TWI673835B - 功率晶片覆晶封裝結構及其封裝方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種功率晶片覆晶封裝結構,其包含第一引線架、第二引線架及功率晶片。第一引線架中,第一金屬層自第一本體的內表面延伸至第一接腳的表面。第二引線架與第一引線架組接,且第二金屬層自第二本體的內表面延伸至第二接腳的表面。功率晶片位於第一引線架及第二引線架之間且包含第一晶片表面、第一導電部、第二晶片表面及第二導電部,第一導電部位於第一晶片表面且與第一金屬層電性連接;第二導電部位於第二晶片表面且與第二金屬層電性連接。藉此,可減少多次間接電性傳導造成的電性不穩定性。

Description

功率晶片覆晶封裝結構及其封裝方法
本發明是有關於一種功率晶片封裝結構及其封裝方法,且尤其是有關一種使用覆晶封裝方式的功率晶片覆晶封裝結構及其封裝方法。
習知的功率晶片封裝結構包含一塑膠殼體、複數接腳及一功率晶片,功率晶片設置在塑膠殼體內部,透過打線方式和接腳電性連接,接腳再外露於塑膠殼體用以和應用電路連接。
然而,此種封裝方式的穩定性不足,且當功率晶片是大功率的晶片時,容易在使用過程中發出大量的熱能,但塑膠殼體的散熱不佳,進而導致功率晶片的壽命減短,雖然目前會在於塑膠殼體上外加散熱鰭片,但其散熱效果仍有限。
有鑑於此,如何有效地增加功率晶片封裝結構的穩定性,遂成相關業者努力的目標。
本發明提供一種功率晶片覆晶封裝結構及其封裝方法,透過第一引線架及第二引線架的配置,可以有效地增加電性的穩定性,並且使功率晶片覆晶封裝結構更方便於後續電路的安裝。
依據本發明之一態樣之一實施方式提供一種功率晶片覆晶封裝結構,其包含一第一引線架、一第二引線架及一功率晶片。第一引線架包含一第一本體、至少一第一接腳及至少一第一金屬層,前述至少一第一接腳一體連接於第一本體,前述至少一第一金屬層自第一本體的一內表面延伸至前述至少一第一接腳的複數表面中的至少一表面。第二引線架與第一引線架組接且包含一第二本體、至少一第二接腳及至少一第二金屬層,前述至少一第二接腳一體連接於第二本體,前述至少一第二金屬層自第二本體的一內表面延伸至前述至少一第二接腳的複數表面中的至少一表面。功率晶片位於第一引線架及第二引線架之間且包含一第一晶片表面、至少一第一導電部、一第二晶片表面及至少一第二導電部,第一晶片表面朝向第一引線架,前述至少一第一導電部位於第一晶片表面且與前述至少一第一金屬層電性連接,且前述至少一第一導電部的數量對應前述至少一第一金屬層之數量;第二晶片表面朝向第二引線架,前述至少一第二導電部位於第二晶片表面且與前述至少一第二金屬層電性連接,且前述至少一第二導電部的數量對應前述至少一第二金屬層之數量。其中,第一引線架及第二引線架至少其中之一 包含一凹槽容設功率晶片,第一引線架與第二引線架組接後,至少一第一接腳與至少一第二接腳間隔排列。
藉此,功率晶片的第一導電部的電性可直接傳導至第一接腳,第二導電部的電性可直接傳導至第二接腳,而可減少多次間接電性傳導造成的電性不穩定性。
依據前述之功率晶片覆晶封裝結構的複數實施例,其中,前述至少一第一接腳的數量可為一,前述至少一第二接腳的數量可為二,且凹槽位於第一本體。或者第一接腳可沿一z軸方向凸伸於第一本體,二第二接腳可沿一y軸方向凸伸於第二本體,第二引線架與第一引線架組接後,第一接腳位於二第二接腳之間且平行排列。或者第一接腳的至少一表面可具有一斜面部連接第一本體的內表面。
依據前述之功率晶片覆晶封裝結構的複數實施例,可更包含一散熱鰭片,其設置於第一引線架。或者第一引線架可更包含一外金屬層,且第一本體更包含一外表面,其中外金屬層設置於外表面,且外金屬層供散熱鰭片設置。
依據本發明之一態樣之另一實施方式提供一種功率晶片覆晶封裝方法,應用於前述功率晶片覆晶封裝結構,功率晶片覆晶封裝方法包含一功率晶片植入步驟、一組裝步驟及一防水步驟。功率晶片植入步驟是設置至少一第二導電材料於第二引線架的前述至少一第二金屬層,固接功率晶片於前述至少一第二金屬層上,使前述至少一第二導電部透過前述至少一第二導電材料與前述至少一第二金屬層電性連接。組裝步驟是設置至少一第一導電材料於功率晶片的前述 至少一第一導電部,組裝第一引線架,使前述至少一第一導電部透過前述至少一第一導電材料與前述至少一第一金屬層電性連接。防水步驟是以一絕緣防水膠材密合第一引線架與第二引線架間的一縫隙。
依據前述之功率晶片覆晶封裝方法的複數實施例,其中,於功率晶片植入步驟中,前述至少一第二導電材料可為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使前述至少一第二導電材料固接於功率晶片及前述至少一第二金屬層之間。或者,於組裝步驟中,前述至少一第一導電材料可為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使前述至少一第一導電材料固接於功率晶片及前述至少一第一金屬層之間。
100‧‧‧功率晶片覆晶封裝結構
200‧‧‧第一引線架
210‧‧‧第一本體
211‧‧‧內表面
220‧‧‧第一接腳
2211‧‧‧斜面部
230‧‧‧第一金屬層
240‧‧‧凹槽
300‧‧‧第二引線架
310‧‧‧第二本體
311‧‧‧內表面
320_1、320_2‧‧‧第二接腳
330_1、330_2‧‧‧第二金屬層
400‧‧‧功率晶片
410‧‧‧第一晶片表面
411‧‧‧第一導電部
420‧‧‧第二晶片表面
421、422‧‧‧第二導電部
511‧‧‧第一導電材料
512‧‧‧第二導電材料
700‧‧‧功率晶片覆晶封裝方法
710‧‧‧功率晶片植入步驟
720‧‧‧組裝步驟
730‧‧‧防水步驟
100a‧‧‧功率晶片覆晶封裝結構
200a‧‧‧第一引線架
300a‧‧‧第二引線架
212a‧‧‧外表面
250a‧‧‧外金屬層
600a‧‧‧散熱鰭片
x、y、z‧‧‧軸方向
第1圖繪示依照本發明一實施例之一種功率晶片覆晶封裝結構的立體示意圖;第2圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構的爆炸示意圖;第3圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構沿割面線3-3的剖視示意圖;第4圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構沿割面線4-4的剖視示意圖;第5圖繪示依照本發明另一實施例之一種功率晶片覆晶封裝結構的側視示意圖;以及 第6圖繪示依照本發明又一實施例之一種功率晶片覆晶封裝方法的步驟流程圖。
以下將參照圖式說明本發明之實施例。為明確說明起見,許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而,閱讀者應瞭解到,這些實務上的細節不應用以限制本發明。也就是說,在本發明部分實施例中,這些實務上的細節是非必要的。此外,為簡化圖式起見,一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示;並且重複之元件將可能使用相同的編號或類似的編號表示。
此外,本文中當某一元件(或機構或模組等)「連接」、「設置」或「耦合」於另一元件,可指所述元件是直接連接、直接設置或直接耦合於另一元件,亦可指某一元件是間接連接、間接設置或間接耦合於另一元件,意即,有其他元件介於所述元件及另一元件之間。而當有明示某一元件是「直接連接」、「直接設置」或「直接耦合」於另一元件時,才表示沒有其他元件介於所述元件及另一元件之間。而第一、第二、第三等用語只是用來描述不同元件或成分,而對元件/成分本身並無限制,因此,第一元件/成分亦可改稱為第二元件/成分。且本文中之元件/成分/機構/模組之組合非此領域中之一般周知、常規或習知之組合,不能以元件/成分/機構/模組本身是否為習知,來判定其組合關係是否容易被技術領域中之通常知識者輕易完成。
請參閱第1圖、第2圖、第3圖及第4圖,其中第1圖繪示依照本發明一實施例之一種功率晶片覆晶封裝結構100的立體示意圖,第2圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構100的爆炸示意圖,第3圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構100沿割面線3-3的剖視示意圖,第4圖繪示第1圖之功率晶片覆晶封裝結構100沿割面線4-4的剖視示意圖。功率晶片覆晶封裝結構100包含一第一引線架200、一第二引線架300及一功率晶片400。
第一引線架200包含一第一本體210、一第一接腳220及一第一金屬層230,第一接腳220一體連接於第一本體210,第一金屬層230自第一本體210的一內表面211延伸至第一接腳220的複數表面(未標示)中的至少一表面。第二引線架300與第一引線架200組接且包含一第二本體310、二第二接腳320_1、320_2及二第二金屬層330_1、330_2,第二接腳320_1、320_2一體連接於第二本體310,第二金屬層330_1、330_2自第二本體310的一內表面311延伸至第二接腳320_1、320_2的複數表面(未標示)中的至少一表面。
功率晶片400位於第一引線架200及第二引線架300之間且包含一第一晶片表面410、一第一導電部411、一第二晶片表面420及二第二導電部421、422,第一晶片表面410朝向第一引線架200,第一導電部411位於第一晶片表面410且與第一金屬層230電性連接;第二晶片表面420朝向第二引線架300;二第二導電部421、422位於第 二晶片表面420且分別與第二金屬層330_1、330_2電性連接。其中,第一引線架200及第二引線架300至少其中之一包含一凹槽240容設功率晶片400(本實施例中,第一引線架200包含凹槽240,凹槽240位於第一本體210),第一引線架200與第二引線架300組接後,第一接腳220與二第二接腳320_1、320_2間隔排列。
在此要特別說明的是,雖然第1圖至第4圖中,第一接腳220的數量為一、第二接腳320_1、320_2的數量為二、第一導電部411的數量為一、第二導電部421、422的數量為二,但在其他實施例中,第一接腳的數量、第二接腳的數量、第一導電部的數量及第二導電部的數量均至少為一,且第一導電部的數量對應第一金屬層之數量,第二導電部的數量對應第二金屬層之數量,凹槽亦可置於第二引線架,不以圖示揭露為限。
藉此,功率晶片400的第一導電部411的電性可直接傳導至第一接腳220,二第二導電部421、422的電性可直接傳導至二第二接腳320_1、320_2,而可減少多次間接電性傳導造成的電性不穩定性。後面將更詳細地說明功率晶片覆晶封裝結構100的細節。
功率晶片400示例性為一絕緣柵雙極電晶體(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)晶片,其一側具有射極(emitter)與閘極(gate),另一側具有集極(collector),也就是說,如第2圖所示,功率晶片400的第一晶片表面410上的第一導電部411表示集極,第二晶片表面420上的二第二導 電部421、422分別表示閘極與射極。功率晶片亦可以是大功率的金氧半場效電晶體(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET),包含上述揭露但不以此為限。
第一引線架200及第二引線架300可以是陶瓷材料製成,第一金屬層230及第二金屬層330_1、330_2可以是以印刷方式或電鍍技術分別形成於第一本體210的內表面211及第二本體310的內表面311,不限於此。
第一接腳220可沿一z軸方向凸伸於第一本體210,二第二接腳320_1、320_2可沿一y軸方向凸伸於第二本體310,第二引線架300與第一引線架200組接後,第一接腳220位於二第二接腳320_1、320_2之間且平行排列。仔細而言,y軸方向、x軸方向、z軸方向彼此垂直,第一本體210在成型時即一體連接第一接腳220,第二本體310在成型時即一體連接第二接腳320_1、320_2,且第二本體310及二第二接腳320_1、320_2排列形成一凹口(未標示),當第二引線架300與第一引線架200組接時,第一接腳220凸入凹口,而可以與二第二接腳320_1、320_2沿x軸方向平行排列。
在其他實施例中,亦可以是依第一接腳、第一個第二接腳、第二個第二接腳的順序沿x軸方向平行排列,或是當第一接腳的數目為二,第二接腳的數目為一時,排列方式為第二接腳置於二第一接腳之間,可視功率晶片上第一導電部及第二導電部的數目及位置關係對應之配置,不以上述揭露為限。
較佳地,第一接腳220的至少一表面可具有一斜面部2211連接第一本體210的內表面211,透過此斜面部2211的配置,可以更有利於以印刷方式或電鍍方式形成第一金屬層230。而當凹槽240設置於第一本體210時,第一本體210的內表面211可包含槽底面區(未標示)及槽側面區(未標示),槽側面區連接槽底面區以環繞形成具有容置空間的凹槽240,第一金屬層230可以是由槽底面區延伸至斜面部2211,且更佳地,鄰近第一接腳220的槽側面區亦可以呈傾斜配置,而更有利於第一金屬層230的形成。
在本實施例中,各第二接腳320_1、320_2包含與第二本體310的內表面311位於同一側的表面、朝向凹口的表面以及與內表面311位於相反側的表面,且第二接腳320_1、320_2的上述三個表面上均分別設有第二金屬層330_1、330_2。也就是說,第二金屬層330_1、330_2由內表面311的一側電性延伸至相反於內表面311的一側,而使得第二金屬層330_1、330_2與第一金屬層230位於同一側,進而有助於後續之應用,但在其他實例中,亦可以是第一接腳、第二接腳的各面均分別設置第一金屬層及第二金屬層,不限於此。
第一接腳220與第一導電部411透過第一金屬層230直接電性連接,第二接腳320_1、320_2與第二導電部421、422分別透過第二金屬層330_1、330_2直接電性連接,因此當功率晶片覆晶封裝結構100應用於其他電路板時,可在讓第一接腳220上的第一金屬層230及第二接腳 320_1、320_2上的第二金屬層330_1、330_2透過焊錫直接電性連接於電路板,可有效避免間接電性連接造成之電性不穩定。
請參閱第5圖,其中第5圖繪示依照本發明另一實施例之一種功率晶片覆晶封裝結構100a的側視示意圖。功率晶片覆晶封裝結構100a的結構與第1圖至第4圖的功率晶片覆晶封裝結構100類似,其包含第一引線架200a及第二引線架300a。而功率晶片覆晶封裝結構100a可更包含一散熱鰭片600a,其設置於第一引線架200a。
更仔細地說,第一引線架200a可更包含一外金屬層250a,且第一本體(未標示)更包含一外表面212a,其中外金屬層250a設置於外表面212a,且外金屬層250a供散熱鰭片600a設置。散熱鰭片600a可增加功率晶片400的散熱效果,且第一引線架200a的第一本體在製作時可預留固定螺絲孔或帶牙螺絲孔,以方便散熱鰭片600a的安裝。
請參閱第6圖,並請一併參閱第1圖至第4圖,其中第6圖繪示依照本發明又一實施例之一種功率晶片覆晶封裝方法700的步驟流程圖。功率晶片覆晶封裝方法700應用於功率晶片覆晶封裝結構100,功率晶片覆晶封裝方法700包含一功率晶片植入步驟710、一組裝步驟720及一防水步驟730。
功率晶片植入步驟710是設置二第二導電材料512於第二引線架300的第二金屬層330_1、330_2,固接功率晶片400於第二金屬層330_1、330_2上,使第二導電部421、422透過二第二導電材料512分別與第二金屬層 330_1、330_2電性連接。在此要特別說明的是,雖然第1圖至第4圖中僅繪示一第二導電材料512位於第二金屬層330_1,然閱讀者可知,另一第二導電材料512是位於第二金屬層330_2上,僅因為剖面位置而不可見,不以此限制本發明。
組裝步驟720是設置第一導電材料511於功率晶片400的第一導電部411,組裝第一引線架200,使第一導電部411透過第一導電材料511與第一金屬層230電性連接。
防水步驟730是以一絕緣防水膠材(未繪示)密合第一引線架200與第二引線架300間的一縫隙。
其中,於功率晶片植入步驟710中,第二導電材料512可為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使二第二導電材料512分別固接於功率晶片400及第二金屬層330_1、330_2之間。或者,於組裝步驟720中,第一導電材料511可為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使第一導電材料511固接於功率晶片400及第一金屬層230之間。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (9)

  1. 一種功率晶片覆晶封裝結構,包含:一第一引線架,包含:一第一本體;至少一第一接腳,一體連接於該第一本體;及至少一第一金屬層,自該第一本體的一內表面延伸至該至少一第一接腳的複數表面中的至少一該表面;一第二引線架,與該第一引線架組接且包含:一第二本體;至少一第二接腳,一體連接於該第二本體;及至少一第二金屬層,自該第二本體的一內表面延伸至該至少一第二接腳的複數表面中的至少一該表面;以及一功率晶片,位於該第一引線架及該第二引線架之間且包含:一第一晶片表面,朝向該第一引線架;至少一第一導電部,位於該第一晶片表面且與該至少一第一金屬層電性連接,且該至少一第一導電部的數量對應該至少一第一金屬層之數量;一第二晶片表面,朝向該第二引線架;及 至少一第二導電部,位於該第二晶片表面且與該至少一第二金屬層電性連接,且該至少一第二導電部的數量對應該至少一第二金屬層之數量;其中,該第一引線架及該第二引線架至少其中之一包含一凹槽容設該功率晶片,該第一引線架與該第二引線架組接後,該至少一第一接腳與該至少一第二接腳間隔排列。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之功率晶片覆晶封裝結構,其中,該至少一第一接腳的數量為一,該至少一第二接腳的數量為二,且該凹槽位於該第一本體。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之功率晶片覆晶封裝結構,其中,該第一接腳沿一z軸方向凸伸於該第一本體,二該第二接腳沿一y軸方向凸伸於該第二本體,該第二引線架與該第一引線架組接後,該第一接腳位於二該第二接腳之間且平行排列。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之功率晶片覆晶封裝結構,其中,該第一接腳的該至少一表面具有一斜面部連接該第一本體的該內表面。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之功率晶片覆晶封裝結構,更包含:一散熱鰭片,設置於該第一引線架。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之功率晶片覆晶封裝結構,其中該第一引線架更包含一外金屬層,且該第一本體更包含一外表面;其中該外金屬層設置於該外表面,且該外金屬層供該散熱鰭片設置。
  7. 一種功率晶片覆晶封裝方法,應用於如申請專利範圍第1項所述之功率晶片覆晶封裝結構,該功率晶片覆晶封裝方法包含:一功率晶片植入步驟,設置至少一第二導電材料於該第二引線架的該至少一第二金屬層,固接該功率晶片於該至少一第二金屬層上,使該至少一第二導電部透過該至少一第二導電材料與該至少一第二金屬層電性連接;一組裝步驟,設置至少一第一導電材料於該功率晶片的該至少一第一導電部,組裝該第一引線架,使該至少一第一導電部透過該至少一第一導電材料與該至少一第一金屬層電性連接;以及 一防水步驟,以一絕緣防水膠材密合該第一引線架與該第二引線架間的一縫隙。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之功率晶片覆晶封裝方法,其中,於該功率晶片植入步驟中,該至少一第二導電材料為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使該至少一第二導電材料固接於該功率晶片及該至少一第二金屬層之間。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之功率晶片覆晶封裝方法,真中,於該組裝步驟中,該至少一第一導電材料為一錫膏、一銀膏、一導電膠或一金球,加熱使該至少一第一導電材料固接於該功率晶片及該至少一第一金屬層之間。
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