TWI697927B - 發光鍵盤 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露一種發光鍵盤,其包括一鍵盤模組以及一背光模組。鍵盤模組包括複數鍵帽。背光模組設置於鍵盤模組的下方。背光模組包括一發光件、一導光板及一干涉單元。導光板設置於發光件鄰近處,並接收發光件所發出的光線。導光板具有一頂面、一底面及一第一指定區。頂面朝向鍵盤模組,底面位於頂面的相反側。第一指定區對應於該些鍵帽的至少其中一者。干涉單元設置於導光板。干涉單元包括至少一干涉組。干涉組將導光板內的部分光線導引至第一指定區,且干涉組為一種週期性結構。

Description

發光鍵盤
本發明是關於一種發光鍵盤,特別是關於發光鍵盤的導光板。
現今電子科技與資訊產業的快速發展,使各種電子裝置皆朝向輕、薄、短、小且功能多樣化的趨勢發展。例如電腦、筆記型電腦、平板電腦、智慧型手機等,已成為現代人在日常生活或工作上所不可或缺的電子裝置。於大多數的場合,使用者是利用滑鼠、鍵盤等輸入裝置以操作電子裝置,其中又以鍵盤的使用最為普遍。
為了在光線不足的環境下,仍能清楚地看到每個按鍵上的符號,便有技術人員在鍵盤中導入光源技術,發展出具有背光模組的發光鍵盤。目前市面上的發光鍵盤在是鍵盤模組的底部設置背光模組,背光模組包含導光板及發光件等光學結構。發光件設置於導光板,使光線可由導光板被導引至整個鍵盤底部,並將光線投射到各按鍵的鍵帽背面。光線於按鍵的鍵面或周緣透出,讓使用者可看清楚鍵帽上的字元符號。
由於發光件及其電路板的成本較高,因此在設計發光鍵盤的整體亮度時,會盡量減少發光件及其電路板的配置面積,以達到降低成本的效果。惟,此設計的缺點是得將發光件集中於一區域,再加上組裝螺孔影響光線在導光板內的傳遞,如此將容易造成發光鍵盤的光場分布不均勻而出現某些區域的出光較暗的情形。
有鑑於上述課題,本發明之主要目的係在提供一種發光鍵盤,其干涉單元設置於導光板,藉由干涉單元的類超穎結構(metastructure),以解決習知發光鍵盤有光場分布不均(暗區)的問題。
為達成上述之目的,本發明提供一種發光鍵盤,其包括一鍵盤模組以及一背光模組。鍵盤模組包括複數鍵帽。背光模組設置於鍵盤模組的下方。背光模組包括一發光件、一導光板及一干涉單元。導光板設置於發光件鄰近處,並接收發光件所發出的光線。導光板具有一頂面、一底面及一第一指定區。頂面朝向鍵盤模組,底面位於頂面的相反側。第一指定區對應於該些鍵帽的至少其中一者。干涉單元設置於導光板。干涉單元包括至少一干涉組。干涉組將導光板內的部分光線導引至第一指定區,且干涉組為一種週期性結構。
根據本發明之一實施例,干涉組具有複數條狀部,條狀部相互平行排列。發光件所發出的光線於任意相鄰的二條狀部之間的光程為發光件所發出的光線的波長的整數倍。
根據本發明之一實施例,干涉單元包括一該干涉組。干涉組的每一條狀部沿著一第一延伸方向延伸。干涉組將發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至第一指定區。第一延伸方向與第一傳播方向皆平行於頂面。
根據本發明之一實施例,干涉單元包括二該干涉組。其中一該干涉組的每一條狀部沿著一第一延伸方向延伸,並將發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至第一指定區。另一該干涉組的每一條狀部沿著一第二延伸方向延伸,並將發光件所發出的光線沿著一第二傳播方向導引至第一指定區。第一延伸方向、第一傳播方向、第二延伸方向及第二傳播方向皆平行於頂面。第一延伸方向不同於第二延伸方向。
根據本發明之一實施例,導光板更具有一第二指定區,第二指定區對應於該些鍵帽的至少其中另一者。干涉單元包括二該干涉組。其中一該干涉組的每一條狀部沿著一第一延伸方向延伸,並將發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至該第一指定區。另一該干涉組的每一條狀部沿著一第二延伸方向延伸,並將發光件所發出的光線沿著一第二傳播方向導引至第二指定區。第一延伸方向、第一傳播方向、第二延伸方向及第二傳播方向皆平行於頂面。第一延伸方向不同於第二延伸方向。
根據本發明之一實施例,任意相鄰的二該條狀部之間的間隔距離為發光件所發出的光線的波長的整數倍。
根據本發明之一實施例,導光板更具有一第二指定區,第二指定區對應於該些鍵帽的至少其中另一者。干涉組的每一條狀部沿著一第三延伸方向延伸。干涉組將發光件所發出的光線沿著一第三傳播方向及一第四傳播方向分別導引至第一指定區及第二指定區。第三延伸方向、第三傳播方向及第四傳播方向皆平行於頂面。
根據本發明之一實施例,任意相鄰的二該條狀部之間的間隔距離為發光件所發出的光線的波長的半整數倍。
根據本發明之一實施例,干涉單元設置於導光板的頂面或底面。背光模組更包括一光點單元,光點單元設置於導光板的底面。光點單元包括複數光點部,該些光點部的位置是對應於該些鍵帽,且該些光點部將光線導向該些鍵帽。
根據本發明之一實施例,干涉組的位置是對應於該些光點部。
根據本發明之一實施例,干涉組的位置是對應於相鄰的二該光點部之間。
根據本發明之一實施例,干涉組的位置是對應於該些鍵帽,且干涉組將發光件所發出的光線的其中一部分光線導向該些鍵帽,並將其中另一部分光線沿著一第一傳播方向導引至第一指定區。
根據本發明之一實施例,每一條狀部為一柱體,或是由複數網點在頂面或底面上排列而成。當每一條狀部為柱體時,柱體凸出於頂面或底面且具有一脊線或一弧面。當每一條狀部是由該些網點在頂面或底面上排列而成時,每一網點是一凸點或一凹點。
根據本發明之一實施例,干涉組的每一條狀部為柱體,柱體凸出於導光板的頂面。背光模組更包括設置於頂面的一輔助導光板,及設置於輔助導光板的一輔助干涉單元。輔助干涉單元包括至少一輔助干涉組。輔助干涉組具有複數輔助條狀部,輔助條狀部分別為複數輔助柱體。輔助柱體凸出於輔助導光板的一底面,且與干涉組的條狀部交錯嵌合。
承上所述,依據本發明之發光鍵盤,其背光模組包括發光件、導光板及干涉單元。干涉單元設置於導光板,並包括至少一干涉組。干涉組為一種週期性結構,並可將導光板內的部分光線導引至暗區(例如:第一指定區及/或第二指定區),以提升該區域的亮度。因此,可藉由選擇干涉組的態樣及排列方式來達到避免發光鍵盤的光場分布不均勻的效果。
為能讓 貴審查委員能更瞭解本發明之技術內容,特舉較佳具體實施例說明如下。
圖1為本發明之第一實施例之發光鍵盤的立體分解示意圖,圖2為圖1所示之發光件及導光板上的區域A的俯視示意圖,請同時參考圖1及圖2所示。在本實施例中,發光鍵盤1包括一鍵盤模組10以及一背光模組20。鍵盤模組10包括複數鍵帽11。背光模組20設置於鍵盤模組10的下方,即位於相反於鍵帽11的一側。背光模組20包括至少一發光件21、一導光板22及一干涉單元23。在本實施例中,導光板22具有一頂面221、一底面222(見圖3)、一第一指定區223(如圖2所示)及複數槽孔224。頂面221朝向鍵盤模組10,底面222則位於頂面221的相反側,槽孔224則貫通頂面221與底面222。
導光板22設置於發光件21鄰近處,並接收發光件21所發出的光線。具體而言,發光件21設置於一電路板24。電路板24設置於導光板22的底面222,並使發光件21可對應地容置於槽孔224內。發光件21所發出的光線可由槽孔224射入導光板22內,亦即,發光件21所發出的光線將被導光板22所接收。
須說明的是,本實施例之發光件21主要集中設置於導光板22的其中一側,通常此種配置容易使發光鍵盤的光場分布有不均勻的情形(如同先前技術段落的說明),而本實施例之指定區(第一指定區223及後述第三、第四、第五實施例之第二指定區的泛稱,以下第一實施例先以第一指定區223為例說明)即是指先前技術中因光場分布不均而導致的出光暗區。又,本實施例更進一步定義第一指定區223對應於至少一鍵帽11,較佳的,一個指定區(如第一指定區223)即能精確地對應於一個鍵帽11的位置,但不限於此。須說明的是,為便於闡明技術特徵,在本案的各圖式中,導光板22上對應各鍵帽11的位置均以框圍的虛線表示。
干涉單元23設置於導光板22,且干涉單元23可直接形成於導光板22的頂面221或底面222,在本實施例中,干涉單元23是形成在導光板22的頂面221,如圖3所示。圖3為圖1所示之發光件及導光板的局部剖面示意圖。干涉單元23包括至少一干涉組231,且每個干涉組231具有複數條狀部2311。在本實施例中,每一條狀部2311為一柱體,其凸出於頂面221(在其他的實施例中亦可為凸出於底面222),且具有一脊線(三角柱型)或一弧面(半圓柱型),圖3是以條狀部2311具有脊線為例。
在本實施例中,每個干涉組231為一種週期性結構(periodic structure),故使干涉組231可將導光板22內的部分光線(行經干涉組231的光線)可被導引至第一指定區223,藉此增加第一指定區223(暗區)的亮度。圖4為圖2所示之其中一個干涉組及其鄰近的光點部(見後述)的俯視示意圖,請參考圖1至圖4所示。具體而言,干涉組231的各個條狀部2311相互平行排列,且任意相鄰的二條狀部2311之間具有相同的間隔距離S,以形成週期性結構。如圖4所示,在本第一實施例中,是將發光件21所發出的光線於相鄰的二條狀部2311之間的光程OP(optical path length)設定為發光件21所發出的光線的波長的整數倍(integer multiple)。此時,由於原本朝不同方向行進的光波在相鄰的二條狀部2311之間會發生物理性反射、破壞性干涉及建設性干涉,故光線經過干涉組231後會產生沿著特定方向(如後述之第一傳播方向T1、第二傳播方向T2、第三傳播方向T3及第四傳播方向T4)傳遞與集中的準直光線,且此準直光線將朝著目標的指定區(暗區)行進。
又,為了限制光線在相鄰的二條狀部2311之間的光程OP進而產生準直光線,可透過設計相鄰二條狀部2311之間的間隔距離S來達成。例如,相鄰的二條狀部2311之間的間隔距離S可以是發光件21所發出的光線的波長的整數倍或是半整數倍(half-integer multiple)。在本第一實施例中,是以相鄰的二條狀部2311之間的間隔距離S為發光件21所發出的光線的波長的整數倍為例說明。
因此,由於相鄰的二條狀部2311之間的間隔距離S為光線的波長的整數倍,使得干涉組231可導引光線往與條狀部2311垂直的方向(光波發生建設性干涉的方向,即第一傳播方向T1)傳遞,如圖2與圖4所示。在設計干涉組231及其條狀部2311的排列位置時,可先設定第一傳播方向T1朝向第一指定區223(暗區)。接著,設定與第一傳播方向T1互相垂直的方向為第一延伸方向D1。又,干涉組231的每一條狀部2311沿著第一延伸方向D1延伸且相互平行排列,使干涉組231可將發光件21所發出的光線沿著第一傳播方向T1而導引至第一指定區223,藉此增加第一指定區223(暗區)的亮度,以減少發光鍵盤1之亮度分布不均的情形。另須說明的是,第一延伸方向D1與第一傳播方向T1皆平行於導光板22的頂面221,亦即,大部分的光線經過干涉組231後仍在導光板22內持續傳遞。
又,參閱圖1至圖4,背光模組20更包括一光點單元25。本第一實施例之干涉單元23設置於導光板22的頂面221,而光點單元25設置於導光板22的底面222。光點單元25包括複數光點部251,且光點部251的位置是分別對應於鍵帽11。當發光件21所發出的光線在導光板22內到達光點部251時,光線會被光點部251導向鍵帽11。換言之,光點部251可導引導光板22內的光線射出導光板22,並傳播至鍵帽11,藉此達到讓各個鍵帽11發光的效果。須說明的是,本實施例之干涉單元23是導引導光板22內的光線朝著導光板22內部的某個特定方向傳遞,而光點單元25則是將導光板22內的光線朝著鍵帽11的方向導出導光板22。
在其他的實施例中,干涉組231亦可有其他不同的配置態樣,只要能將光線導引至暗區即可。另外,干涉單元23亦可同時具有光點單元25的效果(也就是同時將光線導向鍵帽11及暗區),以下分別以不同的實施例進一步說明之。
圖5為本發明之第二實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖,請參考圖5所示。在本實施例中,干涉單元23a包括二種不同排列方式的干涉組231、231a。其中一干涉組231的排列方式同第一實施例,故沿用其標號(其他相同元件亦沿用相同的標號)。亦即,干涉組231的每一條狀部2311沿著第一延伸方向D1延伸,並可將發光件21所發出的光線沿著第一傳播方向T1導引至第一指定區223。另一干涉組231a的每一條狀部2311a則是沿著一第二延伸方向D2延伸,並將發光件21所發出的光線沿著一第二傳播方向T2導引至第一指定區223。第一延伸方向D1、第一傳播方向T1、第二延伸方向D2及第二傳播方向T2皆平行於頂面221。
具體而言,第一傳播方向T1與圖5中的第一指定區223的其中兩個(由開發者設定的)側邊垂直,並設定第二傳播方向T2朝向圖5中的第一指定區223的其中一隅(corner)。同樣的,設定與第二傳播方向T2(即預定產生建設性干涉的方向)互相垂直的方向為第二延伸方向D2。如圖5所示,第一延伸方向D1不同於第二延伸方向D2。其中,干涉組231可將光線沿著第一傳播方向T1導引至第一指定區223,而干涉組231a可將光線沿著第二傳播方向T2導引至第一指定區223,故能更進一步增加第一指定區223(暗區)的亮度。
圖6為本發明之第三實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖,請參考圖1及圖6所示。本第二實施例是應用於若發光鍵盤有兩個以上的暗區(也就是第一指定區223與第二指定區225)需要被改善時,干涉單元23b之配置方式的實施例。其中,導光板22具有第一指定區223及第二指定區225,分別對應於至少兩個鍵帽11。在本實施例中,干涉單元23b亦包括二種不同排列方式的干涉組231、231b。其中一干涉組231的排列方式同第一實施例,同樣沿用其標號(其他相同元件亦沿用相同的標號)。其中,第一延伸方向D1平行於圖6中第一指定區223的其中兩個側邊,而干涉組231的每一條狀部2311沿著第一延伸方向D1延伸,以將發光件21所發出的光線沿著(垂直於條狀部2311的)第一傳播方向T1導引至第一指定區223,藉此提升第一指定區223的亮度。又,另一干涉組231b的每一條狀部2311b沿著一第二延伸方向D2延伸,第一延伸方向D1不同於第二延伸方向D2。設定一第二傳播方向T2朝向第二指定區225的其中一隅。干涉組231b可將發光件21所發出的光線沿著(垂直於條狀部2311b的)第二傳播方向T2導引至第二指定區225,藉此提升第二指定區225的亮度,以達到發光鍵盤1的光場分布及亮度均勻的效果。類似地,第一延伸方向D1、第一傳播方向T1、第二延伸方向D2及第二傳播方向T2皆平行於頂面221。
圖7為本發明之第四實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖,請參考圖1及圖7所示。在第一至第三實施例中,所有的干涉組231、231a、231b與所有的光點部251皆對應於鍵帽11的位置,因此也可以說,在第一至第三實施例中,干涉組231、231a、231b的設置位置是與光點部251對應(因為光點部251與鍵帽11對應)。但在本第四實施例中,干涉組231c、231d的位置是對應於相鄰二光點部251之間。換言之,本實施例的干涉組231c、231d對應於相鄰的二個鍵帽11之間。類似地,干涉組231c的條狀部2311c沿著第一延伸方向D1延伸,以將發光件21所發出的光線沿著第一傳播方向T1導引至第一指定區223,藉此提升第一指定區223的亮度。又,干涉組231d的條狀部2311d則沿著第二延伸方向D2延伸,以將發光件21所發出的光線沿著第二傳播方向T2導引至第二指定區225,藉此提升第二指定區225的亮度,以達到發光鍵盤1的光場分布及亮度均勻的效果。類似地,第一延伸方向D1、第一傳播方向T1、第二延伸方向D2及第二傳播方向T2皆平行於頂面221。
圖8為本發明之第五實施例之導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖,請參考圖1及圖8所示。在第一至第四實施例中,相鄰的二條狀部2311(2311a、2311b、2311c、2311d)之間的間隔距離S為發光件21所發出的光線的波長的整數倍,故經過干涉組231(231a、231b、231c、231d)的光線只會在一個方向上(也就是垂直於條狀部的方向)發生建設性干涉。然而,在本第五實施例中,任意相鄰的二條狀部2311e之間的間隔距離S為發光件21所發出的光線的波長的半整數倍,故經過干涉組231e的光線會在與條狀部2311e垂直的方向上發生破壞性干涉,進而使光線沿著第三傳播方向T3及第四傳播方向T4(即建設性干涉發生的方向)朝圖8中干涉組231e的左右兩側向前傳遞。具體而言,本實施例可應用於若發光鍵盤上有兩個位置較鄰近的暗區(例如:圖8中的第一指定區223e、第二指定區225e)需要被改善時,即可在此鄰近二暗區的附近設置如干涉組231e的分光結構來增加亮度。類似地,第一指定區223e與第二指定區225e分別對應於鍵帽11。
本實施例之干涉組231e的每一條狀部2311e沿著一第三延伸方向D3延伸,進而使來自光源的光線分別沿著第三傳播方向T3及第四傳播方向T4形成二準直光線。其中,第三傳播方向T3及第四傳播方向T4與條狀部2311e(或第三延伸方向D3)之間所設定的夾角為45度,使第三傳播方向T3及第四傳播方向T4分別朝向圖8中干涉組231e的左前、右前兩側。因此,干涉組231e可將發光件21所發出的光線沿著第三傳播方向T3及第四傳播方向T4分別導引至位於干涉組231e相鄰兩側的第一指定區223e及第二指定區225e。在本實施例中,第三延伸方向D3、第三傳播方向T3及第四傳播方向T4皆平行於導光板22的頂面221,換言之,大部分的光線經過干涉組231e後仍在導光板22內持續傳遞。
圖9為本發明之第六實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖,請參考圖1及圖9所示。在第一至第五實施例中,主要是藉由光點單元25將光線導向鍵帽11。但在本第六實施例中,除了藉由光點單元25的光點部251將光線導向鍵帽11,亦藉由干涉單元23f的干涉組231f將光線導向鍵帽11。具體而言,本實施例之干涉組231f的位置是對應於鍵帽11,且條狀部2311f是由複數網點在導光板22的頂面221或底面222上排列而成。其中,網點可以是凸點或凹點,以達到將導光板22內的光線導出導光板22的頂面221並導向鍵帽11的效果。換言之,干涉組231f除了可將發光件21所發出的其中一部分光線沿著第一傳播方向T1導引至第一指定區223以外,亦可將其中另一部分光線導向鍵帽11,以發揮如同光點部251的功能,故干涉組231f具有雙重功效。
圖10為本發明之第七實施例之背光模組的局部剖面示意圖,請參考圖10所示。本實施例之干涉組231g的每一條狀部2311g為柱體,且凸出於導光板22的頂面221。又,背光模組20g更包括一輔助導光板26及一輔助干涉單元27,輔助干涉單元27設置於輔助導光板26的一底面262。具體而言,輔助干涉單元27包括至少一輔助干涉組271。輔助干涉組271具有複數輔助條狀部2711,且輔助條狀部2711分別為複數輔助柱體。又,輔助柱體凸出於輔助導光板26的底面262,且輔助導光板26設置於導光板22的頂面221,使輔助條狀部2711(輔助柱體)與干涉組231g的條狀部2311g(柱體)交錯嵌合。較佳的,發光件21g對應設置於導光板22的頂面221及輔助導光板26的底面262的交界處,盡可能使大部分的光線直接通過條狀部2311g及輔助條狀部2711,以大幅增加光線準直的效果並強而有力地集中光線。
綜上所述,依據本發明之發光鍵盤,其背光模組包括發光件、導光板及干涉單元。干涉單元設置於導光板,並包括至少一干涉組。干涉組為一種週期性結構,並可將導光板內的部分光線導引至暗區(例如:第一指定區及/或第二指定區),以提升該區域的亮度。因此,可藉由選擇干涉組的態樣及排列方式來達到避免發光鍵盤的光場分布不均勻的效果。
應注意的是,上述諸多實施例係為了便於說明而舉例,本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限於上述實施例。
1:發光鍵盤 10:鍵盤模組 11:鍵帽 20、20g:背光模組 21、21g:發光件 22:導光板 221:頂面 222:底面 223、223e:第一指定區 224:槽孔 225、225e:第二指定區 23、23a、23b、23cd、23f、23g:干涉單元 231、231a、231b、231c、231d、231e、231f、231g:干涉組 2311、2311a、2311b、2311c、2311d、2311e、2311f、2311g:條狀部 24:電路板 25:光點單元 251:光點部 26:輔助導光板 262:底面 27:輔助干涉單元 271:輔助干涉組 2711:輔助條狀部 A:區域 D1:第一延伸方向 D2:第二延伸方向 D3:第三延伸方向 OP:光程 S:間隔距離 T1:第一傳播方向 T2:第二傳播方向 T3:第三傳播方向 T4:第四傳播方向
圖1為本發明之第一實施例之發光鍵盤的立體分解示意圖。 圖2為圖1所示之發光件及導光板上的區域A的俯視示意圖。 圖3為圖1所示之發光件及導光板的局部剖面示意圖。 圖4為圖2所示之其中一個干涉組及其鄰近的光點部的俯視示意圖。 圖5為本發明之第二實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖。 圖6為本發明之第三實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖。 圖7為本發明之第四實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖。 圖8為本發明之第五實施例之導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖。 圖9為本發明之第六實施例之發光件、導光板、干涉單元及光點單元的局部俯視示意圖。 圖10為本發明之第七實施例之背光模組的局部剖面示意圖。
1:發光鍵盤
10:鍵盤模組
11:鍵帽
20:背光模組
21:發光件
22:導光板
221:頂面
224:槽孔
23:干涉單元
24:電路板
25:光點單元
A:區域

Claims (14)

  1. 一種發光鍵盤,包含: 一鍵盤模組,包括複數鍵帽;以及 一背光模組,設置於該鍵盤模組的下方,該背光模組包括: 一發光件; 一導光板,設置於該發光件鄰近處,並接收該發光件所發出的光線,該導光板具有一頂面、一底面及一第一指定區,該頂面朝向該鍵盤模組,該底面位於該頂面的相反側,該第一指定區對應於該些鍵帽的至少其中一者;以及 一干涉單元,設置於該導光板,該干涉單元包括至少一干涉組,該至少一干涉組將該導光板內的部分光線導引至該第一指定區,該至少一干涉組為一種週期性結構。
  2. 如申請範圍第1項所述的發光鍵盤,其中該至少一干涉組具有複數條狀部,該些條狀部相互平行排列,該發光件所發出的光線於任意相鄰的二該條狀部之間的光程為該發光件所發出的光線的波長的整數倍。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的發光鍵盤,其中該干涉單元包括一該干涉組,該干涉組的每一該條狀部沿著一第一延伸方向延伸,該干涉組將該發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至該第一指定區,該第一延伸方向與該第一傳播方向皆平行於該頂面。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的發光鍵盤,其中該干涉單元包括二該干涉組,其中一該干涉組的每一該條狀部沿著一第一延伸方向延伸,並將該發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至該第一指定區,另一該干涉組的每一該條狀部沿著一第二延伸方向延伸,並將該發光件所發出的光線沿著一第二傳播方向導引至該第一指定區,該第一延伸方向、該第一傳播方向、該第二延伸方向及該第二傳播方向皆平行於該頂面,該第一延伸方向不同於該第二延伸方向。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的發光鍵盤,其中該導光板更具有一第二指定區,該第二指定區對應於該些鍵帽的至少其中另一者,該干涉單元包括二該干涉組,其中一該干涉組的每一該條狀部沿著一第一延伸方向延伸,並將該發光件所發出的光線沿著一第一傳播方向導引至該第一指定區,另一該干涉組的每一該條狀部沿著一第二延伸方向延伸,並將該發光件所發出的光線沿著一第二傳播方向導引至該第二指定區,該第一延伸方向、該第一傳播方向、該第二延伸方向及該第二傳播方向皆平行於該頂面,該第一延伸方向不同於該第二延伸方向。
  6. 如申請專利範圍第3至5項中任一項所述的發光鍵盤,其中任意相鄰的二該條狀部之間的間隔距離為該發光件所發出的光線的波長的整數倍。
  7. 如申請專利範圍第2項所述的發光鍵盤,其中該導光板更具有一第二指定區,該第二指定區對應於該些鍵帽的至少其中另一者,該至少一干涉組的每一該條狀部沿著一第三延伸方向延伸,該至少一干涉組將該發光件所發出的光線沿著一第三傳播方向及一第四傳播方向分別導引至該第一指定區及該第二指定區,該第三延伸方向、該第三傳播方向及該第四傳播方向皆平行於該頂面。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的發光鍵盤,其中任意相鄰的二該條狀部之間的間隔距離為該發光件所發出的光線的波長的半整數倍。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的發光鍵盤,其中該干涉單元設置於該導光板的該頂面或該底面,該背光模組更包括一光點單元,該光點單元設置於該導光板的該底面,該光點單元包括複數光點部,該些光點部的位置是對應於該些鍵帽,且該些光點部將光線導向該些鍵帽。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的發光鍵盤,其中該至少一干涉組的位置是對應於該些光點部。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的發光鍵盤,其中該至少一干涉組的位置是對應於相鄰的二該光點部之間。
  12. 如申請專利範圍第9項所述的發光鍵盤,其中該至少一干涉組的位置是對應於該些鍵帽,且該至少一干涉組將該發光件所發出的光線的其中一部分光線導向該些鍵帽,並將其中另一部分光線沿著一第一傳播方向導引至該第一指定區。
  13. 如申請專利範圍第2項所述的發光鍵盤,其中每一該條狀部為一柱體,或是由複數網點在該頂面或該底面上排列而成,當每一該條狀部為該柱體時,該柱體凸出於該頂面或該底面且具有一脊線或一弧面,當每一該條狀部是由該些網點在該頂面或該底面上排列而成時,每一該網點是一凸點或一凹點。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的發光鍵盤,其中該至少一干涉組的每一該條狀部為該柱體,該柱體凸出於該導光板的該頂面,該背光模組更包括設置於該頂面的一輔助導光板,及設置於該輔助導光板的一輔助干涉單元,該輔助干涉單元包括至少一輔助干涉組,該至少一輔助干涉組具有複數輔助條狀部,該些輔助條狀部分別為複數輔助柱體,該些輔助柱體凸出於該輔助導光板的一底面,且與該至少一干涉組的該些條狀部交錯嵌合。
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