬度方向)。而且，在對於此溝部36c的搬送方向內方側是設有延伸於對於搬送方向正交的方向而貫通第1驅動部36的螺孔36f。
另一方面，本實施形態是在第1突部36a的上部設有止動部36d。
此止動部36d是形成為延伸於對於第1及第2突部36a、36b正交的方向，其搬送方向外方側的部分會被形成平面狀。
在本實施形態中，以第1驅動部36的第2突部36b的搬送方向外方側的端部會位於比止動部36d的搬送方向外方側的端部(表面)更靠搬送方向外方側的方式，設定第1驅動部36的各部分的形狀及尺寸。
並且，在第1驅動部36的第2突部36b的第1突部36a側是設有與基板保持器11的第1被驅動部12接觸而予以驅動的驅動面36e。
此驅動面36e是平面狀地形成延伸於對於搬送方向正交的方向。
圖6(a)~(d)是表示使用在本實施形態的行走構件者，圖6(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖6(b)是正面圖，圖6(c)是從搬送方向上游側所見的側面圖，圖6(d)是立體圖。
本實施形態的行走構件50是例如由不鏽鋼等的金屬所成者，具有比上述的第1驅動部36的寬度還寬廣地形成的本體框架50a。
此本體框架50a是在其搬送方向下游側的部分設有保持第1驅動部36的保持框架部50b。
保持框架部50b是具有分別延伸於搬送方向的一對的板狀的部分，該等一對的板狀的部分是取與第1驅動部36的寬度同等的間隔而設。
在本體框架50a的保持框架部50b是用以固定第1驅動部36的由螺栓所成的固定螺桿53會朝向對於搬送方向正交的方向來貫通保持框架部50b的螺孔52a而安裝。
另一方面，在本體框架50a的搬送方向上游側是設有用以保持以下說明的行走滾輪54的滾輪保持框架部55。
此滾輪保持框架部55是具有被形成分別延伸於搬送方向且突出至搬送方向外方側的一對的板狀的框架，該等滾輪保持框架部55的一對的框架是取與第1驅動部36的寬度同等的間隔而設。
在本體框架50a的滾輪保持框架部55是由螺栓所成的固定螺桿56會朝向對於搬送方向正交的方向來貫通滾輪保持框架部55而安裝，被構成為圓柱狀的行走滾輪54會以延伸於對於搬送方向正交的方向的旋轉軸線O作為中心旋轉於此固定螺桿56(參照圖6(a)(b))。
作為此行走滾輪54是例如可使用滾輪軸承(roller bearing)等。
圖7(a)~(c)是表示使用在本實施形態的下垂防止構件的構成者，圖7(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖7(b)是正面圖，圖7(c)是立體圖。
如圖7(a)~(c)所示般，本實施形態的下垂防止構件35是安裝圖5(a)~(d)所示的第1驅動部36及圖6(a)~(d)所示的行走構件50者。
此情況，在行走構件50的本體框架50a的一對的保持框架部50b之間，將第1突部36a朝向搬送方向下游側來配置第1驅動部36，使固定螺桿53貫通行走構件50的螺孔52a及第1驅動部36的螺孔36f(參照圖5(a)(c))，藉由此固定螺桿53與螺帽57來將第1驅動部36固定於本體框架50a的保持框架部50b。
在本實施形態中，以行走構件50的行走滾輪54的搬送方向外方側的端部會位於比第1驅動部36的第2突部36b的搬送方向外方側的端部更靠搬送方向外方側的方式，設定行走構件50以及第1驅動部36的各部分的形狀及尺寸。
另外，如後述般，在行走構件50的保持框架部50b與第1驅動部36的兩側面之間是被構成為插入固定有用以將下垂防止構件35安裝於搬送驅動構件33的例如板狀的安裝構件58。
圖8(a)(b)是表示被安裝於搬送驅動構件的下垂防止構件者，圖8(a)是正面圖，圖8(b)是圖8(a)的A-A線剖面圖。
圖9是表示本實施形態的引導部的安裝構造的部分剖面圖。
圖10是本實施形態的基板保持器搬送機構的概略構成圖。
如圖8(a)(b)所示般，用在本實施形態的搬送驅動構件33是由一般的輸送機鏈所成者，具有：外側連結部33d、內側連結部33e、及藉由未圖示的銷及軸襯來可旋轉地安裝於外側連結部33d與內側連結部33e的連結部分之滾輪33f。
而且，對於上述的下垂防止構件35的一對的安裝構件58的搬送方向，例如延伸於搬送方向外方側的板狀的連結構件59會分別被固定於內方側的部分，且對於該等一對的連結構件59的搬送方向，內方側的部分會分別被固定於搬送驅動構件33的外側連結部33d的一對的板的搬送方向外方側的部分，藉此下垂防止構件35會在行走滾輪54被配置於搬送方向外方側的狀態下安裝於搬送驅動構件33。
如圖8(a)(b)所示般，在本實施形態中，下垂防止構件35位於搬送驅動構件33的下部亦即復路側搬送部33c時，行走滾輪54是對於復路側搬送部33c位於下方，行走滾輪54的下端部會被配置於下垂防止構件35的最低的位置。
在本實施形態中，將下垂防止構件35的行走滾輪54構成為藉由設在搬送驅動構件33的復路側搬送部33c的下方的引導部17來引導支撐。
此引導部17是如圖10所示般，被形成延伸於搬送方向，如圖9所示般，在其兩側部設有延伸於鉛直方向的脫落防止用的引導壁部。
在本實施形態中，設有：對於用以保持基板保持器支撐機構18的例如由滾輪所成的復路側基板保持器支撐機構18c之以延伸於搬送方向的方式立設的保持構件18d以延伸於搬送方向的方式朝向水平方向而固定的板狀的基台18e，在此基台18e上固定有例如L字形狀的安裝構件17A，且在被固定於此安裝構件17A的支撐構件17B的水平面上固定有引導部17。
而且，如圖9及圖10所示般，此引導部17是被設成其支撐面會比基板保持器支撐機構18的復路側基板保持器支撐機構18c的支撐部更位於下方。
另一方面，本實施形態的引導部17是如圖10所示般，設有：朝向第2搬送方向P2而延伸於水平方向的行走部17a，及被連結至行走部17a，朝向斜上方而傾斜的上方傾斜部17b，及被連結至此上方傾斜部17b，延伸於水平方向的接觸解除部17c。
有關該等上方傾斜部17b與接觸解除部17c是詳細後述，為用以解除基板保持器11的第1被驅動部12與下垂防止構件35的第1驅動部36的接觸者。
以下，參照圖11~圖21來說明本實施形態的真空處理裝置1的動作。
在本實施形態中，首先，如圖11所示般，使基板搬入搬出機構6的支撐部62上的密封構件63緊貼於真空槽2的內壁，對於真空槽2內的環境，以隔離基板搬入搬出室2A內的環境的狀態，排氣至大氣壓為止之後，開啟基板搬入搬出室2A的蓋部2a。
然後，利用未圖示的搬送機械手來使處理前的基板10a安裝於基板搬入搬出機構6的支撐部62的搬送機械手64上的基板保持器11而保持。
而且，如圖12所示般，關閉基板搬入搬出室2A的蓋部2a而真空排氣至成為預定的壓力之後，使基板搬入搬出機構6的支撐部62下降至上述的基板保持器交接位置，使基板保持器11的高度會成為與搬送驅動構件33的往路側搬送部33a同等的高度位置。
進一步，如圖13所示般，藉由設在基板搬入搬出機構6的支撐部62的搬送機械手64來將基板保持器11配置於基板保持器搬送機構3的基板保持器導入部30A。
此情況，以被配置於下垂防止構件35的第1驅動部36的溝部36c(參照圖5)內的方式定位基板保持器11的第1被驅動部12，而載置於往路側基板保持器支撐機構18a上，但此動作時，有下垂防止構件35的移動延遲而產生時機的偏差，無法將第1被驅動部12配置於第1驅動部36的溝部36c內的情況。
但，在本實施形態中，如上述般，由於在下垂防止構件35的第1驅動部36設有止動部36d，所以當下垂防止構件35的移動延遲時，如圖14(a)所示般，第1驅動部36的止動部36d的第1搬送方向P1側的前端部會朝向上方而以其上面的搬送方向上游側(後方側)的部分會變低的方式傾斜，因此基板保持器11的第1被驅動部12會抵接於第1驅動部36的止動部36d的上面而基板保持器11停止於該位置，使搬送驅動構件33稍微動作，藉此可將第1被驅動部12順利地配置於第1驅動部36的溝部36c內。
然後，在此狀態下，如圖14(b)所示般，使基板保持器搬送機構3的搬送驅動構件33的往路側搬送部33a移動於第1搬送方向P1。
藉此，藉由搬送驅動構件33的往路側搬送部33a上的第1驅動部36，基板保持器11的第1被驅動部12會被驅動於第1搬送方向P1，基板保持器11會在搬送驅動構件33的往路側搬送部33a上朝向搬送折返部30B而搬送。
此情況，在通過圖11所示的第1處理區域4的位置時，對於被保持於基板保持器11的處理前的基板10a的第1處理區域4側的第一面進行預定的真空處理(例如藉由濺射的成膜)。
圖15(a)~(c)及圖16(a)~(c)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構及方向轉換機構的動作的說明圖。
在本實施形態中，藉由使被安裝於搬送驅動構件33的下垂防止構件35的第1驅動部36移動於第1搬送方向P1，如圖15(a)所示般，使到達基板保持器搬送機構3的搬送折返部30B的基板保持器11更移動於第1搬送方向P1，將基板保持器11的第2被驅動部13配置於方向轉換機構40的第2方向轉換路徑52的進入口的位置。
此情況，控制搬送驅動構件45的動作，使方向轉換機構40的第2驅動部46會位於基板保持器11的第2被驅動部13的下方。
而且，驅動搬送驅動構件33來使下垂防止構件35的第1驅動部36移動於第1搬送方向P1，且驅動方向轉換機構40的搬送驅動構件45來使第2驅動部46移動於第1搬送方向P1。此情況，控制成下垂防止構件35的第1驅動部36與第2驅動部46的動作會同步。
藉此，如圖15(b)所示般，基板保持器11的第1及第2被驅動部12、13會藉由下垂防止構件35的第1驅動部36與第2驅動部46來分別支撐驅動，朝向下方而分別移動於第1及第2方向轉換路徑51、52內。
另外，在此過程中，基板保持器11的第1被驅動部12是在第1方向轉換路徑51內無同時接觸的情形，但在第1引導構件41的緣部與第2引導構件42的緣部接觸，且第2被驅動部13是在第2方向轉換路徑52內無同時接觸的情形，但在第2引導構件42的緣部與第3引導構件43的緣部接觸。此情況，基板保持器11是維持上下關係。
而且，從第1及第2被驅動部12、13分別通過第1及第2方向轉換路徑51、52的中腹部分的附近，第1及第2被驅動部12、13的搬送方向會在維持基板保持器11的上下關係的狀態下分別被轉換成與第1搬送方向P1相反方向的第2搬送方向P2。
另外，在此過程中，基板保持器11的第1被驅動部12是在第1方向轉換路徑51內無同時接觸的情形，但在第1引導構件41的緣部與第2引導構件42的緣部接觸，且第2被驅動部13是在第2方向轉換路徑52內無同時接觸的情形，但在第2引導構件42的緣部與第3引導構件43的緣部接觸。
進一步，若繼續基板保持器搬送機構3的搬送驅動構件33與方向轉換機構40的搬送驅動構件45的驅動，則如圖15(c)所示般，基板保持器11的第1被驅動部12會經由第1方向轉換路徑51的排出口以及交接構件47的交接部47a來配置於交接構件47的上方的位置，且基板保持器11的第2被驅動部13會被配置於第2方向轉換路徑52的排出口的位置，然後，如圖16(a)所示般，基板保持器11是被交接至基板保持器支撐機構18的復路側基板保持器支撐機構18c。
又，下垂防止構件35是被支撐於上述的引導部17的行走部17a。
在此，由下垂防止面來思考時，引導部17的行走部17a是亦可只設在搬送驅動構件33的下垂成為問題之處，該情況下垂防止構件35是朝上述的復路側基板保持器支撐機構18c的交接同時不被支撐於引導部17的行走部17a的情況也存在。
另外，在圖15(c)所示的時間點，方向轉換機構40的第2驅動部46與基板保持器11的第2被驅動部13是不接觸，基板保持器11是藉由下垂防止構件35的第1驅動部36與第1被驅動部12的接觸所產生的驅動來朝第2搬送方向P2移動。
而且，藉由更進一步的基板保持器搬送機構3的搬送驅動構件33的驅動，如圖16(b)所示般，基板保持器11的第2被驅動部13會接觸於交接構件47的傾斜面47b而交接構件47旋轉移動至下方，如圖16(c)所示般，基板保持器11的第2被驅動部13會通過交接構件47的上方而基板保持器11朝第2搬送方向P2移動。
另外，交接構件47是在此過程之後藉由未圖示的彈性構件的彈撥力來回到原來位置。
然後，如圖17(a)所示般，使搬送驅動構件33的復路側搬送部33c移動於第2搬送方向P2，藉由下垂防止構件35的第1驅動部36來將第1被驅動部12驅動於同方向，藉此將基板保持器11朝向基板保持器排出部30C搬送。
此情況，在通過圖11所示的第2處理區域5的位置時，對於被保持於基板保持器11的處理前的基板10a的第2處理區域5側的第二面進行預定的真空處理(例如藉由濺射的成膜)。
而且，若使搬送驅動構件33的復路側搬送部33c移動於第2搬送方向P2，藉由第1驅動部36來將第1被驅動部12驅動於同方向，則在基板保持器11即將到達基板保持器排出部30C之前，如圖17(b)所示般，下垂防止構件35的第1驅動部36與第1被驅動部12的接觸脫離，藉此基板保持器11失去推進力。
圖18(a)~(d)是表示將本實施形態的下垂防止構件的第1驅動部與基板保持器的第1被驅動部的接觸解除的動作的說明圖。
若使搬送驅動構件33的復路側搬送部33c移動於第2搬送方向P2，則如圖18(a)所示般，下垂防止構件 35的第1驅動部36的第2突部36b的第2搬送方向P2側的驅動面36e接觸於基板保持器11的第1被驅動部12的狀態下，基板保持器11移動於第2搬送方向P2。
在圖18(a)所示的位置，下垂防止構件35的行走滾輪54是接觸於引導部17的行走部17a，下垂防止構件35是沿著行走部17a來移動於水平方向。
若由此狀態使搬送驅動構件33的復路側搬送部33c移動於第2搬送方向P2，則基板保持器11會在復路側基板保持器支撐機構18c上移動於第2搬送方向P2，另一方面，如圖18(b)所示般，下垂防止構件35的行走滾輪54會乘載於引導部17的上方傾斜部17b而朝第2搬送方向P2的斜上方移動，藉此下垂防止構件35的第1驅動部36也朝第2搬送方向P2的斜上方移動。
接著，若使搬送驅動構件33的復路側搬送部33c移動於第2搬送方向P2，則下垂防止構件35的第1驅動部36對於基板保持器11的第1被驅動部12的高度位置會慢慢地移動至上方，如圖18(c)所示般，下垂防止構件35的行走滾輪54乘載於引導部17的接觸解除部17c的時間點，下垂防止構件35的第1驅動部36的第2突部36b的下端部會位於比基板保持器11的第1被驅動部12的上部更上方，藉此第1驅動部36的第2突部36b的驅動面36e與基板保持器11的第1被驅動部12的接觸會被完全解除。
其結果，如圖18(d)所示般，可不使下垂防止構件35的第1驅動部36的第2突部36b與基板保持器11的第2被驅動部13接觸，使基板保持器11沿著復路側搬送部33c來朝第2搬送方向P2水平移動。
若根據如此的本實施形態，則與以往技術(例如下垂防止構件35的第1驅動部36會沿著藉由鏈輪齒(sprocket)所形成的圓弧狀的軌跡來朝斜上方移動的情況)作比較，可縮短解除下垂防止構件35的第1驅動部36與基板保持器11的第1被驅動部12的接觸的動作時的移動距離，且可縮短該動作時間，藉此可大幅度提早從基板保持器搬送機構3排出基板保持器11而交接至基板搬入搬出機構6的時機。並且，有關在該排出時基板保持器11的第2被驅動軸13會與下垂防止構件35的第1驅動部36的第2突部36b(驅動面36e)的前端部干擾的情形也可同時回避。
進行以上的動作之後，藉由圖19所示的基板搬入搬出機構6的搬送機械手64來使基板保持器11移動於第2搬送方向P2，而使對於第1驅動部36分離。
更利用基板搬入搬出機構6的搬送機械手64來進行基板保持器11的取出動作，如圖19所示般，將基板保持器11與搬送機械手64一起配置於支撐部62上。
然後，如圖20所示般，使基板搬入搬出機構6的支撐部62上昇，使支撐部62上的密封構件63緊貼於真空槽2的內壁，對於真空槽2內的環境，以隔離基板搬入搬出室2A內的環境的狀態，進行排氣至大氣壓為止。
而且，如圖21所示般，開啟基板搬入搬出室2A的蓋部2a，利用未圖示的搬送機械手，將處理完了的基板10b從基板保持器11取出至大氣中。
然後，回到圖11所示的狀態，藉由重複上述的動作，對於複數的基板10分別在兩面進行上述的真空處理。
由於以上所述的本實施形態是在具有以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成的搬送路徑且形成單一的真空環境之真空槽2內，被安裝於對於此搬送路徑的搬送方向設在外方側的第1驅動部36之下垂防止構件35的行走滾輪54會被設在位於基板保持器搬送機構3的下方側的搬送驅動構件33的復路側搬送部33c的下方，沿著延伸於第2搬送方向P2的引導部17而行走，且第1驅動部36會被構成為與基板保持器11的第1被驅動部12接觸而將基板保持器11沿著搬送路徑來朝第2搬送方向P2驅動，因此可一面防止構成搬送路徑的第2搬送部的搬送驅動構件33的復路側搬送部33c(例如輸送機鏈)的下垂，一面比以往技術更可抑制基板保持器11的搬送時的粉塵的發生。 又，由於在本實施形態中，基板保持器11被構成為在對於該搬送方向正交的方向排列複數的基板10而保持，因此與以往技術那樣搬送在基板的搬送方向排列複數的基板而保持的基板保持器來進行處理的情況作比較，可削減基板保持器的長度及伴隨於此的剩餘空間，所以可達成真空處理裝置的更省空間化。
另外，本發明是不限於上述的實施形態，可進行各種的變更。
例如在上述實施形態中，有關基板保持器搬送機構3及方向轉換機構40，由一對的鏈輪齒及被架設於該等一對的鏈輪齒的輸送機鏈所構成，但亦可例如使用傳動帶或軌道的環狀形狀的搬送驅動機構。
而且，有關基板保持器支撐機構18亦可不是滾輪，使用傳動帶或軌道來構成。
並且，有關第1及第2驅動部36、46的形狀是不限於上述實施形態，只要可與基板保持器11的第1及第2被驅動部12、13確實地接觸而支撐驅動，可採用各種的形狀者。
而且，在上述實施形態中，舉進行濺射作為真空中的處理的裝置為例說明，但本發明是不限於此，例如，可適用於進行電漿處理、離子注入處理、蒸鍍處理、化學氣相成長處理、聚焦離子束處理、蝕刻處理等的各種的處理的真空處理裝置。
此情況，在第1及第2處理區域4、5是亦可設置進行不同的處理的處理源。
而且，本發明是如上述實施形態般，不僅將處理前的基板10a搬入至真空槽2內，從真空槽2搬出處理完了的基板10b的情況，在將處理前的基板10a與基板保持器11一起搬入至真空槽2內，將處理完了的基板10b與基板保持器11一起從真空槽2搬出的情況也可適用。
1:真空處理裝置
2:真空槽
2a:蓋部
2A:基板搬入搬出室
2B:連通口
3:基板保持器搬送機構
4:第1處理區域
4T:濺射源
5:第2處理區域
5T:濺射源
6:基板搬入搬出機構
10:基板
10a:基板
10b:基板
11:基板保持器
12:第1被驅動部
13:第2被驅動部
17:引導部
17a:行走部
17b:上方傾斜部
17c:接觸解除部
30A:基板保持器導入部
30B:搬送折返部
30C:基板保持器排出部
31:第1驅動輪
32:第2驅動輪
33:搬送驅動構件(搬送路徑)
33a:往路側搬送部(第1搬送部)
33b:折返部
33c:復路側搬送部(第2搬送部)
35:下垂防止構件
36:第1驅動部
36a:第1突部
36b:第2突部
36c:溝部
36d:止動部
36f:螺孔
36e:驅動面
40:方向轉換機構
41:第1引導構件
42:第2引導構件
43:第3引導構件
45:搬送驅動構件
46:第2驅動部
51:第1方向轉換路徑
52:第2方向轉換路徑
54:行走滾輪
60:昇降機構
61:驅動桿
62:支撐部
63:密封構件
64:搬送機械手
圖1是表示本發明的真空處理裝置的實施形態的全體的概略構成圖。 圖2(a)(b)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構及方向轉換機構的基本構成者，圖2(a)是平面圖，圖2(b)是正面圖。 圖3(a)(b)是表示使用在本實施形態的基板保持器的構成者，圖3(a)是平面圖，圖3(b)是正面圖。 圖4是表示本實施形態的方向轉換機構的構成的正面圖。 圖5(a)~(d)是表示被設在本實施形態的搬送驅動構件的第1驅動部的構成者，圖5(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖5(b)是正面圖，圖5(c)是從搬送方向上游側所見的側面圖，圖5(d)是立體圖。 圖6(a)~(d)是表示使用在本實施形態的行走構件者，圖6(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖6(b)是正面圖，圖6(c)是從搬送方向上游側所見的側面圖，圖6(d)是立體圖。 圖7(a)~(c)是表示使用在本實施形態的下垂防止構件的構成者，圖7(a)是從搬送方向下游側所見的側面圖，圖7(b)是正面圖，圖7(c)是立體圖。 圖8(a)(b)是表示被安裝在搬送驅動構件的下垂防止構件者，圖8(a)是正面圖，圖8(b)是圖8(a)的A-A線剖面圖。 圖9是表示本實施形態的引導部的安裝構造的部分剖面圖。 圖10是本實施形態的基板保持器搬送機構的概略構成圖。 圖11是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其1)。 圖12是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其2)。 圖13是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其3)。 圖14(a)(b)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構的動作的說明圖(其1)。 圖15(a)~(c)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構及方向轉換機構的動作的說明圖(其1)。 圖16(a)~(c)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構及方向轉換機構的動作的說明圖(其2)。
圖17(a)(b)是表示本實施形態的基板保持器搬送機構的動作的說明圖(其2)。
圖18(a)~(d)是表示解除本實施形態的下垂防止構件的第1驅動部與基板保持器的第1被驅動部的接觸的動作的說明圖。
圖19是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其4)。
圖20是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其5)。
圖21是表示本實施形態的真空處理裝置的動作的說明圖(其6)。
圖22是表示以往技術的真空處理裝置的全體的概略構成圖。
圖23是表示以往的基板保持器搬送機構的概略構成圖。
3：基板保持器搬送機構 11：基板保持器 12：第1被驅動部 13：第2被驅動部 17：引導部 17a：行走部 17b：上方傾斜部 17c：接觸解除部 18：基板保持器支撐機構 18a：路側基板保持器支撐機構 18c：復路側基板保持器支撐機構 33：搬送驅動構件(搬送路徑) 33a：往路側搬送部(第1搬送部) 33c：復路側搬送部(第2搬送部) 35：下垂防止構件 36：第1驅動部 P1：第1搬送方向 P2：第2搬送方向

Claims (5)

  1. 一種真空處理裝置，其特徵係具有：真空槽；第1及第2處理區域，其係被設在前述真空槽內，在被保持於基板保持器的基板上進行預定的真空處理；搬送路徑，其係以對於鉛直面的投影形狀會成為一連串的環狀之方式形成，搬送前述基板保持器；及基板保持器搬送機構，其係被設在前述真空槽內的形成單一的真空環境的區域，沿著前述搬送路徑來搬送具有第1及第2被驅動部的複數的前述基板保持器，前述搬送路徑，係具有：第1搬送部，其係將被導入的前述基板保持器形成水平的狀態下沿著前述搬送路徑來搬送於第1搬送方向；第2搬送部，其係將前述基板保持器形成水平的狀態下沿著前述搬送路徑來搬送於與前述第1搬送方向相反方向的第2搬送方向而排出；及搬送折返部，其係將前述基板保持器從前述第1搬送部朝向前述第2搬送部折返而搬送，前述第1搬送部，係被構成為通過前述第1及第2處理區域之中一方，且前述第2搬送部，係被構成為通過前述第1及第2處理區域之中另一方，前述基板保持器搬送機構，係對於該搬送路徑的搬送方向，在外方側具有與前述基板保持器的第1被驅動部接 觸而將該基板保持器沿著前述搬送路徑來驅動的複數的第1驅動部，在前述搬送路徑的搬送折返部的附近設有方向轉換機構，該方向轉換機構具有：複數的第2驅動部，其係與前述基板保持器的第2被驅動部接觸來將該基板保持器分別驅動於前述第1及第2搬送方向；及第1及第2方向轉換路徑，其係用以將該基板保持器從前述第1搬送方向往前述第2搬送方向轉換方向的方式分別引導前述基板保持器的第1及第2被驅動部而搬送，使前述基板保持器搬送機構的第1驅動部與前述方向轉換機構的第2驅動部同步動作，沿著前述方向轉換機構的第1及第2方向轉換路徑來分別引導前述基板保持器的第1及第2被驅動部而搬送，藉此被構成為在維持上下關係的狀態下將前述基板保持器從前述搬送路徑的第1搬送部交接至第2搬送部，設有下垂防止構件，其係被安裝於前述基板保持器搬送機構的第1驅動部而構成，在對於前述搬送方向外方側的部分具有可以延伸於對於該搬送方向正交的方向的旋轉軸線作為中心旋轉的行走滾輪，防止構成前述搬送路徑的第2搬送部的搬送驅動構件的下垂，且在位於前述基板保持器搬送機構的下方側的前述搬送路徑的第2搬送部的下方設有延伸於前述第2搬送方向的引導部， 前述下垂防止構件，係被構成為在前述行走滾輪被引導支撐於前述引導部的狀態下，沿著前述搬送路徑的第2搬送部來行走，且前述基板保持器搬送機構的第1驅動部與前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該基板保持器沿著前述搬送路徑來朝第2搬送方向驅動。
  2. 如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中，前述搬送驅動構件為輸送機鏈。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之真空處理裝置，其中，在前述下垂防止構件的第1驅動部設有與延伸至下方的前述基板保持器的第1被驅動部接觸而將該第1被驅動部驅動於搬送方向的驅動面，在前述引導部設有以朝向第2搬送方向延伸至斜上方的方式形成的上方傾斜部。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之真空處理裝置，其中，前述第1及第2處理區域為在真空中進行成膜者。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之真空處理裝置，其中，前述基板保持器，係被構成為在對於前述第1及第2搬送方向正交的方向排列複數的成膜對象基板而保持。
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