TWI693211B - 含乙烯基之化合物的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明所欲解決之問題在於提供一種製造新穎的含乙烯基之化合物的方法。

本發明之含乙烯基之化合物的製造方法，其包含下述步驟：自含有式(1)之含乙烯基之化合物之粗製物，將式(20)之含羥乙氧基之化合物去除。此等式中，W¹及W²為式(2)之基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，環Y¹及Y²為芳香族烴環，R為單鍵或特定之二價基，R^3a及R^3b為氰基、鹵素原子、或1價烴基，n1及n2為0~4的整數，W⁵⁰及W⁵¹的其中一者為式(2)之基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，另一者為式(21)之基。式(2)及式(21)中，環Z為芳香族烴環，X為單鍵或以-S-所示的基，R¹為單鍵或碳數1~4之伸烷基，R²為1價烴基等特定取代基，m為0以上的整數。

Description

含乙烯基之化合物的製造方法

本發明有關一種含乙烯基之化合物的製造方法。

稠合多環式化合物具有各種優異性能，而已被用於各種用途。例如，已知稠合多環式芳香族化合物中的具有茀骨架(9,9-二苯基茀骨架等)的化合物，在下述特性方面具有優異之性能：透光率、折射率等光學特性；耐熱性等熱特性。因此，具有茀骨架的化合物，已被用來作為透鏡、稜鏡、濾光片、圖像顯示材料、光碟用基板、光纖、光波導(optical waveguide)、套管材料(casing material)、塗料等光學構件的原料。作為此種具有茀骨架的化合物，可列舉例如專利文獻1所揭示之化合物。

[先前技術文獻] (專利文獻)

專利文獻1：日本特開2011-201791號公報

本發明之目的在於提供一種製造新穎的含乙烯基之稠合多環式化合物的方法。

本發明人為了解決上述問題，而反覆專心研究。結果發現一種製造新穎的含乙烯基之稠合多環式化合物的方法，而完成本發明。具體而言，本發明是提供下者。

本發明是一種含乙烯基之化合物的製造方法，其包含下述步驟：自含有以下述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，將以下述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除；

(式中，W¹及W²獨立地表示以下述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，其中，W¹及W²並不同時為羥基；環Y¹及環Y²表示相同或不同的芳香族烴環；R表示單鍵、可具有取代基之亞甲基、可具有取代基且可在2個碳原子間包含雜原子之伸乙基、以-O-所示的基、以-NH-所示的基、或以-S-所示的基；R^3a及R^3b獨立地表示氰基、鹵素原子、或1價烴基；n1及n2獨立地表示0~4的整數)；

(式中，環Z表示芳香族烴環；X表示單鍵或以-S-所示的基；R¹表示單鍵或碳數1~4之伸烷基；R²表示1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、磺酸基、或是與1價烴基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、以-NHR^4c所示的基、或以-N(R^4d)₂所示的基中所含的碳原子鍵結的至少一部分氫原子經以1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、甲磺醯氧基(mesyloxy group)、或磺酸基所取代而成之基；R^4a~R^4d獨立地表示1價烴基，m表示0以上的整數)；

(式中，W⁵⁰及W⁵¹中的任一者表示以上述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，另一者表示以下述通式(21)所示的基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如上所述)；

(式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述)。

根據本發明，可提供一種製造新穎的含乙烯基之化合物的方法。

《含乙烯基之化合物的製造方法》

本發明之含乙烯基之化合物的製造方法，其包含下述步驟：自含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除。作為自上述粗製物將上述含羥乙氧基之化合物去除的方法，並無特別限定，可列舉例如矽膠管柱層析法(silica gel column chromatography)等公知的方法。

含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，例如，可藉由後述之製造方法1~3中任一者進行合成。合成上述粗製物時，除了以上述通式(1)所示之目標之含乙烯基之化合物以外，還會生成以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物作為雜質。進而，會自此含羥乙氧基之化合物，生成下述化合物作為雜質：以上述通式(21)所示的基所含的羥基 的氫原子經以乙烯基所取代而成之化合物、或上述含羥乙氧基之化合物與上述含乙烯基之化合物之反應生成物等。由於此等雜質的生成，使上述粗製物中之上述含乙烯基之化合物的純度下降，而容易使藉由使用上述粗製物成膜而獲得之被覆膜的耐熱性下降。

藉由本發明之含乙烯基之化合物的製造方法，可自上述粗製物，將以上述通式(2)所示的含羥乙氧基之化合物及其他雜質去除，並且亦可抑制自此含羥乙氧基之化合物生成其他新的雜質。如此一來，在藉由自上述粗製物將以上述含羥乙氧基之化合物去除而獲得之精製物中，作為目標之上述含乙烯基之化合物的純度提升，而容易使藉由使用此精製物成膜而獲得之被覆膜的耐熱性提升。

例如，以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物為下述化合物1時，下述雜質1則相當於以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物。並且，自雜質1進而生成下述雜質2及雜質3等。藉由本發明之含乙烯基之化合物的製造方法，可獲得一種精製物，其經將雜質1及其他雜質去除，並且隨著該雜質的去除，雜質2及3等的新生成亦受到抑制，而使化合物1的純度提升。

在藉由自含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除而獲得之精製物中，此含羥乙氧基之化合物的量，相對於以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物，較佳是1.5質量%以下，更佳是1.0質量%以下，進而更佳是0.7質量%以下。

上述通式(1)中，W¹及W²獨立地表示以上述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，其中，W¹及W²並不同時為羥基。W¹及W²較佳是皆為以上述通式(2)所示的基。

上述通式(2)中，作為環Z，可列舉例如：苯環、稠合多環式芳香族烴環[例如，稠合二環式烴環(例如，萘環等C_8-20稠合二環式烴環，較佳是C_10-16稠合二環式烴環)]、稠合 三環式芳香族烴環(例如，蒽環、菲環等)等稠合2~4環式芳香族烴環]等。環Z較佳是苯環或萘環。再者，W¹及W²皆為以上述通式(2)所示的基時，W¹所含的環Z和W²所含的環Z，可為相同，亦可為不同，例如可為：其中一者的環為苯環，另一者的環為萘環。又，環Z是透過X來與W¹及W²兩者所直接連結之碳原子鍵結，該環Z的取代位置並無特別限定。例如，環Z為萘環時，上述與碳原子鍵結之環Z所對應之基，可為1-萘基、2-萘基等。

上述通式(2)中，X獨立地表示單鍵或以-S-所示的基，典型例為單鍵。

上述通式(2)中，作為R¹，可列舉例如：單鍵；亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、丁-1,2-二基等碳數1~4之伸烷基；較佳是單鍵、C_2-4伸烷基(尤其是伸乙基、伸丙基等C_2-3伸烷基)；更佳是單鍵。再者，W¹及W³皆為以上述通式(2)所示的基時，W¹所含的R¹和W²所含的R¹，可為相同，亦可不同。

上述通式(2)中，作為R²，可列舉例如：烷基(例如，甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基等C_1-12烷基，較佳是C_1-8烷基，更佳是C_1-6烷基等)、環烷基(環己基等C_5-10環烷基，較佳是C_5-8環烷基，更佳是C_5-6環烷基等)、芳基(例如，苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等C_6-14芳基，較佳是C_6-10芳基，更佳是C_6-8芳基等)、芳烷基(苄基、苯乙基等C_6-10芳基-C_1-4烷基等)等1價烴基；羥基；烷氧基(甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等C_1-12烷氧基，較佳是C_1-8烷氧基，更佳是C_1-6烷氧 基等)、環烷氧基(環己氧基等C_5-10環烷氧基等)、芳氧基(苯氧基等C_6-10芳氧基)、芳烷氧基(例如，苄氧基等C_6-10芳基-C_1-4烷氧基)等以-OR^4a所示的基[式中，R^4a表示1價烴基(上述例示的1價烴基等)]；烷硫基(甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基等C_1-12烷硫基，較佳是C_1-8烷硫基，更佳是C_1-6烷硫基等)、環烷硫基(環己硫基等C_5-10環烷硫基等)、芳硫基(苯硫基等C_6-10芳硫基)、芳烷硫基(例如，苄硫基等C_6-10芳基-C_1-4烷硫基)等以-SR^4b所示的基[式中，R^4b表示1價烴基(上述例示的1價烴基等)]；醯基(乙醯基等C_1-6醯基等)；烷氧羰基(甲氧羰基等C_1-4烷氧基-羰基等)；鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)；硝基；氰基；巰基；羧基；胺基；胺甲醯基；烷胺基(甲胺基、乙胺基、丙胺基、丁胺基等C_1-12烷胺基，較佳是C_1-8烷胺基，更佳是C_1-6烷胺基等)、環烷胺基(環己胺基等C_5-10環烷胺基等)、芳胺基(苯胺基等C_6-10芳胺基)、芳烷胺基(例如，苄胺基等C_6-10芳基-C_1-4烷胺基)等以-NHR^4c所示的基[式中，R^4c表示1價烴基(上述例示的1價烴基等)]；二烷胺基(二甲胺基、二乙胺基、二丙胺基、二丁胺基等二(C_1-12烷基)胺基，較佳是二(C_1-8烷基)胺基，更佳是二(C_1-6烷基)胺基等)、二環烷胺基(二環己胺基等二(C_5-10環烷基)胺基等)、二芳胺基(二苯胺基等二(C_6-10芳基)胺基)、二芳烷胺基(例如，二苄胺基等二(C_6-10芳基-C_1-4烷基)胺基)等以-N(R^4d)₂所示的基[式中，R^4d獨立地表示1價烴基(上述例示的1價烴基等)]；(甲基)丙烯醯氧基；磺酸基；與上述之1價烴基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、以-NHR^4c所示 的基、或以-N(R^4d)₂所示的基中所含的碳原子鍵結的至少一部分氫原子經以上述之1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、甲磺醯氧基、或磺酸基所取代而成之基[例如，烷氧芳基(例如，甲氧苯基等C_1-4烷氧基-C_6-10芳基)、烷氧羰芳基(例如，甲氧羰苯基、乙氧羰苯基等C_1-4烷氧基-羰基C_6-10芳基等)]等。

其中，R²代表性的例子可為1價烴基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基等。

作為較佳的R²，可列舉1價烴基[例如，烷基(例如C_1-6烷基)、環烷基(例如C_5-8環烷基)、芳基(例如，C_6-10芳基)、芳烷基(例如，C_6-8芳基-C_1-2烷基等)等]、烷氧基(C_1-4烷氧基等)等。尤其，R^2a及R^2b較佳是烷基[C_1-4烷基(尤其是甲基)等]、芳基[例如，C_6-10芳基(尤其是苯基)等]等1價烴基(尤其是烷基)。

再者，m為2以上的整數時，R²可相互不同，亦可相同。又，W¹及W²皆為以上述通式(2)所示的基時，W¹所含的R³和W²所含的R²，可為相同，亦可為不同。

上述通式(2)中，R²的數m，可視環Z的種類而選擇，例如可為：0~4，較佳是0~3，更佳是0~2。再者，W¹及W³皆為以上述通式(2)所示的基時，W¹中之m和W²中之m，可為相同，亦可為不同。

上述通式(1)中，作為環Y¹及環Y²，可列舉例如：苯環、稠合多環式芳香族烴環[例如，稠合二環式烴環(例如，萘環等C_8-20稠合二環式烴環，較佳是C_10-16稠合二環式烴環)]、稠合三環式芳香族烴環(例如，蒽環、菲環等)等稠合2~4環式芳香族烴環]等。環Y¹及環Y²較佳是苯環或萘環。再者，環Y¹及環Y²，可為相同，亦可為不同，例如可為：其中一者的環為苯環，另一者的環為萘環等。

上述通式(1)中，R表示單鍵、可具有取代基之亞甲基、可具有取代基且亦可在2個碳原子間包含雜原子之伸乙基、以-O-所示的基、以-NH-所示的基、或以-S-所示的基，典型例為單鍵。此處，作為取代基，可列舉例如：氰基、鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子等)、1價烴基[例如，烷基(甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、三級丁基等C_1-6烷基)、芳基(苯基等C_6-10芳基)等]等；作為雜原子，可列舉例如：氧原子、氮原子、硫原子、矽原子等。

上述通式(1)中，作為R^3a及R^3b，一般可列舉非反應性取代基，例如：氰基、鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子等)、1價烴基[例如，烷基、芳基(苯基等C_6-10芳基)]等；較佳是氰基或烷基；特佳是烷基。作為烷基，可例示：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、三級丁基等C_1-6烷基(例如，C_1-4烷基，尤其是甲基)等。再者，n1為2以上的整數時，R^3a可相互不同，亦可相同。又，n2為2以上的整數時，R^3b可相互不同，亦可相同。進而，R^3a和R^3b，可相同，亦可不同。又，R^3a和R^3b相對於環Y¹及環Y²的鍵結位置(取代位置)，並無 特別限定。較佳的取代數n1及n2，為0或1，尤其是0。再者，n1及n2可相互相同，亦可不同。

以上述通式(1)所示的化合物，保持優異之光學特性及熱特性，並且，因為具有乙烯氧基及/或(甲基)丙烯醯氧基，因此，亦具有較高的反應性。尤其，環Y¹及環Y²為苯環且R為單鍵時，以上述通式(1)所示的化合物，具有茀骨架，而光學特性及熱特性更加優異。此種以上述通式(1)所示的化合物因為可進行聚合反應，所以作為聚合性單體發揮作用。尤其，W¹及W²皆為以上述通式(2)所示的基時，以上述通式(1)所示的化合物因為可進行陽離子聚合反應，因此，作為陽離子聚合性單體發揮作用。另一方面，W¹及W²皆為(甲基)丙烯醯氧基時，以上述通式(1)所示的化合物因為可進行自由基聚合反應，因此，作為自由基聚合性單體發揮作用。又，W¹及W²獨立為以上述通式(2)所示的基或(甲基)丙烯醯氧基時，因為以乙烯氧基及/或(甲基)丙烯醯氧基的形式所含的2個乙烯基可與不同的分子進行反應，因此，以上述通式(1)所示的化合物可適合使用作為交聯劑。進而，以上述通式(1)所示的化合物，可獲得具有較高硬度之硬化物，而較佳作為組成物中的基材成分。此外，使負型感光性樹脂組成物含有以上述通式(1)所示的化合物時，可獲得良好的微圖案化(micropatterning)特性。以上述通式(1)所示的化合物，可用於各種用途，例如：定向膜及平坦化膜(例如，液晶顯示器及有機電激發光顯示器(organic electroluminescence display)等所使用之定向膜及平坦化膜)；抗反射膜、層間絕緣膜、碳硬罩(carbon hard mask) 等光阻下層膜(resist underlayer film)；液晶顯示器或有機電激發光顯示器等的間隙物(spacer)及隔壁；液晶顯示器的彩色濾光片的像素或黑色矩陣(black matrix)；液晶顯示器或有機電激發光顯示器等顯示裝置；透鏡(例如，微透鏡等)、光纖、光波導、稜鏡片(prism sheet)、全像圖(hologram)、高折射薄膜、復歸反射薄膜(retroreflective film)等光學構件；低透溼膜(例如，作為水蒸氣阻隔層使用之低透溼膜)；光學材料；半導體用材料。

以上述通式(1)所示的化合物之中，作為較佳的具體例，可列舉以下述式所示的化合物。其中，尤其，較佳是以下述左上之式所示的化合物及以下述右上之式所示的化合物。

<含有以通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物的製造方法>

[製造方法1]

含有以通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，可藉由下述方式合成，例如，依照日本特開2008-266169號公報所述的製造方法，在過渡元素化合物催化劑及無機鹼存在下，使以下述通式(13)所示的乙烯酯化合物，與以下述通式(3)所示的含羥基之化合物進行反應。上述無機鹼較佳是固體無機鹼，該固體無機鹼含有10重量%以上的粒徑小於150μm之粒子。

R⁶-CO-O-CH=CH₂ (13)

(式中，R⁶表示氫原子或有機基)。

(式中，W³及W⁴獨立地表示以下述通式(4)所示的基或羥基，其中，W³及W⁴並不同時為羥基，環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如上所述)。

(式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述)。

再者，以上述通式(3)所示的化合物，可藉由下述方式合成，例如，在酸催化劑存在下，使以下述通式(14)所示的化合物及/或以下述通式(15)所示的化合物，與以下述通式(16)所示的化合物進行反應。可藉由適當調整以下述通式(14)所示的化合物及以下述通式(15)所示的化合物之組合方式或添加量等，獲得以上述通式(3)所示的所希望的含羥基之化合物。又，於反應後，例如，可藉由矽膠管柱層析法等公知的分離方法，將作為目標之含羥基之化合物分離。

(上述通式(14)、(15)、及(16)中，環Y¹、環Y²、環Z、R、R¹、R²、R^3a、R^3b、m、n1、及n2是如上所述)。

作為以上述通式(3)所示的化合物之合成所使用的酸催化劑、反應條件等，可列舉例如：在專利文獻1或日本特開2002-255929號公報中記載為可用於申請專利範圍所述之茀系化合物的製造方法之酸催化劑、反應條件。

[製造方法2]

含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，亦可藉由一種製造方法合成，該製造方法包含下述步驟：例如，自以上述通式(3)所示的含羥基之化合物，經過以下述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物。

(式中，W⁵及W⁶獨立地表示以下述通式(6)所示的基或羥基，其中，W⁵及W⁶並不同時為羥基，環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如上所述)。

(式中，E表示經以氯原子、溴原子、碘原子、甲磺醯氧基、三氟甲磺醯氧基、對甲苯磺醯氧基、或苯磺醯氧基所取代之碳數1~4之烷氧基；環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述)。

以上述通式(5)所示的含離去基之化合物，可藉由下述方式合成，例如，使以上述通式(3)所示的含羥基之化合物，與含離去基之化合物進行反應。作為含離去基之化合物，可列舉例如：亞硫醯氯、以下述式所示的化合物等。又，作為反應溫度，可列舉例如：-20~150℃，較佳是-10~140℃，更佳是30~130℃。

以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物，可藉由下述方式合成，例如，使以上述通式(5)所示的含離去基之化合 物與乙烯化劑(vinylating agent)進行反應。作為乙烯化劑，可列舉例如：氫氧化鈉、三乙胺、二異丙基乙基胺、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、二氮雜雙環十一烯、甲醇鈉、乙醇鈉、乙醇鈉、三級丁醇鉀等；可較佳地列舉：二氮雜雙環十一烯、乙醇鈉、三級丁醇鉀等；可更佳地列舉：三級丁醇鉀。又，作為反應溫度，可列舉例如：-20~150℃，較佳是-10~100℃，更佳是0~60℃。

[製造方法3]

以上述通式(1)所示的化合物，亦可藉由一種製造方法合成，該製造方法包含下述步驟：例如，自以下述通式(7)所示的含羥烷氧基之化合物，經過以上述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物。

(式中，W⁷及W⁸獨立地表示以下述通式(8)所示的基或羥基，其中，W⁷及W⁸並不同時為羥基，環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如上所述)。

(式中，l表示1~4的整數，環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述)。

以上述通式(7)所示的含羥烷氧基之化合物，可藉由下述方式合成，例如，在酸催化劑存在下，使以下述通式(17)所示的化合物及/或以下述通式(18)所示的化合物，與以上述通式(16)所示的化合物進行反應。可藉由適當調整以下述通式(17)所示的化合物及以下述通式(18)所示的化合物之組合方式或添加量，獲得以上述通式(7)所示的所希望的含羥烷氧基之化合物。又，於反應後，例如，可藉由矽膠管柱層析法等公知的分離方法，將作為目標之含羥烷氧基之化合物分離。作為以上述通式(7)所示的化合物之合成所使用的酸催化劑、反應條件等，可列舉例如，以上述通式(3)所示的化合物的合成方法的說明中所例示的酸催化劑、反應條件。

(上述通式(17)及(18)中，環Z、R¹、R²、及m是如上所述)。

以上述通式(5)所示的含離去基之化合物，可藉由下述方式合成，例如，可使以上述通式(7)所示的含羥烷氧基之化合物，與含離去基之化合物進行反應。作為含離去基之化合物及反應溫度，可列舉例如，上述製造方法2所例示的含離去基之化合物及反應溫度。

以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物，可藉由下述方式合成，例如，可使上述通式(5)所示的含離去基之化合物，與乙烯化劑進行反應。作為乙烯化劑及反應溫度，可列舉例如，上述製造方法2所例示的乙烯化劑及反應溫度。

《含有以通式(1)所示的化合物之組成物》

如上所述，以通式(1)所示的化合物，作為組成物中的基材成分是有用的。作為含有以通式(1)所示的化合物之組成物，可例示：非感光性組成物等非感能量線性組成物；負型感光性樹脂組成物等感能量線性組成物。以下，說明非感光性組成物及負型感光性樹脂組成物。

<非感光性組成物>

作為非感光性組成物，可列舉例如一種非感光性組成物，其含有以上述通式(1)所示的化合物和有機溶劑，且以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物的量，相對於以上述通式(1)所示的化合物，為1.5質量%以下。作為有機溶劑，可列舉例如，後述之負型感光性樹脂組成物所例示的有機溶劑。

又，作為非感光性組成物，亦可列舉一種非感光性組成物，其含有：以上述通式(1)所示的化合物、和含羥基之化合物。此非感光性組成物，例如，可含有有機溶劑。作為 有機溶劑，可列舉例如，後述之負型感光性樹脂組成物所例示的有機溶劑。

作為含羥基之化合物，並無特別限定，可列舉例如，以下述通式所示的含羥基之化合物。

HO-R^p1-OH R^p2-OH

(式中，R^p1及R^p2表示有機基)。

作為R^p1，可列舉例如：2價烴基、2價雜環式基、及此等基相互鍵結所形成之基；較佳是2價烴基。2價烴基及2價雜環式基可具有取代基。R^p1較佳是具有環狀結構。

作為2價烴基，可列舉例如：2價脂肪族烴基、2價脂環式烴基、2價芳香族烴基、及此等2價烴基的2個以上鍵結所形成之基。

作為2價脂肪族烴基，可列舉例如：亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、伸丁基、伸異丁基、伸二級丁基、伸三級丁基、伸戊基、伸己基、伸癸基、伸十二烷基等碳數1~20之伸烷基，較佳是碳數1~10之伸烷基，進而更佳是碳數1~3之伸烷基；伸乙烯基、伸丙烯基、1-伸丁烯基等碳數2~20之伸烯基，較佳是碳數2~10之伸烯基，進而更佳是碳數2~3之伸烯基；伸乙炔基、伸丙炔基等碳數2~20之伸炔基，較佳是碳數2~10之伸炔基，進而更佳是碳數2~3之伸炔基等。

作為2價脂環式烴基，可列舉：伸環丙基、伸環丁 基、伸環戊基、伸環己基、伸環辛基等碳數3~20之伸環烷基，較佳是碳數3~15之伸環烷基，進而更佳是碳數5~8之伸環烷基；伸環戊烯基、伸環己烯基等碳數3~20之伸環烯基，較佳是碳數3~15之伸環烯基，進而更佳是碳數5~8之伸環烯基；伸全氫萘基、伸降冰片基、伸金剛烷基、伸四環[4.4.0.1^2,5.1^7,10]十二烷基等碳數4~20之2價橋聯環式烴基，較佳是碳數6~16之2價橋聯環式烴基，進而更佳是碳數7~12之2價橋聯環式烴基等。

作為2價芳香族烴基，可列舉：伸苯基、伸萘基、伸茀基等碳數6~20之伸芳基，較佳是碳數6~13之伸芳基。

作為2價脂肪族烴基與2價脂環式烴基鍵結所形成之基，可列舉例如：伸環戊基亞甲基、伸環己基亞甲基、伸環己基伸乙基等伸環烷基-伸烷基(例如，C_3-20伸環烷基-C_1-4伸烷基等)等。

作為2價脂肪族烴基與2價芳香族烴基鍵結所形成之基，可列舉例如：伸芳基-伸烷基(例如，C_6-20伸芳基-C_1-4伸烷基等)、伸芳基-伸烷基-伸芳基(例如，C_6-20伸芳基-C_1-4伸烷基-C_6-20伸芳基等)等。

作為2個以上的2價芳香族烴基彼此鍵結所形成之基，可列舉例如：伸芳基-伸芳基(例如，C_6-20伸芳基-C_6-20伸芳基等)、伸芳基-伸芳基-伸芳基(例如，C_6-10伸芳基-C_6-13伸芳基-C_6-10伸芳基等)等。

此等2價烴基之中，較佳是具有環狀結構之2價烴基，特佳是C_6-10伸芳基-C_6-13伸芳基-C_6-10伸芳基、C_6-20伸芳 基-C_1-4伸烷基-C_6-20伸芳基、碳數7~12之2價橋聯環式烴。

上述2價烴基，可具有各種取代基，例如：鹵素原子、側氧基、羥基、取代氧基(例如，烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、醯氧基等)、羧基、取代氧羰基(烷氧羰基、芳氧羰基、芳烷氧羰基等)、取代或無取代之胺甲醯基、氰基、硝基、取代或無取代之胺基、磺酸基、雜環式基等。上述羥基及羧基，亦可經以有機合成領域常用的保護基保護。又，2價脂環式烴基及2價芳香族烴基的環，亦可經與芳香族性或非芳香族性的雜環進行縮合。

2價雜環式基，是自雜環式化合物將2個氫原子去除所形成之基。雜環式化合物可為芳香族雜環式化合物，亦可為非芳香族雜環式化合物。作為此種雜環式化合物，可列舉例如：包含氧原子作為雜原子之雜環式化合物(例如，環氧乙烷等3員環之雜環式化合物；環氧丙烷(oxetane)等4員環之雜環式化合物；呋喃、四氫呋喃、

唑(oxazole)、γ-丁內酯等5員環之雜環式化合物；4-側氧基-4H-哌喃、四氫哌喃、嗎啉(morpholine)等6員環之雜環式化合物；苯并呋喃、4-側氧基-4H-苯并哌喃、二氫苯并哌喃(chromane))等具有稠合環之雜環式化合物；3-氧雜三環[4.3.1.1^4,8]十一-2-酮、3-氧雜三環[4.3.1.0^4,8]壬-2-酮等具有橋聯環之雜環式化合物等)、包含硫原子作為雜原子之雜環式化合物(例如，噻吩、噻唑、噻二唑等5員環之雜環式化合物；4-側氧基-4H-噻喃等6員環之雜環式化合物；苯并噻吩等具有稠合環之雜環式化合物等)、包含氮原子作為雜原子之雜環式化合物(例如，吡咯、吡咯啶、 吡唑、咪唑、三唑等5員環之雜環式化合物；吡啶、嗒

、嘧啶、吡

、哌啶、哌

等6員環之雜環式化合物；吲哚、吲哚啉、喹啉、吖啶、

啶(naphthyridine)、喹唑啉、嘌呤等具有稠合環之雜環式化合物)等。上述2價雜環式基，除了上述2價烴基可具有之取代基之外，還可具有烷基(例如，甲基、乙基等C_1-4烷基等)、環烷基、芳基(例如，苯基、萘基等C_6-10芳基等)等取代基。

作為R^p2，可列舉例如：1價烴基、1價雜環式基、及此等基相互鍵結所形成之基；較佳是1價烴基。1價烴基及1價雜環式基可具有取代基。R^p2較佳是具有環狀結構。

作為1價烴基，可列舉例如：1價脂肪族烴基、1價脂環式烴基、1價芳香族烴基、及此等基的2個以上鍵結所形成之基。

作為1價脂肪族烴基，可列舉例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基、戊基、己基、癸基、十二烷基等碳數1~20之烷基，較佳是碳數1~10之烷基，進而更佳是碳數1~3之烷基；乙烯基、烯丙基、1-丁烯基等碳數2~20之烯基，較佳是碳數2~10之烯基，進而更佳是碳數2~3之烯基；乙炔基、丙炔基等碳數2~20之炔基，較佳是碳數2~10之炔基，進而更佳是碳數2~3之炔基。

作為1價脂環式烴基，可列舉例如：環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基等碳數3~20之環烷基，較佳是碳數3~15之環烷基，進而更佳是碳數5~8之環烷基；環 戊烯基、環己烯基等碳數3~20之環烯基，較佳是碳數3~15之環烯基，進而更佳是碳數5~8之環烯基；全氫萘-1-基、降冰片基、金剛烷基、四環[4.4.0.1^2,5.1^7,10]十二烷-3-基等碳數4~20之1價橋聯環式烴基，較佳是碳數6~16之1價橋聯環式烴基，進而更佳是碳數7~12之1價橋聯環式烴基等。

作為1價芳香族烴，可列舉：苯基、萘基、茀基等碳數6~20之芳基，較佳是碳數6~13之芳基。

作為1價脂肪族烴基與1價脂環式烴基鍵結所形成之基，可列舉例如：環戊基甲基、環己基甲基、2-環己基乙基等環烷基-烷基(例如，C_3-20環烷基-C_1-4烷基等)等。

作為1價脂肪族烴基與1價芳香族烴基鍵結所形成之基，可列舉例如：芳烷基(例如，C_7-18芳烷基等)、烷基-芳基(例如，C_1-4烷基-C_6-20芳基，更具體而言，經1~4個C_1-4烷基取代之苯基或萘基等)、芳基-烷基-芳基(例如，C_6-20芳基-C_1-4烷基-C_6-20芳基等)等。

作為2個以上的1價芳香族烴基彼此鍵結所形成之基，可列舉例如：芳基-芳基(例如，C_6-20芳基-C_6-20芳基等)、芳基-芳基-芳基(例如，C_6-10芳基-C_6-13芳基-C_6-10芳基等)等。

此等1價烴基之中，較佳是具有環狀結構之1價烴基，特佳是C_6-10芳基-C_6-13芳基-C_6-10芳基、C_6-20芳基-C_1-4烷基-C_6-20芳基、碳數7~12之1價橋聯環式烴基。

上述1價烴基，可具有各種取代基。作為取代基的具體例，可列舉：作為上述2價烴基可具有之取代基而例示之取代基。又，1價脂環式烴基及1價芳香族烴基的環，亦可 經與芳香族性或非芳香族性的雜環進行縮合。

1價雜環式基，是自雜環式化合物將1個氫原子去除所形成之基。雜環式化合物可為芳香族雜環式化合物，亦可為非芳香族雜環式化合物。作為此種雜環式化合物，可列舉例如：上述2價雜環式基的說明中所例示之雜環式化合物。上述1價雜環式基，除了上述1價烴基可具有之取代基之外，還可具有烷基(例如，甲基、乙基等C_1-4烷基等)、環烷基、芳基(例如，苯基、萘基等C_6-10芳基等)等取代基。

作為含羥基之化合物的具體例，可列舉以下述式所示的化合物。

<負型感光性樹脂組成物>

如上所述，以上述通式(1)所示的化合物，作為負型感光性樹脂組成物的成分是有用的。作為負型感光性樹脂組成物，可列舉例如一種負型感光性樹脂組成物，其含有鹼可溶性樹脂、光聚合性單體、光聚合起始劑、以上述通式(1)所示的化合物、及有機溶劑，且以上述通式(20)所示的含羥乙氧基 之化合物的量，相對於以上述通式(1)所示的化合物，為1.5質量%以下。以下，詳細說明此負型感光性樹脂組成物。

作為負型感光性樹脂組成物所含有之鹼可溶性樹脂，並無特別限定，可使用以往公知的鹼可溶性樹脂。此鹼可溶性樹脂，可具有乙烯性不飽和基，亦可不具有乙烯性不飽和基。

再者，本說明書中，鹼可溶性樹脂是指下述鹼可溶性樹脂：藉由樹脂濃度20質量%的樹脂溶液(溶媒：丙二醇單甲醚乙酸酯)，於基板上形成膜厚1μm之樹脂膜，並浸泡於2.38質量%之氫氧化四甲銨(TMAH)水溶液1分鐘後，溶解膜厚0.01μm以上。

作為具有乙烯性不飽和基之鹼可溶性樹脂，可使用例如藉由下述方式獲得之樹脂：使環氧化合物與不飽和羧酸之反應物，進而與多元酸酐進行反應。

其中，較佳是以下述通式(r-1)所示的樹脂。以此式(r-1)所示的樹脂，其本身光硬化性較高，因此較佳。

上述通式(r-1)中，X^r表示以下述通式(r-2)所示的基。

上述通式(r-2)中，R^r1分別獨立地表示氫原子、碳數1~6之烴基、或鹵素原子，R^r2分別獨立地表示氫原子或甲基，W^r表示單鍵或以下述式(r-3)所示的基。

又，上述通式(r-1)中，Y^r表示自二羧酸酐去除酸酐基(-CO-O-CO-)後餘留之殘基。作為二羧酸酐之例，可列舉：馬來酸酐、琥珀酸酐、伊康酸酐(itaconic anhydride)、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基內亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐、氯橋酸酐(chlorendic anhydride)、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、戊二酸酐等。

又，上述通式(r-1)中，Zr表示自四羧酸二酐去除2個酸酐基後餘留之殘基。作為四羧酸二酐之例，可列舉：焦蜜石酸二酐(pyromellitic dianhydride)、二苯甲酮四甲酸二酐、聯苯四甲酸二酐、聯苯醚四甲酸二酐等。

又，上述通式(r-1)中，k表示0~20的整數。

又，作為具有乙烯性不飽和基之鹼可溶性樹脂，亦可使用：聚酯(甲基)丙烯酸酯，其是使(甲基)丙烯酸與聚酯預 聚合物進行反應所獲得，該聚酯預聚合物是將多元醇類與一元酸或多元酸進行縮合所獲得；聚胺酯(甲基)丙烯酸酯，其是使多元醇與具有2個異氰酸基之化合物進行反應後，與(甲基)丙烯酸進行反應所獲得；環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂，其是使雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、苯酚或甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲階酚醛型環氧樹脂、三苯甲烷型環氧樹脂、多羧酸多縮水甘油酯、多元醇多縮水甘油酯、脂肪族或脂環式環氧樹脂、胺環氧樹脂、二羥苯型環氧樹脂等環氧樹脂，與(甲基)丙烯酸進行反應所獲得。

再者，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」是意指丙烯酸和甲基丙烯酸兩者。同樣地，「(甲基)丙烯酸酯」是意指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯兩者。進而，「(甲基)丙烯醯胺」是意指丙烯醯胺和甲基丙烯醯胺兩者。

另一方面，作為不具有乙烯性不飽和基之鹼可溶性樹脂，可使用一種樹脂，其是至少使不飽和羧酸、不具有脂環式基之含環氧基之不飽和化合物和含脂環式基之不飽和化合物進行共聚反應所獲得。

作為不飽和羧酸，可列舉：(甲基)丙烯酸、巴豆酸等單羧酸；馬來酸、富馬酸(fumaric acid)、檸康酸(citraconic acid)、中康酸(mesaconic acid)、伊康酸(itaconic acid)等二羧酸；此等二羧酸的酸酐等。其中，從共聚反應性、所得之樹脂的鹼溶解性、取得的容易性等觀點而言，較佳是(甲基)丙烯酸及馬來酸酐。此等不飽和羧酸可單獨使用，或將2種以上組合使用。

作為不具有脂環式基之含環氧基之不飽和化合物，可列舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯等(甲基)丙烯酸環氧烷酯類；α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸6,7-環氧庚酯等α-烷基丙烯酸環氧烷酯類；鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚等縮水甘油醚類等。其中，從共聚反應性、硬化後樹脂的強度等觀點而言，較佳是(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、及對乙烯基苄基縮水甘油醚。此等含環氧基之不飽和化合物可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

作為含脂環式基之不飽和化合物，只要是具有脂環式基之不飽和化合物，並無特別限定。脂環式基可為單環，亦可為多環。作為單環之脂環式基，可列舉：環戊基、環己基等。又，作為多環之脂環式基，可列舉：金剛烷基、降冰片基、異冰片基、三環壬基、三環癸基、四環十二烷基等。具體而言，作為含脂環式基之不飽和化合物，可列舉例如以下述通式所示的化合物。

上述通式中，R^r3表示氫原子或甲基，R^r4表示單鍵或碳數1~6之2價脂肪族飽和烴基，R^r5表示氫原子或碳數1~5之烷基。作為R^r4，較佳是單鍵、直鏈狀或支鏈狀之伸烷基，例如亞甲基、伸乙基、伸丙基、四亞甲基、乙基伸乙基、五亞甲基、六亞甲基。作為R^r5，較佳是例如甲基、乙基。

此鹼可溶性樹脂中之來自上述不飽和羧酸之構成單元的比例，較佳是3~25質量%，更佳是5~25質量%。又，來自上述含環氧基之不飽和化合物之構成單元的比例，較佳是71~95質量%，更佳是75~90質量%。又，來自上述含脂環式基之不飽和化合物之構成單元的比例，較佳是1~25質量%，更佳是3~20質量%，進而更佳是5~15質量%。藉由將構成單元的比例設為上述範圍，可一面使所得之樹脂的鹼溶解性成為適度，一面提高負型感光性樹脂組成物對基板的密著性、負型感光性樹脂組成物硬化後的強度。

鹼可溶性樹脂的質量平均分子量，較佳是1000~40000，更佳是2000~30000。藉由將鹼可溶性樹脂的質量平 均分子量設為上述範圍，可一面獲得良好的顯影性，一面獲得充分的耐熱性、膜強度。

鹼可溶性樹脂的含量，相對於負型感光性樹脂組成物的固形份，較佳是5~80質量%，更佳是15~50質量%。藉由將鹼可溶性樹脂的含量設為上述範圍，會有較容易取得顯影性平衡之傾向。

作為負型感光性樹脂組成物所含有之光聚合性單體，有單官能單體和多官能單體。

作為單官能單體，可列舉：(甲基)丙烯醯胺、羥甲基(甲基)丙烯醯胺、甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、丙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、丁氧基甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸、富馬酸、馬來酸、馬來酸酐、伊康酸、伊康酸酐、檸康酸、檸康酸酐、巴豆酸、2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、三級丁基丙烯醯胺磺酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基-2-羥丙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥丙酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸二甲胺酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、鄰苯二甲酸衍生物的半(甲基)丙烯酸酯等。此等單官能單體可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

另一方面，作為多官能單體，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、乙二醇二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、甘油多縮水甘油醚多(甲基)丙烯酸酯、胺酯(urethane)(甲基)丙烯酸酯(亦即甲苯二異氰酸酯)、三甲基六亞甲基二異氰酸酯與六亞甲基二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之反應物、亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺亞甲醚、多元醇與N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺之縮合物等多官能單體；或1,3,5-三丙烯醯基六氫-1,3,5-三

等。此等多官能單體可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

光聚合性單體的含量，相對於負型感光性樹脂組成物的固形份，較佳是1~30質量%，更佳是5~20質量%。藉由將光聚合性單體的含量設為上述範圍，會有較容易取得靈 敏度、顯影性、解析度之平衡之傾向。

作為負型感光性樹脂組成物所含有之光聚合起始劑，並無特別限定，可使用以往公知的光聚合起始劑。

作為光聚合起始劑，具體而言，可列舉：1-羥環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-[4-(2-羥乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、雙(4-二甲胺基苯基)酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(N-嗎啉基)丙-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-(N-嗎啉基)苯基)-丁-1-酮、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苄醯基)-9H-咔唑-3-基],1-(O-乙醯肟)、2,4,6-三甲基苄醯基二苯基氧化膦、4-苄醯基-4’-甲基二甲基硫醚、4-二甲胺基苄酸、4-二甲胺基苄酸甲酯、4-二甲胺基苄酸乙酯、4-二甲胺基苄酸丁酯、4-二甲胺基-2-乙基己基苄酸、4-二甲胺基-2-異戊基苄酸、苄基-β-甲氧基乙基縮醛、苄基二甲基縮酮、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧羰基)肟、鄰苄醯基苄酸甲酯、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、噻噸、2-氯噻噸、2,4-二乙基噻噸、2-甲基噻噸、2-異丙基噻噸、2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、偶氮雙異丁腈、過氧化苄醯、過氧化枯烯(cumene peroxide)、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并

唑、2-巰基苯并噻唑、2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(鄰氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(對甲氧基 苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2,4,5-三芳基咪唑二聚物、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4,4’-雙(二甲胺基)二苯甲酮(亦即，米其勒酮(Michler's ketone))、4,4’-雙(二乙胺基)二苯甲酮(亦即，乙基米其勒酮)、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯基乙二酮、安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香正丁基醚、安息香異丁基醚、安息香丁基醚、苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、對二甲基苯乙酮、對二甲胺基苯丙酮、二氯苯乙酮、三氯苯乙酮、對三級丁基苯乙酮、對二甲胺基苯乙酮、對三級丁基三氯苯乙酮、對三級丁基二氯苯乙酮、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二苯并環庚酮、4-二甲胺基苄酸戊酯、9-苯基吖啶、1,7-雙-(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙-(9-吖啶基)戊烷、1,3-雙-(9-吖啶基)丙烷、對甲氧基三

、2,4,6-參(三氯甲基)-對稱三

、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-[2-(4-二乙胺基-2-甲苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-[2-(3,4-二甲氧苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-(4-甲氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-(4-乙氧苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2-(4-正丁氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-對稱三

、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-對稱三

、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-對稱三

、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-對稱三

、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基 苯基-對稱三

、「IRGACURE OXE02」、「IRGACURE OXE01」、「IRGACURE 369」、「IRGACURE 651」、「IRGACURE 907」(商品名稱，BASF製造)、「NCI-831」(商品名稱，ADEKA製造)等。其中，使用肟系之光聚合起始劑，在靈敏度方面特佳。此等光聚合起始劑可單獨使用，或將2種以上組合使用。

光聚合起始劑的含量，相對於負型感光性樹脂組成物的固形份100質量份，較佳是0.5~20質量份。藉由將光聚合起始劑的含量設為上述範圍，可獲得充分的耐熱性、耐化學藥品性，又可使塗膜形成能力提升，並抑制硬化不良。

負型感光性樹脂組成物，如上所述，含有以上述通式(1)所示的化合物。使負型感光性樹脂組成物含有此化合物時，可獲得良好的微圖案化特性。

以上述通式(1)所示的化合物的含量，相對於上述光聚合起始劑100質量份，較佳是0.5~95質量份，更佳是1~50質量份。藉由將以上述通式(1)所示的化合物的含量設為上述範圍，可一面獲得良好的顯影性一面獲得良好的微圖案化特性。

負型感光性樹脂組成物，可進而含有著色劑。藉由含有著色劑，例如，可較佳地被使用作為形成液晶顯示器的彩色濾光片之用途。又，負型感光性樹脂組成物，藉由包含遮光劑作為著色劑，例如，可較佳地被使用作為形成彩色濾光片中之黑色矩陣之用途。

作為著色劑，並無特別限定，例如，色彩索引(C.I.，The Society of Dyers and Colourists發行)中分類為顏料 (Pigment)之化合物，具體而言，較佳是使用標示有如下述色彩索引(C.I.)號碼之化合物。

C.I.顏料黃1(以下，同為「C.I.顏料黃」，僅記述號碼)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、185；C.I.顏料橙1(以下，同為「C.I.顏料橙」，僅記述號碼)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73；C.I.顏料紫1(以下，同為「C.I.顏料紫」，僅記述號碼)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50；C.I.顏料紅1(以下，同為「C.I.顏料紅」，僅記述號碼)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48：1、48：2、48：3、48：4、49：1、49：2、50：1、52：1、53：1、57、57：1、57：2、58：2、58：4、60：1、63：1、63：2、64：1、81：1、83、88、90：1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、 224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265；C.I.顏料藍1(以下，同為「C.I.顏料藍」，僅記述號碼)、2、15、15：3、15：4、15：6、16、22、60、64、66；C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37；C.I.顏料棕23、C.I.顏料棕25、C.I.顏料棕26、C.I.顏料棕28；C.I.顏料黑1、C.I.顏料黑7。

又，以著色劑作為遮光劑時，較佳是使用黑色顏料作為遮光劑。作為黑色顏料，不論有機物、無機物，可列舉：碳黑(carbon black)、鈦黑(titanium black)；銅、鐵、錳、鈷、鉻、鎳、鋅、鈣、銀等之金屬氧化物、複合氧化物、金屬硫化物、金屬硫酸鹽、金屬碳酸鹽等各種顏料。其中，較佳是使用具有較高遮光性之碳黑。

作為碳黑，可使用槽黑(channel black)、爐黑(furnace black)、熱裂解碳黑(thermal black)、燈黑(lamp black)等公知的碳黑，較佳是使用遮光性優異之槽黑。又，亦可使用樹脂被覆碳黑。

相較於無樹脂被覆碳黑，樹脂被覆碳黑之導電性較低，因此，作為液晶顯示器的黑色矩陣使用時，漏電流較少，而可製造可靠性較高之低耗電顯示器。

又，為了調整碳黑的色調，可適當添加上述有機顏料作為輔助顏料。

又，使用顏料作為著色劑時，可將顏料與染料合併 使用。作為可與顏料合併使用之染料，可列舉：呫噸系染料、花青(cyanine)系染料、偶氮系染料、蒽醌系染料、二

(dioxazine)系染料、三苯甲烷系染料等。

又，為了使著色劑均勻分散於負型感光性樹脂組成物中，可進而使用分散劑。作為此種分散劑，較佳是使用聚伸乙亞胺系、胺酯樹脂系、丙烯酸系樹脂系的高分子分散劑。尤其，使用碳黑作為著色劑時，較佳是使用丙烯酸系樹脂系分散劑作為分散劑。

又，無機顏料及有機顏料可分別單獨使用，亦可合併使用，合併使用時，相對於無機顏料與有機顏料之總量100質量份，較佳是使用有機顏料在10~80質量份的範圍內，更佳是使用有機顏料在20~40質量份的範圍內。

著色劑的含量，只要視負型感光性樹脂組成物的用途而適當決定即可，作為其中一例，相對於負型感光性樹脂組成物的固形份100質量份，較佳是5~70質量份，更佳是25~60質量份。

尤其，使用負型感光性樹脂組成物形成黑色矩陣時，較佳是：以使黑色矩陣的膜厚每1μm的光學密度(OD)值成為4以上之方式，來調整負型感光性樹脂組成物中之遮光劑的量。只要黑色矩陣中之膜厚每1μm的OD值為4以上，在使用於液晶顯示器的黑色矩陣時，可獲得充分的顯示對比。

再者，著色劑較佳是：使用分散劑以適當濃度使其分散而製作成分散液後，添加於負型感光性樹脂組成物。

作為負型感光性樹脂組成物中之有機溶劑，可列舉 例如：乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丙基醚、乙二醇單正丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單正丙基醚、二乙二醇單正丁基醚、三乙二醇單甲基醚、三乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單正丙基醚、丙二醇單正丁基醚、二丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二醇單正丙基醚、二丙二醇單正丁基醚、三丙二醇單甲基醚、三丙二醇單乙基醚等(多)烷二醇單烷基醚類；乙酸乙二醇單甲基醚酯、乙酸乙二醇單乙基醚酯、二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯等乙酸(多)烷二醇單烷基醚酯類；二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚、四氫呋喃等其他醚類；甲乙酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等酮類；2-羥丙酸甲酯、2-羥丙酸乙酯等乳酸烷酯類；2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸正戊酯、乙酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧丁酸乙酯等其他酯類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等醯胺類等。此等有機溶劑可單獨使用，亦可將2種以上組合 使用。

上述有機溶劑之中，丙二醇單甲基醚、乙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、環己酮、乙酸3-甲氧基丁酯，可對於上述鹼可溶性樹脂、上述光聚合性單體、上述光聚合起始劑、及以上述通式(1)所示的化合物，顯示優異之溶解性，同時使上述著色劑的分散性良好，因此較佳；特佳是使用丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯。

有機溶劑的含量，較佳是使負型感光性樹脂組成物的固形份濃度成為1~50質量%之量，更佳是使負型感光性樹脂組成物的固形份濃度成為5~30質量%之量。

負型感光性樹脂組成物，可視需要而含有各種添加劑。作為添加劑，可列舉：敏化劑(sensitizer)、硬化促進劑、填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗凝劑、熱聚合抑制劑、消泡劑、界面活性劑等。

此種負型感光性樹脂組成物，是藉由以攪拌機將上述各成分混合所調配。再者，可使用膜過濾器等進行過濾，使所調配之負型感光性樹脂組成物成為均勻。

如上所述，已說明本發明。本發明之新穎的稠合多環式化合物，一面保持優異之光學特性及熱特性，一面相較於以往的稠合多環式化合物，具有較高的反應性。亦即，以往，針對樹脂或樹脂原料，為了賦予或改善耐熱性等熱特性、高折射率等光學特性，是採取下述方法：選擇單體成分、或 添加可對樹脂進行改質之化合物等。在此種背景下，開始逐漸使用稠合多環式化合物，例如，具有茀骨架(9,9-二苯基茀骨架等)之化合物。但是，以往的稠合多環式化合物，例如，茀系丙烯酸酯等以往的茀化合物，其反應性較低。根據本發明，可提供一種新穎的稠合多環式化合物、由上述稠合多環式化合物所構成之聚合性單體、及由上述稠合多環式化合物所構成之交聯劑，該稠合多環式化合物一面保持優異之光學特性及熱特性，一面具有較高的反應性。

[實施例]

以下例示實施例，進而具體說明本發明，但是本發明的範圍並未限定於此等實施例。

[合成例1]

將乙二醇(1.00g，0.0161mol)、三乙胺(3.42g，0.0338mol)、四氫呋喃(3.38mL)添加至25mL反應器中，進行氮氣置換後，冷卻至0℃為止。歷時2小時將甲磺醯氯(3.88g，0.0338mol)滴入，熟成1小時後，添加水使反應停止。添加乙酸乙酯至其中，將有機層分離，並以蒸發器(evaporator)將溶媒餾除，藉此，獲得甲磺醯基加成於乙二醇而成之化合物(以下述式所示的化合物，以下，亦稱為「EG-DMs」)，其產率80%。

(EG-DMs)¹H-NMR(CDCl₃)：3.10(s，6H)、4.47(s，4H)

[合成例2]

將6,6-(9-亞茀基)-2,2-二萘酚(以下述左邊的式所示的化合物，1.00g，0.0022mol，以下，亦稱為化合物2)、碳酸鉀(0.64g，0.0047mol)、四氫呋喃(3.38mL)添加至25mL反應器中，並進行氮氣置換。於室溫時將合成例1所合成之EG-DMs(1.02g，0.0047mol)的四氫呋喃(1.12mL)溶液，添加至其中後，升溫至60℃為止，並熟成15小時。以高效液相層析法(HPLC)對反應液進行分析之結果，確認合成出化合物3(以下述右側的式所示的化合物)，其化合物2的轉換率99%、選擇率65%。

(化合物3)¹H-NMR(CDCl₃)：3.08(s，6H)、4.32(t，4H，J=4.4Hz)、4.60(t，4H，J=4.4Hz)、7.05-7.83(m，20H)

[合成例3]

在20~40℃的範圍內，將三級丁醇鉀(1.45g，0.0130mol)的四氫呋喃(2.25mL)溶液，滴入已裝有化合物3(2.00g，0.00288mol)、二丙二醇二甲基醚(2.25mL)之25mL反應器中，並在100℃熟成2小時。以HPLC對反應液進行分析之結果，確認合成出9,9’-雙(6-乙烯氧基-2-萘基)茀(以下述左側的式所 示的化合物，以下，亦稱化合物1)，其化合物3的轉換率99%、選擇率58%，且合成出單乙烯基單甲磺醯基體(以下述右側的式所示的化合物，以下，亦稱化合物4)，其選擇率32%。

(化合物1)¹H-NMR(CDCl₃)：4.48(dd，2H，J=1.5Hz，6.5Hz)、4.81(dd，2H，J=1.5Hz，13.5Hz)、6.73(dd，2H，J=6.5Hz，13.5Hz)、7.13-7.83(m，20H)

(化合物4)¹H-NMR(CDCl₃)：3.10(s，3H)、4.34(t，2H，J=3.6Hz)、4.49(dd，1H，J=1.2Hz，5.2Hz)、4.62(t，2H，J=3.6Hz)、4.81(dd，1H，J=1.2Hz，11.2Hz)、6.73(dd，1H，J=5.2Hz，11.2Hz)、7.06-7.83(m，20H)

[合成例4]

將合成例3所得之反應液以水清洗後，在加熱減壓下進行乾燥，將殘留物溶解於甲苯中，並將其滴入至甲醇中進行再沉澱，而獲得化合物1的粗製物。藉由HPLC進行分析之結果，確認此粗製物中，化合物1的含量為90.9質量%，下述雜質1的含量為3.52質量%，下述雜質2的含量為2.47質量%，下述雜質3的含量為0.73質量%，其他雜質的含量為2.38質量%。

[合成例5]

將合成例4所得之粗製物供給至矽膠管柱層析法，實施分離精製，而獲得化合物1的精製物。藉由HPLC進行分析之結果，確認此精製物中，化合物1的含量為98.7質量%，雜質1的含量為0.09質量%，雜質2的含量為0.54質量%，下述雜質3的含量為0質量%，其他雜質的含量為0.67質量%。

[比較例1]

以與合成例1~4相同方式進行，而獲得粗製物，該粗製物之化合物1的含量為90.0質量%、雜質1的含量為3.0質量%。

[實施例1]

以與合成例5相同方式進行，自比較例1所得之粗製物，獲得精製物，該精製物之化合物1的含量為98.0質量%、雜質1的含量為0.5質量%。

[評估]

將實施例1所得之精製物或比較例1所得之粗製物，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯中，而調配固形份濃度20質量%之溶液。使用旋轉塗佈機(spin coater)將此溶液塗佈於玻璃基板上，並以100℃進行預烤120秒，而形成乾燥塗膜(膜厚2.0μm)。將此乾燥塗膜以230℃焙燒20分鐘，而獲得焙燒膜(膜厚1.7μm)。

為了評估上述焙燒膜的耐熱性，將此焙燒膜從室溫(約20℃)以1分鐘10℃的速率升溫加熱，並在大氣中進行熱重量分析，以分析開始時的質量作為基準，測定質量減少1%之溫度T_d1%或減少5%之溫度T_d5%。結果表示於表1。

從表1可知，自實施例1的精製物獲得之焙燒膜，其耐熱性良好。相對於此，相較於自實施例1的精製物獲得之焙燒膜，自比較例1的粗製物獲得之焙燒膜之耐熱性較差。

[實施例2]

將實施例1所得之精製物與化合物2混合，而獲得組成物，該組成物以等莫耳含有化合物1和化合物2。

[比較例2]

將比較例1所得之粗製物與化合物2混合，而獲得組成物，該組成物以等莫耳含有化合物1和化合物2。

[耐熱性評估]

將實施例2或比較例2所得之組成物，溶解於丙二醇單甲基醚乙酸酯中，而調配固形份濃度20質量%之溶液。使用旋轉塗佈機將此溶液塗佈於玻璃基板上，以100℃進行預烤120秒，而形成乾燥塗膜(膜厚2.0μm)。將此乾燥塗膜以200℃、240℃、或400℃焙燒20分鐘，而獲得焙燒膜(膜厚1.7μm)。

為了評估上述焙燒膜的耐熱性，將此焙燒膜從室溫(約20℃)以1分鐘10℃的速率升溫加熱，並在大氣中進行熱重量分析，以分析開始時的質量作為基準，測定質量減少5%之溫度T_d5%。結果表示於表2。

[CF鍵結的峰值強度變化率評估]

以與上述耐熱性評估相同的方式進行，獲得焙燒膜(膜厚1.7μm)(焙燒溫度：240℃)。以CF₄氣體對此焙燒膜進行灰化處理。在灰化處理前後，測定焙燒膜的紅外線吸收光譜。以下述式計算CF鍵結的峰值強度變化率。結果表示於表2。

CF鍵結的峰值強度變化率(%)=(焙燒後的峰值強度-焙燒前的峰值強度)/焙燒前的峰值強度×100

從表2可知，由實施例2的組成物所得之焙燒膜，其耐熱性良好，又，在藉由CF₄氣體進行灰化處理前後，CF 鍵結的峰值強度並無變化。相對於此，由比較例2的組成物所得之焙燒膜，在焙燒溫度為200℃或240℃時，顯示與由實施例2的組成物所得之焙燒膜相同的耐熱性，但是焙燒溫度為400℃時，組成物炭化，而無法獲得焙燒膜。又，由比較例2的組成物所得之焙燒膜，在藉由CF₄氣體進行灰化處理前後，CF鍵結的峰值強度則增加5%。

Claims (16)

1. 一種下述通式(1)所示的含乙烯基之化合物的製造方法，其包含下述步驟：獲得含有以下述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物的步驟；及自前述粗製物將以下述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除的步驟；

   

   式中，W¹及W²獨立地表示以下述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，其中，W¹及W²並不同時為羥基；環Y¹及環Y²表示相同或不同的芳香族烴環；R表示單鍵、可具有取代基之亞甲基、可具有取代基且可在2個碳原子間包含雜原子之伸乙基、以-O-所示的基、以-NH-所示的基、或以-S-所示的基；R^3a及R^3b獨立地表示氰基、鹵素原子、或1價烴基；n1及n2獨立地表示0~4的整數；

   

   式中，環Z表示芳香族烴環；X表示單鍵或以-S-所示的基；R¹表示單鍵或碳數1~4之伸烷基；R²表示1價烴基、羥 基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、磺酸基、或是與1價烴基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、以-NHR^4c所示的基、或以-N(R^4d)₂所示的基中所含的碳原子鍵結的至少一部分氫原子經以1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、甲磺醯氧基、或磺酸基所取代而成之基；R^4a~R^4d獨立地表示1價烴基；m表示0以上的整數；

   

   式中，W⁵⁰及W⁵¹中的任一者表示以上述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，另一者表示以下述通式(21)所示的基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

   

   式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
2. 如請求項1所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，獲得粗製物的步驟是藉由在過渡元素化合物催化劑及無機鹼存在下，使以下述通式(13)所示的乙烯酯化合物，與以下述通式(3)所示的含羥基之化合物進行反應，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物；R⁶-CO-O-CH=CH₂ (13)式中，R⁶表示氫原子或有機基；

   

   式中，W³及W⁴獨立地表示以下述通式(4)所示的基或羥基，其中，W³及W⁴並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

   

   式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述。
3. 如請求項1所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，獲得粗製物的步驟是自以上述通式(3)所示的含羥基之化合物，經過以下述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含 有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物；

   

   式中，W⁵及W⁶獨立地表示以下述通式(6)所示的基或羥基，其中，W⁵及W⁶並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

   

   式中，E表示經以氯原子、溴原子、碘原子、甲磺醯氧基、三氟甲磺醯氧基、對甲苯磺醯氧基、或苯磺醯氧基所取代之碳數1~4之烷氧基；環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
4. 如請求項1所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，獲得粗製物的步驟是自以下述通式(7)所示的含羥烷氧基之化合物，經過以上述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物；

   

   式中，W⁷及W⁸獨立地表示以下述通式(8)所示的基或羥 基，其中，W⁷及W⁸並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

   

   式中，l表示1~4的整數；環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
5. 如請求項1~4中任一項所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，在藉由自前述粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除而獲得之精製物中，前述含羥乙氧基之化合物的量，相對於以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物，為1.5質量%以下。
6. 如請求項1~4中任一項所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，環Z為苯環或萘環。
7. 如請求項1~4中任一項所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其中，R¹為單鍵。
8. 如請求項1~4中任一項所述之含乙烯基之化合物的製造方法，其是自含有以前述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，藉由矽膠管柱層析法，將以前述通式(20)所示的含羥 乙氧基之化合物去除。
9. 一種下述通式(1)所示的含乙烯基之化合物的精製方法，其包含下述步驟：自含有以下述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，將以下述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除；

   

   式中，W¹及W²獨立地表示以下述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，其中，W¹及W²並不同時為羥基；環Y¹及環Y²表示相同或不同的芳香族烴環；R表示單鍵、可具有取代基之亞甲基、可具有取代基且可在2個碳原子間包含雜原子之伸乙基、以-O-所示的基、以-NH-所示的基、或以-S-所示的基；R^3a及R^3b獨立地表示氰基、鹵素原子、或1價烴基；n1及n2獨立地表示0~4的整數；

   

   式中，環Z表示芳香族烴環；X表示單鍵或以-S-所示的基；R¹表示單鍵或碳數1~4之伸烷基；R²表示1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、 鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、磺酸基、或是與1價烴基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、以-NHR^4c所示的基、或以-N(R^4d)₂所示的基中所含的碳原子鍵結的至少一部分氫原子經以1價烴基、羥基、以-OR^4a所示的基、以-SR^4b所示的基、醯基、烷氧羰基、鹵素原子、硝基、氰基、巰基、羧基、胺基、胺甲醯基、以-NHR^4c所示的基、以-N(R^4d)₂所示的基、(甲基)丙烯醯氧基、甲磺醯氧基、或磺酸基所取代而成之基；R^4a~R^4d獨立地表示1價烴基；m表示0以上的整數；

   

   式中，W⁵⁰及W⁵¹中的任一者表示以上述通式(2)所示的基、羥基、或(甲基)丙烯醯氧基，另一者表示以下述通式(21)所示的基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

   

   式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
10. 如請求項9所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其包含下述步驟：藉由在過渡元素化合物催化劑及無機鹼存在下，使以下述通式(13)所示的乙烯酯化合物，與以下述通式(3)所示的含羥基之化合物進行反應，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，且自前述粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除；R⁶-CO-O-CH=CH₂ (13)式中，R⁶表示氫原子或有機基；

    

    式中，W³及W⁴獨立地表示以下述通式(4)所示的基或羥基，其中，W³及W⁴並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

    

    式中，環Z、X、R¹、R²、及m是如上所述。
11. 如請求項9所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其包含下述步驟：自以上述通式(3)所示的含羥基之化合物，經過以下述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含有以上述通 式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，且自前述粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除；

    

    式中，W⁵及W⁶獨立地表示以下述通式(6)所示的基或羥基，其中，W⁵及W⁶並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

    

    式中，E表示經以氯原子、溴原子、碘原子、甲磺醯氧基、三氟甲磺醯氧基、對甲苯磺醯氧基、或苯磺醯氧基所取代之碳數1~4之烷氧基；環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
12. 如請求項9所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其包含下述步驟：自以下述通式(7)所示的含羥烷氧基之化合物，經過以上述通式(5)所示的含離去基之化合物，而獲得含有以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，且自前述粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除；

    

    式中，W⁷及W⁸獨立地表示以下述通式(8)所示的基或羥基，其中，W⁷及W⁸並不同時為羥基；環Y¹、環Y²、R、R^3a、R^3b、n1、及n2是如前所述；

    

    式中，l表示1~4的整數；環Z、X、R¹、R²、及m是如前所述。
13. 如請求項9~12中任一項所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其中，在藉由自前述粗製物將以上述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除而獲得之精製物中，前述含羥乙氧基之化合物的量，相對於以上述通式(1)所示的含乙烯基之化合物，為1.5質量%以下。
14. 如請求項9~12中任一項所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其中，環Z為苯環或萘環。
15. 如請求項9~12中任一項所述之含乙烯基之化合物的精 製方法，其中，R¹為單鍵。
16. 如請求項9~12中任一項所述之含乙烯基之化合物的精製方法，其是自含有以前述通式(1)所示的含乙烯基之化合物之粗製物，藉由矽膠管柱層析法，將以前述通式(20)所示的含羥乙氧基之化合物去除。