TWI683138B - 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置 - Google Patents

鐳射投射模組、深度相機和電子裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI683138B
TWI683138B TW108108331A TW108108331A TWI683138B TW I683138 B TWI683138 B TW I683138B TW 108108331 A TW108108331 A TW 108108331A TW 108108331 A TW108108331 A TW 108108331A TW I683138 B TWI683138 B TW I683138B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
lens
light
lenses
projection module
laser
Prior art date
Application number
TW108108331A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201939114A (zh
Inventor
韋怡
Original Assignee
大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201810201139.0A external-priority patent/CN108594449B/zh
Priority claimed from CN201810200425.5A external-priority patent/CN108508619B/zh
Application filed by 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司 filed Critical 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司
Publication of TW201939114A publication Critical patent/TW201939114A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI683138B publication Critical patent/TWI683138B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2033—LED or laser light sources
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/30—Collimators
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4296—Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with sources of high radiant energy, e.g. high power lasers, high temperature light sources
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/021—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B17/00—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor
    • G03B17/48—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus
    • G03B17/54—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus with projector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/42—Arrays of surface emitting lasers
    • H01S5/423—Arrays of surface emitting lasers having a vertical cavity
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50—Constructional details
    • H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)

Abstract

本申請公開了一種鐳射投射模組、深度相機和電子裝置。鐳射投射模組包括光源、準直元件及繞射光學元件。光源用於發射鐳射。準直元件用於準直鐳射。準直元件包括一個或複數透鏡，一個或複數透鏡設置在光源的發光光路上。繞射光學元件用於繞射準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案。

Description

鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
本申請涉及成像技術領域，特別涉及一種鐳射投射模組、深度相機和電子裝置。
鐳射投射模組由光源、準直元件和繞射光學元件(diffractive optical elements，DOE)組成。準直元件中一般包括有透鏡結構。
本申請實施方式提供一種鐳射投射模組、深度相機和電子裝置。
本申請實施方式的鐳射投射模組包括光源、準直元件及繞射光學元件；所述光源用於發射鐳射；所述準直元件用於準直所述鐳射，所述準直元件包括一個或複數透鏡，一個或複數所述透鏡設置在所述光源的發光光路上；所述繞射光學元件用於繞射所述準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案。
本申請實施方式的深度相機包括上述實施方式所述的鐳射投射模組、圖像採集器和處理器；所述圖像採集器用於採集經所述繞射光學元件後向目標空間中投射的鐳射圖案；所述處理器分別與所述鐳射投射模組、及所述圖像採集器連接，所述處理器用於處理所述鐳射圖案以獲得深度圖像。
本申請實施方式的電子裝置包括殼體及上述實施方式所述的深度相機，所述深度相機設置在所述殼體內並從所述殼體暴露以獲取深度圖像。
本申請實施方式的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或藉由本申請的實踐瞭解到。
下面詳細描述本申請的實施方式，所述實施方式的示例在附圖中示出，其中，相同或類似的標號自始至終表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面藉由參考附圖描述的實施方式係示例性的，僅用於解釋本申請的實施方式，而不能理解為對本申請的實施方式的限制。
在本申請的實施方式的描述中，需要理解的係，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”、“順時針”、“逆時針”等指示的方位或位置關係為基於附圖所示的方位或位置關係，僅係為了便於描述本申請的實施方式和簡化描述，而不係指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本申請的實施方式的限制。此外，術語“第一”、“第二”僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特徵可以明示或者隱含地包括一個或者複數所述特徵。在本申請的實施方式的描述中，“複數”的含義係兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。
在本申請的實施方式的描述中，需要說明的係，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“連接”、“連接”應做廣義理解，例如，可以係固定連接，也可以係可拆卸連接，或一體地連接；可以係機械連接，也可以係電連接或可以相互通訊；可以係直接連接，也可以藉由中間媒介間接連接，可以係兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關係。對於本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本申請的實施方式中的具體含義。
下文的公開提供了許多不同的實施方式或例子用來實現本申請的實施方式的不同結構。為了簡化本申請的實施方式的公開，下文中對特定例子的部件和設置進行描述。當然，它們僅僅為示例，並且目的不在於限制本申請。此外，本申請的實施方式可以在不同例子中重複參考數位和/或參考字母，這種重複係為了簡化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實施方式和/或設置之間的關係。此外，本申請的實施方式提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但係本領域普通技術人員可以意識到其他工藝的應用和/或其他材料的使用。
請參閱圖1，本申請實施方式的鐳射投射模組100包括光源40、準直元件50及繞射光學元件60。光源40用於發射鐳射。準直元件50用於準直鐳射。準直元件50包括一個或複數透鏡，一個或複數透鏡設置在光源40的發光光路上。繞射光學元件60用於繞射準直元件50準直後的鐳射以形成鐳射圖案。
請參閱圖1，在某些實施方式中，透鏡採用塑膠材質製成。
請參閱圖5，在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡。複數透鏡包括至少一個第一類透鏡和至少一個第二類透鏡。第一類透鏡採用玻璃材質製成，第二類透鏡採用塑膠材質製成。
請參閱圖1和圖6，在某些實施方式中，準直元件50包括第一透鏡51。第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第一入光面511為凹面，第一出光面512為凸面。
請參閱圖5，在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡，複數透鏡共軸依次設置在光源40的發光光路上。
請參閱圖1和圖7，在某些實施方式中，複數透鏡包括第一透鏡51和第二透鏡52。第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第二透鏡52包括相背的第二入光面521和第二出光面522。第一出光面512的頂點與第二入光面521的頂點抵觸。第一入光面511為凹面，第二出光面522為凸面。
請參閱圖7，在某些實施方式中，第一出光面512和第二入光面521均為凸面。
請參閱圖1和圖8，在某些實施方式中，複數透鏡包括第一透鏡51、第二透鏡52、及第三透鏡53。第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第二透鏡52包括相背的第二入光面521和第二出光面522。第三透鏡53包括相背的第三入光面531和第三出光面532。第三入光面531為凹面，第三出光面532為凸面。
請參閱圖8，在某些實施方式中，第一入光面511為凸面，第一出光面512為凹面。第二入光面521為凹面，第二出光面522為凹面。
請參閱圖8，在某些實施方式中，複數透鏡包括第一透鏡51、第二透鏡52、及第三透鏡53。第一透鏡51為第一類透鏡，第二透鏡52和第三透鏡53為第二類透鏡；或者第二透鏡52為第一類透鏡，第一透鏡51和第三透鏡53為第二類透鏡；或者第三透鏡53為第一類透鏡，第一透鏡51和第二透鏡52為第二類透鏡；或者第一透鏡51和第二透鏡52為第一類透鏡，第三透鏡53為第二類透鏡；或者第二透鏡52和第三透鏡53為第一類透鏡，第一透鏡51為第二類透鏡；或者第一透鏡51和第三透鏡53為第一類透鏡，第二透鏡52為第二類透鏡。
請參閱圖5和圖9，在某些實施方式中，複數透鏡包括四個透鏡。其中兩個透鏡為第一類透鏡，另外兩個透鏡為第二類透鏡；或者其中一個透鏡為第一類透鏡，另外三個透鏡為第二類透鏡；或者其中三個透鏡為第一類透鏡，另外一個透鏡為第二類透鏡。
請參閱圖5和圖10，在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡，複數透鏡依次設置在光源40的發光光路上。至少一個透鏡的光軸相對於其他透鏡的光軸偏移。
請參閱圖5和圖16，在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡。至少兩個透鏡的光心位於與第一方向垂直的同一平面上，第一方向為由光源40至繞射光學元件60的方向。
請參閱圖10和圖16，在某些實施方式中，至少一個透鏡的光軸與其他透鏡的光軸平行。
請參閱圖1，在某些實施方式中，光源40為垂直腔面發射鐳射器；或者光源40為邊發射鐳射器。
請參閱圖1和圖2，在某些實施方式中，光源40為邊發射鐳射器。光源40包括發光面41，發光面41朝向準直元件50。
請參閱圖1，在某些實施方式中，鐳射投射模組100還包括基板組件10和鏡筒20。鏡筒20設置在基板組件10上並與基板組件10共同形成收容腔21。光源40、準直元件50及繞射光學元件60均收容在收容腔21內。
請參閱圖1，在某些實施方式中，基板組件10包括基板11及承載在基板11上的電路板12。電路板12開設有過孔121，光源40承載在基板11上並收容在過孔121內。
請參閱圖19，本申請實施方式的深度相機400包括鐳射投射模組100、圖像採集器200和處理器300。圖像採集器200用於採集經繞射光學元件60後向目標空間中投射的鐳射圖案。處理器300分別與鐳射投射模組100、及圖像採集器200連接，處理器300用於處理鐳射圖案以獲得深度圖像。
請參閱圖20，本申請實施方式的電子裝置1000包括殼體500及深度相機400。深度相機400設置在殼體500內並從殼體500暴露以獲取深度圖像。
請參閱圖1，本申請實施方式的鐳射投射模組100包括基板組件10、鏡筒20、保護罩30、光源40、準直元件50、及繞射光學元件60。
基板組件10包括基板11及承載在基板11上的電路板12。基板11的材料可以為塑膠，例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯（Polyethylene Glycol Terephthalate，PET）、聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate，PMMA）、聚碳酸酯（Polycarbonate，PC）、聚醯亞胺（Polyimide，PI）中的任意一種或複數種。如此，基板11的品質較輕且具有足夠的支撐強度。電路板12可以係硬板、軟板或軟硬結合板。電路板12上開設有過孔121。光源40藉由過孔121固定在基板11上並與電路板12電連接。基板11上可以開設有散熱孔111，光源40或電路板12工作產生的熱量可以由散熱孔111散出，散熱孔111內還可以填充導熱膠，以進一步提高基板組件10的散熱性能。
鏡筒20設置在基板組件10上並與基板組件10共同形成收容腔21。光源40、準直元件50、及繞射光學元件60均收容在收容腔21內。準直元件50與繞射光學元件60依次設置在光源40的發光光路上。鏡筒20包括相背的頂部22及底部23。鏡筒20形成有貫穿頂部22及底部23的通孔24。底部23承載在基板組件10上，具體可藉由膠水固定在電路板12上。鏡筒20的內壁向通孔24的中心延伸有環形承載台25，繞射光學元件60承載在承載台25上。
保護罩30設置在頂部22上，保護罩30包括位於收容腔21內並與基板11相對的抵觸面31。保護罩30及承載台25分別從繞射光學元件60的相背兩側抵觸繞射光學元件60。抵觸面31為保護罩30的與繞射光學元件60相抵觸的表面。鐳射投射模組100利用保護罩30抵觸繞射光學元件60以使繞射光學元件60收容在收容腔21內，並防止繞射光學元件60沿出光方向脫落。
在某些實施方式中，保護罩30可由金屬材料製成，例如納米銀絲、金屬銀線、銅片等。保護罩30開設有透光孔32。透光孔32與通孔24對準。透光孔32用於出射繞射光學元件60投射的鐳射圖案。透光孔32的孔徑大小小於繞射光學元件60的寬度或長度中的至少一個以將繞射光學元件60限制在收容腔21內。
在某些實施方式中，保護罩30可由透光材料製成，例如玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate，PMMA）、聚碳酸酯（Polycarbonate，PC）、聚醯亞胺（Polyimide，PI）等。由於玻璃、PMMA、PC、及PI等透光材料均具有優異的透光性能，保護罩30可以不用開設透光孔32。如此，保護罩30能夠在防止繞射光學元件60脫落的同時，避免繞射光學元件60裸露在鏡筒20的外面，對繞射光學元件60起到防水、防塵的作用。
光源40用於發射鐳射。光源40可以係垂直腔面發射鐳射器(Vertical Cavity Surface Emitting Laser，VCSEL)或者邊發射鐳射器（edge-emitting laser，EEL）。在如圖1所示的實施例中，光源40為邊發射鐳射器，具體地，光源40可以為分佈回饋式鐳射器（Distributed Feedback Laser，DFB）。光源40用於向收容腔21內發射鐳射。請結合圖2，光源40整體呈柱狀，光源40遠離基板組件10的一個端面形成發光面41，鐳射從發光面41發出，發光面41朝向準直元件50且發光面41與準直元件50的準直光軸垂直，準直光軸穿過發光面51的中心。光源40固定在基板組件10上，具體地，光源40可以藉由封膠70粘結在基板組件10上，例如光源40的與發光面41相背的一面粘接在基板組件10上。請結合圖1和圖3，光源40的側面42也可以粘接在基板組件10上，封膠70包裹住四周的側面42，也可以僅粘結側面42的某一個面與基板組件10或粘結某幾個面與基板組件10。此時封膠70可以為導熱膠，以將光源40工作產生的熱量傳導至基板組件10中。
上述的鐳射投射模組100的光源40採用邊發射鐳射器，一方面邊發射鐳射器較VCSEL陣列的溫漂較小，另一方面，由於邊發射鐳射器為單點發光結構，無需設計陣列結構，製作簡單，鐳射投射模組100的光源40成本較低。
分佈回饋式鐳射器的鐳射在傳播時，經過光柵結構的回饋獲得功率的增益。要提高分佈回饋式鐳射器的功率，需要藉由增大注入電流和/或增加分佈回饋式鐳射器的長度，由於增大注入電流會使得分佈回饋式鐳射器的功耗增大並且出現發熱嚴重的問題，因此，為了保證分佈回饋式鐳射器能夠正常工作，需要增加分佈回饋式鐳射器的長度，導致分佈回饋式鐳射器一般呈細長條結構。當邊發射鐳射器的發光面41朝向準直元件50時，邊發射鐳射器呈豎直放置，由於邊發射鐳射器呈細長條結構，邊發射鐳射器容易出現跌落、移位或晃動等意外，因此藉由設置封膠70能夠將邊發射鐳射器固定住，防止邊發射鐳射器發生跌落、位移或晃動等意外。
在某些實施方式中，光源40也可以採用如圖4所示的固定方式固定在基板組件10上。具體地，鐳射投射模組100包括複數支撐塊80，支撐塊80可以固定在基板組件10上，複數支撐塊80共同包圍光源40，在安裝時可以將光源40直接安裝在複數支撐塊80之間。在一個例子中，複數支撐塊80共同夾持光源40，以進一步防止光源40發生晃動。
準直元件50用於準直光源40發射的鐳射。準直元件50固定在鏡筒20上，承載台25位於準直元件50與繞射光學元件60之間。準直元件50包括一個或複數透鏡，一個或複數透鏡設置在光源40的發光光路上。請參閱圖1，在一個實施方式中，該一個或複數透鏡可採用塑膠材質製成。由於準直元件50的透鏡均由塑膠材質製成，成本較低、便於量產。請參閱圖5，在另一個實施方式中，準直元件50包括複數透鏡，複數透鏡設置在光源40的發光光路上。複數透鏡包括至少一個第一類透鏡和至少一個第二類透鏡。第一類透鏡採用玻璃材質製成，第二類透鏡採用塑膠材質製成。由於第一類透鏡採用玻璃材質製成，解決了環境溫度變化時透鏡會產生溫漂現象的問題；第二類透鏡採用塑膠材質製成，成本較低、便於量產。
請一併參閱圖1及圖6，在某些實施方式中，準直元件50可僅包括第一透鏡51，第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第一入光面511為第一透鏡51靠近光源40的表面，第一出光面512為第一透鏡51靠近繞射光學元件60的表面。第一入光面511為凹面，第一出光面512為凸面。第一透鏡51的面型可以為非球面、球面、菲涅爾面、或二元光學面。光闌設置在光源40與第一透鏡51之間，用於對光束起限制作用。
在某些實施方式中，準直元件50可包括複數透鏡，複數透鏡共軸依次設置在光源40的發光光路上。每個透鏡的面型可以為非球面、球面、菲涅爾面、二元光學面中的任意一種。
例如：請一併參閱圖1及圖7，複數透鏡可包括第一透鏡51和第二透鏡52。第一透鏡51和第二透鏡52共軸依次設置在光源40的發光光路上。第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第一入光面511為第一透鏡51靠近光源40的表面，第一出光面512為第一透鏡51靠近繞射光學元件60的表面。第二透鏡52包括相背的第二入光面521和第二出光面522。第二入光面521為第二透鏡52靠近光源40的表面，第二出光面522為第二透鏡52靠近繞射光學元件60的表面。第一出光面512的頂點與第二入光面521的頂點抵觸，第一入光面511為凹面，第二出光面522為凸面。光闌設置在第二入光面521上，用於對光束起限制作用。進一步地，第一出光面512和第二入光面521可均為凸面。如此，便於第一出光面512的頂點與第二入光面521的頂點抵觸。第一出光面512的曲率半徑小於第二入光面521的曲率。
在圖7所示的準直元件50中，第一透鏡51為第一類透鏡，第二透鏡52為第二類透鏡，即，第一透鏡51採用玻璃材質製成，第二透鏡52採用塑膠材質製成；或者，第二透鏡52為第一類透鏡，第一透鏡51為第二類透鏡；即，第二透鏡52採用玻璃材質製成，第一透鏡51採用塑膠材質製成。
請一併參閱圖1及圖8，複數透鏡還可包括第一透鏡51、第二透鏡52、及第三透鏡53。第一透鏡51、第二透鏡52、及第三透鏡53共軸依次設置在光源40的發光光路上。第一透鏡51包括相背的第一入光面511和第一出光面512。第一入光面511為第一透鏡51靠近光源40的表面，第一出光面512為第一透鏡51靠近繞射光學元件60的表面。第二透鏡52包括相背的第二入光面521和第二出光面522。第二入光面521為第二透鏡52靠近光源40的表面，第二出光面522為第二透鏡52靠近繞射光學元件60的表面。第三透鏡53包括相背的第三入光面531和第三出光面532。第三入光面531為第三透鏡53靠近光源40的表面，第三出光面532為第三透鏡53靠近繞射光學元件60的表面。第三入光面531為凹面，第三出光面532為凸面。光闌設置在第三出光面532上，用於對光束起限制作用。進一步地，第一入光面511可為凸面，第一出光面512為凹面，第二入光面521為凹面，第二出光面522為凹面。
在圖8所示的準直元件50中，第一透鏡51為第一類透鏡，第二透鏡52和第三透鏡53為第二類透鏡；或者，第二透鏡52為第一類透鏡，第一透鏡51和第三透鏡53為第二類透鏡；或者，第三透鏡53為第一類透鏡，第一透鏡51和第二透鏡52為第二類透鏡；或者，第一透鏡51和第二透鏡52為第一類透鏡，第三透鏡53為第二類透鏡；或者，第二透鏡52和第三透鏡53為第一類透鏡，第一透鏡51為第二類透鏡；或者，第一透鏡51和第三透鏡53為第一類透鏡，第二透鏡52為第二類透鏡。
請一併參閱圖5及圖9，複數透鏡還可包括第一透鏡51、第二透鏡52、第三透鏡53、及第四透鏡54。其中兩個透鏡為第一類透鏡，另外兩個透鏡為第二類透鏡，例如，第一透鏡51和第二透鏡52為第一類透鏡，第三透鏡53和第四透鏡54為第二類透鏡；或者其中一個透鏡為第一類透鏡，另外三個透鏡為第二類透鏡，例如，第一透鏡51為第一類透鏡，第二透鏡52、第三透鏡53、及第四透鏡54為第二類透鏡；或者其中三個透鏡為第一類透鏡，另外一個透鏡為第二類透鏡，例如，第一透鏡51、第二透鏡52、及第三透鏡53為第一類透鏡，第四透鏡54為第二類透鏡。
當然，在其他例子中，複數透鏡可包括更多數量的透鏡，只需滿足複數透鏡包括至少一個第一類透鏡和至少一個第二類透鏡即可。
在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡。複數透鏡依次設置在光源40的發光光路上，至少一個透鏡的光軸相對於其他透鏡的光軸偏移。此時，鏡筒20的結構可呈一段或複數段結構，每段結構用於安裝對應的透鏡。
例如：請一併參閱圖10至圖14，準直元件50包括第一透鏡51、第二透鏡52和第三透鏡53。第一透鏡51、第二透鏡52和第三透鏡53依次設置在光源40的發光光路上。第二透鏡52的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第一透鏡51的光軸與第三透鏡53的光軸重合（如圖10所示），進一步地，第二透鏡52的光軸可與第一透鏡51的光軸平行，此時，鏡筒20的結構可呈兩段結構，第一段結構26用於安裝第一透鏡51與第二透鏡52，第二段結構27用於安裝第三透鏡53，第一段結構26與第二段結構27傾斜相接，第二透鏡52安裝在第一段結構26與第二段結構27的相接處，如此，複數透鏡形成彎折形的結構有利於增加光程，從而減小鐳射投射模組100整體的高度，第一段結構26和第二段結構27的內壁塗布有反射塗層，反射塗層用於反射光線，以使得光源40發射的光線能夠依次經過第一入光面511、第一出光面512、第二入光面521、第二出光面522、第三入光面531、以及第三出光面532；當然，在其他實施方式中，第一段結構26和第二段結構27也可為獨立於鏡筒20的反射元件，反射元件設置在鏡筒20上，反射元件為棱鏡或面鏡等，反射元件用於反射光線以改變光路的方向；或者，第一透鏡51的光軸相對於第二透鏡52的光軸偏移，第二透鏡52的光軸與第三透鏡53的光軸重合（如圖11所示），進一步地，第一透鏡51的光軸可與第二透鏡52的光軸平行；或者，第三透鏡53的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第一透鏡51的光軸與第二透鏡52的光軸重合（如圖12所示），進一步地，第三透鏡53的光軸可與第一透鏡51的光軸平行；或者，第二透鏡52的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第三透鏡53的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第二透鏡52的光軸和第三透鏡53的光軸位於第一透鏡51的光軸的同側（如圖13所示），進一步地，第一透鏡51的光軸可與第二透鏡52的光軸平行，第一透鏡51的光軸與第三透鏡53的光軸平行，第二透鏡52的光軸與第三透鏡53的光軸平行；或者，第二透鏡52的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第三透鏡53的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第二透鏡52的光軸和第三透鏡53的光軸位於第一透鏡51的光軸的異側（如圖14所示），進一步地，第一透鏡51的光軸可與第二透鏡52的光軸平行，第一透鏡51的光軸與第三透鏡53的光軸平行，第二透鏡52的光軸與第三透鏡53的光軸平行。
較佳地，第二透鏡52的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第三透鏡53的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第二透鏡52的光軸和第三透鏡53的光軸位於第一透鏡51的光軸的異側。如此，複數透鏡形成彎折形的結構有利於增加光程，增長焦距，降低鐳射投射模組100的高度。當然，準直元件50也可以包括更多數量的透鏡，例如，請參閱圖15，準直元件50包括第一透鏡51、第二透鏡52、第三透鏡53、第四透鏡54、第五透鏡55、及第六透鏡56。第一透鏡51、第二透鏡52、第三透鏡53、第四透鏡54、第五透鏡55、及第六透鏡56依次設置在光源40的發光光路上。第二透鏡52的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第三透鏡53的光軸相對於第一透鏡51的光軸偏移，第二透鏡52的光軸和第三透鏡53的光軸位於第一透鏡51的光軸的異側，第四透鏡54的光軸與第二透鏡52的光軸重合，第五透鏡55的光軸與第三透鏡53的光軸重合，第六透鏡56的光軸與第一透鏡51的光軸重合。
需要指出的係，在圖11至圖15所示的鐳射投射模組100中，鏡筒20的結構與圖10所示的鏡筒20的結構相同或類似，鏡筒20的結構可呈一段或複數段結構，在此不再贅述。
在某些實施方式中，準直元件50包括複數透鏡，至少兩個透鏡的光心位於與第一方向垂直的同一平面上，第一方向為由光源40至繞射光學元件60的方向。
例如：請一併參閱圖16至圖18，準直元件50包括第一透鏡51、第二透鏡52和第三透鏡53。第一透鏡51的光心與第二透鏡52的光心位於同一平面上（如圖16所示），第一透鏡51的光軸和第二透鏡52的光軸可位於第三透鏡53的光軸的異側；或者，第二透鏡52的光心與第三透鏡53的光心位於同一平面上（如圖17所示），第二透鏡52的光軸和第三透鏡53的光軸可位於第一透鏡51的光軸的異側；或者，第一透鏡51的光心與第三透鏡53的光心位於同一平面上；或者，第一透鏡51的光心、第二透鏡52的光心、與第三透鏡53的光心均位於同一平面上（如圖18所示）。進一步地，第一透鏡51的光軸可與第二透鏡52的光軸平行，第一透鏡51的光軸與第三透鏡53的光軸平行，第二透鏡52的光軸與第三透鏡53的光軸平行。
請再次參閱圖1，繞射光學元件60用於繞射準直元件50準直後的鐳射以形成鐳射圖案。繞射光學元件60包括相背的繞射出射面61和繞射入射面62。保護罩30可以藉由膠水粘貼在頂部22上，抵觸面31與繞射出射面61抵觸，繞射入射面62與承載台25抵觸，從而繞射光學元件60不會沿出光方向從收容腔21脫落。繞射光學元件60可以由玻璃材質製成，也可以由複合塑膠（如PET）製成。
在組裝上述的鐳射投射模組100時，沿著光路從鏡筒20的底部23依次向通孔24內放入準直元件50、及安裝好光源40的基板組件10。光源40可以先安裝在基板組件10上，然後再將安裝有光源40的基板組件10與底部23固定。逆著光路的方向從頂部22將繞射光學元件60放入通孔24並承載在承載台25上，然後再安裝保護罩30，並使得繞射光學元件60的繞射出射面61與保護罩30抵觸，繞射入射面62與承載台25抵觸。鐳射投射模組100結構簡單，組裝方便。
請參閱圖19，本申請實施方式的深度相機400包括上述任一實施方式的鐳射投射模組100、圖像採集器200、及處理器300。圖像採集器200用於採集經繞射光學元件50後向目標空間中投射的鐳射圖案。處理器300分別與鐳射投射模組100、及圖像採集器200連接。處理器300用於處理鐳射圖案以獲得深度圖像。
具體地，鐳射投射模組100藉由投射視窗401向外投射向目標空間中投射的鐳射圖案，圖像採集器200藉由採集視窗402採集被目標物體調製後的鐳射圖案。圖像採集器200可為紅外相機，處理器300採用圖像匹配演算法計算出該鐳射圖案中各畫素點與參考圖案中的對應各個畫素點的偏離值，再根據該偏離值進一步獲得該鐳射圖案的深度圖像。其中，圖像匹配演算法可為數位圖像相關（Digital Image Correlation，DIC）演算法。當然，也可以採用其它圖像匹配演算法代替DIC演算法。
請參閱圖20，本申請實施方式的電子裝置1000包括殼體500及上述實施方式的深度相機400。深度相機400設置在殼體500內並從殼體500暴露以獲取深度圖像。電子裝置1000包括但不限於為手機、平板電腦、筆記型電腦、智慧手環、智慧手錶、智能頭盔、智能眼鏡等。
在本說明書的描述中，參考術語“一個實施方式”、“一些實施方式”、“示意性實施方式”、“示例”、“具體示例”或“一些示例”等的描述意指結合所述實施方式或示例描述的具體特徵、結構、材料或者特點包含於本申請的至少一個實施方式或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的係相同的實施方式或示例。而且，描述的具體特徵、結構、材料或者特點可以在任何的一個或複數實施方式或示例中以合適的方式結合。
儘管上面已經示出和描述了本申請的實施方式，可以理解的係，上述實施方式係示例性的，不能理解為對本申請的限制，本領域的普通技術人員在本申請的範圍內可以對上述實施方式進行變化、修改、替換和變型。
100‧‧‧鐳射投射模組 10‧‧‧基板組件 11‧‧‧基板 111‧‧‧散熱孔 12‧‧‧電路板 121‧‧‧過孔 20‧‧‧鏡筒 21‧‧‧收容腔 22‧‧‧頂部 23‧‧‧底部 24‧‧‧通孔 25‧‧‧承載台 26‧‧‧第一段結構 27‧‧‧第二段結構 30‧‧‧保護罩 31‧‧‧抵觸面 32‧‧‧透光孔 40‧‧‧光源 41‧‧‧發光面 42‧‧‧側面 50‧‧‧準直元件 51‧‧‧第一透鏡 511‧‧‧第一入光面 512‧‧‧第一出光面 52‧‧‧第二透鏡 521‧‧‧第二入光面 522‧‧‧第二出光面 53‧‧‧第三透鏡 531‧‧‧第三入光面 532‧‧‧第三出光面 54‧‧‧第四透鏡 55‧‧‧第五透鏡 56‧‧‧第六透鏡 60‧‧‧繞射光學元件 61‧‧‧繞射出射面 62‧‧‧繞射入射面 70‧‧‧封膠 80‧‧‧支撐塊 200‧‧‧圖像採集器 300‧‧‧處理器 400‧‧‧深度相機 401‧‧‧投射窗口 402‧‧‧採集窗口 500‧‧‧殼體 1000‧‧‧電子裝置
本申請的上述和/或附加的方面和優點可以從結合下面附圖對實施方式的描述中將變得明顯和容易理解，其中： 圖1係本申請某些實施方式的鐳射投射模組的結構示意圖； 圖2至圖4係本申請某些實施方式的鐳射投射模組的部分結構示意圖； 圖5係本申請某些實施方式的鐳射投射模組的結構示意圖； 圖6至圖18係本申請某些實施方式的鐳射投射模組的準直元件的部分結構示意圖； 圖19係本申請某些實施方式的深度相機的結構示意圖； 圖20係本申請某些實施方式的電子裝置的結構示意圖。
100‧‧‧鐳射投射模組
10‧‧‧基板組件
11‧‧‧基板
111‧‧‧散熱孔
12‧‧‧電路板
121‧‧‧過孔
20‧‧‧鏡筒
21‧‧‧收容腔
22‧‧‧頂部
23‧‧‧底部
24‧‧‧通孔
25‧‧‧承載台
30‧‧‧保護罩
31‧‧‧抵觸面
32‧‧‧透光孔
40‧‧‧光源
50‧‧‧準直元件
60‧‧‧繞射光學元件
61‧‧‧繞射出射面
62‧‧‧繞射入射面

Claims (19)

  1. 一種鐳射投射模組，其改進在於，包括：光源，所述光源用於發射鐳射；準直元件，所述準直元件用於準直所述鐳射，所述準直元件包括複數透鏡，複數所述透鏡依次設置在所述光源的發光光路上，至少一個所述透鏡的光軸相對於其他所述透鏡的光軸偏移；及繞射光學元件，所述繞射光學元件用於繞射所述準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案。
  2. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述透鏡採用塑膠材質製成。
  3. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述準直元件包括複數所述透鏡，複數所述透鏡包括至少一個第一類透鏡和至少一個第二類透鏡，所述第一類透鏡採用玻璃材質製成，所述第二類透鏡採用塑膠材質製成。
  4. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述準直元件包括第一透鏡，所述第一透鏡包括相背的第一入光面和第一出光面，所述第一入光面為凹面，所述第一出光面為凸面。
  5. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述準直元件包括複數透鏡，複數所述透鏡共軸依次設置在所述光源的發光光路上。
  6. 根據專利申請範圍第5項所述的鐳射投射模組，其中，複數所述透鏡包括第一透鏡和第二透鏡，所述第一透鏡包括相背的第一入光面和第一出光面，所述第二透鏡包括相背的第二入光面和第二出光面，所述第一出光面的頂 點與所述第二入光面的頂點抵觸，所述第一入光面為凹面，所述第二出光面為凸面。
  7. 根據專利申請範圍第6項所述的鐳射投射模組，其中，所述第一出光面和所述第二入光面均為凸面。
  8. 根據專利申請範圍第5項所述的鐳射投射模組，其中，複數所述透鏡包括第一透鏡、第二透鏡、及第三透鏡，所述第一透鏡包括相背的第一入光面和第一出光面，所述第二透鏡包括相背的第二入光面和第二出光面，所述第三透鏡包括相背的第三入光面和第三出光面，所述第三入光面為凹面，所述第三出光面為凸面。
  9. 根據專利申請範圍第8項所述的鐳射投射模組，其中，所述第一入光面為凸面，所述第一出光面為凹面，所述第二入光面為凹面，所述第二出光面為凹面。
  10. 根據專利申請範圍第3項所述的鐳射投射模組，其中，複數所述透鏡包括第一透鏡、第二透鏡、及第三透鏡，所述第一透鏡為所述第一類透鏡，所述第二透鏡和所述第三透鏡為所述第二類透鏡；或者所述第二透鏡為所述第一類透鏡，所述第一透鏡和所述第三透鏡為所述第二類透鏡；或者所述第三透鏡為所述第一類透鏡，所述第一透鏡和所述第二透鏡為所述第二類透鏡；或者所述第一透鏡和所述第二透鏡為所述第一類透鏡，所述第三透鏡為所述第二類透鏡；或者所述第二透鏡和所述第三透鏡為所述第一類透鏡，所述第一透鏡為所述第二類透鏡；或者所述第一透鏡和所述第三透鏡為所述第一類透鏡，所述第二透鏡為所述第二類透鏡。
  11. 根據專利申請範圍第3項所述的鐳射投射模組，其中，複數所述透鏡包括四個透鏡， 其中兩個所述透鏡為所述第一類透鏡，另外兩個所述透鏡為所述第二類透鏡；或者其中一個所述透鏡為所述第一類透鏡，另外三個所述透鏡為所述第二類透鏡；或者其中三個所述透鏡為所述第一類透鏡，另外一個所述透鏡為所述第二類透鏡。
  12. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述準直元件包括複數透鏡，至少兩個所述透鏡的光心位於與第一方向垂直的同一平面上，所述第一方向為由所述光源至所述繞射光學元件的方向。
  13. 根據專利申請範圍第1項或第12項所述的鐳射投射模組，其中，至少一個所述透鏡的光軸與其他所述透鏡的光軸平行。
  14. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述光源為垂直腔面發射鐳射器；或者所述光源為邊發射鐳射器。
  15. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述光源為邊發射鐳射器，所述光源包括發光面，所述發光面朝向所述準直元件。
  16. 根據專利申請範圍第1項所述的鐳射投射模組，其中，所述鐳射投射模組還包括基板組件和鏡筒，所述鏡筒設置在所述基板組件上並與所述基板組件共同形成收容腔，所述光源、所述準直元件及所述繞射光學元件均收容在所述收容腔內。
  17. 根據專利申請範圍第16項所述的鐳射投射模組，其中，所述基板組件包括基板及承載在所述基板上的電路板，所述電路板開設有過孔，所述光源承載在所述基板上並收容在所述過孔內。
  18. 一種深度相機，其改進在於，包括：專利申請範圍第1項至第17項中任意一項所述的鐳射投射模組；圖像採集器，所述圖像採集器用於採集經所述繞射光學元件後向目標空間中投射的鐳射圖案；和 分別與所述鐳射投射模組、及所述圖像採集器連接的處理器，所述處理器用於處理所述鐳射圖案以獲得深度圖像。
  19. 一種電子裝置，其改進在於，包括：殼體；及專利申請範圍第18項所述的深度相機，所述深度相機設置在所述殼體內並從所述殼體暴露以獲取深度圖像。
TW108108331A 2018-03-12 2019-03-12 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置 TWI683138B (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
??201810201139.0 2018-03-12
??201810200425.5 2018-03-12
CN201810201139.0A CN108594449B (zh) 2018-03-12 2018-03-12 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN201810200425.5A CN108508619B (zh) 2018-03-12 2018-03-12 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN201810200425.5 2018-03-12
CN201810201139.0 2018-03-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201939114A TW201939114A (zh) 2019-10-01
TWI683138B true TWI683138B (zh) 2020-01-21

Family

ID=67908624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108108331A TWI683138B (zh) 2018-03-12 2019-03-12 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10962870B2 (zh)
EP (1) EP3567426B1 (zh)
TW (1) TWI683138B (zh)
WO (1) WO2019174433A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10890732B2 (en) * 2018-01-04 2021-01-12 Ningbo Vasa Intelligent Technology Co., Ltd. Lens, lens holder component and strobe lamp

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201514544A (zh) * 2013-10-09 2015-04-16 Microsoft Corp 發射結構光的照明模組
CN206833136U (zh) * 2017-06-14 2018-01-02 深圳奥比中光科技有限公司 投影模组及深度相机
CN107741682A (zh) * 2017-10-20 2018-02-27 深圳奥比中光科技有限公司 光源投影装置
CN107783258A (zh) * 2017-12-04 2018-03-09 浙江舜宇光学有限公司 投影镜头

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4241990A (en) * 1979-03-05 1980-12-30 Xerox Corporation Multi-purpose optical data processor
US6158659A (en) * 1994-08-17 2000-12-12 Metrologic Instruments, Inc. Holographic laser scanning system having multiple laser scanning stations for producing a 3-D scanning volume substantially free of spatially and temporally coincident scanning planes
US6016202A (en) * 1997-06-30 2000-01-18 U.S. Philips Corporation Method and apparatus for measuring material properties using transient-grating spectroscopy
JP3878758B2 (ja) * 1998-12-04 2007-02-07 浜松ホトニクス株式会社 空間光変調装置
US6814288B2 (en) * 2000-11-17 2004-11-09 Symbol Technologies, Inc. Beam shaping system and diverging laser beam for scanning optical code
JP4016667B2 (ja) * 2002-02-15 2007-12-05 ヤマハ株式会社 光ディスク装置、フォーカス制御方法およびプログラム
US20050078383A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Jones Edward L. Plastic, thermally stable, laser diode coupler
US7253936B2 (en) * 2004-03-26 2007-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Laser scanning unit
US20060086898A1 (en) * 2004-10-26 2006-04-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus of making highly repetitive micro-pattern using laser writer
US20070019103A1 (en) * 2005-07-25 2007-01-25 Vkb Inc. Optical apparatus for virtual interface projection and sensing
US20160357094A1 (en) * 2005-11-23 2016-12-08 Fusao Ishii Optics of projecor
EP1993781A4 (en) * 2006-02-03 2016-11-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd METHOD FOR MANUFACTURING MEMORY ELEMENT, LASER IRRADIATION APPARATUS, AND LASER IRRADIATION METHOD
JP4022246B1 (ja) 2007-05-09 2007-12-12 マイルストーン株式会社 撮像レンズ
CN100464697C (zh) 2007-06-27 2009-03-04 浙江大学 用于oct平衡探测的透射式快速光学扫描延迟线
JP5169337B2 (ja) * 2008-03-11 2013-03-27 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 レーザビーム走査装置
US20120074110A1 (en) * 2008-08-20 2012-03-29 Zediker Mark S Fluid laser jets, cutting heads, tools and methods of use
JP5121771B2 (ja) * 2008-09-19 2013-01-16 三菱電機株式会社 光源ユニット、及び画像表示装置
KR20100048092A (ko) 2008-10-30 2010-05-11 삼성전기주식회사 줌 확대기
US8662675B2 (en) * 2010-07-09 2014-03-04 Texas Instruments Incorporated Compact image offset projection lens
WO2012082696A1 (en) * 2010-12-13 2012-06-21 University Of Virginia Patent Foundation Intuitive techniques and apparatus for ophthalmic imaging
JP5802109B2 (ja) * 2011-10-26 2015-10-28 浜松ホトニクス株式会社 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置
CN104423128A (zh) * 2013-09-04 2015-03-18 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 投影机
JP2015132666A (ja) * 2014-01-10 2015-07-23 三菱電機株式会社 光源光学系、光源装置およびプロジェクタ装置
WO2015148604A1 (en) * 2014-03-25 2015-10-01 Massachusetts Institute Of Technology Space-time modulated active 3d imager
CN104090356B (zh) * 2014-07-16 2019-05-07 山东理工大学 一种用于1 mm ×1 mm LED光源准直的光学系统
JP6270045B2 (ja) * 2014-08-21 2018-01-31 カシオ計算機株式会社 光源装置及び投影装置
US9784570B2 (en) * 2015-06-15 2017-10-10 Ultratech, Inc. Polarization-based coherent gradient sensing systems and methods
US20170075205A1 (en) 2015-09-13 2017-03-16 Apple Inc. Integrated light pipe for optical projection
JP2017059742A (ja) 2015-09-18 2017-03-23 株式会社デンソー 発光装置
JP2017120364A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 奇景光電股▲ふん▼有限公司 プロジェクタ、プロジェクタを有する電子機器及び関連する製造方法
JP6644563B2 (ja) * 2016-01-28 2020-02-12 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光照射装置
WO2017205063A1 (en) * 2016-05-27 2017-11-30 Verily Life Sciences Llc Systems and methods for surface topography acquisition using laser speckle
CN106569382B (zh) 2016-10-26 2018-07-06 深圳奥比中光科技有限公司 激光投影仪及其深度相机
DE102017205590B3 (de) 2017-04-03 2017-12-14 Asphericon Gmbh Justierbarer Faserkollimator und Verfahren zu dessen Montage
CN107424188B (zh) * 2017-05-19 2020-06-30 深圳奥比中光科技有限公司 基于vcsel阵列光源的结构光投影模组
CN107167997A (zh) * 2017-06-05 2017-09-15 深圳奥比中光科技有限公司 激光投影模组及深度相机
CN206877018U (zh) * 2017-07-07 2018-01-12 深圳奥比中光科技有限公司 结构紧凑的光学投影模组
CN107357123A (zh) 2017-07-27 2017-11-17 深圳奥比中光科技有限公司 含有菲涅尔透镜的激光投影装置
US10386706B2 (en) * 2017-09-15 2019-08-20 Himax Technologies Limited Structured-light projector
CN107608167A (zh) 2017-10-11 2018-01-19 深圳奥比中光科技有限公司 激光投影装置及其安全控制方法
CN108594449B (zh) * 2018-03-12 2020-01-10 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508619B (zh) * 2018-03-12 2020-01-10 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射模组、深度相机和电子装置
US10802291B1 (en) * 2018-03-21 2020-10-13 Apple Inc. Folded projection system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201514544A (zh) * 2013-10-09 2015-04-16 Microsoft Corp 發射結構光的照明模組
CN206833136U (zh) * 2017-06-14 2018-01-02 深圳奥比中光科技有限公司 投影模组及深度相机
CN107741682A (zh) * 2017-10-20 2018-02-27 深圳奥比中光科技有限公司 光源投影装置
CN107783258A (zh) * 2017-12-04 2018-03-09 浙江舜宇光学有限公司 投影镜头

Also Published As

Publication number Publication date
EP3567426A1 (en) 2019-11-13
EP3567426B1 (en) 2021-07-07
TW201939114A (zh) 2019-10-01
US20200233293A1 (en) 2020-07-23
EP3567426A4 (en) 2019-12-25
WO2019174433A1 (zh) 2019-09-19
US10962870B2 (en) 2021-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI702391B (zh) 繞射光學組件、鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
CN108303757B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108490628B (zh) 结构光投射器、深度相机和电子设备
US5742120A (en) Light-emmiting diode lamp with directional coverage for the emmitted light
CN108490631B (zh) 结构光投射器、图像获取结构和电子装置
TWI699611B (zh) 鐳射投射器、相機模組和電子裝置
WO2019233103A1 (zh) 衍射光学元件、光电模组、输入输出组件及电子设备
CN108415209B (zh) 结构光投射模组、摄像组件和电子装置
WO2019192240A1 (zh) 激光发射器、光电设备、深度相机和电子装置
TW201937243A (zh) 鐳射投射模組、深度相機及電子裝置
CN111694161A (zh) 光发射模组、深度相机及电子设备
CN108303756B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108490633A (zh) 结构光投射器、深度相机和电子设备
TWI683138B (zh) 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
CN108388065B (zh) 结构光投射器、光电设备和电子装置
WO2022233087A1 (zh) 一种复眼镜片模组、照明装置及dlp光机模组
CN108594449B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508619B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508623B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508618B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
TWI740280B (zh) 結構光投射裝置
CN108490595B (zh) 结构光投射模组、图像获取装置及电子设备
CN212435034U (zh) 一种激光器
JP2010238686A (ja) Ｌｅｄモジュール