TWI698278B - 用於物質傳送柱之接觸托盤 - Google Patents

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艾薩克 尼歐瓦特
查里斯Ａ 葛力瑟
克拉倫斯Ａ 昂布里斯特
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美商科氏格利奇有限合夥公司
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    • B01D3/16—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28C—HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA COME INTO DIRECT CONTACT WITHOUT CHEMICAL INTERACTION
    • F28C3/00—Other direct-contact heat-exchange apparatus
    • F28C3/06—Other direct-contact heat-exchange apparatus the heat-exchange media being a liquid and a gas or vapour

Abstract

本發明提供一種閥接觸托盤，其在一物質傳送或熱交換柱中使用並具有跨越該接觸托盤之一托盤台面分佈的複數個固定或可移動閥。該等閥中之每一者包括該托盤台面中之一開口、連接至附接支腿之一閥蓋及環繞該開口之一堰。該閥蓋比該托盤台面中之下伏開口寬且向外延伸超出該托盤台面中之下伏開口，並具有向下延伸之一周邊區域。一百葉式排放開口可提供於該等附接支腿中之一下游附接支腿中。

Description

用於物質傳送柱之接觸托盤
本發明大體上係關於進行物質傳送及熱交換之柱，且更特定而言，係關於用於此等柱中以促進在柱內流動之流體流之間的相互作用之接觸托盤。
如本文中所使用之術語「物質傳送柱」係指其中發生物質傳送及/或熱交換之柱。物質傳送柱之實例包括蒸餾柱、吸收柱、汽提柱及萃取柱。
各種類型之托盤通常在物質傳送柱中使用以促進上升流體流與向下流動之流體流之間的接觸及物質傳送。上升流體通常為蒸氣且下降流體通常為液體，但液體-液體及氣體-液體系統亦為已知的。每一托盤通常跨柱之實質上整個水平橫截面水平地延伸，並圍繞其周邊由焊接至圓形柱壁或殼之內表面的環支撐。以此方式定位多個托盤，相鄰托盤之間具有均一垂直間距。托盤可位於柱之僅一部分中以執行柱中所發生的多步驟程序之一部分。替代地，托盤可實質上填充柱內之整個開放區域。
上述類型之托盤含有定位於托盤台面中之開口處之一或多個降流管，以提供用於液體自一個托盤下降至相鄰下部托盤之通道。在進入降流管之前，托盤台面上之液體與穿過提供於托盤台面之選定部分中之開口的上升蒸氣相互作用。托盤台面之含有蒸氣開口之彼等區域通常被稱為「作用」區域，此係因為在托盤之彼等區域上方發生蒸氣 與液體混合及起泡。
托盤台面中之蒸氣開口可為簡單篩孔，或可形成為固定閥或可移動閥之部分。習知閥具有藉由附接支腿而支撐在托盤台面中之開口上的閥蓋。在固定閥中，閥蓋經固定以防止垂直移動。在可移動閥中，閥蓋能夠回應於通過開口之蒸氣或流體流速之變化而向上及向下移動。閥蓋用以遮蔽固定閥及可移動閥兩者中之開口以防止流體不合需要地向下穿過開口滲出，並用以側向地引導蒸氣或已穿過開口上升之其他流體以用於與沿托盤台面流動的流體進行增強的相互作用。儘管已知多種固定閥及可移動閥，但需要其設計及效能之進一步改良。
在一項態樣中，本發明針對用於物質傳送柱中之接觸托盤。該接觸托盤包含大體上平面的托盤台面及跨托盤台面分佈的複數個閥。閥中之每一者包含延伸穿過托盤台面以允許流體穿過托盤台面之開口、圍繞開口之周邊自托盤台面向上延伸之堰，及由附接支腿支撐在該開口及該堰上方的閥蓋。閥蓋向外延伸超出開口之整個周邊且具有向下延伸之周邊區域。
在另一態樣中，本發明針對用於物質傳送柱中之接觸托盤。該接觸托盤包含大體上平面的托盤台面及跨托盤台面分佈的複數個閥。閥中之每一者包含延伸穿過托盤台面以允許流體穿過托盤台面之開口、圍繞開口之整個周邊自托盤台面向上延伸之堰、由定位於該閥蓋之相對兩端處的第一及第二附接支腿支撐於該開口及該堰上方之閥蓋，及形成於該等附接支腿中之一者中之排放開口。閥蓋向外延伸超出開口之整個周邊且具有向下延伸之周邊區域。
在另一態樣中，本發明針對用於物質傳送柱中之接觸托盤。該接觸托盤包含大體上平面的托盤台面及跨托盤台面分佈的複數個閥。閥中之每一者包含延伸穿過托盤台面以允許流體穿過托盤台面之開 口、圍繞開口之整個周邊自托盤台面向上延伸之堰、由定位於該閥蓋之相對兩端處的第一及第二附接支腿支撐在該開口及該堰上方之閥蓋，及形成於該等附接支腿中之一者中之排放開口。托盤台面中之開口為圓形的且閥蓋呈等腰梯形之形式。附接支腿包含分別連接至閥蓋之對置的平行之第一端及第二端之第一及第二附接支腿。閥蓋各向外延伸超出托盤台面中之開口的整個周邊且第一附接支腿之寬度大於開口之最大寬度。閥蓋具有向下延伸之周邊區域。
10‧‧‧柱
12‧‧‧殼
14‧‧‧開放式內部區域
16‧‧‧饋送管線
16a‧‧‧下部饋送管線
16b‧‧‧上部饋送管線
18a‧‧‧下部分流管線
18b‧‧‧上部分流管線
20‧‧‧托盤
22‧‧‧托盤
24‧‧‧側降流管
26‧‧‧托盤台面
28‧‧‧托盤台面
30‧‧‧側降流管
32‧‧‧固定閥
34‧‧‧入口面板
36‧‧‧入口面板
38‧‧‧壁
40‧‧‧入口堰
42‧‧‧弦形壁
44‧‧‧入口堰
46‧‧‧開口
48‧‧‧堰
50‧‧‧閥蓋
52‧‧‧第一附接支腿
54‧‧‧第二附接支腿
56‧‧‧狹槽
58‧‧‧狹槽
60‧‧‧肩部
62‧‧‧肩部
64‧‧‧鎖定凸片
66‧‧‧周邊區域
68‧‧‧百葉式排放開口
126‧‧‧托盤台面
132‧‧‧可移動閥
146‧‧‧開口
148‧‧‧堰
150‧‧‧閥蓋
152‧‧‧附接支腿
154‧‧‧附接支腿
156‧‧‧狹槽
158‧‧‧狹槽
160‧‧‧肩部
162‧‧‧肩部
164‧‧‧鎖定凸片
166‧‧‧周邊區域
在形成本說明書之部分的隨附圖式中且其中相同的參考編號用以指示各種視圖中之相同組件：圖1為柱之局部透視圖，其中意欲發生物質傳送及/或熱交換，且其中柱之殼之一部分脫開以展示本發明的固定閥接觸托盤之一個實施例；圖2為圖1中所展示之柱中之接觸托盤的放大透視圖；圖3為圖1及圖2之接觸托盤中之一者的局部透視及部分分解圖，其在進一步放大尺度上展示接觸托盤之固定閥，其中移除了閥蓋中之一者以展示建構細節；圖4為展示固定閥中之兩者的接觸托盤中之一者的局部側視圖，該局部側視圖係以箭頭方向在沿圖3之線4-4之垂直截面中截取的；圖5為用於固定閥之閥蓋中之一者的俯視透視圖；圖6為圖5中所展示之閥蓋的仰視透視圖；圖7為圖5中所展示之閥蓋的沿自閥蓋之第二端至第一端之方向截取的端視圖；圖8為圖5中所展示之閥蓋的側視圖；圖9為自圖7中的視圖之相反端所展示之閥蓋的端視圖；圖10為圖5中所展示之閥蓋的俯視平面圖； 圖11為圖5所展示之閥蓋的仰視平面圖；圖12為含有可移動閥之接觸托盤中之一者的另一實施例之局部透視及部分分解圖，其中移除了閥蓋中之一者以展示建構細節；圖13為圖12之接觸托盤的局部正視圖，其展示兩個可移動閥，該局部正視圖係以箭頭方向在沿圖12之線13-13之垂直截面中截取的；圖14為接觸托盤中之一者的局部側視圖，其展示兩個可移動閥，該局部側視圖係以箭頭方向在沿圖3之線4-4之垂直截面中截取的；圖15為用於可移動閥之閥蓋中之一者的俯視透視圖；圖16為圖15中所展示之閥蓋的仰視透視圖；圖17為圖15中所展示之閥蓋的沿自閥蓋之第二端至第一端之方向截取的端視圖；圖18為在圖15中所展示之閥蓋的側視圖；圖19為自圖17中的視圖之相反端所展示之閥蓋的端視圖；圖20為在圖15中所展示之閥蓋的俯視平面圖；及圖21為展示本發明之固定閥接觸托盤相對於缺乏創造性特徵的固定閥接觸托盤之比較效能的圖表。
現更詳細地參看諸圖且首先轉至圖1，通常由數字10表示適合用於物質傳送或熱交換程序中之物質傳送柱。柱10可包括在組態上可通常為圓柱形之立式外殼12，但包括多邊形之其他組態係可能的且在本發明之範疇內。殼12可具有任何合適的直徑及高度且可由一或多種剛性材料建構，該一或多種剛性材料合乎需要地對在柱10之操作期間所存在的流體及條件呈惰性的或以其他方式與該等流體及條件相容。
柱10可為用於處理流體流(通常為液體流或蒸氣流)以獲得分餾產 物或以其他方式引起流體流之間的物質傳送或熱交換的類型。舉例而言，柱10可為發生原油常壓(crude atmospheric)、潤滑油真空(lube vacuum)、原油真空(crude vacuum)、流體或熱裂解分餾、煉焦器或減點爐分餾、焦炭洗滌(coke scrubbing)、反應器排氣洗滌、氣體淬火、可食油除臭、污染控制洗滌或其他程序的柱。
柱10之殼12定義在其中發生流體流之間的所要物質傳送或熱交換的開放式內部區域14。在一個實施中，流體流可包含一或多個上升蒸氣流及一或多個下降液體流。在其他實施中，流體流可包含上升或下降液體流或上升或下降蒸氣流之實質上任何組合。
可經由沿柱10之高度定位於適當位置處的任何數目個饋送管線16(諸如，下部饋送管線16a或上部饋送管線16b)將一或多個流體流引導至柱10中。在一個實施中，蒸氣流可在柱10內產生，而非經由饋送管線16a、16b引入至柱10中。一或多個流體流可經由任何數目個分流管線18(諸如下部分流管線18a及上部分流管線18b)導出柱10。在一個實施中，液體可經由上部饋送管線16b引入，下降穿過柱10，且經由下部分流管線18a移除，而蒸氣可經由下部饋送管線16a引入，上升穿過柱10，且經由上部分流管線18b移除。
圖式中並未說明通常應存在之其他柱組件(諸如，回流流管線、再沸器、冷凝器、蒸氣錐、布液器及其類似者)，此係因為其在本質上為習知的，且並不認為對此等組件之說明係理解本發明所必要的。
根據本發明，複數對固定閥接觸托盤20及22定位於柱10之開放式內部區域14內以促進在開放式內部區域14內流動之流體的相互相用。托盤20及22跨越柱10之整個橫截面大體上水平地延伸，且以交替方式佈置以使得每一托盤20上覆於且垂直地鄰近於托盤22中之一者。每一托盤20及22之特定設計可有所變化，同時保持在本發明之範疇內。
在圖1至圖2之所說明實施例中，托盤20及22經建構以形成單程流體流動佈置，其中下降流體在每一托盤20及22上自端到端在相反流動方向上流動。每一托盤20具有定位於通常由互連托盤面板形成之托盤台面26之一端處的側降流管24。側降流管24自托盤台面26接收及移除下降流體且將其遞送至成對之下伏托盤22之托盤台面28之一端。流體接著在相反方向上跨越托盤台面28流動至定位於托盤台面28之相反端處的側降流管30。流體進入側降流管30且經遞送至下一下伏托盤20之托盤台面26。此流動型樣在較低的成對托盤20及22中之每一對上重複。儘管托盤20及22經說明為經建構用於單程流體流動，但本發明涵蓋經建構用於多程流動之托盤。
固定閥32以預選型樣定位於托盤20及22之托盤台面26及28之一些部分上，以允許蒸氣或另一流體上升穿過托盤台面26及28且與跨越托盤台面26及28之上表面之流動相互作用。含有此等固定閥32之托盤台面26及28之區域通常被稱作托盤20及22之作用區域。
在上覆托盤20之側降流管24下面的托盤台面28之區域包含入口面板34且通常為無孔的或具有妨礙或阻止下降流體穿過入口面板34的遮蔽式流道。類似地，在上覆托盤22之側降流管30下面的托盤台面26之區域包含無孔的或具有遮蔽式流道之入口面板36。
每一托盤20之側降流管24包含跨越柱10之開放式內部區域14以弦方式延伸的壁38。壁38之上部或附接至壁38之單獨片件在托盤台面26上方向上延伸以形成入口堰40，其致使液體在溢出堰40並進入側降流管24之前聚積於托盤台面26上。壁38之下部在下伏托盤台面28上方間隔開或含有流動開口(未展示)以允許流體退出側降流管24且在進入在托盤台面26之相反端處的側降流管30之前沿托盤台面28之上表面流動。
類似地，每一托盤22上之側降流管30包含具有下部之弦形壁 42，該下部在下伏托盤台面26上方間隔開或含有流動開口(未展示)以允許流體退出側降流管30且沿托盤台面26之上表面流動。壁42之上部或附接至壁42之單獨片件在托盤台面28上方向上延伸以形成入口堰44。儘管將壁38及42中之每一者說明為平面及垂直延伸的，但階梯式、傾斜式或多弦形壁或其他構造在本發明之範疇內。
現轉至圖3至圖11，托盤台面26上之固定閥32中之每一者包含延伸穿過托盤台面26以允許流體穿過托盤台面26之開口46及沿開口46之整個周邊自托盤台面26向上延伸預選距離之堰48。每一固定閥32亦包括由第一附接支腿52及第二附接支腿54支撐在開口46上方之固定的預選位置處的閥蓋50。儘管兩個附接支腿52及54在所說明之實施例中用以支撐閥蓋50，但在需要時可使用額外的附接支腿。
在所說明之實施例中，附接支腿52及54自托盤台面26向上延伸且位於閥蓋50之相對兩端處。附接支腿52及54經展示為大體上垂直於托盤台面26延伸，但在其他實施例中其可朝向彼此或遠離彼此傾斜。附接支腿52及54中之每一者具有附接至閥蓋50之邊緣且與閥蓋50之邊緣成一體之上端。
附接支腿52及54以合適方式固定至托盤台面26。在所說明之實施例中，附接支腿52及54分別向下延伸穿過定位於托盤台面26中之開口46的相反側上之平行狹槽56及58(圖3)。附接支腿52及54中之每一者分別包括與托盤台面26之上表面相抵接合之一對肩部60及62，及具有在肩部60及62下方間隔預選距離之上表面之鎖定凸片64。鎖定凸片64與該托盤台面26之下表面相抵接合。選擇肩部60及62與凸片64之上表面之間的距離以阻止當附接支腿52及54之肩部60及62接合托盤台面26之上表面且該鎖定凸片64之上表面與托盤台面26之下表面相抵接合時，附接支腿60及62以及其上承載之閥蓋50的垂直移動。在需要時，可回應於由上升穿過托盤台面26中之開口46的流體施加於閥蓋50之下 表面的向上壓力之變化而增加肩部60及62與鎖定凸片64之上表面之間的距離，以允許附接支腿52及54及閥蓋50之一些垂直移動。
鎖定凸片64可具有允許在將鎖定凸片64之上表面定位為與托盤台面26之下表面相抵接合之前穿過狹槽56及58向下插入附接支腿52及54之各種合適的形式。舉例而言，在安裝附接支腿52及54之後，鎖定凸片64可簡單地經手動彎曲以使其上表面與托盤台面26之下表面接合。在所說明之實施例中，藉由沿兩側及鎖定凸片64之上邊緣切割，同時仍使鎖定凸片64的下邊緣附接至附接支腿52或54，在相關聯附接支腿52或54中形成鎖定凸片64。接著繞所附接之下邊緣彎曲鎖定凸片64以將鎖定凸片64之剩餘部分移出相關聯附接支腿52或54之平面。當穿過相關聯狹槽56或58向下插入附接支腿52或54時，環繞狹槽56或58之托盤台面26之部分導致鎖定凸片64朝向附接支腿52或54之平面樞轉。一旦鎖定凸片64通過狹槽56或58，鎖定凸片64就向外彈開。
附接支腿52之寬度大於托盤台面26中之開口46之最大對應寬度，以遮蔽開口46而防止流體向下穿過開口46非所欲地滲出。固定閥32在托盤台面26上定向以使得附接支腿52及54沿托盤台面26之上表面在流體流動之大體方向上對準，其中附接支腿52位於固定閥32之上游側處。在一個實施例中，上游附接支腿52大於附接支腿54以促進流體圍繞開口46之較流線型的流動。
在一個實施例中，閥蓋50呈等腰梯形之形式，其中附接支腿52及54連接至閥蓋50之對置之平行的第一端及第二端。閥蓋50可替代地形成有其他形狀。閥蓋50經設定尺寸以向外延伸超出托盤台面26中的開口46之整個周邊，以更有效地遮蔽開口46而防止流體穿過開口46有害地向下滲出，且閥蓋50具有向下延伸之外周邊區域66。閥蓋50(除在周邊區域66處之外)位於平行於托盤台面26之平面的平面中。在其他實施例中，在托盤台面26之上表面上的大體流體流動方向中，閥蓋 50可(諸如)以向上方向傾斜。
每」一固定閥32中之下游附接支腿54包括在下游流體流動方向上遠離上游附接支腿52引導之百葉式排放開口68。排放開口68允許流體上升穿過固定閥32中之開口46以經由附接支腿54排出，以促進與沿托盤台面26之上表面流動之流體的互混且向流動流體提供方向性推力。托盤台面28上的固定閥32中之每一者具有與上述在托盤台面26上之彼等固定閥相同的構造。
已經由比較測試發現，與具有類似構造但不具有閥蓋50之向下彎折周邊區域66、環繞開口46之堰48及形成於下游附接支腿54中之排放開口68的習知PROVALVETM固定閥相比，固定閥32減少上升穿過固定閥32的蒸氣中之液體的挾帶並降低液體向下穿過固定閥32的滲出。比較測試之結果闡述於圖21中。
轉至圖12至圖20，在托盤台面126中說明具有許多與固定閥32相同的結構特徵的可移動閥132。為了便於參考，對於可移動閥132的通常對應於固定閥32之組件之組件的參考編號使用前置項「1」。可移動閥132各自包含延伸穿過托盤台面126之開口146及沿開口146之整個周邊自托盤台面126向上延伸預選距離之堰148。
在每一固定閥132中，閥蓋150附接至第一附接支腿152及第二附接支腿154。儘管在所說明之實施例中使用兩個附接支腿152及154，但需要時可使用額外的附接支腿。
附接支腿152及154位於閥蓋150之相對兩端處且垂直於托盤台面126延伸。附接支腿152及154中之每一者具有附接至閥蓋150之邊緣且與閥蓋150之邊緣成一體之上端。附接支腿152及154分別向下延伸穿過定位於托盤台面126中之開口146的相反側上之平行狹槽156及158(圖12)。附接支腿152及154中之每一者包括鎖定凸片164，其具有在閥蓋150下方間隔預選之距離的上表面。鎖定凸片164與該托盤台面 126之下表面相抵接合以固定閥蓋150之向上移動的上限。閥蓋150之下表面在堰48之上邊緣上的接合設定閥蓋150之向下移動的下限。替代地，肩部160及162(諸如用於上述附接支腿52及54的肩部60及62)可用以設定向下移動之下限。回應於由經由托盤台面126中之開口146上升的流體施加於閥蓋150之下表面上的向上壓力之變化，選擇在鎖定凸片164與閥蓋150之下表面之間的距離以設定附接支腿160及162及在其上攜載之閥蓋150之移動的垂直距離之範圍。用於說明之目的，圖13中之右側可移動閥132被展示為在其完全打開位置中且彼圖中之左側可移動閥132被展示為在其關閉位置中。
鎖定凸片164可為允許經由狹槽156及158向下插入附接支腿152及154之各種合適的形式，如上文參考鎖定凸片64所描述。
附接支腿152之寬度大於托盤台面126中之開口146的最大對應寬度以遮蔽該開口而防止流體向下穿過開口146非所欲地滲出。可移動閥132在托盤台面126上定向以使得附接支腿152及154沿著托盤台面126之上表面在流體流動之大體方向上對準，其中附接支腿152位於可移動閥132之上游側處。在一個實施例中，上游附接支腿152大於附接支腿154以促進流體圍繞開口146之較流線型的流動。
在一個實施例中，閥蓋150呈等腰梯形之形式，其中附接支腿152及154連接至閥蓋150之對置之平行的第一端及第二端。閥蓋150可替代地形成有其他形狀。閥蓋150經設定尺寸以向外延伸超出托盤台面126中的開口146之整個周邊，以更有效地遮蔽開口146，防止流體穿過開口146有害地向下滲出，且閥蓋150具有向下延伸之外周邊區域166。閥蓋150(除在周邊區域166處之外)位於平行於托盤台面126之平面的平面中。在其他實施例中，在托盤台面126之上表面上的大體流體流動方向中，閥蓋150可(諸如)以向上方向傾斜。
每一可移動閥132中之下游附接支腿154可藉由省略百葉式排放 開口68或用簡單開口代替百葉式排放開口68而不同於固定閥32中之下游附接支腿54。替代地，諸如在上述肩部用以設定閥蓋150之向下移動的下限的實施例中，可包括百葉式排放開口68。在此實施例中，百葉式排放開口將定位於該等肩部之上方以使得該百葉式排放開口不妨礙附接支腿154在其相關聯之狹槽158中之向下移動。
根據前述內容將看出，本發明很好地適於實現上文所闡述的所有目標及目的以及結構所固有的其他優點。
應理解，某些特徵及子組合具有效用，且可在不參考其他特徵及子組合之情況下使用。此由本發明涵蓋且在本發明之範疇內。
由於可在不脫離本發明之範疇的情況下作出本發明之許多可能實施例，故應瞭解，本文中闡述或在隨附圖式中展示之所有事物應解釋為說明性的且不以限制性意義來解釋。
10‧‧‧柱
12‧‧‧殼
14‧‧‧開放式內部區域
16a‧‧‧下部饋送管線
16b‧‧‧上部饋送管線
18a‧‧‧下部分流管線
18b‧‧‧上部分流管線
20‧‧‧托盤
22‧‧‧托盤

Claims (18)

  1. 一種在一物質傳送柱中使用之接觸托盤，該接觸托盤包含：一大體上平面之托盤台面；及跨越該托盤台面分佈之複數個閥，該等閥中之每一者包含延伸穿過該托盤台面以允許流體穿過該托盤台面而通過之一開口、圍繞該開口之一周邊自該托盤台面向上延伸之一堰，及藉由附接支腿支撐於該開口及該堰上方的一閥蓋，其中該等附接支腿包含對準於該閥蓋之相對端處的第一及第二附接支腿，該第二附接支腿具有形成於其中之一排放開口及懸於該排放開口上之一百葉，其中該閥蓋向外延伸超出該開口之該整個周邊且具有包圍該閥蓋之一整個周邊的一向下延伸之周邊區域。
  2. 如請求項1之接觸托盤，其中該等閥係固定閥，且該等附接支腿將該閥蓋支撐在該開口及該堰上方之一固定位置處。
  3. 如請求項1之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過該托盤台面中之一狹槽，且包括與該托盤台面之一上表面相抵接合之一肩部，及具有與該托盤台面之一下表面相抵接合之與該肩部間隔一預選距離的一上表面之一凸片，其中該肩部與該凸片之該上表面之間的該預選距離經選擇以在該等附接支腿之該等肩部接合該托盤台面之該上表面且該等凸片之該等上表面與該托盤台面之該下表面相抵接合時阻止該等附接支腿及閥蓋之垂直移動。
  4. 如請求項1之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過該托盤台面中之一狹槽且可在該狹槽內垂直移動，以允許該閥蓋在降低之垂直位置與升高之垂直位置之間移動，其中該等附 接支腿中之每一者包括具有一上表面之一凸片，該上表面與該托盤台面之一下表面相抵接合以在該閥蓋處於該升高之垂直位置中時阻止該附接支腿之進一步垂直移動。
  5. 如請求項4之接觸托盤，其中當該閥蓋處於該降低位置中時，該托盤蓋之一下表面接觸該堰。
  6. 如請求項1之接觸托盤，其中該開口為圓形的且該閥蓋呈一等腰梯形之形式，其中該等附接支腿包含分別連接至該閥蓋之對置之平行的第一及第二端的第一及第二附接支腿。
  7. 如請求項6之接觸托盤，其中該第一附接支腿比該開口之該最大尺寸寬且位於該閥蓋之一上游側處，及其中該第二附接支腿不比該第一附接支腿寬且位於該閥蓋之一下游側處。
  8. 一種在一物質傳送柱中使用之接觸托盤，該接觸托盤包含：一大體上平面之托盤台面；及跨越該托盤台面分佈之複數個閥，該等閥中之每一者包含延伸穿過該托盤台面以允許流體穿過該托盤台面而通過之一開口、圍繞該開口之一整個周邊自該托盤台面向上延伸之一堰、藉由定位於該閥蓋之相對兩端處之第一及第二附接支腿支撐於該開口及該堰上方的一閥蓋，及形成於該等附接支腿中之一者中的一排放開口，其中該閥蓋向外延伸超出該開口之該整個周邊且具有包圍該閥蓋之一整個周邊的一向下延伸之周邊區域，及其中該等附接支腿之一者包括懸於該排放開口上之一百葉。
  9. 如請求項8之接觸托盤，其中該等閥為固定閥，且該第一附接支腿及該第二附接支腿將該閥蓋支撐在該開口及該堰上方之一固定位置處。
  10. 如請求項9之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過 該托盤台面中之一狹槽，且包括與該托盤台面之一上表面相抵接合之一肩部，及具有與該托盤台面之一下表面相抵接合之與該肩部間隔一預選距離的一上表面之一凸片，其中該肩部與該凸片之該上表面之間的該預選距離經選擇以在該等附接支腿之該等肩部接合該托盤台面之該上表面且該等凸片之該等上表面與該托盤台面之該下表面相抵接合時阻止該等附接支腿及閥蓋之垂直移動。
  11. 如請求項8之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過該托盤台面中之一狹槽且可在該狹槽內垂直移動，以允許該閥蓋在降低之垂直位置與升高之垂直位置之間移動，其中該等附接支腿中之每一者包括具有一上表面之一凸片，該上表面與該托盤台面之一下表面相抵接合以在該閥蓋處於該升高之垂直位置中時阻止該附接支腿之進一步垂直移動。
  12. 如請求項11之接觸托盤，其中當該閥蓋處於該降低之位置中時，該托盤蓋之一下表面接觸該堰。
  13. 如請求項8之接觸托盤，其中該開口為圓形的且該閥蓋呈一等腰梯形之形式，其中該等附接支腿包含分別連接至該閥蓋之對置之平行的第一及第二端的第一及第二附接支腿。
  14. 如請求項13之接觸托盤，其中該第一附接支腿比該開口之該最大尺寸寬且位於該閥蓋之一上游側處，及其中該第二附接支腿不比該第一附接支腿寬且位於該閥蓋之一下游側處，且其中該流體自該上游側跨越該托盤台面流至該下游側，及其中該第二附接支腿具有形成於其中之該排放開口及懸於該排放開口上之該百葉。
  15. 一種在一物質傳送柱中使用之接觸托盤，該接觸托盤包含：一大體上平面之托盤台面；及 跨越該托盤台面分佈之複數個閥，該等閥中之每一者包含延伸穿過該托盤台面以允許流體穿過該托盤台面而通過之一開口、圍繞該開口之一整個周邊自該托盤台面向上延伸之一堰、藉由定位於該閥蓋之相對兩端處之第一及第二附接支腿支撐於該開口及該堰上方的一閥蓋，及形成於該等附接支腿中之一者中的一排放開口，其中該開口為圓形的且該閥蓋呈一等腰梯形之形式，其中該等附接支腿包含分別連接至該閥蓋之對置之平行的第一及第二端的第一及第二附接支腿，其中該閥蓋具有包圍該閥蓋之一整個周邊的一向下延伸之周邊區域，且該閥蓋向外延伸超出該開口之該整個周邊，其中該第一附接支腿具有大於該開口之一最大寬度的一寬度且位於該閥蓋之一上游側處，及其中該第二附接支腿不比該第一附接支腿寬且位於該閥蓋之一下游側處，及其中該第二附接支腿具有形成於其中之該排放開口及懸於該排放開口上之一百葉。
  16. 如請求項15之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過該托盤台面中之一狹槽，且包括與該托盤台面之一上表面相抵接合之一肩部，及具有與該托盤台面之一下表面相抵接合之與該肩部間隔一預選距離的一上表面之一凸片，其中該肩部與該凸片之該上表面之間的該預選距離經選擇以在該等附接支腿之該等肩部接合該托盤台面之該上表面且該等凸片之該等上表面與該托盤台面之該下表面相抵接合時阻止該等附接支腿及閥蓋之垂直移動。
  17. 如請求項15之接觸托盤，其中該等附接支腿中之每一者延伸穿過該托盤台面中之一狹槽且可在該狹槽內垂直移動，以允許該 閥蓋在降低之垂直位置與升高之垂直位置之間移動，其中該等附接支腿中之每一者包括具有一上表面之一凸片，該上表面與該托盤台面之一下表面相抵接合以在該閥蓋處於該升高之垂直位置中時阻止該附接支腿之進一步垂直移動。
  18. 如請求項17之接觸托盤，其中當該閥蓋處於該降低之位置中時，該托盤蓋之一下表面接觸該堰。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210299589A1 (en) * 2014-08-11 2021-09-30 Sulzer Management Ag Method and system for orifice control of valve pressure drop
US11958001B2 (en) 2014-08-11 2024-04-16 Sulzer Management Ag Method and system for orifice control of valve pressure drop
WO2018140751A1 (en) * 2017-01-27 2018-08-02 Gtc Technology Us, Llc Method and system for orifice control of valve pressure drop
JP7258029B2 (ja) * 2017-12-27 2023-04-14 コーク－グリッシュ，リミティド パートナーシップ 物質移動カラムのための接触トレー
JP2021532979A (ja) * 2018-08-06 2021-12-02 コーク−グリッシュ，リミティド パートナーシップ 固定弁及び可動弁を備える物質移動カラム用の多パス接触トレイ、及び多パス接触トレイを含む方法
CN109316771A (zh) * 2018-12-15 2019-02-12 浙江工业大学 一种新型组合固定阀塔板
USD898165S1 (en) 2018-12-19 2020-10-06 Koch-Glitsch, Lp Tray valve
CN111946890B (zh) * 2020-07-10 2022-09-23 珠海醋酸纤维有限公司 一种帽型浮阀塔盘及板式塔
CN114130051B (zh) * 2021-12-08 2022-10-21 常州大学 一种浮阀传质元件
TWI806541B (zh) * 2022-04-08 2023-06-21 連陽環保股份有限公司 分餾盤

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3693948A (en) * 1969-04-05 1972-09-26 Montz Gmbh Julius Bubble caps for bubble columns
US20110278745A1 (en) * 2010-05-11 2011-11-17 Pilling Mark W Contact tray for a mass transfer column

Family Cites Families (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2658737A (en) * 1950-03-10 1953-11-10 Irvin E Nutter Means for flow control in bubble towers
US2804935A (en) 1956-07-27 1957-09-03 Arthur J L Hutchinson Vapor-liquid contacting apparatus
DE1223803B (de) 1962-02-28 1966-09-01 Julius Montz Fa Waerme- und Stoffaustauschkolonne
GB1350909A (en) 1970-06-15 1974-04-24 Swemco Ltd Impingement baffle plate assembly
US4060399A (en) 1976-08-30 1977-11-29 Gleason Thomas G Scrubber-cooler tower
ZA794780B (en) * 1978-10-05 1981-04-29 British Petroleum Co Mass transfer equipment
US4620952A (en) 1985-10-15 1986-11-04 Koch Engineering Company, Inc. Gas liquid contact tray and method
US5120474A (en) 1989-03-08 1992-06-09 Glitsch, Inc. Valve-tray assembly
US5147584A (en) 1989-03-08 1992-09-15 Glitsch, Inc. Contact tray assembly and method
US5164125A (en) 1989-03-08 1992-11-17 Glitsch, Inc. Method and apparatus for downcomer-tray operation
US5106556A (en) 1989-03-08 1992-04-21 Glitsch, Inc. Method of downcoer-tray vapor venting
US4956127A (en) 1989-03-08 1990-09-11 Glitsch, Inc. Downcomer-tray assembly and method
US5262094A (en) 1990-05-25 1993-11-16 Uop Fractionation tray having packing immediately below tray deck
US5192466A (en) 1991-10-09 1993-03-09 Glitsch, Inc. Method of and apparatus for flow promotion
US5223183A (en) 1992-04-02 1993-06-29 Uop Baffled downcomer fractionation tray
US5244604A (en) 1992-04-02 1993-09-14 Uop Packing-enhanced baffled downcomer fractionation tray
US5213719A (en) 1992-09-28 1993-05-25 Chuang Karl T Gas-liquid contacting device
US5318732A (en) 1992-12-29 1994-06-07 Uop Capacity-enhanced multiple downcomer fractionation trays
WO1995025571A1 (en) 1994-03-24 1995-09-28 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Column for counter-currently contacting gas and liquid
US5480595A (en) 1994-04-28 1996-01-02 Koch Engineering Chemical, Inc. Vapor-liquid contact tray and downcomer assembly and method employing same
US5632935A (en) 1994-04-28 1997-05-27 Koch Engineering Company, Inc. Vapor-liquid contact tray and downcomer assembly and method employing same
US5453222A (en) 1994-09-15 1995-09-26 Glitsch, Inc. Contact tray apparatus and method
AU694850B2 (en) 1995-03-31 1998-07-30 Koch (Cyprus) Limited Multi-downcomer high performance tray assembly
US5547617A (en) 1995-03-31 1996-08-20 Glitsch, Inc. Apparatus for increasing effective active area
US5618473A (en) 1995-05-09 1997-04-08 Norton Chemical Process Products Corporation Fractionation trays
US5951827A (en) 1996-02-20 1999-09-14 Norton Chemical Process Products Corporation High capacity trays
US5788894A (en) 1996-04-05 1998-08-04 Koch Engineering Company, Inc. High capacity vapor-liquid contact tray
CN2260933Y (zh) 1996-06-20 1997-08-27 中国石化北京设计院 一种浮阀塔板
US5762668A (en) 1996-07-24 1998-06-09 Glitsch, Inc. Apparatus and method for deentrainment in a chemical process tower
US6003847A (en) 1996-10-30 1999-12-21 Koch Enterprises, Inc. Downcomer for chemical process tower
US5895608A (en) 1996-10-30 1999-04-20 Koch Enterprises, Inc. Downcomer for chemical process tower and method of forming the same
NZ335972A (en) * 1997-02-05 2000-10-27 Norton Chem Process Prod Fractionation tray with fixed valves covering perforations
US5762834A (en) 1997-02-05 1998-06-09 Hauser; Richard P. Mass transfer device
US5837105A (en) 1997-04-07 1998-11-17 Mobil Oil Corporation Co-current contacting separation tray design and methods for using same
US6059934A (en) 1997-04-07 2000-05-09 Mobil Oil Corporation Co-current contacting separation tray design and methods for using same
US5972171A (en) 1997-04-08 1999-10-26 Mobil Oil Corporation De-entrainment tray and method of operation
WO1998051389A1 (en) 1997-05-12 1998-11-19 Koch-Glitsch, Inc. Vapor-liquid contact tray with two-stage downcomer
US6053484A (en) 1997-09-05 2000-04-25 Koch-Glitsch, Inc. Downcomers for vapor-liquid contact trays
AU9304098A (en) 1997-09-10 1999-03-29 Koch-Glitsch, Inc. Downcomers for vapor-liquid contact trays
US6145816A (en) 1997-10-10 2000-11-14 Amt International, Inc. Fluids contacting, tray opening, fluid dispersing assembly
CA2274693A1 (en) 1997-10-10 1999-04-22 Amt International, Inc. Apparatus and method for tray valve attachment
EP1062013A4 (en) 1997-11-19 2002-01-02 Exxonmobil Oil Corp STEAM / LIQUID CONTACT CYCLONE WITH SECONDARY FINS
US6089550A (en) 1998-09-22 2000-07-18 Norton Chemical Process Products Corporation Mass transfer process
US6799752B2 (en) * 2001-05-03 2004-10-05 Amt International, Inc. Method and apparatus for improving a fractionation process
US6575438B2 (en) 2001-06-13 2003-06-10 Sulzer Chemtech Usa, Inc. Stepped downcomer apparatus and vapor-liquid contact apparatus with same
US6736378B2 (en) 2001-06-18 2004-05-18 Koch-Glitsch, Lp Contact tray having tray supported downcomers
US6565071B2 (en) 2001-10-11 2003-05-20 Amt International, Inc. Liquid/gas contacting apparatus
US6629687B1 (en) 2001-11-28 2003-10-07 Koch-Glitsch, Lp Vapor-liquid contact tray manway
ATE478716T1 (de) 2001-12-05 2010-09-15 Sulzer Chemtech Ag Bodenkolonne
EP1317948B1 (de) 2001-12-05 2010-08-25 Sulzer Chemtech AG Bodenkolonne
US6592106B1 (en) 2002-01-08 2003-07-15 Koch-Glitsch, Lp Locking hinged joint for vapor-liquid contact trays
AU2003247659A1 (en) 2002-06-25 2004-01-06 Koch-Glitsch, Lp Vapor-liquid contact tray and method employing same
US7028995B2 (en) 2002-07-29 2006-04-18 Koch-Glitsch, Lp Vapor-liquid contact trays and method employing same
CN1228118C (zh) * 2002-12-20 2005-11-23 中国石油化工股份有限公司 高效大通量固定阀塔盘
US7055810B2 (en) 2003-04-22 2006-06-06 Koch-Glitsch, Lp Expansion ring for mass transfer column and method employing same
US6994331B2 (en) 2003-04-22 2006-02-07 Koch-Glitsch, Lp Vapor-liquid contact trays for mass transfer column and method employing same
DE102004015714B3 (de) 2004-03-29 2005-12-15 Stockhausen Gmbh Trennboden für eine Destillationskolonne
CN1327924C (zh) * 2004-07-19 2007-07-25 南京大学 母子导向浮阀
PL1747809T3 (pl) * 2005-07-29 2008-09-30 Sulzer Chemtech Ag Zawór denny do kolumny półkowej
US7540476B2 (en) * 2006-07-18 2009-06-02 Sulzer Chemtech Ag Valve for a contact tray
US7708258B2 (en) * 2006-12-21 2010-05-04 Sulzer Chemtech Ag Tray for a mass exchange column
US8540218B2 (en) 2007-04-27 2013-09-24 Gtc Technology Us Llc Fluid dispersion unit assembly and method
US8066264B2 (en) * 2007-11-26 2011-11-29 Sulzer Chemtech Ag Contact tray for a mass transfer column
US8517354B1 (en) 2008-03-20 2013-08-27 Gtc Technology Us Llc Fluid dispersion unit with directional component vector
US8191870B2 (en) 2008-08-13 2012-06-05 Koch-Glitsch, Lp Cross-flow tray and method employing same
US8480062B2 (en) 2009-05-15 2013-07-09 Gtc Technology Us, Llc Activated hinge-joint
US8720870B2 (en) 2010-05-11 2014-05-13 Sulzer Chemtech Ag Contact tray for a mass transfer column
US9199206B2 (en) * 2010-05-11 2015-12-01 Sulzer Chemtech Ag Contact tray for a mass transfer column
CN203075687U (zh) 2013-03-08 2013-07-24 田太琳 一种梯形浮阀塔板
US20160038851A1 (en) 2014-08-11 2016-02-11 Gtc Technology Us, Llc Method and system for orifice control of valve pressure drop
US20170007943A1 (en) * 2015-07-08 2017-01-12 Koch-Glitsch, Lp Contact tray for a mass transfer column and method involving same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3693948A (en) * 1969-04-05 1972-09-26 Montz Gmbh Julius Bubble caps for bubble columns
US20110278745A1 (en) * 2010-05-11 2011-11-17 Pilling Mark W Contact tray for a mass transfer column

Also Published As

Publication number Publication date
RU2018103099A3 (zh) 2019-08-12
CA2991575A1 (en) 2017-01-12
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