TWI681219B - 具有非偏光部之偏光件的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種可有效率地製造高品質之具有非偏光部之偏光件的製造方法；本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，係包含下述步驟：取一具備偏光件及配置於該偏光件一面側之表面保護膜且於該一面側具有露出偏光件之露出部的長條狀偏光膜積層體，讓液體接觸長條狀偏光膜積層體之該一面側；及，於該液體接觸步驟後，讓該偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中；其一實施形態中，前述液體係與前述鹼性溶液為相同之鹼性溶液。

Description

具有非偏光部之偏光件的製造方法 發明領域

本發明係有關具有非偏光部之偏光件的製造方法。

發明背景

行動電話、筆記型個人電腦(PC)等之影像顯示裝置，係有搭載攝像機等之內部電子零件者。以提高此種影像顯示裝置之攝像機性能等為目的，係有各種討論(譬如專利文獻1至6)。惟，由於智慧型手機、觸控式螢幕等之資訊處理裝置的急速普及，人們希望攝像機性能等更為提升。又，為因應影像顯示裝置之形狀的多樣化及高機能化，係要求局部性的具有偏光性能之偏光板。為將其等要求於工業上及商業上加以實現，係希望可以容許之成本來製造影像顯示裝置及/或其零件，惟為確立此種技術，仍有各式事項尚待討論。

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2011-81315號公報

專利文獻2：日本專利特開2007-241314號公報

專利文獻3：美國專利申請公開第2004/0212555號說明書

專利文獻4：韓國公開專利第10-2012-0118205號公報

專利文獻5：韓國專利第10-1293210號公報

專利文獻6：日本專利特開2012-137738號公報

發明概要

本發明係為解決前述課題而創作完成者，主要目的係提供一種可有效率地製造高品質具有非偏光部之偏光件的製造方法。

本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，係包含下述步驟：

取一具備偏光件及配置於該偏光件一面側之表面保護膜且於該一面側具有露出偏光件之露出部的長條狀偏光膜積層體，讓液體接觸長條狀偏光膜積層體之該一面側；及，於該液體接觸步驟後，讓該偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中。

其一實施形態中，前述液體係與前述鹼性溶液為相同之鹼性溶液。

其一實施形態中，係使用可噴射前述液體之噴頭，讓前述液體接觸前述偏光膜積層體之一面側。

其一實施形態中，係將前述液體直線狀噴射前述露出部。

其一實施形態中，前述露出部係以具有重複單位之圖案加以配置，且對各該重複單位將前述液體直線狀噴射前述露出部。

為了僅對目標部分進行濕式處理，有時會使用一種具有露出部之偏光膜積層體來進行濕式處理前述偏光膜積層體係具備偏光件及配置於該偏光件一面側之表面保護膜，且於該一面側具有露出偏光件之露出部。又，基於可連續進行各步驟且生產效率優良的理由，在濕式處理上係將長條狀之積層體浸漬於處理液。使用具有露出部之偏光膜積層體進行浸漬時，偏光膜積層體搬送至處理液內時空氣會進入露出部而產生氣泡侵入。進入露出部之氣泡會附著於露出部之底部及壁面。附著有氣泡之部分於之後的浸漬處理中無法充分的與處理液接觸，因而有無法充分獲得浸漬處理液之功效、致使所得偏光件品質降低之情事。所以，對於浸漬具有露出部之偏光膜積層體的製造方法，仍在冀望能有一可提高生產效率並製造高品質之偏光件的方法。

依本發明之製造方法，將偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液前，藉由讓液體接觸偏光膜積層體，可將露出部之底部及璧面予以浸潤，故可抑制氣泡侵入。是以，縱於使用具有露出部之偏光膜積層體進行浸漬處理時，亦可有效 率地製造高品質之具有非偏光部之偏光件。歷來，使用浸漬於鹼性溶液方式提高具有非偏光部之偏光件的生產效率時，會有因捲入氣泡而脫色失敗，以致品質低落之情事。然而，本發明之製造方法中，因氣泡侵入本身受到抑制，故可有效率地製造高品質之具有非偏光部之偏光件。

10‧‧‧偏光件

20‧‧‧保護膜

30‧‧‧第2表面保護膜

50‧‧‧表面保護膜/第1表面保護膜

51‧‧‧露出部

61‧‧‧貫通孔

70‧‧‧泵

71‧‧‧五叉閥

80‧‧‧噴嘴

90‧‧‧液體

100‧‧‧偏光膜積層體

圖1係本發明一實施形態所使用之偏光膜積層體之概略剖面圖。

圖2係本發明一實施形態所使用之偏光膜積層體之概略立體圖。

圖3係一概略立體圖，用以說明本發明一實施形態之偏光件的製造方法中之表面保護膜與偏光板之貼合。

圖4係一概略圖，用以顯示藉由本發明一實施形態進行之液體接觸步驟及浸漬步驟，該液體接觸步驟係讓液體接觸偏光膜積層體之露出部，該浸漬步驟係讓偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中。

圖5係一概略部分放大圖，用以顯示讓液體接觸圖4之偏光膜積層體之露出部的液體接觸步驟。

圖6係一概略部分放大圖，用以顯示讓液體接觸圖4之偏光膜積層體之露出部的液體接觸步驟。

圖7係一概略部分放大圖，用以顯示藉由本發明另一實施形態進行之讓液體接觸偏光膜積層體之露出部的液體接觸步驟。

較佳實施例之詳細說明

以下，說明本發明之較佳實施形態，惟，本發明並不限定於其等實施形態。

本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，係包含下述步驟：取一具備偏光件及配置於該偏光件一面側之表面保護膜且於該一面側具有露出偏光件之露出部的長條狀偏光膜積層體，讓液體接觸長條狀偏光膜積層體之該一面側，；及，於該液體接觸步驟後，讓該偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中。使用具有露出部之偏光膜積層體進行浸漬時，偏光膜積層體搬送至鹼性溶液內時，露出部會有空氣進入而會產生氣泡侵入。附著有氣泡之部分無法充分接觸鹼性溶液，而產生脫色不良。結果造成非偏光部之穿透率等之特性不足，導致品質降低。另一方面，讓偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液前，藉由讓液體接觸偏光膜積層體之具有露出部之側，可抑制氣泡侵入，有效率地製造高品質之具有之非偏光部之偏光件。又，形成非偏光部前之偏光件，嚴格論之，係具有依本發明之製造方法所獲致之非偏光部之偏光件其中間體，惟於本說明書中是單稱為偏光件。若為該產業業者，見本說明書之記載，即可輕易理解「偏光件」是表示中間體，抑或具有依本發明之製造方法所獲得之非偏光部的偏光件。

A.偏光膜積層體之製作步驟

本發明之偏光件之製造方法，係使用偏光膜積層體並將之浸漬於鹼性溶液中，前述偏光膜具備偏光件及配置於 該偏光件一面側之表面保護膜，且於該一面側具有露出偏光件之露出部。此偏光膜積層體因具有露出偏光件之露出部，故於浸漬處理中，僅露出偏光件之部分會接觸鹼性溶液。

圖1係本發明一實施形態所使用之偏光膜積層體的概略剖面圖。偏光膜積層體100係長條狀，依序包含有具有貫通孔61之表面保護膜(以下亦稱為第1表面保護膜)50、偏光件10、保護膜20及第2表面保護膜30。表面保護膜50及30係經由任意之合適的黏著劑之黏著劑層(未圖示)而加以積層。此實施形態中，係使用具備偏光件10及保護偏光件10之保護膜20的偏光板，惟，亦可使用具有偏光板此形態以外之形態的偏光件(譬如單一之樹脂膜之偏光件、樹脂基材/偏光件之積層體)。偏光膜積層體100係於配置有表面保護膜50之側，具有偏光件10露出於貫通孔61之露出部51。又，本說明書中，「長條狀」係表示相對於寬度，長度十分長之細長形狀，譬如，包含相對於寬度，長度為10倍以上，更佳者為20倍以上之細長形狀。

圖2係本發明一實施形態之偏光膜積層體之概略立體圖。露出部51係以預定之圖案加以配置而得。露出部51宜以具有重複單位之圖案加以配置。又，本說明書中，「以具有重複單位之圖案加以配置」，係表示於偏光膜積層體之長條方向每隔預定之長度，即以相同之圖案進行配置。露出部51係至少沿長條方向配置而得。露出部51於長條方向及/或寬度方向係實質的以等間隔配置而得。圖示例中，露 出部51於長條方向及寬度方向之任一者，均實質的以等間隔加以配置。又，「於長條方向及寬度方向之任一者均實質的等間隔」，係表示長條方向之間隔為等間隔，且寬度方向之間隔為等間隔，長條方向之間隔與寬度方向之間隔並不需要相同。譬如，令長條方向之間隔為L1，寬度方向之間隔為L2時，可為L1=L2，亦可為L1≠L2。藉由以具有重複單位之圖案配置露出部51，可讓液體對各前述重複單位以相同之圖案接觸多數個露出部，故可更有效率地抑制氣泡侵入。結果可進一步提高具有非偏光部之偏光件的生產效率。

偏光膜積層體100係藉由於長條狀之偏光件10之表面，積層長條狀之表面保護膜50而製得。圖3係一概略立體圖，用以說明使用本發明一實施形態之表面保護膜之偏光件的製造方法中，表面保護膜與偏光板之貼合。一實施形態中，係使用具有長條狀之偏光件及長條狀之黏著劑層之表面保護膜，製作偏光膜積層體。藉由使用具有黏著劑層之表面保護膜，如圖3所示，而可藉由懸吊滾子來製作偏光膜積層體。進而，偏光膜積層體100具備第2表面保護膜30時，可以懸吊滾子來積層長條狀之第2表面保護膜30。第2表面保護膜係可與具有前述貫通孔之表面保護膜同時地貼合，亦可於貼合具有貫通孔之表面保護膜前加以貼合，亦可於貼合具有貫通孔之表面保護膜後加以貼合。又，具有偏光板此形態以外之形態的偏光件(譬如單一樹脂膜之偏光件、樹脂基材/偏光件之積層體)，無須贅言，亦可適用 相同之順序。

A-1.偏光件之製作

作為用於偏光膜積層體100之偏光件10，係可採用任意之適合的偏光件。偏光件可以樹脂膜構成者為代表。樹脂膜則以含有碘及有機染料等二色性物質之聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA樹脂」)膜為代表。構成偏光件之樹脂膜(以PVA系樹脂膜為代表)，可為單一之膜，亦可為形成於樹脂基材上之樹脂層(以PVA系樹脂層為代表)。

作為偏光件，宜為含有碘之偏光件。偏光件含有作為二色性物質之碘時，係藉由浸漬於後述之鹼性溶液來降低露出部之碘濃度，結果可僅於露出部選擇性形成非偏光部。因此，不需伴隨複雜之操作即可以極高之生產效率於偏光件之預定部分選擇性形成非偏光部。

偏光件係可藉由任意之適合的方法加以製得。偏光件為單一之PVA系樹脂膜時，偏光件係可以該業者所熟知之慣用的方法而製得。偏光件為形成於樹脂基材上之PVA系樹脂層時，偏光件係譬如可藉由譬如日本專利特開2012-73580號公報所記載之方法製得。該公報其全體之記載係作為參考而引用於本說明書。

偏光件之厚度係可設定為任意之適當之值。厚度宜為30μm以下，較佳為25μm以下，進而宜為20μm以下，低於10μm尤為理想。另一方面，厚度宜為0.5μm以上，進而宜為1μm以上。若為此種厚度，便可獲得具有優異之耐久性及光學特性之偏光件。又，在浸漬鹼性溶液之步驟 中，厚度愈薄，愈能良好地形成非偏光部。譬如，可縮短鹼性溶液與樹脂膜(偏光件)之接觸時間。

使用偏光件製作偏光膜積層體時，於一實施形態中，係於單一之樹脂膜之偏光件的單面或雙面，貼合保護膜。於另一實施形態中，係於樹脂基材/偏光件之積層體之偏光件表面貼合保護膜。其次，剝離樹脂基材，進而，依需求而於樹脂基材之剝離面貼合另一保護膜。又，本說明書中，單稱保護膜時，係表示如前述之偏光件保護膜，與表面保護膜(作業時暫時保護偏光板之膜)為不同者。保護膜之貼合，代表性地係可藉由懸吊滾子進行。

作為保護膜之形成材料，係可例舉丁二酮纖維素、三酯醋酸纖維素等之纖維素系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等之烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂；聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、其等之共聚物樹脂等。

保護膜之厚度宜為10μm~100μm。保護膜代表性地，係經接著層(具體為接著劑層、黏著劑層)而積層於偏光件。接著劑層代表性地，係以PVA系接著劑及活化能射線硬化型接著劑而加以形成。黏著劑層代表性地，係以丙烯酸系黏著劑而加以形成。

又，偏光板亦可依目的進而包含有任意之適切的光學功能層。光學功能層之代表例，可例舉相位差膜(光學補償膜)、表面處理層。

A-2.表面保護膜之製作

於表面保護膜50設有貫通孔61，該貫通孔61係與偏光件(偏光件中間體)之非偏光部形成的位置相對應。於一實施形態中，表面保護膜係積層體，且包含有貫通該樹脂膜及該黏著劑層之貫通孔，前述積層體包含有任意之適合的樹脂膜，以及設置於該樹脂膜之一面之黏著劑層。

表面保護膜50之貫通孔61，於長條方向及寬度方向之任一者均可實質的以等間隔加以配置(圖3)。抑或貫通孔61可於長條方向實質的等間隔配置，且於寬度方向以不同的間隔配置；亦可於長條方向以不同的間隔加以配置，且於寬度方向實質的以等間加以隔配置(均未圖示)。於長條方向或寬度方向，以不同間隔配置貫通孔時，鄰接之貫通孔的間隔可為全都相異，亦可僅一部分(特定的鄰接之貫通孔的間隔)不同。又，亦可於表面保護膜50之長條方向劃定多數個區域，分別於各區域設定長條方向及/或寬度方向中之貫通孔61之間隔。由一個長條狀偏光件僅裁切一個尺寸之偏光件時，非偏光部於長條方向及寬度方向之任一者，均可實質的以等間隔配置。依此種構成，易於控制將偏光件裁切為配合影像顯示裝置尺寸的預定尺寸，可提高成品率。進而，可正確設定非偏光部之位置，故亦可良好地地控制所獲得之預定尺寸之偏光件中之非偏光部位置。結果，所獲得之預定尺寸之各偏光件的非偏光部位置偏差縮小，故可獲得無品質不一之預定尺寸的偏光件。

一實施形態中，貫通孔61係配置成如下述，即，於長條方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於長條方向為 實質的平行，且於寬度方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於寬度方向為實質的平行。另一實施形態中，貫通孔61係配置成如下述，即，於長條方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於長條方向為實質的平行，且於寬度方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於寬度方向為具有預定角度θ_W。進而，另一實施形態中，貫通孔61係配置成如下述，即，於長條方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於長條方向為具有預定角度θ_L，且於寬度方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於寬度方向為具有預定角度θ_W。θ_L及/或θ_W宜超過0°為±10°以下。此處，「±」亦表示包含相對於基準方向(長條方向或寬度方向)，順時針及逆時針之任一方向。如此，藉由將具備配置有貫通孔之表面保護膜的偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中，可於滾子搬送長條狀之偏光膜積層體的同時，以所希望之圖案形成非偏光部。是以，對於整個長條狀偏光件都可精密地控制配置圖案而形成非偏光部。又，藉由以所希望之圖案形成非偏光部，在由一個長條狀偏光件裁切多數個尺寸之偏光件時，便可裁斷長條方向及/或寬度方向上之非偏光部的間隔，依偏光件之尺寸而加以變更。此處，依影像顯示裝置不同，為提高顯示特性，有時會要求將偏光件之吸收軸相對於該裝置之長邊或短邊，最大錯開約略10°而配置。由於可在長條方向或寬度方向發現偏光件之吸收軸，故，藉由使用前述表面保護膜形成非偏光部，於此種態樣中，可於整個長條狀之偏光件中統一地控制非偏光部與吸收軸之位置關係，而可獲得軸精 確度優異之(是故，光學特性優異)最終產品。故，可將經裁切(譬如在長條方向及/或寬度方向進行切斷、衝孔)之片狀偏光件之吸收軸的方向，精密地控制為所希望之角度，且可顯著地抑制各偏光件之吸收軸的方向差異。再者，無須贅述，貫通孔之配置圖案並不限定於圖式例。譬如貫通孔61亦可配置成如下述，即，於長條方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於長條方向為具有預定角度θ_L，且於寬度方向連接鄰接之貫通孔之直線，相對於寬度方向為實質的平行。又，亦可於表面保護膜50之長條方向劃定多數個區域，對各區域分別設定θ_L及/或θ_W。

第1表面保護膜之貫通孔的平面視之形狀，可依目的而採用隨意之適合的形狀。具體例係可舉圓形、橢圓形、正方形、矩形、菱形。

第1表面保護膜之貫通孔，可藉由譬如機械性的擊打(例如衝孔、鑿刀衝孔、繪圖、高壓水)或將第1表面保護膜之預定部分去除(譬如雷射剝離或化學性的溶解)而形成。

第1表面保護膜宜為硬度(譬如彈性係數)高之膜。此係由於可防止搬送及/或貼合時之貫通孔變形。作為表面保護膜之形成材料，可例舉聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂、冰片烯系樹脂等之環烯烴系樹脂、聚丙烯等之烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、其等之共聚物等。宜為酯系樹脂(特別是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)。若為此種材料，具有下述之優點，即，彈性係數 極高，即使搬送及/或貼合時施加張力，仍不易產生貫通孔變形。

第1表面保護膜之厚度宜為20μm~250μm，較佳為30μm~150μm。表面保護膜之厚度只要在前述範圍內，便可抑制將偏光膜積層體搬送至處理液時有氣泡侵入，且縱於搬送及/或積層時施加張力，仍可抑制貫通孔之變形。

第1表面保護膜之彈性係數宜為2.2kN/mm²~4.8kN/mm²。彈性係數只要在前述範圍內，便可抑制將偏光膜積層體搬送至處理液時有氣泡侵入，且縱於搬送及/或積層時施加張力，仍可抑制貫通孔之變形。又，彈性係數係依循JIS K 6781進行量測。

第1表面保護膜之拉伸強度宜為90%~170%。表面保護膜之拉伸強度只要在前述範圍內，便可抑制將偏光膜積層體搬送至處理液時有氣泡侵入，且可防止搬送中之薄膜破裂。又，拉伸強度係依循JIS K 6781進行量測。

又，偏光膜積層體100係如前述，亦可於未配置前述表面保護膜之側，包含有第2表面保護膜30。此第2表面保護膜係可使用除未設置貫通孔，其餘皆與前述表面保護膜相同之薄膜。進而，作為第2表面保護膜，亦可使用譬如聚烯(例如聚乙烯)膜之柔軟(例如彈性係數低)膜。藉由使用第2表面保護膜，可進而更適切地保護偏光板。具體而言，浸漬於鹼性溶液時，可更適切地保護偏光板(偏光件/保護膜)，從而可更優良地形成非偏光部。

作為黏著劑層，只要可獲得本發明之功效，便可採用任意的適用之黏著劑層。作為黏著劑之基底樹脂，可例舉如丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、矽系樹脂。由抗藥性、用以防止浸漬時之處理液滲入之密著性、對於黏著體之彈性等之觀點，宜為丙烯酸系樹脂。又，黏著劑亦可含有交聯劑，作為黏著劑所含有之交聯劑，可例舉異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙環化合物。黏著劑亦可含有譬如矽烷耦合劑。黏著劑之配方係可依目的而適切的設定。

黏著劑層係可藉由任意之適合的方法而形成。具體例係可舉出於樹脂膜上塗布黏著劑溶液並使其乾燥之方法；於分離器上形成黏著劑層，將該黏著劑層轉印於樹脂膜之方法等。塗布法係可例舉逆轉塗布、凹版塗布等之捲動式塗布法；旋轉塗布；網板印刷法；湧泉式塗布法；浸塗法及噴塗法。

黏著劑層之厚度宜為5μm~60μm，更佳為5μm~30μm。若厚度過薄，黏著性變得不充分，會有氣泡等進入黏著界面之情事。厚度若過厚，易產生黏著劑滲出等之不理想情況。黏著劑層之厚度可與前述樹脂膜之厚度併同調整，俾讓表面保護膜之厚度為前述之範圍內。

B.液體接觸步驟

圖4係一概略圖，顯示藉由本發明一實施形態進行之液體接觸步驟及浸漬步驟，該液體接觸步驟係讓液體接觸偏光膜積層體之露出部，該浸漬步驟係將偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中。圖5及圖6係概略部分放大圖，顯示讓液體 接觸圖4之偏光膜積層體之露出部的液體接觸步驟。

本發明之液體接觸步驟中，係讓液體90接觸偏光膜積層體100之配置有表面保護膜50之側。接觸之態樣係可採用任意之適合的態樣。具體言之，可例舉將液體90噴灑於偏光膜積層體100之態樣。本實施形態中，如圖4及圖5所示，偏光膜積層體100係以露出部51朝下方式搬送至鹼性溶液。亦即，偏光膜積層體100之配置有表面保護膜50之側，係偏光膜積層體100之下側。因此，圖式例中，係由偏光膜積層體100之下側噴灑液體90。

液體90係可使用任意之適合的液體。液體90可舉例如與浸漬偏光膜積層體100之鹼性溶液相同之鹼性溶液。圖式例中，係藉由泵70供給浸漬偏光膜積層體100之鹼性溶液槽中之鹼性溶液，以作為液體90。藉由使用與前述鹼性溶液相同之鹼性溶液作為液體90，在浸漬於鹼性溶液前後，接觸露出部之液體的濃度並無變化。其結果便是於液體接觸步驟後將偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中之步驟時，露出部之脫色效率提高。因此，具有非偏光部之偏光件的生產效能更加提高。

作為接觸液體90之方式，可使用任意之合適的方式。圖式例中，係使用噴射液體90之噴嘴80而讓液體90接觸偏光膜積層體100。藉由使用噴嘴作為接觸液體之方式，易於將液體直接噴射露出部，故可更有效率地抑制氣泡侵入。於是，具有非偏光部之偏光件的生產效能更加提高。

較佳者為露出部51係以具有重複單位之圖案加 以配置，並對各該重複單位將液體90直線狀噴射露出部51。宜使用與該重複單位內之露出部51位置對應配置之噴嘴80，將液體90噴射至露出部51。圖6所示例中，露出部51係長條方向及寬度方向之任一者，均實質的等間隔加以配置，且於寬度方向，露出部51係每次5個地加以配置。故，於偏光膜積層體之長條方向的各前述間隔，5個露出部51係以相同圖案加以配置。液體90係藉由五叉閥71而分割為5個流道。與前述5個流道對應之5個噴嘴80，係以與配置有露出部51之偏光膜積層體其寬度方向上的前述間隔相同的間隔來配置。5個噴嘴80會將液體90直線狀噴射各自對應之5個露出部51。藉由對露出部51之配置圖案的每一重複單位，將液體90直線狀噴射露出部51，便可將液體90一次地噴射至前述重複單位內之所有的露出部。故可更有效地抑制氣泡侵入，於是，具有非偏光部之偏光件的生產效率更加提高。

液體90係可以任意之適合的態樣接觸偏光膜積層體100。具體言之，可將液體90直線狀噴射露出部51，亦可由點狀之噴灑口，將液體90譬如呈圓錐狀地噴灑於偏光膜積層體100，亦可由線狀之噴灑口平面狀地將液體90噴灑於偏光膜積層體100。圖式例係將液體90直線狀噴射露出部51。藉由將液體直線狀噴射露出部，可有效地讓液體接觸露出部，故可更有效率地抑制氣泡侵入。於是，具有非偏光部之偏光件的生產效率更加提高。

亦可讓液體90間歇性地接觸偏光膜積層體100， 亦可連續性地接觸。藉由使液體做間歇性接觸，即可使液體配合露出部之位置進行接觸，可降低接觸到露出部以外之部分的液體，故可更有效率地抑制氣泡侵入。於是，具有非偏光部之偏光件的生產效率更加提高。

圖7係一概略部分放大圖，顯示藉由本發明另一實施形態所進行之液體接觸步驟。本實施形態中，偏光膜積層體100係以露出部51朝上方式搬送至鹼性溶液。因此，圖式例中，係由偏光膜積層體100之上側噴灑液體90。

C.浸漬於鹼性溶液

本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，包含一將具有露出部之偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中之步驟。使用長條狀之偏光膜積層體時，藉由搬送偏光膜積層體同時進行浸漬，可進行脫色處理，故生產效率顯著提高。如前述，本發明所使用之偏光膜積層體係使用第1表面保護膜(及依需求而使用第2表面保護膜)。因此，於偏光膜積層體之露出部以外的部分，碘濃度並未降低，故可藉由浸漬形成非偏光部。具體言之，藉由將偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中，僅偏光膜積層體中之露出部會接觸鹼性溶液。

更詳細說明以鹼性溶液形成非偏光部。與偏光膜積層體中之偏光件之露出部接觸後，鹼性溶液係滲透至露出部內部。露出部所含有之碘錯合物係藉由鹼性溶液所含有之鹼而還原，成為碘離子。藉由碘錯合物還原成碘離子，露出部之偏光性能實質性性的消失，於露出部形成非偏光部。又，藉由碘錯合物之還原，露出部之穿透率提高。成 為碘離子之碘，會由露出部移動至鹼性溶液之溶劑中。於是，藉由後述之去除鹼性溶液，可將碘離子與鹼性溶液一併由露出部除去。如此，便可於偏光件之預定部分選擇性形成非偏光部，進而，該非偏光部不會因時間變化而呈穩定性質。又，藉由調整第1表面保護膜之材料、厚度及機械性特性、鹼性溶液之濃度、以及偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液之浸漬時間等，可防止鹼性溶液滲透至非預期之部分(該結果係於非預期之部分形成非偏光部)。又，偏光件殘留有碘時，即使破壞碘錯合物而形成非偏光部，也會隨著偏光件之使用而再次形成碘錯合物，非偏光部恐無法具有所希望之特性。本實施形態中，碘本身可藉由後述之鹼性溶液之去除而由偏光件(實質上為非偏光部)去除。於是，可防止隨著偏光件之使用而讓非偏光部之特性產生變化。

浸漬步驟中，可邊讓鹼性溶液流動，邊將偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中。讓鹼性溶液流動之方法可採用任意之適合的方法。作為前述方法，譬如可攪拌鹼性溶液，亦可讓鹼性溶液循環。讓鹼性溶液流動之方向可採用任意之適合的方向。作為前述方向，譬如係由偏光膜積層體之偏光件之第1表面保護膜側，朝向相對向側之方向。藉由讓前述鹼性溶液流動，就容易排除侵入露出部之氣泡，因而更加提高具有非偏光部之偏光件的生產效率。

作為前述鹼性溶液所含有之鹼性化合物，可使用任意之適合的鹼性化合物。作為鹼性化合物，可例舉氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等之鹼金屬的氫氧化物；氫氧 化鈣等之鹼土金屬的氫氧化物；碳酸鈉等之無機鹼金屬鹽；醋酸鈉等之有機鹼金屬鹽及氨水等。鹼性溶液所含有之鹼性化合物，宜為鹼金屬之氫氧化物，較佳者為氫氧化鈉、氫氧化鈣及氫氧化鋰。藉由使用含有鹼金屬之氫氧化物的鹼性溶液，可有效率地讓碘錯合物離子化，而可更簡便地形成非偏光部。其等鹼性化合物可單獨使用，亦可組合二種以上使用。

作為前述鹼性溶液之溶劑，可使用任意之適合的溶劑。具體言之，可例舉水、乙醇及甲醇等之醇；乙醚、苯、三氯甲烷及其等之混合溶劑。碘離子會良好地往溶煤移動，且於之後的鹼性溶液去除中可輕易去除碘離子，故溶煤宜為水、醇。

前述鹼性溶液之濃度係譬如0.01N~5N，宜為0.05N~3N，更佳為0.1N~2.5N。鹼性溶液之濃度若為此範圍，可有效地降低偏光件內部之碘濃度，且可防止露出部以外之部分中的碘錯合物離子化。

前述鹼性溶液之液體溫度係譬如20℃~50℃。偏光膜積層體(實質上，偏光件之露出部)與鹼性溶液之接觸時間，可依偏光件之厚度、使用之鹼性溶液所含有之鹼性化合物之種類、及鹼性化合物之濃度而加以設定，譬如5秒鐘~30分鐘。

前述鹼性溶液與偏光件之露出部接觸後(非偏光部形成後)，可依需要而以任意之適合的方式加以去除。鹼性溶液之去除方法的具體例，可例舉吸取去除、自然乾燥、 加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥、後述之洗淨等。藉由乾燥去除鹼性溶液時之乾燥溫度，係譬如20℃~100℃。

浸漬於鹼性溶液之步驟，可讓長條狀之偏光膜積層體以露出部朝下方式搬送至鹼性溶液，亦可以露出部朝上方式搬送至鹼性溶液。

D.其他處理液之浸漬處理

本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，可進而包含一浸漬於鹼性溶液以外之其他處理液的浸漬步驟。如圖4所示，作為前述其他處理液，可舉例如偏光膜積層體之酸處理所使用之酸性溶液及洗淨所使用之水等之洗淨液等。

D-1.使用酸性溶液之浸漬步驟(酸處理)

使用酸性溶液之浸漬步驟，宜與前述浸漬於鹼性溶液之步驟組合進行，且宜於鹼性溶液之浸漬步驟後進行使用酸性溶液之浸漬步驟。浸漬於鹼性溶液後，藉由浸漬(接觸)於酸性溶液，可將殘留於非偏光部之鹼性溶液去除至更優異之等級。又，藉由與酸性溶液接觸，可提高非偏光部之尺寸穩定性及耐久性。使用酸性溶液之浸漬步驟，可於去除鹼性溶液後進行，亦可不去除鹼性溶液即進行。

作為前述酸性溶液所含有之酸性化合物係可使用任意之適合的酸性化合物。作為酸性化合物，譬如可例舉鹽酸、硫酸、硝酸、氟化氫等的無機酸；甲酸、草酸、檸檬酸、醋酸、安息香酸等的有機酸等。酸性溶液所含有之酸性化合物，宜為無機酸，更佳者為鹽酸、硫酸、硝酸。 其等酸性化合物係可單獨使用，亦可混合使用。

作為前述酸性溶液之溶劑，可使用前述鹼性溶液之溶劑所例示者。前述酸性溶液之濃度係譬如0.01N~5N，較佳為0.05N~3N，更佳為0.1N~2.5N。

前述酸性溶液之液體溫度係譬如20℃~50℃。偏光膜積層體(實質上，偏光件之露出部)與酸性溶液之接觸時間，可依樹脂膜(偏光件)之厚度、使用之酸性溶液所含有之酸性化合物之種類、及酸性化合物之濃度而加以設定，譬如5秒鐘~30分鐘間。依需求，亦可於偏光膜積層體與酸性溶液接觸後立即加以去除。

前述酸性溶液與偏光件之露出部接觸後，可依需求而以任意之合適的方式加以去除。酸性溶液之去除方法的具體例，可例舉吸取去除、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥、使用後述之處理液去除構件之處理液去除步驟及洗淨等。藉由乾燥去除鹼性溶液時，譬如可藉由於烘箱內搬送偏光膜積層體而進行。乾燥溫度係譬如20℃~100℃，乾燥時間譬如5秒~600秒。

D-2.洗淨

洗淨係為去除在各步驟中附著於偏光膜積層體表面之處理液及異物而進行。譬如，在本發明之製造方法中，可在浸漬於前述鹼性溶液之浸漬步驟及/或酸性溶液之浸漬步驟後進行。

洗淨使用之液體(洗淨液)，可例舉水(純水)、甲醇、乙醇等之醇；酸性水溶液及其等之混合溶劑等。較佳 者為水。洗淨可進行一次，亦可將多數次之洗淨作為一個步驟而來進行。

洗淨後之處理液可依需要而以任意之適合的方式加以去除。洗淨後之處理液的去除方法之具體例，可例舉吸取去除、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥、以任意之合適之構件進行之去除步驟。

E.其他步驟

本發明之製造方法可包含前述A項~D項所例舉以外之任意的合適步驟。舉例如使用於前述浸漬步驟之處理液之去除步驟、乾燥步驟等。

本發明之具有非偏光部之偏光件的製造方法，可包含一前述浸漬步驟所使用之處理液之去除步驟。處理液之去除步驟，可例舉後述之乾燥步驟、以及使布或廢布、海綿等任意的吸收材由偏光膜積層體之表面保護膜側接觸來進行之處理液去除步驟(具體上，擦去等)。

藉由包含以任意之適合構件進行之去除步驟，可更充分地去除處理液。藉此，可防止處理液對於未處理部分造成之不良影響，以及所獲得之偏光件之外觀不良等。

乾燥方式係可藉由任意之適合的方法進行。乾燥方式係可例舉烘箱、送風、氣刀等。乾燥溫度及乾燥時間係可依偏光膜積層體之厚度及特性等，而設定為任意之適合的數值。

所需之步驟結束後，第1表面保護膜(以及存在時之態樣是第2表面保護膜)係可由偏光膜積層體剝離。

F.具有非偏光部之偏光件

本發明之製造方法係如前述，可防止氣泡侵入偏光膜積層體之露出部。因此，依本發明之製造方法獲得之偏光件，可抑制非偏光部之脫色等不理想情事。故，依本發明之製造方法所提供之偏光件即可具有優異之品質。本發明之具有非偏光部之偏光件，可合宜地使用於智慧型手機等攜帶式電話、筆記型個人電腦、平板電腦等的附有攝像機之影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機電致發光元件)。應用於其等物件時，非偏光部係可對應於其等機器之攝像頭。非偏光部對應於攝像頭部時，不僅確保攝像頭部之穿透性，並將攝像時之亮度及色調最佳化，且可防止影像歪斜，有助於所獲得之影像顯示裝置之攝像機性能提高。又，本發明之具有非偏光部之偏光件，不僅影像及螢幕等之接收型電子元件(譬如具有攝影光學系統之攝像機裝置)，亦可合宜地應用於LED及紅外線感應器等之發送型電子元件，以及確保對於肉眼之穿透性及光直線度之影像顯示裝置。

所獲得之偏光件(除非偏光部)之單體透過率(Ts)宜為39%以上，較佳為39.5%以上，更佳為40%以上為佳，40.5%以上尤佳。又，單體透過率於理論上之上限為50%，實用之上限為46%。又，單體透過率(Ts)係以JIS Z8701之2度視野(C光源)加以測量，並進行視感度補正之Y值，譬如可使用顯微分光系統(Lambda Vision Inc.製，LVmicro)加以測量。偏光件之偏光度(除非偏光部)宜為99.9%以上，較佳為99.93%以上，更佳為99.95%以上。

非偏光部之穿透率(譬如以23℃中之波長550nm之光加以測量之穿透率)宜為50%以上，較佳為60%以上，更佳為75%以上，90%以上尤佳。若為此種穿透率，便可確保作為非偏光部所希望之透明性。其結果，以非偏光部對應影像顯示裝置之攝像部的方式配置偏光件時，便可防止對攝像機之攝影性能造成不良影響。

非偏光部之平面視之形狀，只要不對使用偏光件之影像顯示裝置之攝像性能造成不良影響，便可採用任意之適合的形狀。非偏光部之平面視之形狀係與第1表面保護膜之貫通孔形狀對應。

一實施形態中，偏光件之吸收軸與長條方向或寬度方向為實質上平行，且偏光件之兩端部係與長條方向平行地施有縱剪加工。若為此種構成，即可藉由以偏光件之端面為基準進行裁切作業，輕易製造出多數個具有非偏光部且於適當方向具有吸收軸之偏光件。

於實際應用上，偏光件可供作為偏光板。偏光板具有偏光件及配置於偏光件之至少一側之保護膜(未圖示)。於實際應用上，偏光板會具有黏著劑層以作為最外層。黏著劑層的代表性應用就是作為影像顯示裝置側之最外層。於黏著劑層上可暫時接著可剝離的分隔件，可保護黏著劑層至實際使用，並可形成捲材。

偏光板亦可依目的進而具有任意之適合的光學功能層。光學功能層之代表例，可例舉相位差膜(光學補償膜)、表面處理層。譬如在保護膜與黏著劑層之間可配置相 位差膜。相位差膜之光學特性(譬如折射率橢球、面內相位差、厚度方向相位差)，可依目的、影像顯示裝置之特性等而適宜地加以設定。譬如影像顯示裝置為IPS模式之液晶顯示裝置時，折射率橢球係可配置nx>ny>nz之相位差膜，及nz>nx>ny之相位差膜。相位差膜亦可兼用作為保護膜。此時，可省略保護膜。相反地，保護膜亦可具有光學補償功能(亦即亦可具有因應目的之適當的折射率橢球、面內相位差及厚度方向相位差)。又，「nx」係膜面內之折射率最大之方向(亦即相位延遲軸)的折射率，「ny」是於膜面內與相位延遲軸正交之方向的折射率，「nz」是厚度方向的折射率。

表面處理層可配置於偏光板之視認側。表面處理層之代表例，可例舉硬化膜層、抗反射層、抗眩層。表面處理層係譬如提高偏光件之加濕持久性之目的，而宜為透濕度低之層。硬化膜層係以防止偏光板表面損傷為目的而設置。硬化膜層係可以下述方式形成，即，將藉由丙烯酸系、醇系等之適合的紫外線硬化型樹脂而產生之硬度及滑動特性等均優之硬化膜，附加於表面。硬化膜層宜為鉛筆硬度為2H以上。抗反射層係為防止於偏光板表面反射為目的而加以設置。作為抗反射層，可例舉如日本專利特開2005-248173號公報所揭示，利用光之干涉作用而產生之反射光的消除效果，以防止反射之薄層類型；日本專利特開2011-2759號公報所揭示，藉由給予表面細微構造而發現低反射率之表面構造類型。抗眩層係為防止外部光於偏光板 表面反射以致阻礙偏光板穿透光之視認等目的而加以設置。抗眩層係譬如噴砂方式及凸印加工方式之表面粗糙化方式、藉由透明微粒子之配合方式等之適宜的方式而於表面賦予細微凹凸構造而形成。抗眩層亦可併用作為用以讓偏光板穿透光擴散，擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。設置表面處理層亦可改為對視認側之保護膜表面進行同樣的表面處理。

產業上之可利用性

本發明之偏光件適合使用於智慧型手機等攜帶式電話、筆記型個人電腦、平板電腦等的附有攝像機之影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機電致發光裝置)。

10‧‧‧偏光件

20‧‧‧保護膜

30‧‧‧第2表面保護膜

50‧‧‧表面保護膜/第2表面保護

51‧‧‧露出部

61‧‧‧貫通孔

70‧‧‧泵

71‧‧‧五叉閥

80‧‧‧噴嘴

90‧‧‧液體

100‧‧‧偏光膜積層體

Claims (4)

1. 一種具有非偏光部之偏光件的製造方法，包含下述步驟：取一具備偏光件及配置於該偏光件一面側之表面保護膜且於該一面側具有露出偏光件之露出部的長條狀偏光膜積層體，讓液體接觸長條狀偏光膜積層體之該一面側；及於該液體接觸步驟後，讓該偏光膜積層體浸漬於鹼性溶液中；其中該液體係與前述鹼性溶液為相同之鹼性溶液。
2. 如請求項1之具有非偏光部之偏光件的製造方法，其係使用可噴射前述液體之噴頭，讓前述液體接觸前述偏光膜積層體之一面側。
3. 如請求項2之具有非偏光部之偏光件的製造方法，其係將前述液體直線狀噴射前述露出部。
4. 如請求項3之具有非偏光部之偏光件的製造方法，其中前述露出部係以具有重複單位之圖案加以配置，且對各該重複單位將前述液體直線狀噴射前述露出部。

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