TWI701515B - 反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置、以及將熱流從一反射鏡配置之區域散熱的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置，包含至少一個反射鏡元件(1)，承載提供用於反射電磁輻射的一反射鏡表面；至少一個載體元件(2)，包含一頭部段(2a)，其提供用於接收至少一個反射鏡元件，以及還有一座段(2b)；以及一安裝配置(3)，用於接收該至少一個載體元件(2)，其中至少一個插入開口(3a)形成於該安裝配置(3)中，該載體元件(2)之該座段(2b)陷入前述插入開口(3a)中，且用於引導傳熱介質的管道器件(4a)形成於圍繞該座段(2b)之區域中的該安裝配置(3)中。再者，本發明係關於用於從包含複數反射鏡元件(1)的反射鏡配置之區域散熱的方法，其中在該等反射鏡元件(1)處產生的熱最初係由載體元件(2)排出，並引導至安裝配置(3)之區域中，其中冷卻介質係在鄰接於該載體元件(2)之區域中的該安裝配置(3)中被引導，且離開該載體元件(2)流入該安裝配置(3)中的該熱流係經由該冷卻介質排出。

Description

反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置、以及將熱流從一反射鏡配置之區域散熱的方法
本發明係關於反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置。尤其，在此情況下的本發明係關於反射鏡配置，其結合複數反射鏡元件，而每一反射鏡元件用於承載反射鏡陣列以形成對應大面積、特別是凹面、的反射鏡系統，以反射具有在極紫外光譜範圍(Extreme ultraviolet spectral range，EUV)內之波長的光，其中那些反射鏡組件之光學主動區域係由具有低粒子密度的大氣所圍繞。再者，本發明係關於將熱流從該上述類型之反射鏡配置區域散熱的方法。
微影投射曝光裝置，例如係用於生成積體電路和其他微結構組件，內含於倍縮光罩中的影像結構一般係以減縮方式在光敏層上，該光敏層可施加於例如矽晶圓上。對於此種投射曝光裝置的一種示例性建構可從DE 10302664 A1得知。
在投射曝光裝置之開發上的主要目標之一在於能微影地界定出在光敏層上具有越來越小尺寸的結構。由於借助於此種裝置所生成之 微結構組件而可能的更高積體密度，一般可顯著地提升前述組件之性能。特別小型結構尺寸之生成前提為所使用投射系統之高解析度能力。由於投射系統之解析度能力與投射光之波長成反比，所以此種投射曝光裝置之連續產品產生使用具有甚至更短波長的投射光。現有開發係針對投射曝光裝置之開發，其使用具有在極紫外光譜範圍(EUV)內之波長的投射光。在此情況下列入考量特別是介於1nm(奈米)至30nm間之波長、以及特別是13.5nm之波長。
為在投射系統之光束路徑上引導由合適光源所發出的光，可能使用包含複數反射鏡陣列的反射鏡配置，其中各反射鏡陣列皆具有多個緊密相鄰、相對較小面積的反射鏡琢面(facet)，其光學對準可由其自身在每種情況下皆以受控方式或以界定出的群組而加以變化。前述反射鏡琢面琢面由於入射前述反射鏡琢面琢面並部分在此被吸收的光，同時亦由於分配給各自反射鏡琢面琢面之反射鏡調整器件之固有功率消耗，因此將在對應投射系統之操作背景中大幅升溫。升溫導致不良效應，例如反射鏡陣列、反射鏡琢面琢面或整個反射鏡系統之變形。此外，高溫可損傷反射鏡系統之敏感反射層。在此情況下，DE 102013205214 A1揭示藉助氣流將在圍繞反射琢面之區域中產生的熱散逸。
本發明一方面係設法解決示範在包含複數反射鏡元件之反射鏡配置的情況下使其可能的解決方案之問題，以確保即使在高熱輸入的情況下，反射鏡元件之適當溫度。
上述問題係藉助包含下列之反射鏡配置而根據本發明加以解決：-至少一個反射鏡元件，承載提供用於反射電磁輻射的反射鏡表面；-至少一個載體元件，包含一頭部段，其提供用於接收至少一個反射鏡 元件，以及還有一座段；以及-一安裝配置，用於接收該至少一個載體元件，其中-至少一個插入開口形成於該安裝配置中，-該載體元件之該座段陷入(plunge)前述插入開口中，且-用於引導傳熱介質的管道器件形成於在圍繞該座段之區域中的該安裝配置中。
如此使其可能提供用於EUV投射曝光裝置的反射鏡配置，其中可有效散逸在反射鏡元件之區域中產生的熱之，此外，該反射鏡元件可與載體元件結合以形成組合件，其可具優勢地連結至該安裝配置中或若必要亦可從該安裝配置移除。
引導穿越反射鏡配置的冷卻介質之溫度可經調節使其實質上對應於該反射鏡配置之設定點溫度，且對應實現熱流所需求的溫度梯度，而熱流實質上來自在反射鏡元件之區域或各自載體元件之鄰接區域中的局部較高系統溫度。冷卻能力隨後主要可藉助冷卻介質之流動調節加以調節。
根據反射鏡配置之另一具優勢具體實施例，該載體元件形成為插銷狀(pin-like)組件，其中該座段在該插入方向上逐漸變細。在此情況下，該座段可塑形使其具有錐形、亦即圓錐形外緣面。在此情況下，錐角可界定出使得介於該座段之圓錐形延伸外圍表面與接觸前述表面之該安裝配置之內壁間的相對較高壓縮產生適當軸向力。
錐形或圓錐形外緣面可塑形成幾何形狀，使得該座段與該插入開口之內壁在安裝位置達到時盡可能緊密接觸，特別是在此情況下所建立的安裝力之作用下。為了此目的，在該座段之區域中、至少分段可形成彈性及/或塑性可變形結構，其確保該插入開口之內壁盡可能緊密接觸，且其自身造成最小可能的傳熱阻力。為了此目的，包含至少一層材料層的鍍 層可施加於在該座段之區域中的載體元件，舉例來說，前述鍍層在該安裝力達到時以引起該載體元件之特別有效熱耦合於該安裝配置的方式塑性變形。前述鍍層特別可體現為金屬鍍層，並可例如用電化學方法施加於在其座段之區域中的載體元件、特別可體現為電解塗層。前述鍍層特別可體現為含銦鍍層，其若適當則覆蓋有又一鍍層、特別是金或銀鍍層。前述鍍層之層厚度較佳為在10至20μm(微米)之範圍內。非金屬延性層例如鐵氟龍(Teflon)層，舉例來說，亦可在熱接觸上導致改進。再者，該座表面可塑形使得在該固有圓錐形狀上疊加稍微波浪狀，其具有在安裝該載體元件後產生具備高表面壓力之接觸區的效應。在該座段之區域中，亦可提供溝槽或其他局部小型切口或凹陷，若適當則該塑性可變形鍍層之部分可轉移至其中，使得在固定該載體元件之背景中，該塑性可變形鍍層減縮成大幅填充表面粗糙度的層厚度，並塑形該安裝配置內表面之缺陷和該座段之外緣面，或僅具有不會造成具備所選定安裝力的塑性可變形鍍層之進一步位移的剩餘厚度。
除在該載體元件之座表面上形成相對延性(ductile)鍍層之上述措施外，亦可能在形成座表面的載體元件之該區域中形成彈性適用結構、特別是徑向適用尖軌(radially compliant tongues)，其彼此接近形成，較佳為與該載體元件整合成一體。在安裝該載體元件之背景中，前述尖軌被施力抵著承接該載體元件的孔內壁，然後以由尖軌之幾何形狀所調節的接觸力接觸該內壁。
再者，可在該座段之區域中形成幾何結構，其產生局部漸增的表面壓力，並因此具有該載體元件係以密封方式安置於該安裝配置中的效應。為了密封該組件組合件，亦可在背離各自反射鏡元件的載體元件頭部段之下側上實現密封配置。前述密封配置可特別包含一密封環結構，其在該載體元件之併入該安裝配置時係軸向負載，並在該過程中被按壓。在此情況下，該密封材料較佳為選定使其確保釋放出盡可能少的氣體。在此 情況下，特別是延性金屬材料，同樣特別是還有由延性金屬材料與彈性體材料構成的複合結構，以及由純彈性體構成的密封件適合作為密封材料。當該頭部段之下側無法用於實現密封系統(或者與此方法搭配的作法)，則可在該錐體之相鄰(即上方)區域中提供密封結構，其藉由使用實質上徑向方向的壓迫力引起密封。在此情況下，前述密封結構進而可由環狀元件形成，例如O形環。在此所提供的密封系統可同樣較佳為包含塑性可變形金屬結構，例如金、銅或鋁導線密封件。此密封配置亦可包含密封件，其具有織物結構及/或彈性體元件、特別是O形環。該密封配置亦可包含金屬與彈性體密封構件之一組合。再者，可藉助複數連續密封區在該安裝配置中實現該等載體元件之密封，並由在兩個密封區之間的抽吸或阻隔氣體進氣來提供中間抽氣(intermediate extraction)，使得無氣體可從下方安裝區域進入反射鏡元件之區域。
再者，可在該載體元件之內部區域中提供管道結構，經由該等管道結構在該載體元件內進行主要基於例如對流效應的傳熱。為了此目的，所謂的熱導管(heat pipe)系統可在該載體元件之內部區域中實現，舉例來說，在該系統中介於鄰接該頭部段與該座段之間區域的傳熱，係透過由傳熱介質之物質狀態變化。
較佳為，在該載體元件中形成通路管道，前述通路管道延伸穿越該座段。將連結至反射鏡元件之致動器系統連接到對應電子驅動系統的那些連接和控制線，可引導穿越前述通路管道。藉助根據本發明之概念之一所達成的是該等載體元件在該熱輸入區域中提供除該通路管道之大型熱傳導橫截面，因此確保有效的散熱。
各自插入開口之內壁係由連結至該安裝配置中的套筒(bush)元件所形成。在此情況下，以即使該載體元件從該插入開口移除或尚未插入該插入開口中而該冷卻系統仍不打開的方式，該套筒元件可以密封方式連結至該安裝配置中。該套筒元件特別可形成為插入該安裝配置中(特 別是以密封方式焊接入該安裝配置)的相對較薄壁中空錐形套筒。該套筒元件具優勢地由與接收套筒元件的安裝配置之該殼體相同的材料所構成。
提供用於引導該傳熱介質的管道器件，可舉例來說憑藉前述管道器件係由在該中空錐形狀套筒元件之外側區域中延伸的切口至少以分段(in sections)所形成而提供。作為對此的替代例或結合此概念，亦可能在形成該安裝配置的主體中形成提供用於流體引導的對應溝槽結構。在該套筒元件中形成溝槽或管道結構使其可能實現複雜和線工(filigree)管道幾何形狀，並從生產工程設計立場提供優勢。
該冷卻介質較佳為藉助直接形成於該安裝配置中的管道系統引導至圍繞該插入開口的區域中，前述管道系統與在該套筒元件之部分上所提供的管道器件連通。形成於該安裝配置中的管道系統可塑形，使得圍繞複數插入開口的區域之並行冷卻係藉助前述管道系統實現。該流體流動分支可由切換或限制構件進行調節。較佳為，圍繞各自套筒元件的管道系統亦形成較提供用於以流體饋送的管道系統之流動阻力更高的流動阻力，使得在具有多個插入開口的安裝配置之情況下，實質上相同的流體通過量和因此相同的冷卻能力可在各插入開口皆實現。
形成於各自套筒元件之外部區域中的管道器件皆可形成，使得前述管道器件以螺紋溝之方式盤旋或螺旋形繞著前述套筒元件持續地延伸。前述螺紋溝亦可形成使其以多重引導(multiple lead)方式上升。然而，該管道器件亦可能塑形使其以具備盡可能均勻繞著或穿越該套筒元件沖排之效應的某種其他方式分支或運行。
該載體元件，如上述已討論過，較佳為以密封方式插入該套筒元件。因此，可在承接該等反射鏡元件的區域中創造真空，而無需經由該等載體元件之鄰接區域在此所進行來自該安裝配置之後方區域的氣體流入。
再者，該載體元件較佳為提供有固定段，其中將該載體元件 固定於該安裝配置中的夾持力可經由前述固定段引入該載體元件。前述固定段特別可體現為其上設置螺帽的螺紋段，其在旋緊狀態下產生該夾持力。在前述螺帽之部分上所產生的夾持力之轉移至該安裝配置中，特別可連結彈簧、特別是盤形彈簧執行，使得即使在該安裝配置或該載體元件之熱膨脹的情況下，仍始終提供足夠高的軸向力。較佳為，在該安裝配置之區域中，提供例如形式為螺紋或環狀凹部的幾何結構，這使其可能在此附接用於拆卸該載體元件可能需求的釋放機構。前述釋放機構特別可包含一螺紋套筒，其可「從下面」如必要旋擰入該安裝配置中，並使該載體元件能被按壓出該安裝配置。
該反射鏡元件較佳形成為塊狀或平行六面體狀組件。此組件較佳為以在這些組件之間產生有效傳熱的方式連接到該載體元件。為了此目的，特別是結構亦可形成於該反射鏡元件中，該等結構促進從反射鏡琢面之區域至反射鏡元件之更深區域中的傳熱。該反射鏡元件之耦合至該載體元件特別可由熔接、焊接、黏接或者由機械連接結構(例如夾緊、楔入或其他聯接)實現，較佳為具備所引起兩個組件之緊密平面承載。
再者，可提供旋轉固定裝置以確保旋轉位置。該旋轉固定裝置可包含一插銷或一球，舉例來說，其接合至對應插座(如槽孔或類似物)中。
該載體元件在幾何形狀上調節，使其特別在陷入(plunge)該安裝配置中之該區域中，提供傳熱充分的最大可能橫截面。具有良好熱傳導性和適度、較佳為盡可能最小熱膨脹的材料，較佳選定用於該載體元件。尤其，銅、矽、碳化矽(SiC)、鉬合金、鎢合金或高級鋼在此合適作為材料。該載體元件內部亦可具有所謂的熱導管結構，其藉助對流效應支承該內部傳熱以甚至更有效地傳輸熱，亦即具備甚至更小的溫度梯度。其他電氣元件、特別是電子電路可連結至該錐形載體中；其實現例如用於驅動該等反射鏡元件及/或該溫度偵測所需求的信號轉換。
如上述的座段較佳為以圓錐或錐形狀方式形成。該錐角若需要則可設定以產生特定自我鎖定(self-locking)，亦即該載體元件在該緊固螺釘釋放時仍不會立即鬆開。
根據本發明之又一態樣，在引言中所指出的問題亦藉助用於從包含複數反射鏡元件的反射鏡配置之區域散熱的方法，根據本發明加以解決，其中在該等反射鏡元件處產生的熱最初係由載體元件排出(tapped off)，並引導至安裝配置之區域中，其中冷卻介質係在緊鄰該載體元件之區域中的該安裝配置中引導，且離開該載體元件的熱流係經由該冷卻介質排出。
該冷卻介質之通過量和該冷卻介質之進入溫度較佳為以該反射鏡安裝達到預定設定點溫度的方式就控制工程設計方面而調節。為了此目的，較佳為，偵測該冷卻介質之返回溫度，而該冷卻介質之通過量訴諸於該返回溫度而調節。
在該安裝配置中的載體元件之熱耦合，較佳為憑藉該載體元件之錐形所塑形段係被迫進入在該安裝配置中之互補錐形塑形孔中而達成，並係與該安裝配置緊密接觸而在此固定。
該載體元件和該安裝配置可以在該安裝配置中的載體元件之旋轉位置係精確界定出的方式，以彼此調合的方式具優勢地形成。界定出該旋轉位置的那些結構使得該旋轉位置在到達該端部位置前已精確界定出，而可讓載體元件避免在插入前述載體元件之過程中接觸已安裝之反射鏡元件。用於確認關於該插入軸線之正確對準的該等結構可保留在整個系統中，亦即係由該載體元件和該安裝配置之幾何結構提供。其亦可由僅暫時使用以及相對於該安裝配置其他在幾何上充分精確處理段而置中及定向的安裝輔具(mounting aid)提供，並在安裝後移除。
含水混合物、非導電介質、乙二醇、氣體或氣體混合物，例如二氧化碳(CO2)或含二氧化碳氣體混合物，可具優勢地用作冷卻介質。穿 越冷卻迴路的冷卻介質之流動，較佳為藉由強制循環(如藉由泵浦器件)加以限制。眾多調整裝置、特別是限流器(restrictor)結構可在該冷卻迴路中提供；其使該安裝配置之穿越流動與在圍繞各自載體元件之區域中所預期的局部熱輸入可調節。該冷卻迴路可塑形使其包含多個分支和結合位置，該冷卻介質之流動經由其在各自熱輸入區之中分流。該配置亦可包含複數浦泵，其輸送容量較佳為可個別調節。
該反射鏡配置可進一步具優勢地以藉助該安裝配置，多個反射鏡元件經設置以形成呈現為平面或彎曲、特別是球面彎曲表面之反射鏡表面的方式加以建構。設置於載體元件上的該等反射鏡元件可具優勢地具有多邊形狀、特別是正方形、矩形、菱形、六邊形、圓形或橢圓形外輪廓。相鄰反射鏡元件亦可具有不同的邊緣輪廓，然而，較佳為與最小的可能中間間隙緊鄰互補。此外，亦可形成即將使用盡可能類似所塑形之反射鏡元件形成的反射鏡表面之最大可能部分，然後在特定區中插入特殊形狀的反射鏡元件，如此隨後使其可能符合特定幾何特殊條件。
根據本發明之又一態樣，亦可以對於即將相鄰設置的特定數量之載體元件，出現允許複數載體元件預先結合以形成群組之插入方向的方式形成該安裝配置。藉由使用具有六邊形狀輪廓的反射鏡元件，舉例來說，七個載體元件隨後可結合以形成具有預先彼此連接之載體元件的模組群組並可安裝為製備群組(prepared group)。如此簡化安裝且附加降低對反射鏡元件之邊緣的損傷風險。這些製備群組可具有盡可能窄的光學被動(若適當)保護性外殼。以此方式結合以形成群組的該等載體元件，可例如由熔接或焊接而特別顯著地彼此連接，且在此結合形式上已可確保該等反射鏡元件之正確光學對準。
該安裝配置可具優勢地在雷射熔合法過程中生成為複雜一體結構組件。在此情況下，尤其可能以包括繞著該等載體元件之座段延伸的那些壁段之安裝配置係在雷射熔合法過程中從整體生成的方式，實現該 安裝配置。只要承接該等載體元件之座段的上述套筒元件可生成為初始與該安裝配置分開的組件，則其同樣可具優勢地在雷射熔合法過程中生成。在此情況下，該等套筒元件可塑形使其在，舉例來說，具有沿著螺旋路徑在套筒元件之特別中空錐形狀側表面上運行的冷卻管道。
在本質上，本發明係關於具有用於大量特殊塑形的反射鏡載體、特別是用於微影曝光裝置之冷卻錐形插座的熱高負載安裝。根據本發明，大量反射鏡元件藉助在冷卻安裝(cooled mount)中的錐形載體裝置被承接，並藉助前述安裝相對於彼此定位。旋轉可藉助上述旋轉固定裝置支承。各反射鏡元件皆由錐形載體承載，並將具備低熱阻力的高熱負載傳導至冷卻安裝或冷卻介質中。該等錐形插座將該等反射鏡元件同時間定位於該安裝內。包括其錐形載體的各反射鏡元件皆可交換，而無需打開該冷卻迴路。該反射鏡元件固定於該錐形載體上。介於反射鏡元件與錐形載體之間的連接可由例如熔接、焊接、黏接等實行。該錐形載體係以建構具有良好熱傳導性之部分的方式形成，並適於較佳為低的熱膨脹。該錐形載體較佳為由在良好熱傳導性和標定熱膨脹之範圍內的材料構成，舉例來說如銅、矽、碳化矽(SiC)、鉬合金、鎢合金、高級鋼及其類似物。該錐形載體亦可形成為熱導管，以甚至更有效地傳導熱。電氣元件亦可整合至該錐形載體中。根據本發明之一方面所冷卻的安裝承載具備固定於其上之反射鏡元件的該等錐形載體。該安裝較佳為由高級鋼構成。替代材料例如銅、鋁合金、不變鋼(Invar)、碳化矽(SiC)、鉬合金、鎢合金等，原則上亦合適作為用於生成該安裝(例如由於膨脹要求/熱工程設計要求、強度要求、自然頻率要求等若有必要)的材料。該冷卻安裝同時體現為冷卻器。其中冷卻介質流過，且其經由該冷卻介質將傳遞到該安裝的熱能散逸。該安裝較佳為生成為焊接組合件，並由相對較大設計(前後板)之至少兩個部分和大量錐形套管(sleeves)構成。這些組件較佳為以完全真空密封方式焊接。較佳為焊入的該等錐形套管係並行冷卻。各錐形套管之供給孔皆可形成為限流器，以設定 冷卻量。若適當則該安裝亦可從整體(例如由雷射熔合法)生成。以此種方式建構的此內部可冷卻安裝可連結至整體夾持器，這使其可達成承載錐形載體的下方板之終端。
根據本發明一方面的安裝設計和錐形載體之特定建構(在某些實例中以下亦指定為載體元件)可實現下列系統特性：
1.可進行在該安裝內的該等反射鏡元件之交換，而無需打開該冷卻迴路。
2.在反射鏡元件連接表面(在錐形載體處)與冷卻介質(在該安裝中)之間非常低的熱阻力。
3.大量的熱可經由該錐形載體散逸，特別若該錐形載體係從銅生成時。
4.僅需要用於精確固定及夾持該等錐形載體的低旋緊力。
5.該錐形狀實現軸向真正緊密的強制鎖定連接。
6.承載電流和信號的連接元件可被引導穿越在該錐形載體中的中央開口(孔)。
7.焊接入該安裝的液體冷卻錐形套管由於冷卻液體沿著該錐形狀直接流過，因此實現特別低的熱阻力。該穿越流動較佳為從大錐形直徑側開始進行。
8.焊接入的所有錐形套管係從該等供給管道並行冷卻。
9.用於各錐形套管的饋送孔皆可具有不同直徑並用作限流器。
10.該錐形狀結合準確契合實現大型傳熱面積，並導致非常良好的傳熱。在該錐形表面上的附加合適鍍層在傳熱上導致進一步改進。
11.此設計實現具備至少主要層流的冷卻迴路之穿越流動，結果可降低來自該冷卻液之流動的震動刺激。
1‧‧‧反射鏡元件
2‧‧‧載體元件
2a‧‧‧頭部段
2b‧‧‧座段
2c、2d‧‧‧O形環溝槽
2e‧‧‧固定段；螺紋插銷段
2f‧‧‧螺帽
2g‧‧‧盤形彈簧
2h‧‧‧密封器件；密封配置
2i‧‧‧密封環元件
3‧‧‧安裝配置；安裝
3a‧‧‧插入開口
3b‧‧‧套筒元件
3c、3d、3e‧‧‧安裝殼體
3f‧‧‧空間區域
3g‧‧‧安裝邊緣
4a‧‧‧管道器件；管道結構
4b‧‧‧管道系統；饋送管道
4d‧‧‧管道
5‧‧‧通路管道；軸向孔
6‧‧‧密封器件
6a、6b‧‧‧O形環
20‧‧‧安裝；接觸尖軌
21‧‧‧縱向溝槽
22‧‧‧周圍溝槽
本發明之進一步細節和特徵可從與所附圖式相關聯的下列說明顯而易見，其中：圖1根據包含各別形成反射鏡陣列之多個反射鏡元件的本發明，顯示反射鏡配置之透視例示圖；圖2顯示用於闡明根據本發明的反射鏡配置之建構的簡化剖面例示圖；圖3顯示載體元件之透視例示圖，附帶其圓錐形塑形座段和提供用於承接反射鏡元件的平行導管狀頭部段之視圖；圖4顯示安裝配置之透視細節例示圖，附帶提供用於形成近孔冷卻管道的套筒元件之視圖；圖5顯示套筒元件之一個較佳建構之透視細節例示圖，附帶形成於其中並以螺紋狀方式運行的兩個冷卻管道；圖6顯示根據本發明的載體元件之另一變化例之透視例示圖，附帶其圓錐形塑形座段之視圖，其在此配備多個尖軌元件；圖7a顯示用於闡明在根據本發明之安裝配置中的載體元件之安裝位置的軸向剖面例示圖，其中在介於載體元件之頭部段下側與承接該載體元件的套筒元件之上邊緣區域之間的區域中提供密封配置；圖7b顯示用於闡明在根據本發明之安裝配置中的複數載體元件之安裝位置的進一步軸向剖面例示圖，附帶在圖7a中所闡明的密封概念之實作。
根據圖1的例示圖闡明根據本發明的反射鏡配置之建構。前述反射鏡配置在此包含多個反射鏡元件1，其係接近設置形成凹表面，並在此例中朝向光學中心對準。各前述反射鏡元件1皆用於反射電磁輻射，並為了此目的包含一對應反射性鍍層反射鏡表面。再者，該反射鏡配置包含複 數載體元件2，各皆包含一頭部段2a，其提供用於承接至少一個反射鏡元件1，還有座段2b。再者，該反射鏡配置包含一安裝配置3，其用於承接載體元件2。
對應於載體元件2之數量的若干插入開口3a係形成於安裝配置3中。在此例中，該反射鏡配置係以各載體元件2之座段2b皆陷入前述插入開口3a中的方式形成，其中用於引導傳熱介質的管道器件4a係形成於在圍繞座段2b之區域中的安裝配置3中。經由整合入該安裝配置的管道器件4a，經由各自載體元件2之座段2b流動的熱流可直接接近於插入開口3a提取及散逸。如此使其可靠地將反射鏡元件1保持於預定熱層級處，還可使安裝配置3符合在狹窄容差範圍內的預定熱設置點狀態。
在所例示反射鏡配置之情況下，各反射鏡元件1皆經由各自載體元件2熱耦合於冷卻安裝。各載體元件2皆將各自反射鏡元件1所發出的熱功率以低熱阻力傳輸至冷卻安裝3中。在安裝3內，熱係由冷卻介質、特別是冷卻液體排出。塑形為錐形插銷的載體元件2將反射鏡元件1定位於安裝20上。結合所分配載體元件2的各反射鏡元件1皆可從安裝3移除，且若適當則可交換、測試或維護，在過程中無需打開該液體冷卻迴路。
安裝配置3如可識別係由多部分所建構。其包含以中空錐形狀方式塑形的多個套筒元件3b(參見圖2)，以及還有以堆疊方式聯接在一起的多個安裝殼體3c、3d、3e。在該堆疊中最上面的安裝殼體3c和若適當與之相鄰接續的安裝殼體3d，與套筒元件3b互動形成造成熱從圍繞各自載體元件2之座段2b的區域排出的那些冷卻管道。連接到該最上面安裝殼體3c的第二安裝殼體3d，與最上面的安裝殼體3c一起形成用於實現流體供給和流體排放的管道系統。進而連接到該第二安裝殼體3d的第三安裝殼體3e終止在載體元件2之端部段下方延伸的空間區域3f。第三安裝殼體3e可打開，並藉助一個或複數密封件將空間區域3f密封。
根據圖2的例示圖舉例來說闡明反射鏡元件1之錨定 (anchoring)於安裝配置3上。如從圖2中所找到細節例示圖顯而易見，各自載體元件2皆形成為插銷狀組件，且座段2b係以在插入方向上逐漸變細(taper)的方式，以錐形狀方式錐形塑形。通路管道5形成於各自載體元件2中，而前述通路管道延伸穿越頭部段2a和座段2b。
插入開口3a之內壁係由連結至安裝配置3中的套筒元件3b所形成。在此情況下，套筒元件3b係以密封方式連結、較佳為焊接入安裝配置3，並界定出管道系統。該管道引導(channel guidance)使得載體元件2可從套筒元件3b抽出，無需打開該冷卻迴路。換言之，該冷卻迴路獨立於載體元件2之安裝狀態而關上，且即使在載體元件2之安裝前仍特別查看密封性。
在此所例示的套筒元件3b，形成為中空錐形套筒。提供用於在套筒元件3b中或沿著套筒元件3b而引導該冷卻介質的管道器件4a，係由在套筒元件3b中的套筒元件3b之面向外部的外側區域中延伸的切口(cutout)至少分段所形成。
管道系統4b形成於安裝配置3中，前述管道系統4b與提供於套筒元件3b之部分上的管道器件4a連通。在所例示的示例性具體實施例中，該流體流入載體元件2之更高熱負載區域，且該流體從載體元件2之較冷區域(在此例示圖中的下方區域)排放。如以下將甚至更詳細加以說明，形成於套筒元件3b之外部區域中的管道器件4a係塑形使得前述管道器件以單或多開始螺紋之方式多次繞著套筒元件3b延伸，且該傳熱介質因此繞著套筒元件3b緊密流動。
各自載體元件2係以密封方式插入套筒元件3b。為支承該密封效應，在此情況下密封器件6係提供於該座段之基底區域中。前述密封器件在此係由實現為安置於載體元件2之對應O形環溝槽2c、2d中的O形環6a、6b。
載體元件2提供有固定(fixing)段2e，其中將載體元件2固定於安裝配置3中的夾持力可經由前述固定段2e引入載體元件2。承載內部螺紋 的螺帽2f在此接合於固定段2e上。前述螺帽係藉助在第二安裝殼體3d上的盤形彈簧2g支承。
根據圖3的例示圖闡明形式為透視例示圖的載體元件2之一個示例性建構。載體元件2實施為關於其座段2b的旋轉對稱車削件(turned part)。頭部段2a在此實施為平行六面體狀段，且其背離座段2b的端部面形成用於與放置於此座表面上之反射鏡元件進行平面接觸的接觸表面(未更詳細圖示)。然而，頭部段2a特別亦可具有正方形、矩形、六邊形、菱形、梯形形狀或其他、特別是多邊形的外輪廓。較佳為，頭部段2a之邊緣輪廓對應於安置於其上的反射鏡元件之邊緣輪廓。若適當則該邊緣輪廓可以該頭部段稍微超出安置於其上的反射鏡元件之邊緣輪廓側向伸出，使得由於相鄰載體元件之頭部段之對應尺寸過大，而避免介於安置於這些相鄰頭部段的反射鏡元件之間的直接實體接觸。座段2b生成為錐形結構且相鄰於圓柱段，其中提供用於承接O形環的那些溝槽2c、2d延伸。螺紋插銷段2e係位於該載體元件之下方區域中。載體元件2由軸向孔5穿過其整個長度。可能在載體元件2中形成局部管道系統(未更詳細圖示)，並將傳熱流體填充入前述管道系統以支承從頭部段2a之區域至座段2b之區域中的傳熱。在該管道系統中的傳熱介質、填充量和內部壓力可調節以在此產生所謂的「熱導管系統」，其中該傳熱(heat transfer)係與引入該載體元件之局部管道系統的傳熱介質之物質狀態變化相關聯。
根據圖4的例示圖根據用於進一步闡明在此情況下所實現之冷卻流體管道結構的本發明，顯示來自安裝配置的部分。提供用於饋送流體和排放流體的該等供給管道係由最上面的安裝殼體3c和相鄰的第二安裝殼體3d所形成。該流體引導使得流體經由饋送管道4b饋送到緊鄰反射鏡元件1(參見圖1)的對應套筒元件3b之該區域。流體經由管道4d從套筒元件3b之軸向遠端下方區域(隨著直徑縮減)排放。在此所例示的示例性具體實施例之情況下，兩個安裝殼體3c、3d和套筒元件3b係從高級鋼材料生成，並使 用鎳基底焊料彼此焊接。套筒元件3b在其連結至在其內壁之區域中形成該安裝配置的兩個殼體3c、3d後，以材料移除方式再次重工(rework)，特別是藉助軸向控制加工器件進行磨碎或研磨，以確保該內壁之正確幾何位置。為了此目的，套筒元件3b初始可在該內側上有過大尺寸(oversize)。
根據圖5的例示圖闡明具備外部管道結構4a的套筒元件3b之建構。套筒元件3b為錐形套筒。在此情況下，管道結構4a可在初始生成為平滑中空錐形的主體中以材料移除方式形成。管道結構4a在相對於該穿越流動方向橫向對準的剖面上具有矩形橫截面，並以可見(discernible)的方式在套筒元件3b之外部區域中以多開始螺紋之方式延伸。
根據圖6的例示圖闡明形式為透視例示圖的載體元件2之進一步示例性建構。載體元件2生成為相對於其座段2b的主要圓錐車削件(turned part)，但係以在此出現多個各別彈性或塑性可變形接觸尖軌(contact tongue)20的方式，在此區域中進一步重工。前述接觸尖軌20由彼此接近設置的縱向溝槽21和周圍溝槽22彼此分隔。周圍溝槽22係以圓錐環狀方式塑形。接觸尖軌20以其全部形成冷杉樹(fir tree)結構，其尖軌20在納入所分配插入開口過程中抵著該插入開口之內壁支撐，並在該過程中緊密接觸後者。對於由縱向溝槽21和周圍溝槽22所形成的空間，可能以延性金屬、特別是銦加以填充。對於其餘細節，可適用關於圖3的說明。
對於在圖7a中所例示的示例性具體實施例，可適用圖1至圖5的說明。作為與圖1至圖5相關聯所說明的系統之開發，在介於載體元件2之頭部段2a與套筒元件3b之上邊緣區域之間的中間區域中提供有密封器件2h，載體元件2係藉助該密封器件相對於安裝配置3以氣密方式密封。密封器件2h包含一密封環元件2i。在此變化例中，前述密封環元件2i係軸向負載且對應地變形。安裝邊緣3g形成於套筒元件3b上，並封圍密封環元件2i，且密封環元件2i由此可靠地定位於套筒元件3b上，而有利於載體元件2之安裝。
如可從根據圖7b的例示圖可見，複數載體元件2可在根據本 發明的安裝配置中接近(close proximity)安裝。在此所顯示的示例性具體實施例之情況下，頭部段2a係以間隙區域維持介於相鄰頭部段2a之間的方式塑形。頭部段2a係以其在稍微超出安裝於頭部段2a上的反射鏡元件1之側壁的橫向方向上伸出的方式進一步塑形。因此達成反射鏡元件1之某種程度上的保護。如在此所顯示介於頭部段2a之間的間隙，允許載體元件2藉由使用圍繞各自頭部段之周圍邊緣的外殼進行安裝，並允許此外殼隨後在已執行安裝後抽出。覆蓋反射鏡琢面的蓋子亦可契合於前述外殼。密封配置2h係提供於各自頭部段2a之下側區域中，該密封配置在其建構上對應於上述與圖7a相關聯的密封配置。就此點而言，參考了關於圖7a的說明。雖然在此未例示出，但可能結合複數相鄰載體元件2以形成相對剛性、若適當則大幅度預先組合的結構單元，使得載體元件2以群組連結至安裝配置3中。此群組在該等載體元件以相對於彼此傾斜的方式設置時亦為可能，只要相對於彼此的載體元件2之縱向軸線之傾斜小於載體元件2之座段2b之錐角即可。
上述與根據圖1至圖5還有圖7a和圖7b之例示圖相關聯的安裝配置3之建構，使其可憑藉在該等反射鏡組件處產生的熱最初係由載體元件2排出並引導至安裝配置3之區域中，從包含複數反射鏡組件的反射鏡配置之區域散熱，其中冷卻介質係在緊鄰載體元件2之區域中的安裝配置3中引導，且離開載體元件2至安裝配置3的熱流係經由冷卻介質排出。在此情況下，該冷卻介質之通過量和該冷卻介質之進入溫度係就控制工程設計方面而調節。此調節可例如偵測該冷卻介質之返回溫度，而該冷卻介質之通過量訴諸於該返回溫度而調節的方式實行。該冷卻介質之通過量和管道橫截面較佳為經調節，使得在該安裝配置中出現盡可能無紊流和空穴(cavitation)的可能層流。如此可防止該冷卻介質所造成的可能機械震動損害包括反射鏡元件所形成的反射鏡配置之成像特性。
上述已基於各種示例性具體實施例和修飾例詳細說明本發明。尤其，上述在進一步個別特徵之背景中所說明的技術個別特徵可獨立 地及結合其他個別特徵實現，具體而言即使此並未明白說明，只要此為技術上可能即可。因此，本發明明白不限於所說明的示例性具體實施例，而是涵蓋由諸申請專利範圍所界定出的所有具體實施例。
1‧‧‧反射鏡元件
2‧‧‧載體元件
2a‧‧‧頭部段
2b‧‧‧座段
2c、2d‧‧‧O形環溝槽
2e‧‧‧固定段
2f‧‧‧螺帽
2g‧‧‧盤形彈簧
3a‧‧‧插入開口
3b‧‧‧套筒元件
3d‧‧‧安裝殼體
4a‧‧‧管道器件
4b‧‧‧管道系統
5‧‧‧通路管道
6‧‧‧密封器件
6a、6b‧‧‧O形環

Claims (25)

  1. 一種反射鏡配置，包含：至少一個反射鏡元件，承載提供用於反射電磁輻射的一反射鏡表面；至少一個載體元件，包含一頭部段，其提供用於接收至少一個反射鏡元件，以及還有一座段；以及一安裝配置，用於接收該至少一個載體元件，其中：至少一個插入開口形成於該安裝配置中，該載體元件之該座段陷入該插入開口中，用於引導一傳熱介質的一管道器件，而該管道器件形成於圍繞該座段之區域中的該安裝配置中，該載體元件具有延伸穿越該座段的一通路管道，以及該通路管道延伸穿越該頭部段。
  2. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該載體元件形成為一插銷狀(pin-like)組件，且該座段在該插入方向上逐漸變細。
  3. 如申請專利範圍第2項之反射鏡配置，其特徵在於該座段具有一圓錐形外緣面。
  4. 如申請專利範圍第3項之反射鏡配置，其特徵在於該通路管道形成於該載體元件中，而該通路管道延伸穿越該座段。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一者之反射鏡配置，其 特徵在於該插入開口之該內壁係由連結成該安裝配置的一套筒(bush)元件所形成。
  6. 如申請專利範圍第5項之反射鏡配置，其特徵在於該套筒元件係以一密封方式連結至該安裝配置內。
  7. 如申請專利範圍第6項之反射鏡配置，其特徵在於該套筒元件形成為一中空錐形套筒。
  8. 如申請專利範圍第7項之反射鏡配置，其特徵在於該管道器件係由在該套筒元件之該外側區域中延伸的一切口至少以分段所形成。
  9. 如申請專利範圍第5項之反射鏡配置，其特徵在於一管道系統形成於該安裝配置中，而該管道系統與提供於該套筒元件之部分上的該管道器件連通。
  10. 如申請專利範圍第8項之反射鏡配置，其特徵在於形成於該套筒元件之該外部區域中的該管道器件繞著該套筒元件延伸。
  11. 如申請專利範圍第5項之反射鏡配置，其特徵在於該載體元件以一密封方式插入該套筒元件中。
  12. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該載體元件提供有一固定段與一夾持力，而將該載體元件固定於該安裝配置中的該夾持力係經由該固定段引入該載體元件。
  13. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於由一延性材料組成的一鍍層、特別是一銦鍍層、施加於該載體元件之該座段之區域中。
  14. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於一彈性及/或塑性可變形層狀結構形成於該載體元件之該座段之區域中，該彈性及/或塑性可變形層狀結構在該載體元件之插入該插入開口中後，以確保一低傳熱阻力的一方式接觸該安裝配置之該插入開口之該內壁。
  15. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於一局部管道系統係形成於該載體元件中，而該局部管道系統用於搭配引入該載體元件之該局部管道系統的一傳熱介質之物質狀態下的一變化而提供從該頭部段之區域至該座段之區域中的傳熱。
  16. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該載體元件和該安裝配置係以界定出該載體元件之該旋轉位置的一方式彼此調合的一方式形成，亦即其關於在該安裝配置中的該插入開口之該縱向軸線的該方向。
  17. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於所使用的該冷卻介質舉例來說係水、一含水混合物、乙二醇、一氣體或氣體混合物、或液態二氧化碳(CO2)，其中可具優勢地使用從該液相至該氣相的該相變化。
  18. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於藉助該安 裝配置多個反射鏡元件經配置以形成呈現為一平面或曲面、特別是球形曲面的一反射鏡表面。
  19. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該安裝配置係在一雷射熔合法過程中從整體所生成。
  20. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於包括繞著該等載體元件之該等座段延伸的那些壁段的該安裝配置，係在該雷射熔合法過程中從整體生成。
  21. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該各自套筒元件皆具有舉例來說在該套筒元件運行且沿著一螺旋路徑運行的一冷卻管道，並係在一雷射熔合法過程中生成。
  22. 如申請專利範圍第1項之反射鏡配置，其特徵在於該等反射鏡元件具有一多邊形狀、特別是正方形、矩形、菱形、六邊形、圓形或橢圓形外輪廓。
  23. 一種用於從包含複數反射鏡元件的一反射鏡配置之區域散熱的方法，其中在該等反射鏡元件處產生的熱最初係由一載體元件排出，並引導至一安裝配置之區域中，其中在緊鄰該載體元件的一區域中的該安裝配置中引導一冷卻介質，且離開該載體元件流入該安裝配置中的該熱流係經由該冷卻介質排出，以及其中：該反射鏡配置包括一反射鏡元件，該反射鏡帶有用以反射電磁輻射的一鏡表面，該載體元件包括一頭部段，其用以容納該反射鏡元件，及一座段； 該載體元件具有延伸穿越該座段的一通路管道，以及該通路管道延伸穿越該頭部段。
  24. 如申請專利範圍第23項之方法，其特徵在於該冷卻介質之該通過量和該冷卻介質之該進入溫度係就控制工程設計方面而調節。
  25. 如申請專利範圍第23項之方法，其特徵在於該冷卻介質之該返回溫度經偵測，而該冷卻介質之該通過量訴諸於該返回溫度而調節。
TW104127528A 2014-09-30 2015-08-24 反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置、以及將熱流從一反射鏡配置之區域散熱的方法 TWI701515B (zh)

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TW109124182A TWI728866B (zh) 2014-09-30 2015-08-24 反射鏡配置、特別是用於微影投射曝光裝置的反射鏡配置、以及將熱流從一反射鏡配置之區域散熱的方法

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015223793A1 (de) * 2015-11-30 2016-10-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit reduzierter thermischer Deformation
DE102016206202A1 (de) * 2016-04-13 2017-05-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe mit einer Spüleinrichtung und optische Anordnung damit
US10509312B2 (en) * 2017-09-26 2019-12-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Approach for ultra thin-film transfer and handling
DE102019204699B4 (de) * 2019-04-02 2022-08-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Dichtungsvorrichtung, Komponente und Lithographieanlage
DE102020204665A1 (de) * 2020-04-14 2021-03-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Kühlkörpers für eine Baugruppe eines optischen Systems
DE102022213143A1 (de) 2022-12-06 2024-06-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung zur Absorption von Strahlung und Lithographiesystem
DE102022213142A1 (de) 2022-12-06 2024-06-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung mit gekühlten Spiegelelementen und Lithographiesystem

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200403543A (en) * 2002-06-28 2004-03-01 Canon Kk Reflection mirror apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
TW200931194A (en) * 2007-10-18 2009-07-16 Nikon Corp Optical member cooling apparatus, lens barrel, exposure apparatus and device manufacturing method
DE102012200732A1 (de) * 2012-01-19 2013-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US20140071523A1 (en) * 2011-03-18 2014-03-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2770960B2 (ja) 1988-10-06 1998-07-02 キヤノン株式会社 Ｓｏｒ−ｘ線露光装置
JPH11243052A (ja) 1997-11-14 1999-09-07 Nikon Corp 露光装置
AU1053199A (en) 1997-11-14 1999-06-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of manufacturing the same, and exposure method
DE10302664A1 (de) 2003-01-24 2004-07-29 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung eines Facettenspiegels
US7246909B2 (en) 2003-01-24 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Method for the production of a facetted mirror
JP2005175187A (ja) 2003-12-11 2005-06-30 Canon Inc 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス
DE102009000099A1 (de) * 2009-01-09 2010-07-22 Carl Zeiss Smt Ag Mikrospiegelarray mit Doppelbiegebalken Anordnung und elektronischer Aktorik
DE102008049556B4 (de) 2008-09-30 2011-07-07 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
JP5446984B2 (ja) 2010-02-23 2014-03-19 株式会社ニコン ミラー温調装置、光学系、及び露光装置
US9066412B2 (en) * 2010-04-15 2015-06-23 Asml Netherlands B.V. Systems and methods for cooling an optic
JP5727005B2 (ja) * 2010-07-01 2015-06-03 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学系及びマルチファセットミラー
DE102011081259A1 (de) * 2010-09-28 2012-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur Spiegeltemperaturmessung und/oder zur thermischen Aktuierung eines Spiegels in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2012191040A (ja) 2011-03-11 2012-10-04 Ihi Corp プラズマ光源システム
WO2012166204A1 (en) * 2011-06-02 2012-12-06 Nikon Corporation Fly's eye optical mirror with a plurality of optical elements rotationally aligned along two axes
DE102012200736A1 (de) 2012-01-19 2013-07-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012200733A1 (de) * 2012-01-19 2013-01-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einem optischen System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US9213190B2 (en) * 2013-02-01 2015-12-15 Raytheon Company Sparse aperture optical alignment and related methods
DE102013205214B4 (de) 2013-03-25 2016-02-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikromechanische oder Mikroelektromechanische Vorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zum Betrieb einer derartigen Vorrichtung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200403543A (en) * 2002-06-28 2004-03-01 Canon Kk Reflection mirror apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
TW200931194A (en) * 2007-10-18 2009-07-16 Nikon Corp Optical member cooling apparatus, lens barrel, exposure apparatus and device manufacturing method
US20140071523A1 (en) * 2011-03-18 2014-03-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element
DE102012200732A1 (de) * 2012-01-19 2013-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

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