CN107741682A - 光源投影装置 - Google Patents

光源投影装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107741682A
CN107741682A CN201710984017.9A CN201710984017A CN107741682A CN 107741682 A CN107741682 A CN 107741682A CN 201710984017 A CN201710984017 A CN 201710984017A CN 107741682 A CN107741682 A CN 107741682A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
light beam
spot
divergent beams
collimated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710984017.9A
Other languages
English (en)
Inventor
张丁军
许星
王兆民
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Orbbec Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Orbbec Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Orbbec Co Ltd filed Critical Shenzhen Orbbec Co Ltd
Priority to CN201710984017.9A priority Critical patent/CN107741682A/zh
Publication of CN107741682A publication Critical patent/CN107741682A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/208—Homogenising, shaping of the illumination light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种光源投影装置，包括：光源，用于发射发散光束；透镜系统，用于准直及扩束所述发散光束并发射出准直光束；衍射光学元件，接收所述准直光束并发射出结构光图案化光束；所述准直光束的截面尺寸大于所述发散光束入射到所述透镜系统的表面上形成的入射光斑的尺寸；所述准直光束具有不同的出射方向。通过合理设置了投影系统的结构，能够对光源发出的光束进行准直及扩束后发射出准直光束，而不是简单的聚焦，从而提高了投影的质量。

Description

光源投影装置
技术领域
本发明涉及电子及光学元器件制造领域，尤其涉及一种光源投影装置。
背景技术
随着智能设备对3D成像功能的迫切需求，深度相机将被越来越多的嵌入到智能设备中，这也要求深度相机向体积更小、性能更高的方向发展。微型激光投影仪是深度相机中的核心元器件之一，也是影响深度相机性能最为主要的因素。激光投影仪一般由激光光源、透镜以及其他光学元件构成，用于向空间中投影出光束。其中透镜通过对光源发出的光束进行调制，以使得光束能够聚集以提高投影质量，然而目前的透镜往往仅通过聚焦等方式对光束进行调制，难以达到高性能的投影效果。
发明内容
本发明为了解决透镜仅通过聚焦等方式对光束进行调制，难以达到高性能的投影效果问题，提供一种光源投影装置。
为了解决上述问题，本发明采用的技术方案如下所述：
一种光源投影装置，包括：光源，用于发射发散光束；透镜系统，用于准直及扩束所述发散光束并发射出准直光束；衍射光学元件，接收所述准直光束并发射出结构光图案化光束；所述准直光束的截面尺寸大于所述发散光束入射到所述透镜系统的表面上形成的入射光斑的尺寸；所述准直光束具有不同的出射方向。
本发明还提供一种光源投影装置，包括：光源阵列，包括至少两个子光源，用于发射阵列发散光束；透镜系统，包括入射面以及出射面，其中：所述入射面接收所述阵列发散光束，所述阵列发散光束在所述入射面上形成由入射光斑组成的入射光斑排列图案，所述入射光斑由单个所述发散光束形成，所述入射光斑排列图案的排布形式与所述光源阵列中子光源的排布对应；所述出射面向外发射与阵列发散光束对应的至少两个准直光束，所述至少两个准直光束在所述出射面上形成出射光斑，所述出射光斑的大小大于所述入射光斑的大小；所述光源投影装置还包括衍射光学元件，用于接收并衍射所述至少两个准直光束后发射出结构光图案化光束；所述光源阵列包括VCSEL阵列；所述入射面和/或出射面为曲面。所述至少两个准直光束具有不同的出射方向。
本发明还提供一种透镜系统，所述透镜系统包括入射面以及出射面，当由至少两个发散光束入射时：所述入射面接收所述至少两个发散光束，所述发散光束在所述入射面上形成入射光斑，至少两个所述入射光斑组成入射光斑排列图案；所述出射面向外发射与所述至少两个发散光束对应的至少两个准直光束，所述至少两个准直光束在所述出射面上形成出射光斑，所述出射光斑的大小大于所述入射光斑的大小；所述至少两准直光束具有不同的出射方向。
本发明的有益效果为：提供一种光源投影装置，合理设置了投影系统的结构，能够对光源发出的光束进行准直及扩束后发射出准直光束，而不是简单的聚焦，从而提高了投影的质量。
附图说明
图1是本发明实施例的基于结构光的深度相机侧面示意图。
图2是本发明实施例的光源投影模组的示意图。
图3是本发明实施例的投影模组光路示意图。
图4是本发明实施例的又一个投影模组光路示意图。
图5是本发明实施例的透镜系统入射与出射面光斑示意图。
图6是本发明实施例的又一个透镜系统入射与出射面光斑示意图。
图7是本发明实施例的透镜系统结构示意图。
其中，101-深度相机，102-处理器，103-主板，104-光源投影模组，105-采集模组，106-接口，107-RGB相机，108-进光窗口，201-投影模组，202-衍射光学元件，203-透镜，204-镜座，205-光源，206-底座，30-光源，31-发散光束，32-入射光斑，33-透镜系统，34-出射光斑，35-准直光束，36-衍射光学元件，37-视场，331-入射面，332-出射面，40-光源，401-子光源，41-发散光束，42-入射光斑，43-透镜系统，431-入射面，432-出射面，44-出射光斑，45-宽准直光束，46-衍射光学元件，47-视场，48-出射方向,70-光源，701-子光源，711-第一透镜，712-第二透镜，713-第三透镜。
具体实施方式
下面结合附图通过具体实施例对本发明进行详细的介绍，以使更好的理解本发明，但下述实施例并不限制本发明范围。另外，需要说明的是，下述实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构思，附图中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形状、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。
本发明提出一种光源投影装置。在后面的说明中将以深度相机的投影模组为例进行说明，但并不意味着这种方案仅能应用在深度相机中，任何其他装置中凡是直接或间接利用该方案都应被包含在本发明的保护范围中。
深度相机
图1所示的基于结构光的深度相机侧面示意图。深度相机101主要组成部件有光源投影模组104、采集模组105、主板103以及处理器102，在一些深度相机中还配备了RGB相机107。光源投影模组104、采集模组105以及RGB相机107一般被安装在同一个深度相机平面上，且处于同一条基线，每个模组或相机都对应一个进光窗口108。一般地，处理器102被集成在主板103上，而光源投影模组104与采集模型105通过接口106与主板连接，在一种实施例中所述的接口为FPC接口。其中，光源投影模组用于向目标空间中投射经编码的结构光图案化光束，采集模组采集到该结构光图案后通过处理器的处理从而得到目标空间的深度图像。在一个实施例中，结构光图案为红外散斑图案，图案具有颗粒分布相对均匀但具有很高的局部不相关性，这里的局部不相关性指的是图案中各个子区域都具有较高的唯一性，此时采集模组105为对应的红外相机。结构光图案也可以是条纹、二维图案等其他形式。
基于时间飞行法原理(TOF)的深度相机的主要组成部分也是投影模组与采集模组，与结构光原理的深度相机不同的是其投影模组用于发射记时的光脉冲，采集模组采集到该光脉冲后就可以得到光在空间中的飞行时间，再利用处理器计算出对应的空间点的距离。
光源投影模组
图2是图1中光源投影模组104的一种实施例。该投影模组201包括底座206、光源205、镜座204、透镜系统203以及衍射光学元件(DOE)202。光源205发出的光束经透镜203调制后由衍射光学元件(DOE)202向空间中发射图案化光束。在其它实施例中透镜系统203与衍射光学元件(DOE)202也可以整合成一个光学元件。底座206一方面要求具有足够的硬度来支撑光源，另一方面还需要有较高的散热性。
光源一般分为单个光源与多个光源，且一般为激光光源，比如边缘激光发射器或者垂直腔面激光发射器VCSEL等。其中，VCSEL由于体积小、发散角小、稳定性等优点更宜于被应用于投影模组中，在一些实施例了，为了增加投影强度，选择VCSEL阵列作为光源更佳。VCSEL阵列即可以是在单块半导体硅片上制作出阵列的VCSEL源来形成，也可以由多个独立的VCSEL光源组合而成。
当投影模组104用于向空间中投影散斑图案时，VCSEL阵列光源的排列二维图案为不规则图案，不规则排列的好处在于提高散斑图案的不相关性。VCSEL阵列光源中的每个光源都具有一定的发散角，因此需要一个用于准直或汇聚的透镜系统。透镜系统可以是单透镜也可以是透镜组合，甚至可以是微透镜阵列。一般地，由于投影模组对透镜系统有一定的设计要求，比如投影光束密度、投影图案对比度、畸变等多重要求，单透镜系统往往难以达到要求，此时则需要多个透镜共同组成透镜系统来实现设计要求。除了需要考虑透镜的基本设计要求之外，还需要考虑透镜在使用过程中会遇到的一些其他因素，其中温度对透镜的影响较大，常常有温漂现象出现，是在透镜设计中不得不考虑的因素。
图3是根据本发明一个实施例的投影模组光路示意图。单个光源30发出发散光束31，在透镜系统33的入射面331上形成较小的入射光斑32，光束被透镜系统33调制后经由出射面332向外发射出准直(或近准直)光束35，准直光束35在出射面332上形成较大的出射光斑34，出射光斑的尺寸与准直光束35的截面尺寸相同。准直光束35随后入射到衍射光学元件(DOE)36被衍射后向视场37发射出结构光图案化光束。由于出射光束相比较入射光束而言，不仅发散角发生变化，其截面尺寸也发生变化，因此可以说，透镜系统对光源光束起到了准直以及扩束的作用，使得入射的窄发散光束最终以宽准直光束向外发射。由于光束变宽，DOE36上对光束起衍射作用的有效区域也会越大，相应的对DOE的设计要求将会越低，同时更利于投影出高质量的结构化图案光束。需要说明的是，这里的“窄”、“宽”均是为了方便说明透镜的功能而设立的，二者之间分别以对方为参照，并没有实际尺寸的限制。
图4是根据本发明又一个实施例的投影模组光路示意图。相比图3而言，光源40为阵列光源，由多个子光源401以二维图案形式排列，比如VCSEL阵列光源，在图中为了方便说明仅示出了一个维度上的3个子光源401，实际上可以包括任意数量的子光源，为了使得光源投影模组104发射出的图案具有均匀、不相关等特性，要求VCSEL阵列芯片的排列图案为不规则图案，即光源并非以规则阵列排列，而是以一定的不规则图案排列。在一种实施例中，VCSEL阵列芯片整体大小仅在毫米量级，比如2mmX2mm大小，上面排列了几十个甚至上百个光源，各个光源之间的距离处于微米量级，比如30μm。
多个子光源401发射出阵列的发散光束41后入射到透镜系统43的入射面431，在入射面431上形成多个入射光斑42，透镜系统43对发散光束41进行调制后并在其出射面432发射出多个与各个发散光束41对应的宽准直光束45，宽准直光束45随后入射到衍射光学元件(DOE)46，经衍射后向视场47发射出与各个宽准直光束45对应的多个子结构光图案化光束47，多个子结构光图案化光47共同组成了投影模组的结构光图案化光束。
在图4所示的实施例中，多个入射光斑42组成了入射光斑排列图案，该入射光斑排列图案中入射光斑的排列方式与阵列光源中子光源401的排列相对应。另外，多个准直光束45在透镜系统43的出射面432上形成了出射光斑44，出射光斑44的尺寸大于入射光斑42。然而，区别于入射光斑42组成了入射光斑排列图案，出射光斑并未形成排列图案，换句话说，即多个准直光束在出射面上近乎重合，因此所形成的出射光斑也近乎重合，最终所呈现出的仅是一个出射光斑。尽管如此，不同子光源所对应的准直光束45的出射方向48各不相同，因此，若将光源40、透镜系统43看成是一个投影系统的话，该投影系统可以由一个基点向不同的方向发射出准直光束。
多个准直光束45入射到DOE46上时，几乎覆盖相同的衍射作用区域，各个准直光束的衍射效果相同，另外由于发射方向不同，可使得在任意平面上所形成的结构光图案样式相同，仅大小与平面所在的深度距离成比例。通过如此配置，投影模组所投影的结构光图案光束质量更高，变形更少，基于此投影模组的深度相机所计算的深度图像精度会更高。
如图5和图6所示，入射光斑42的大小取决于光源发射光束的发散角以及光源与透镜系统之间的距离。当距离较近时，入射光斑42相互分离，如图5所示，当距离较远时，入射光斑42会出现部分重叠，如图6所示。透镜系统出射面上由不同光源所形成的光斑44近乎重叠，在一些实施例中，为了进一步提高重叠度，还可以在透镜系统中增加光阑，将不重叠的部分光束进行遮挡。
图7是根据本发明一个实施例的透镜系统的结构示意图。透镜系统包括第一透镜711、第二透镜712以及第三透镜713，第一透镜711为双凸面透镜，接收由光源70上的多个子光源701发射出的阵列入射光束，并在其入射面上形成对应的光斑排列图案；第二透镜712为双凹透镜，用于将从第一透镜711出射的光束阵列进行扩散以提高光束宽度；第三透镜713为具有正光焦度的凹凸透镜，其接收来自第二透镜712的发散光束并准直该光束，在第三透镜的出射面不同子光源的准直光束所形成的光斑近乎重合，但发射方向不同，随后入射到DOE(图中未示出)并向外衍射出结构光图案化光束。
可以理解的是，一般在对透镜效果、性能要求的前提下，可以设计出满足这一要求的多种透镜系统，图7仅示例出了其中的一种，并非对本发明的限制，其他任何可以实现相同功能的透镜系统都属于本发明的范围内。
区别于现有技术中的透镜仅通过聚焦等方式对光束进行调制，然后再通过DOE进行分束，难以形成高质量的投影；本发明所提供的装置和方法能够对单光源发出的入射光形成的入射光斑经过透镜系统的调制形成了比入射光斑大的出射光斑，这里所说的调制包括扩束和准直，然后通过DOE进行扩束，形成投影。对光源阵列组成的光源投影装置，现有技术的透镜接受光源发出的入射光束形成出射光束，出射光束形成互不重叠或部分重叠的光斑图案后通过DOE进行衍射，无法形成质量较高的投影；而通过本发明所提供的装置和方法能够对光源阵列中各个光源形成的入射光束进行扩束和准直，最终形成的出射光束形成一个近乎重合的出射光斑，经过DOE衍射都后可以形成较高质量的投影。与现有技术相比，本发明所述的方法有两个优点：光斑变大降低了DOE设计的要求；出射准直光束重合保证了投影出高质量不变形的结构化图案光束。
应该理解的是，透镜系统一般由至少一个透镜单元组成，每个透镜单元拥有多个光学表面，以上所述的透镜系统的入射面与出射面一般指的是透镜系统光束入射端透镜单元的光学表面，而出射面指的是透镜系统光束出射端透镜单元的光学表面。另外，由于光学表面可以是平面或曲面，因此当光束入射或出射时所形成的光斑同样也可以为平面或曲面，光斑的排布可以是平面或曲面排布。且光斑的形状与光束的轮廓以及光学表面的形状共同决定。在图5及图6中光斑32与33均以平面上的圆形为例进行解释，并非限定。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干等同替代或明显变型，而且性能或用途相同，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种光源投影装置，其特征在于，包括：
光源，用于发射发散光束；
透镜系统，用于准直及扩束所述发散光束并发射出准直光束；
衍射光学元件，接收所述准直光束并发射出结构光图案化光束。
2.如权利要求1所述的光源投影装置，其特征在于，所述准直光束的截面尺寸大于所述发散光束入射到所述透镜系统的表面上形成的入射光斑的尺寸。
3.如权利要求1所述的光源投影装置，其特征在于，所述准直光束具有不同的出射方向。
4.一种光源投影装置，其特征在于，包括：
光源阵列，包括至少两个子光源，用于发射阵列发散光束；
透镜系统，包括入射面以及出射面，其中：
所述入射面接收所述阵列发散光束，所述阵列发散光束在所述入射面上形成由入射光斑组成的入射光斑排列图案，所述入射光斑由单个所述发散光束形成，所述入射光斑排列图案的排布形式与所述光源阵列中子光源的排布对应；
所述出射面向外发射与阵列发散光束对应的至少两个准直光束，所述至少两个准直光束在所述出射面上形成出射光斑，所述出射光斑的大小大于所述入射光斑的大小。
5.如权利要求4所述的光源投影装置，其特征在于，还包括衍射光学元件，用于接收并衍射所述至少两个准直光束后发射出结构光图案化光束。
6.如权利要求4所述的光源投影装置，其特征在于，所述光源阵列包括VCSEL阵列。
7.如权利要求4所述的光源投影装置，其特征在于，所述入射面和/或出射面为曲面。
8.如权利要求4所述的光源投影装置，其特征在于，所述至少两个准直光束具有不同的出射方向。
9.一种透镜系统，其特征在于，所述透镜系统包括入射面以及出射面，当由至少两个发散光束入射时：
所述入射面接收所述至少两个发散光束，所述发散光束在所述入射面上形成入射光斑，至少两个所述入射光斑组成入射光斑排列图案；
所述出射面向外发射与所述至少两个发散光束对应的至少两个准直光束，所述至少两个准直光束在所述出射面上形成出射光斑，所述出射光斑的大小大于所述入射光斑的大小。
10.如权利要求9所述的透镜系统，其特征在于，所述至少两准直光束具有不同的出射方向。
CN201710984017.9A 2017-10-20 2017-10-20 光源投影装置 Pending CN107741682A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710984017.9A CN107741682A (zh) 2017-10-20 2017-10-20 光源投影装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710984017.9A CN107741682A (zh) 2017-10-20 2017-10-20 光源投影装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107741682A true CN107741682A (zh) 2018-02-27

Family

ID=61237949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710984017.9A Pending CN107741682A (zh) 2017-10-20 2017-10-20 光源投影装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107741682A (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108490637A (zh) * 2018-04-03 2018-09-04 Oppo广东移动通信有限公司 激光发射器、光电设备、深度相机和电子装置
CN108534703A (zh) * 2018-04-16 2018-09-14 上海图漾信息科技有限公司 结构光发生器及深度数据测量头和测量装置
CN108873222A (zh) * 2018-08-22 2018-11-23 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射装置、tof深度相机和电子设备
NL2020697B1 (en) * 2018-03-30 2019-10-07 Anteryon Wafer Optics B V optical module
TWI683138B (zh) * 2018-03-12 2020-01-21 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
CN111238400A (zh) * 2020-03-19 2020-06-05 熵智科技(深圳)有限公司 一种大视野散斑结构光相机照明系统
CN111880318A (zh) * 2020-05-09 2020-11-03 浙江水晶光电科技股份有限公司 结构光投射器、三维成像装置及三维成像方法
CN111982314A (zh) * 2020-07-27 2020-11-24 中国科学院西安光学精密机械研究所 空间离散多束高功率激光时间波形测量系统
US11048155B2 (en) 2018-04-04 2021-06-29 Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp., Ltd. Diffractive optical assembly, laser projection unit, and depth camera
WO2022183658A1 (zh) * 2021-03-01 2022-09-09 奥比中光科技集团股份有限公司 光斑位置自适应搜索方法、时间飞行测距系统及测距方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103309137A (zh) * 2012-03-15 2013-09-18 普莱姆森斯有限公司 结构光的投影机
US20160127714A1 (en) * 2014-11-03 2016-05-05 Aquifi, Inc. Systems and methods for reducing z-thickness and zero-order effects in depth cameras
CN106292144A (zh) * 2015-06-23 2017-01-04 手持产品公司 光学图案投影仪
CN106954058A (zh) * 2017-03-09 2017-07-14 深圳奥比中光科技有限公司 深度图像获取系统和方法
CN106990548A (zh) * 2017-05-09 2017-07-28 深圳奥比中光科技有限公司 阵列激光投影装置及深度相机

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103309137A (zh) * 2012-03-15 2013-09-18 普莱姆森斯有限公司 结构光的投影机
US20160127714A1 (en) * 2014-11-03 2016-05-05 Aquifi, Inc. Systems and methods for reducing z-thickness and zero-order effects in depth cameras
CN106292144A (zh) * 2015-06-23 2017-01-04 手持产品公司 光学图案投影仪
CN106954058A (zh) * 2017-03-09 2017-07-14 深圳奥比中光科技有限公司 深度图像获取系统和方法
CN106990548A (zh) * 2017-05-09 2017-07-28 深圳奥比中光科技有限公司 阵列激光投影装置及深度相机

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI683138B (zh) * 2018-03-12 2020-01-21 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司 鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
US10962870B2 (en) 2018-03-12 2021-03-30 Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp., Ltd. Laser projection unit, depth camera and electronic device
NL2020697B1 (en) * 2018-03-30 2019-10-07 Anteryon Wafer Optics B V optical module
CN108490637A (zh) * 2018-04-03 2018-09-04 Oppo广东移动通信有限公司 激光发射器、光电设备、深度相机和电子装置
US11048155B2 (en) 2018-04-04 2021-06-29 Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp., Ltd. Diffractive optical assembly, laser projection unit, and depth camera
CN108534703A (zh) * 2018-04-16 2018-09-14 上海图漾信息科技有限公司 结构光发生器及深度数据测量头和测量装置
CN108873222A (zh) * 2018-08-22 2018-11-23 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射装置、tof深度相机和电子设备
CN111238400A (zh) * 2020-03-19 2020-06-05 熵智科技(深圳)有限公司 一种大视野散斑结构光相机照明系统
CN111880318A (zh) * 2020-05-09 2020-11-03 浙江水晶光电科技股份有限公司 结构光投射器、三维成像装置及三维成像方法
CN111880318B (zh) * 2020-05-09 2022-07-05 东莞埃科思科技有限公司 结构光投射器和三维成像装置
CN111982314A (zh) * 2020-07-27 2020-11-24 中国科学院西安光学精密机械研究所 空间离散多束高功率激光时间波形测量系统
CN111982314B (zh) * 2020-07-27 2022-08-19 中国科学院西安光学精密机械研究所 空间离散多束高功率激光时间波形测量系统
WO2022183658A1 (zh) * 2021-03-01 2022-09-09 奥比中光科技集团股份有限公司 光斑位置自适应搜索方法、时间飞行测距系统及测距方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107741682A (zh) 光源投影装置
US20210389653A1 (en) Laser light source, wavelength conversion light source, light combining light source, and projection system
CN106461815B (zh) 微透镜阵列及包括微透镜阵列的光学系统
CN106990660A (zh) 结构光投影模组
CN107167997A (zh) 激光投影模组及深度相机
CN107703641B (zh) 一种结构光投影模组和深度相机
CN107678225A (zh) 基于高密度vcsel阵列光源的结构光投影模组
KR102439748B1 (ko) 광학 소자 및 광학 시스템
US20210286189A1 (en) Structured light projector including an integrated metalens and diffractive optical element
CN108363267A (zh) 规则阵列光源的结构光投影模组
CN207216260U (zh) 投射模组
CN108227231A (zh) 条纹投影模组
WO2019037468A1 (zh) 结构光投影器、三维摄像头模组以及终端设备
US10609266B2 (en) Camera for wide field of view with an arbitrary aspect ratio
CN100510782C (zh) 分束器设备
TWI780211B (zh) 光源裝置、投影機
KR20240012444A (ko) 단일 요소 도트 패턴 프로젝터
CN107430286A (zh) 光学设备
US10386031B2 (en) Light device with movable scanning means and optical fiber
JP6531583B2 (ja) 光デバイス、光システム及び改札機
CN209622537U (zh) 光发射模组及电子设备
KR102477136B1 (ko) 광학 렌즈, 백라이트 모듈 및 디스플레이 장치
US20220247158A1 (en) Light source, sensor and method of illuminating a scene
CN107209355B (zh) 来自颜色随位置变化的光源的光的颜色校正准直
US20210141199A1 (en) Small scale light projection device facilitating the structuring of light emitted for depth-calculating purposes

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information

Address after: 11-13 / F, joint headquarters building, high tech Zone, 63 Xuefu Road, Yuehai street, Nanshan District, Shenzhen, Guangdong 518000

Applicant after: Obi Zhongguang Technology Group Co.,Ltd.

Address before: A808, Zhongdi building, industry university research base, China University of Geosciences, No.8, Yuexing Third Road, Nanshan District, Shenzhen, Guangdong 518000

Applicant before: SHENZHEN ORBBEC Co.,Ltd.

CB02 Change of applicant information
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180227

RJ01 Rejection of invention patent application after publication