DE102015223793A1 - Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit reduzierter thermischer Deformation - Google Patents

Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit reduzierter thermischer Deformation Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, enthaltend mindestens eine Spiegelanordnung mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (34.2–34.8), wobei die Spiegelelemente (34.2–34.8) mindestens teilweise in einer Einsatzöffnung (23.2–23.8) einer Spiegelfassung (22.2–22.8) angeordnet sind. Dabei ist die Spiegelanordnung derart ausgebildet, dass einer thermisch bedingten Biegung der Spiegelfassung (22.2–22.8) entgegen gewirkt wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, insbesondere eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage. Derartige Anlagen werden zur Erzeugung feinster Strukturen insbesondere auf Halbleiterbauelementen oder anderen mikrostrukturierten Bauteilen verwendet. Das Funktionsprinzip der genannten Anlagen beruht dabei darauf, mittels einer in der Regel verkleinernden Abbildung von Strukturen auf einer Maske, einem sogenannten Reticle, auf ein mit photosensitivem Material versehenen zu strukturierenden Element und mittels nachfolgender weiterer Prozessschritte feinste Strukturen bis in den nm-Bereich zu erzeugen. Die minimalen Abmessungen der erzeugten Strukturen hängen dabei direkt von der Wellenlänge des verwendeten Lichtes ab. In jüngerer Zeit werden vermehrt Lichtquellen mit einer Emissionswellenlänge im Bereich weniger Nanometer, beispielsweise im Bereich zwischen 1 nm und 30 nm, insbesondere im Bereich von 13,5 nm verwendet. Der beschriebene Wellenlängenbereich wird auch als EUV-Bereich bezeichnet.
  • Zur Führung und Aufbereitung des emittierten Lichts werden beispielsweise sogenannte Facettenspiegel verwendet, welche in der Regel eine Mehrzahl eng benachbarter, relativ kleinflächiger Spiegelfacetten oder Mikrospiegelarrays aufweisen. Die Spiegelfacetten sind wie auch die Mikrospiegelarrays üblicherweise einzeln oder in Gruppen hinsichtlich ihrer Ausrichtung ansteuerbar. Sie sind in der Regel in Ausnehmungen in einer beispielsweise plattenförmigen, ebenen oder gekrümmten Spiegelfassung angeordnet. Im Betrieb der zugehörigen Projektionsbelichtungsanlage sind die verwendeten Spiegel hohen Thermallasten ausgesetzt und müssen aktiv gekühlt werden. Die Thermallasten können einerseits von der einfallenden elektromagnetischen, hochenergetischen Strahlung und andererseits – insbesondere im Fall der Verwendung von Mikrospiegelarrays – von elektrischer Verlustleistung von direkt unterhalb der Spiegel angeordneten Elektronikbauteilen herrühren. Die entstehende Wärme wird üblicherweise in die aktiv gekühlte Spiegelfassung abgeführt.
  • Im Betrieb der Anlage ändert sich jedoch oftmals die Verteilung der Beleuchtungsintensität und damit die Thermallast über die gesamte Fläche des Facettenspiegels hinweg. Als exemplarische Ursachen hierfür sind beispielsweise der Wechsel von Beleuchtungssettings (also der Intensitätsverteilung der elektromagnetischen Strahlung auf dem Reticle) oder auch das Ein- und Ausschalten der Lichtquelle zwischen zwei Wafern oder zwei Lots zu nennen. Diese Änderung der Thermallast führt oftmals zu einer Deformation, insbesondere zu einer Biegung der Spiegelfassung, was sich typischerweise in einer Veränderung der Ausrichtung der Spiegelflächen und damit in einer verringerten Abbildungsqualität der gesamten Anlage niederschlägt. Das geschilderte Problem tritt vor allem auch deswegen auf, weil die Thermallast systembedingt vor allem auf der beleuchteten Seite der Spiegelanordnung anfällt.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie anzugeben, welche auch bei wechselnden Thermallasten auf die verwendeten Spiegelanordnungen eine gute Abbildungsqualität aufrechterhält.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.
  • Eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie enthält mindestens eine Spiegelanordnung mit Spiegelelementen, beispielsweise einen Facettenspiegel oder einen Spiegel mit Mikrospiegelarrays, wobei die Spiegelelemente mindestens teilweise in einer Spiegelfassung angeordnet sind. Dabei ist die Spiegelanordnung derart ausgebildet, dass einer thermisch bedingten Biegung der Spiegelfassung und damit einer Dejustage mindestens eines Teils der Spiegelelemente entgegen gewirkt wird. Es bestehen verschiedene Möglichkeiten, die genannte unerwünschte thermisch bedingte Dejustage der Spiegelelemente zu verringern.
  • So kann beispielsweise die Spiegelfassung einen gegenüber mindestens einem Teil der Spiegelelemente erhöhten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen. Diese Wahl der thermischen Ausdehnungskoeffizienten beruht auf der Erkenntnis, dass die Spiegelelemente üblicherweise erheblich höhere Temperaturen erreichen als die gekühlte Spiegelfassung. Dies führt dazu, dass sich die Einsatzöffnungen in der Spiegelfassung bei Erwärmung, also im üblichen Betrieb der Anlage, nicht im selben Ausmaß ausdehnen wie die in sie eingesetzten Spiegelelemente, so dass zwischen den Spiegelelementen und der Spiegelfassung mechanische Spannungen entstehen, welche ihrerseits in schwer beherrschbaren Verformungen der beteiligten Elemente resultieren. Wählt man nun den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Materials der Spiegelfassung höher als denjenigen des Materials der Spiegelelemente, gleicht sich auch bei unterschiedlichen Temperaturen von Spiegelfassung und Spiegelelementen die Ausdehnung der Einsatzöffnung an diejenige des in ihr eingesetzten Spiegelelementes an und der oben geschilderte störende Effekt wird vermieden beziehungsweise reduziert. Eine vorteilhafte Wahl für die jeweiligen thermischen Ausdehnungskoeffizienten stellt beispielsweise für das Spiegelelement ein Bereich von 5–7·10–6/K und für die Spiegelfassung ein Bereich von 15–17·10–6/K dar.
  • Ferner kann zwischen mindestens einem Spiegelelement und der Spiegelfassung mindestens teilweise ein Spalt ausgebildet sein, in welchen das sich unter Thermallast ausdehnende Spiegelelement eintreten kann, ohne nicht mehr tolerable Kräfte auf die umgebende Spiegelfassung auszuüben. Dabei kann der Spalt als Spielpassung mit einer Breite im Bereich von 5µm–20µm ausgebildet sein.
  • Weiterhin kann mindestens ein Spiegelelement freigeschnittene Bereiche aufweisen. Unter freigeschnittenen Bereichen können insbesondere Schlitze oder Nuten in dem Spiegelelement verstanden werden. Ebenso ist es denkbar, Hohlräume im Inneren des Spiegelelementes vorzusehen. Auf diese Weise wird das Spiegelelement insgesamt weicher ausgelegt, d. h. im Fall einer thermisch bedingten Ausdehnung besteht für das Material des Spiegelelementes die Möglichkeit, in die freigeschnittenen Bereiche einzutauchen, so dass der Druck, der seitens des Spiegelelementes über die Einsatzöffnung auf die umgebende Spiegelfassung ausgeübt wird, insgesamt verringert wird, wodurch sich ebenfalls eine Verringerung der Deformation der Spiegelfassung ergibt.
  • In einer weiteren Variante der Erfindung kann zwischen mindestens einem Spiegelelement und der Spiegelfassung mindestens ein federndes Element angeordnet sein, welches den zur Wärmeabfuhr aus dem Spiegelelement in die gekühlte Spiegelfassung erforderlichen thermischen Kontakt herstellt und aufgrund seiner mechanischen Nachgiebigkeit die aufgrund der thermischen Ausdehnung des Spiegelelementes in die Spiegelfassung eingeleiteten Kräfte auf ein vertretbares Maß begrenzt.
  • In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann Spiegelelement lediglich bereichsweise mit der Innenwandung einer Einsatzöffnung in der Spiegelfassung in Kontakt stehen. Durch einen bereichsweisen direkten mechanischen bzw. thermischen Kontakt kann der Weg der thermischen Energie von dem Spiegelelement in die Spiegelfassung und damit letztlich die Temperaturverteilung in der Spiegelfassung derart optimiert werden, dass die thermisch bedingte Verformung der Spiegelfassung minimiert wird.
  • Wenn das Spiegelelement gegenüber dem Innendurchmesser der Einsatzöffnung in zwei Bereichen verjüngt ausgebildet ist und lediglich in einem zentralen Bereich in direktem mechanischem Kontakt mit der Spiegelfassung steht, ergibt sich an den der Oberseite bzw. der Unterseite der Spiegelfassung zugewandten Bereichen ein Spalt zwischen dem Spiegelelement und der Spiegelfassung, über welchen praktisch keine Wärmeleitung erfolgen kann. Die thermische Energie wird vorwiegend im Innenbereich der im Wesentlichen plattenförmigen Spiegelfassung eingeleitet, so dass sich über die Dicke der Spiegelfassung in Verbindung mit der Kühlung eine bezogen auf eine Mittenebene der Spiegelfassung näherungsweise symmetrische, idealerweise homogene Temperaturverteilung ergibt.
  • Ein ähnlicher Effekt kann dadurch erreicht werden, dass das Spiegelelement in zwei umlaufenden Bereichen mit den Innenseiten der Einsatzöffnung in Kontakt steht, wobei sich ein erster Bereich in einem der Spiegelfläche benachbarten Bereich der Spiegelfassung und ein zweiter Bereich auf der der Spiegelfläche abgewandten Seite der Spiegelfassung befindet.
  • Weiterhin kann die Spiegelfassung zweiteilig aus einem ersten Fassungsteil und einem zweiten Fassungsteil gebildet sein. Dabei ist das erste Fassungsteil der Spiegelfläche zugewandt und das zweite Fassungsteil ist auf der der Spiegelfläche abgewandten Seite des ersten Fassungsteiles angeordnet. Das erste Fassungsteil zeigt einen geringeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten zeigt als das zweite Fassungsteil. In diesem Fall wird nicht eine symmetrische bzw. homogene Temperaturverteilung in der Spiegelfassung erzeugt, sondern es wird vielmehr die mechanische Reaktion der Spiegelfassung auf eine ungleichmäßige Erwärmung homogenisiert, so dass im Ergebnis auch bei einer unterschiedlich starken Erwärmung der Ober- und der Unterseite der Spiegelfassung eine Deformation des Spiegels vermindert wird.
  • Wenn die Spiegelfassung hinsichtlich ihres Materials derart ausgebildet ist, dass der thermische Ausdehnungskoeffizient der Spiegelfassung entlang der Längsachse des Spiegelelementes steigendem Abstand von der Spiegelfläche stetig ansteigt, kann eine vergleichsweise genaue lokale Anpassung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Spiegels an die zu erwartenden Temperaturverläufe erreicht werden, so dass thermisch induzierte Verformungen besonders effektiv vermieden werden können.
  • Das Spiegelelement kann in dem in der Einsatzöffnung angeordneten Bereich zapfenförmig, insbesondere konisch oder zylindrisch ausgebildet sein.
  • Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen
  • 1 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, bei welcher die Erfindung zur Anwendung kommt,
  • 2 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei welchem das Spiegelelement lediglich bereichsweise mit der Innenwandung einer Einsatzöffnung in der Spiegelfassung in direktem Kontakt steht,
  • 3 eine Variante der Erfindung, bei welcher das Spiegelelement zweiteilig in Form eines Doppelkonus gebildet ist,
  • 4 eine Ausführungsform, bei welcher die Spiegelfassung zweiteilig aus einem ersten Fassungsteil und einem zweiten Fassungsteil gebildet ist,
  • 5 eine gegenüber 4 weiter verfeinerte Variante mit einem Verlauf des thermischen Ausdehnungskoeffizienten im Material der Spiegelfassung,
  • 6 ein Ausführungsbeispiel, bei welchem zwischen dem Spiegelelement und der Einsatzöffnung ein Luftspalt vorhanden ist,
  • 7 eine Variante, bei welcher das Spiegelelement mit einem Innenspalt versehen ist, und
  • 8 die Verwendung federnder Elemente in einem Luftspalt zwischen dem Spiegelelement und der Einsatzöffnung.
  • 1 zeigt exemplarisch den prinzipiellen Aufbau einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie, in welcher die Erfindung Anwendung finden kann. Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 weist neben einer Lichtquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6 auf. Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7, das von einem schematisch dargestellten Retikelhalter 8 gehalten ist. Eine lediglich schematisch dargestellte Projektionsoptik 9 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 10 in eine Bildebene 11. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 10 in der Bildebene 11 angeordneten Wafers 12, der von einem ebenfalls ausschnittsweise dargestellten Waferhalter 13 gehalten ist. Die Lichtquelle 3 kann Nutzstrahlung insbesondere im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm emittieren.
  • Eine mittels der Lichtquelle 3 erzeugte EUV-Strahlung 14 wird mittels eines in der Lichtquelle 3 integrierten Kollektors derart ausgerichtet, dass sie im Bereich einer Zwischenfokusebene 15 einen Zwischenfokus durchläuft, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 16 trifft. Nach dem Feldfacettenspiegel 16 wird die EUV-Strahlung 14 von einem Pupillenfacettenspiegel 17 reflektiert. Unter Zuhilfenahme des Pupillenfacettenspiegels 17 und einer optischen Baugruppe 18 mit Spiegeln 19, 20 und 21 werden Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 16 in das Objektfeld 6 abgebildet.
  • 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei welchem die erwünschte symmetrische Temperaturverteilung im Material einer Spiegelfassung 22.2 beispielsweise eines der in 1 gezeigten Facettenspiegel 16 oder 17 dadurch erreicht wird, dass das Spiegelelement 34.2 lediglich bereichsweise mit der Innenwandung einer Einsatzöffnung 23.2 in der Spiegelfassung 22.2 in direktem Kontakt steht. Dabei ist das Spiegelelement 34.2 an seinem der Spiegelfläche 24.2 abgewandten Ende mit einem nicht gesondert dargestellten Gewindeabschnitt versehen und über eine Mutter 35.2 in die Einsatzöffnung 23.2 eingespannt, wodurch eine Fixierung des Spiegelelementes 34.2 auf der Spiegelfassung 22.2 erreicht wird. Im gezeigten Beispiel besteht zwischen der Oberseite 25.2 der Spiegelfassung 22.2 und dem Spiegelelement 34.2 ein Spalt, so dass die Fixierung und Ausrichtung des Spiegelelements 34.2 ausschließlich über die Einsatzöffnung erfolgt. Wie aus 2 erkennbar ist, ist das Spiegelelement 34.2 gegenüber dem Innendurchmesser der im gezeigten Beispiel konisch ausgebildeten Einsatzöffnung 23.2 in zwei Bereichen verjüngt ausgebildet und steht lediglich in einem zentralen Bereich in direktem mechanischem Kontakt zu der Spiegelfassung 22.2, so dass, wie mittels der in der Figur nicht gesondert bezeichneten gebogenen Pfeile angedeutet, über Wärmeleitung lediglich in dem genannten Bereich thermische Energie die Spiegelfassung 22.2 erreicht.
  • Hierdurch wird die Spiegelfassung 22.2 in Bereichen erwärmt, die sich nicht unmittelbar unterhalb der von der durch die geraden Pfeile symbolisierten elektromagnetischen Strahlung betroffenen Spiegelflächen 24.2 befinden. Im Ergebnis ergibt sich so eine gegenüber dem Stand der Technik homogenisierte Erwärmung der Spiegelfassung 22.2 entlang der Längsachse A, welche im Ergebnis zu geringeren Deformationen wie z.B. Verbiegung der Spiegelfassung 22.2 und damit zu einer geringeren Gefahr des Verkippens der Spiegelelemente 34.2 führt. Die die Spiegelfassung 22.2 erreichende Wärme wird über das den Kühlkanal 26.2 durchströmende, nicht gesondert bezeichnete Kühlmedium wie beispielsweise Wasser, CO2 oder ein Kältemittel abgeführt.
  • 3 zeigt eine Variante der Erfindung, bei welcher das Spiegelelement 34.3 zweiteilig in Form eines Doppelkonus gebildet ist und von zwei Seiten in die Spiegelfassung 22.3 eingesetzt ist. Dies kann dadurch bewerkstelligt werden, dass der obere Teil 27 des Spiegelelementes 34.3 (also der der Spiegelfläche 24.3 zugewandte Teil des Spiegelelementes 34.3) einen mit einen Gewindeabschnitt versehenen zylindrischen Zapfen aufweist, mit welchem der als konusförmige Mutter ausgebildete untere Teil 28 des Spiegelelementes 34.3 (also der der Spiegelfläche 24.3 abgewandte Teil des Spiegelelementes 34.3) verschraubt ist. In diesem Fall kontaktiert das Spiegelelement 34.3 in zwei umlaufenden Bereichen die Innenseiten der Einsatzöffnung 23.3, nämlich in einem der Spiegelfläche 24.3 benachbarten Bereich der Spiegelfassung 22.3 und weiterhin auf der der Spiegelfläche 24.3 abgewandten Seite der Spiegelfassung 22.3.
  • In dem dazwischenliegenden Bereich ist das Spiegelelement 34.3 gegenüber dem Innendurchmesser der Einsatzöffnung 23.3 verjüngt ausgebildet, so dass hier kein Wärmetransport über Wärmeleitung erfolgen kann. Auch durch diese Variante wird durch geeignete Auslegung der Flächenverhältnisse der spiegelzugewandten bzw. der spiegelabgewandten Konusfläche eine symmetrisierte bzw. homogenisierte Temperaturverteilung in der Spiegelfassung 22.3 mit resultierender geringerer Deformation der Spiegelfassung 22.3 erreicht.
  • Die in 3 gezeigte Anordnung zeichnet sich durch eine zuverlässige Lagerung des Spiegelelementes 34.3 in der Spiegelfassung 22.3 bei dennoch erreichbarer, differenzierter bzw. bereichsweiser Wärmeeinleitung in die Spiegelfassung 22.3 aus. Es versteht sich von selbst, dass in den 2 und 3 lediglich Extrembeispiele zur geometrischen Gestaltung von Spiegelfassung und Spiegelelement gezeigt sind. Es ist ebenso denkbar, den mechanischen Kontakt zwischen Spiegelelement und Spiegelfassung weit differenzierter auszuführen wie in den vorstehenden Figuren gezeigt. Insbesondere könnte das Spiegelelement an seinem mit der Innenseite der Einsatzöffnung zur Anlage kommenden Außendurchmesser derart strukturiert werden, dass sich in Summe segmentweise unterschiedlich große resultierende Berührungsflächen zwischen Spiegelelement und Spiegelfassung ergeben. Hierzu ist es beispielsweise denkbar, die Außenseite des Spiegelelementes mit umlaufenden Rippen zu versehen, deren Breite mit zunehmendem Abstand von der Spiegelfläche zunimmt, so dass der mechanische Kontakt zwischen dem Spiegelelement und der Spiegelfassung mit zunehmendem Abstand von der Spiegelfläche immer intensiver wird und damit der Wärmeübergang von dem Spiegelelement zur Spiegelfassung mit steigendem Abstand von der Spiegelfläche intensiviert wird. Auch diese Maßnahme führt zu einer gleichmäßigeren Wärmeeinleitung in die Spiegelfassung.
  • 4 zeigt eine Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die Spiegelfassung zweiteilig aus einem ersten Fassungsteil 29 und einem zweiten Fassungsteil 30 gebildet ist. Dabei ist das erste Fassungsteil 29 der Spiegelfläche 24.4 zugewandt, wohingegen das zweite Fassungsteil 30 auf der der Spiegelfläche 24.4 abgewandten Seite des ersten Fassungsteiles 29 angeordnet ist. Die beiden Fassungsteile 29 und 30 unterscheiden sich dahingehend hinsichtlich ihres thermischen Ausdehnungskoeffizienten, dass der erste Fassungsteil 29 einen geringeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten zeigt als der zweite Fassungsteil 30. Diese Wahl der thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Fassungsteile 29 und 30 kompensiert die unterschiedlichen Temperaturen entlang der Längsachse A der Einsatzöffnung 23.4 und führt damit im Ergebnis zu einer gleichmäßigeren thermischen Ausdehnung der beiden Fassungsteile 29 und 30. Die Wahl der thermischen Ausdehnungskoeffizienten ist dabei auf die zu erwartenden thermischen Verhältnisse abzustimmen.
  • Eine gegenüber 4 weiter verfeinerte Variante ist in 5 gezeigt. Dort ist zwar eine einteilige Spiegelfassung 22.5 gezeigt, jedoch ist die Spiegelfassung 22.5 hinsichtlich ihres Materials inhomogen ausgebildet. Sie zeigt insbesondere eine Materialverteilung, welche entlang der Längsachse A des Spiegelelementes 34.5 zu einem mit steigendem Abstand zu der Spiegelfläche 24.5 stetig steigenden thermischen Ausdehnungskoeffizienten führt. Auch hier ist Betrag und Verlauf des thermischen Ausdehnungskoeffizienten an die zu erwartenden thermischen Verhältnisse anzupassen. Bei geeigneter Wahl dieser Parameter kann im Ergebnis erreicht werden, dass sich unter den üblichen Betriebsbedingungen der zugeordneten Projektionsbelichtungsanlage 1 keine Verformung bzw. keine thermisch induzierte Verformung der Spiegelfassung 22.5 einstellt. Der thermische Ausdehnungskoeffizient kann dabei insbesondere in einem Bereich von 6–15·10–06/K verlaufen.
  • 6 zeigt eine Ausführungsform der Erfindung, bei welcher der zu lösenden Problematik dadurch begegnet wird, dass zwischen dem Spiegelelement 34.6 und der Einsatzöffnung 23.6 ein Luftspalt 31 vorhanden ist. Die Oberseite 25.6 der Spiegelfassung 22.6 dient in diesem Fall als Anschlagfläche für das Spiegelelement 34.6. Der Luftspalt 31 bewirkt einen Toleranzausgleich zwischen dem Spiegelelement 34.6 und der Spiegelfassung 22.6. Mit anderen Worten wird durch die in der 6 gezeigte Maßnahme erreicht, dass das sich bei Erwärmung ausdehnende Spiegelelement 34.6 nicht unmittelbar durch seine Ausdehnung Kräfte in die Spiegelfassung 22.6 einleitet, sondern zunächst lediglich den freien Spalt zwischen dem Spiegelelement 34.6 und der Innenwandung der Einsatzöffnung 23.6 ausfüllt, dass eine von der thermischen Ausdehnung des Spiegelelementes 34.6 herrührende Verbiegung der Spiegelfassung 22.6 weitgehend vermieden wird. Allerdings stellt ein derartiger Spalt einen hohen thermalen Widerstand, insbesondere unter den gegebenen Vakuumbedingungen dar, so dass eine Kühlung des Spiegelelementes 34.6 über die gekühlte Spiegelfassung 22.6 erschwert wäre. Ein möglicher Ansatz, diesem Problem zu begegnen, stellt die Anordnung eines wärmeleitenden, weichen Mediums, beispielsweise einer Wärmeleitpaste, in dem Spalt dar. In diesem Fall wäre jedoch durch die geeignete Wahl der Paste oder weitere konstruktive Maßnahmen dafür Sorge zu tragen, dass es nicht zu unerwünschten Kontaminationen der beteiligten sensiblen Komponenten kommt. Das Spiegelelement muss nicht zwingend wie dargestellt mit seinem in der Einsatzöffnung befindlichen Teil konisch ausgebildet sein. Es besteht auch die Möglichkeit, einen zylindrischen Abschnitt des Spiegelelementes in einer zylindrisch ausgebildeten Einsatzöffnung der Spiegelfassung anzuordnen.
  • In 7 ist ein alternativer Ansatz zu der in 6 dargestellten Lösung gezeigt. Im gezeigten Beispiel ist das Spiegelelement 34.7 mit einem Innenspalt 32 versehen, also entlang seiner Längsachse A geschlitzt ausgebildet, so dass eine gewisse Nachgiebigkeit des Spiegelelementes 34.7 in Querrichtung geschafften ist. Im Fall einer thermisch bedingten Ausdehnung des Spiegelelementes 34.7‘ schließt sich zunächst der Innenspalt 32, wodurch die in die Spiegelfassung 22.7 eingeleiteten Kräfte begrenzt werden können. Besonders vorteilhaft bei dieser Variante ist, dass durch den mechanischen Kontakt des Spiegelelementes 34.7 mit der Innenwandung der Einsatzöffnung 23.7 nach wie vor ein guter Wärmeübergang von dem Spiegelelement 34.7 auf die Spiegelfassung 22.7 gegeben ist.
  • Anhand 8 ist eine Variante der Erfindung beschrieben, bei der zwar ein Luftspalt 31.8 zwischen dem Spiegelelement 34.8 und der Innenwandung der Einsatzöffnung 23.8 ausgebildet ist, dieser Luftspalt 31.8 jedoch durch federnde Elemente 33 zwischen dem Spiegelelement 34.8 und der Innenwandung teilweise überbrückt ist. Die federnden Elemente 33 können dabei wie dargestellt in der Art von an dem Spiegelelement 34.8 angeordneten Blattfedern ausgebildet sein und auf diese Weise den Wärmeübergang zwischen dem Spiegelelement 34.8 und der Spiegelfassung 22.8 verbessern, ohne dass es bei einer thermisch induzierten Ausdehnung des Spiegelelementes 34.8 zu nicht mehr tolerierbaren Kräften auf die Spiegelfassung 22.8 kommt.
  • Es versteht sich von selbst, dass die in den Figuren gezeigten technischen Lösungen einander nicht vollständig gegenseitig ausschließen. Der Fachmann wird bei Bedarf geeignete Unterkombinationen der gezeigten technischen Maßnahmen vornehmen.

Claims (16)

  1. Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, enthaltend mindestens eine Spiegelanordnung mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (34.234.8), wobei die Spiegelelemente (34.234.8) mindestens teilweise in einer Einsatzöffnung (23.223.8) einer Spiegelfassung (22.222.8) angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelanordnung derart ausgebildet ist, dass einer thermisch bedingten Biegung der Spiegelfassung (22.222.8) entgegen gewirkt wird.
  2. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei der Spiegelanordnung um einen Facettenspiegel (16, 17) handelt.
  3. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelanordnung Mikro-Spiegel-Arrays aufweist.
  4. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der Ansprüche 1–3, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfassung einen gegenüber mindestens einem Teil der Spiegelelemente erhöhten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist.
  5. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen mindestens einem Spiegelelement (34.6) und der Einsatzöffnung (23.6) der Spiegelfassung (22.6) mindestens teilweise ein Spalt (31.6) ausgebildet ist.
  6. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Spiegelelement (34.7) freigeschnittene Bereiche (32) aufweist.
  7. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen mindestens einem Spiegelelement (34.8) und der Spiegelfassung (22.8) mindestens ein federndes Element (33) angeordnet ist.
  8. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.2, 34.3) lediglich bereichsweise mit der Innenwandung einer Einsatzöffnung (23.2, 23.3) in der Spiegelfassung (22.2, 22.3) in Kontakt steht.
  9. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.2) gegenüber dem Innendurchmesser der Einsatzöffnung (23.2) in zwei Bereichen verjüngt ausgebildet ist und lediglich in einem zentralen Bereich in direktem mechanischem Kontakt mit der Spiegelfassung (22.2) steht.
  10. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.3) in zwei umlaufenden Bereichen mit den Innenseiten der Einsatzöffnung (23.3) in Kontakt steht, wobei sich ein erster Bereich in einem der Spiegelfläche benachbarten Bereich der Spiegelfassung (22.3) und ein zweiter Bereich auf der der Spiegelfläche (24.3) abgewandten Seite der Spiegelfassung (22.3) befindet.
  11. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet dass die beiden umlaufenden Bereiche so dimensioniert sind, dass der Wärmeeintrag näherungsweise symmetrisch über die Dicke der Spiegelfassung (22.3) in diese eingeleitet wird, so dass die Deformation der Spiegelfassung (22.3) minimiert wird
  12. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfassung zweiteilig aus einem ersten Fassungsteil (29) und einem zweiten Fassungsteil (30) gebildet ist, wobei das erste Fassungsteil (29) der Spiegelfläche (24.4) zugewandt ist und das zweite Fassungsteil (30) auf der der Spiegelfläche (24.4) abgewandten Seite des ersten Fassungsteiles (29) angeordnet ist und wobei das erste Fassungsteil (29) einen geringeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten zeigt als das zweite Fassungsteil (30).
  13. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche 1–12, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfassung (22.5) hinsichtlich ihres Materials derart ausgebildet ist, dass der thermische Ausdehnungskoeffizient der Spiegelfassung (22.5) entlang der Längsachse (A) des Spiegelelementes (34.5) steigendem Abstand von der Spiegelfläche (24.5) stetig ansteigt.
  14. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche 1–13, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.234.8), in dem in der Einsatzöffnung (23.223.8) angeordneten Bereich zapfenförmig ausgebildet ist.
  15. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.234.8), in dem in der Einsatzöffnung (23.223.8) angeordneten Bereich konisch ausgebildet ist.
  16. Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Spiegelelement (34.234.8), in dem in der Einsatzöffnung (23.223.8) angeordneten Bereich zylindrisch ausgebildet ist.
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