TWI673486B

TWI673486B - 光學檢測設備及其光源尋邊機構

Info

Publication number: TWI673486B
Application number: TW107105254A
Authority: TW
Inventors: 陳明生
Original assignee: 特銓股份有限公司
Priority date: 2018-02-13
Filing date: 2018-02-13
Publication date: 2019-10-01
Also published as: TW201934982A

Abstract

本發明涉及一種光學檢測設備及其光源尋邊機構，尤指一種供檢測一同側具有不同邊界之表面的透光基板之光源尋邊機構，其係由一光源組、一遮蔽組及一調光組所組成，該光源組可產生射向該基板之一受測表面之一入射光線，該入射光線經過該基板後會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線，而該遮蔽組用以遮蔽該至少一二次反射光線，且讓該照射受測表面之一次反射光線通過後由一設於外部之影像感測器接收，又該調光組用以讓光源組對該基板之受測表面運動方向邊界形成一反射光線，並讓該照射受測表面運動方向邊界之反射光線通過遮蔽組後由影像感測器接收，藉以透過受測表面的一次反射光線與邊界的反射光射之不同亮度來確認該受測表面的邊界。

Description

光學檢測設備及其光源尋邊機構

本發明係隸屬一種檢測光罩保護膜之光學技術，具體而言係一種光學檢測設備及其光源尋邊機構，尤其能解決不同高度之檢測表面的距焦問題，供有效確認檢測範圍，並可提高檢測的準確度。

按，近年來半導體製程中積體電路的線徑越來越細，目前已發展至10奈米以下，因此製程中的任何污染物都可能直接影響到相對製程或產品的良率。在半導體製程中，用于晶圓(Wafer)表面形成積體電路的所使用的光罩(Mask)是微影製程中不可或缺的元件之一，如第一圖所示之光罩(100)剖面圖來看，在一些實施中該光罩(100)包含有一基板(110)、一框架(120)及一保護膜(150)【Pellicle】，其中基板(110)係透光材質，例如石英或玻璃，而基板(110)具有兩平行間隔的表面(111、112)，其中一表面(111)中央具有一積體電路之圖形層(115)【Pattern】，又該框架(120)設於該表面(111)、且包圍該圖形層(115)，一般框架(120)的材質是陽極處理過的鋁合金，另該保護膜(150)係固定於框架(120)上、且其表面(151)與基板(110)表面(111)相互平行間隔，該保護膜(150)用來避免圖形層(115)遭受刮傷或污染，又該基板(110) 中具圖形層(115)之表面(111)於框架(120)外側保留有空白表面(113)，而前述之保護膜(150)是透光材質，在某些實施例中保護膜(150)也可以塗上抗反射材質來提供適當的抗反射特性，例如具抗反射的氟聚合物【Fluoropolymers】可以形成一低能量的表面而且更容易去除微塵。

然而，光罩污染問題是一直存在的，不論是光罩(100)中的基板(110)表面(112)或保護膜(150)表面(151)會附著污染物(A、B)，這些污染物(A、B)包含附著於表面的微粒、化學物質等，為了避免這類受到污染的光罩(100)應用於黃光微影製程中造成晶圓的不良，通常在進入製程前需對光罩(100)進行目視或儀器之檢查，對於保護膜(150)表面或基板(110)表面(112)之污染物(A、B)超出容許範圍的光罩(100)進行清洗，而由於其積體電路的線徑不斷縮小，對於污染物的容許值也變小，故近來大都採儀器檢查為主；現有用於光罩之檢查用儀器設備主要係由利用搭配光源及影像感測器【如CCD元件或CMOS元件】所組成之光學檢測設備來進行。然如第二圖所示，由於光罩(100)的基板(110)係透光材質，當光源(L)之入射光線(Lo)是照射在基板(110)的一側表面(112)時，入射光線(Lo)與基板(110)的接觸點可定義一與表面(112)垂交之界面法線(In)，且入射光線(Lo)與界面法線(In)間形成一入射角(θ 1)，而該入射光線(Lo)會產生一反射光線(Lr)，該入射光線(Lo)的入射角(θ 1)與反射光線(Lr)的反射角(θ 2)是相等的，其中入射角(θ 1)與反射角(θ 2)係指界面法線(In)【與基板 (110)垂交】與入射光線(Lo)及反射光線(Lr)間的夾角，而依據斯乃耳定律【Snell's Law】該入射光線(Lo)進入基板(110)後會因介質改變【如由空氣進入玻璃】產生折射光線(Lc)，且該折射光線(Lc)在穿出基板(110)的另一側表面(111)及保護膜(150)時，除了會有一道透射光線穿出外，其也會形成另一道於基板(110)內部行進的反射光線，且該反射光線在穿出基板(110)的表面(112)形成所謂的二次反射光線(Lr2)或二次反射光線以後之反射光線，並依此不斷的產生反射光線至光線衰減為止，而之前第一次的反射光線(Lr)也被定義為一次反射光線(Lr1)；故當影像感測器(C)在掃描時，如接收到二次反射光線或二次反射光線以後之反射光線，就會形成影像重疊的問題，該基板(110)表面(112)上的污染物(A)與另側表面(111)之圖形層(115)或保護膜(150)上的污染物(B)，會在影像感測器成像時出現疊影，如此將無法有效判斷出表面(112)的真實污染狀況，而造成誤判的問題。申請人前曾提出一種我國申請第106105196、106105198號之發明專利，以解決前述透光性基板(110)中不同表面的疊影問題，而提升光學檢測設備的檢查準確性；然當用於光罩(100)之保護膜(150)檢測時，由於保護膜(150)提供阻隔外界污染的實體屏障，防止微塵或揮發氣體污染光罩(100)具圖形層(115)的表面(111)，然而也因為它的厚度很薄所以在光學檢測過程中，易因其高穿透率而影響聚焦的進行，也會因光源(L)穿透保護膜(150)及基板(110) 於框架(120)外側之空白表面(113)區域的反射，而無法有效判斷出保護膜(150)表面高度，同時不同高度的保護膜(150)與空白表面(113)的反射角與反射亮度相當，也無法準確判斷保護膜(150)的範圍，而無法有效進行保護膜(150)表面的檢測；換言之，如何有效尋找到前述保護膜(150)的高度及範圍，對於光罩(100)的微塵及表面型污染物檢出能力影響極為關鍵，如何解決前述問題，係本發明的重要課題。

有鑑於此，本發明人乃針對前述現有光罩之保護膜於表面污染物檢測時所面臨的問題深入探討，並藉由本發明人多年從事相關開發的經驗，而積極尋求解決之道，經不斷努力之研究與發展，終於成功的創作出一種光學檢測設備及其光源尋邊機構，藉以克服現有者不易確定保護膜高度與範圍所造成的困擾與不便。

因此，本發明之主要目的係在提供一種光源尋邊機構，藉以能有效檢知透光基板中不同高度之表面，以解決不同表面的聚焦問題，並可有效確定檢測範圍。

又，本發明之次一主要目的係在提供一種應用光源尋邊機構之光學檢測設備，藉以能避免透明板材上下表面疊影的現象，可以有效檢出各種污染物、尺寸及位置，能大幅減少誤判，從而提高檢出率。

為此，本發明主要係透過下列的技術手段，來具體實現上述的各項目的與效能，應用於檢測一同側具有不同邊界之表面的透光基板之光源尋邊機構，其至少包含有：一光源組，其可產生射向該基板之一受測表面之一入射光線，該入射光線經過該基板後會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線；一遮蔽組，其用以遮蔽該至少一二次反射光線，且讓該照射受測表面之一次反射光線通過後由一設於外部之影像感測器接收，以及一調光組，其用以讓光源組對該基板之受測表面運動方向邊界形成一反射光線，並讓該照射受測表面運動方向邊界之反射光線通過遮蔽組後由影像感測器接收。

藉此，透過前述技術手段的具體實現，使本發明利用該光源尋邊機構相對受測表面的一次反射光線與邊界的反射光射之不同亮度來確認該受測表面的邊界以透過不同一次反射光線的明亮度來確認該受測表面的邊界，且進一步能有效檢出污染物，從而提高檢出率；再者，其影像感測器僅單純接收受測表面的影像，使其反射光線具有專一性，能加速掃描時的聚焦，大幅提高其掃描檢測的效率，同時能使用一般性光源來進行掃描，可以有效的降低後續光學模組之設備成本，大幅增進其實用性，而能增加其附加價值，並能提高其經濟效益。

為使貴審查委員能進一步了解本發明的構成、特徵及其他目的，以下乃舉本發明之若干較佳實施例，並配合圖式詳細說明如后，供讓熟悉該項技術領域者能夠具體實施。

(100)‧‧‧光罩

(110)‧‧‧基板

(111)‧‧‧表面

(112)‧‧‧表面

(113)‧‧‧空白表面

(115)‧‧‧圖形層

(120)‧‧‧框架

(150)‧‧‧保護膜

(151)‧‧‧表面

(10)‧‧‧箱體

(11)‧‧‧第一腔室

(12)‧‧‧第二腔室

(18)‧‧‧出光口

(20)‧‧‧光源組

(21)‧‧‧燈殼

(22)‧‧‧發光元件

(25)‧‧‧安裝架

(26)‧‧‧軸孔

(27)‧‧‧長弧槽

(291)‧‧‧凸軸

(292)‧‧‧鎖固件

(30)‧‧‧遮蔽組

(31)‧‧‧射出口

(32)‧‧‧射入口

(33)‧‧‧尋邊孔槽

(35)‧‧‧第一遮光板

(36)‧‧‧第二遮光板

(39)‧‧‧夾壓板

(40)‧‧‧調光組

(41)‧‧‧立板

(42)‧‧‧承座

(421)‧‧‧軸孔

(422)‧‧‧長弧槽

(426)‧‧‧鎖固件

(427)‧‧‧鎖固件

(43)‧‧‧第一反射板

(45)‧‧‧支架

(46)‧‧‧頂板

(47)‧‧‧第二反射板

(50)‧‧‧影像感測器

(60)‧‧‧機台

(61)‧‧‧工作平台

(62)‧‧‧載台

(65)‧‧‧光學模組

(70)‧‧‧處理單元

(75)‧‧‧顯示器

第一圖：係現有光罩之剖面示意圖。

第二圖：係光學檢測模組應用於光罩之光線示意圖。

第三圖：係本發明光源尋邊機構的仰視外觀示意圖。

第四圖：係本發明光源尋邊機構的立體分解示意圖。

第五圖：係本發明光源尋邊機構照射保護膜的光源路徑示意圖。

第六圖：係本發明光源尋邊機構照射保護膜框架的光源路徑示意圖。

第七圖：係本發明光學檢測設備應用光源尋邊機構的架構示意圖。

本發明係一種光學檢測設備及其光源尋邊機構，隨附圖例示本發明之具體實施例及其構件中，所有關於前與後、左與右、頂部與底部、上部與下部、以及水平與垂直的參考，僅用於方便進行描述，並非限制本發明，亦非將其構件限制於任何位置或空間方向。圖式與說明書中所指定的尺寸，當可在不離開本發明之申請專利範圍內，根據本發明之具體實施例的設計與需求而進行變化。

而本發明係一種光學檢測設備及其光源尋邊機構，尤其是用於檢測一具有兩個不同高度、邊界之受測表面的透光基板，如第一圖所示光罩(100)之基板(110)的表面(111)具有不同高度及邊界的保護膜(150)表面(151)，而本發明之詳細構成係如第三圖所顯示者，該光源尋邊機構至少係由一光源組(20)、一遮蔽組(30)及一調光組(40)所組成，其中該光源組(20)可產生射向該基板(110)之一表面之一入射光線，該入射光線經過該基板(110)後會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線，且該遮蔽組(30)用以遮蔽該至少一二次反射光線，且讓該照射表面之一次反射光線通過後由一影像感測器(50)接收，以及該調光組(40)用以讓光源組(20)對該基板(110)之受測表面運動方向邊界形成一反射光線，並讓該照射受測表面運動方向邊界之一反射光線通過遮蔽組後由一影像感測器(50)接收，以透過受測表面的一次反射光線與邊界的反射光線之不同亮度來確認該受測表面的邊界，且該光源組(20)、該遮蔽組(30)及該調光組(40)進一步可設於一一箱體(10)內。

如第三、四圖所示，在某些實施例中，該光源尋邊機構具有一箱體(10)，其係一封閉式、且不透光的板材所組成，而該箱體(10)內部形成有間隔、且不連通之一第一腔室(11)及一第二腔室(12)，又箱體(10)之第一腔室(11)與第二腔室(12)底部呈開口狀供組裝前述之遮蔽組(30)，另在某些實施例中第一腔室(11)與第二腔室(12)可以是一體式的箱體(10)結構，又或是第一腔室(11)與第二腔室(12)可以是分離狀的箱體(10)結構，其中該第一腔室(11)可供安裝前述之光源組(20)，而箱體(10)於第二腔室(12)異於第一腔室(11)之側壁形成有一出光口(18)；而該光源組(20)係安裝於該箱體(10)之第一腔室(11)內，該光源組(20)具有一燈殼(21)，且燈殼(21) 內設有至少一向下射出光線之發光元件(22)，該發光元件(22)射出之光線為具一定寬度之線性光線，該發光元件(22)可選自可見光或不可見光，例如鹵素燈(Halogen)、發光二極體(LED)、高週波螢光燈(Fluorescent)、金屬燈泡(Metal Halid)、氖燈(Xenon)或雷射光源(Laser)，且能射出之光線能被一光學檢測設備之影像感測器(50)【CCD或CMOS】所接收，在某些實施例中，該光源組(20)之燈殼(21)可利用兩鎖設於箱體(10)第一腔室(11)內壁面之安裝架(25)所固定，該等相對之安裝架(25)上具有一軸孔(26)及一同軸心之長弧槽(27)，供分別設有一凸軸(291)及一鎖固件(292)鎖設該燈殼(21)兩端，藉以能透過凸軸(291)及長弧槽(27)之設計而調整燈殼(21)內發光元件(22)光線射出的角度；另該遮蔽組(30)係設於箱體(10)底部，供封閉箱體(10)第一腔室(11)與第二腔室(12)，且該遮蔽組(30)分別具有一道對應第一腔室(11)之射出口(31)及一道對應第二腔室(12)之射入口(32)，令光源組(20)射出之光線可經射出口(31)於受測表面等角反射後由射入口(32)進入箱體(10)第二腔室(12)，且由箱體(10)第二腔室(12)之出光口(18)射出，並由箱體(10)外之影像感測器(50)接收該反射光線，再者該遮蔽組(30)於射出口(31)兩端中至少一端相對射入口(32)的一側分別具有一尋邊孔槽(33)，各該尋邊孔槽(33)的中心間距為光罩(100)不同高度表面之預定邊界，且尋邊孔槽(33)的長度可以是5mm~20mm，在某些實施例中係指如第一圖的光罩(100)保護膜(150)之邊界，且兩端尋邊孔槽(33) 與射出口(31)的長軸中心間距為不同高度表面之間距，在某些實施例中係指如第一圖的光罩(100)之保護膜(150)表面(151)與安裝基板(110)表面(111)間的間距，且前述射出口(31)、射入口(32)及尋邊孔槽(33)之寬度小於該受測透光基板(110)的厚度，其較佳寬度可以是0.1mm~5mm。且在某些實施例中，該遮蔽組(30)之射出口(31)與射入口(32)位置是可以被調整的，該遮蔽組(30)係由一第一遮光板(35)及一第二遮光板(36)所組成，其中第一遮光板(35)上具有射出口(31)及尋邊孔槽(33)，而第二遮光板(36)具有射入口(32)，又該遮蔽組(30)於箱體(10)底面兩側分別鎖設有一夾壓板(39)，供選擇性限制第一、二遮光板(35、36)之位移，用以供放鬆夾壓板(39)後可選擇性調整第一、二遮光板(35、36)之位置，以調整光線對應受測基板(110)的入射角與反射角，之後再利用鎖固夾壓板(39)予以固定該第一、二遮光板(35、36)，完成調整；而所述之調光組(40)則係安裝於箱體(10)內具光源組(20)之第一腔室(11)內部，該調光組(40)係由二個第一反射板(43)及二個第二反射板(47)所組成，供將光源組(20)之光線導由的遮蔽組(30)尋邊孔槽(33)射出，該調光組(40)係於對應第一腔室(11)的遮蔽組(30)內頂面兩端對應尋邊孔槽(33)處分別鎖設有一立板(41)，且兩側立板(41)上分別鎖設有一承座(42)，兩承座(42)上分別設有對應光源組(20)之第一反射板(43)，又該等承座(42)上具有一軸孔(421)及一同軸心之長弧槽(422)，供分別設有一鎖固件(426、 427)鎖設相對的立板(41)上，藉以能透過承座(42)之軸孔(421)與長弧槽(27)的設計，而能調整第一反射板(43)相對光源組(20)發光元件(22)的角度，再者調光組(40)於遮蔽組(30)內頂面兩端之尋邊孔槽(33)另側分設有一支架(45)，各該支架(45)上設有一可選擇性調整相對第一反射板(43)位置之頂板(46)，且各該頂板(46)底面具有對應第一反射板(43)之第二反射板(47)，供將發光元件(22)之光線導由尋邊孔槽(33)射出；藉此，組構成一用於檢測透光基板同側具兩個不同高度表面之光源尋邊機構者。

而本發明光源尋邊機構於實際應用時，則係如第五圖所示，其應用於光罩(100)之基板(110)中具框架(120)與保護膜(150)一側表面(111)的檢測時，當箱體(10)內光源組(20)之發光元件(22)射出光線時，其可相對遮蔽組(30)之射出口(31)與保護膜(150)表面(151)形成一入射光線(Lo)，該入射光線(Lo)可於保護膜(150)表面(151)形成一等角之一次反射光線(Lr1’)，該一次反射光線(Lr1’)可由遮蔽組(30)之射入口(32)進入，且經箱體(10)第二腔室(12)之出光口(18)射出，並由影像感測器(50)接收該一次反射光線(Lr1’)，且受到遮蔽組(30)之射出口(31)與射入口(32)的寬度作用，能避免下方基板(110)表面(111)或另一表面(112)反射之二次反射光線(Lr2)進入射入口(32)，有效濾除該二次反射光線(Lr2)及二次反射光線(Lr2)以後的反射光線，如此該影像感測器(50)成像時僅會出現保護膜(150)表面(151) 之污染物(B)，而不致出現基板(110)下方表面(111)或另一側表面(112)的污染物影像；同時，如第六圖所示，本發明光源尋邊機構可利用箱體(10)內調光組(40)之第一、二反射板(43、47)的調整，使光源組(20)之發光元件(22)射出的光線可另外經過第一、二反射板(43、47)的反射後由兩端尋邊孔槽(33)射出，且適可照射於保護膜(150)邊界之框架(120)表面，由於該框架(120)為不透光之材質所製成，其可將光線全部反射經由遮蔽組(30)的射入口(32)進入、且由出光口(18)射向影像感測器(50)接收，而由於照射在框架(120)與保護膜(150)上的入射角不同，再加上框架(120)表面的全反射，使兩者反射光線產生明亮度不同的現象，供有效判斷出該保護膜(150)的邊界範圍，且可用於調整焦距，而能提高準確度，以減少誤判的機率。

又本發明光源尋邊機構可以提供一種應用於一光學檢測設備，如第七圖所示，其係於一機台(60)上設有一工作平台(61)，該工作平台(61)上設有一可線性移動之載台(62)，而該載台(62)可供選擇性設置一光罩(100)，且機台(60)於工作平台(61)上、下兩側中至少一側設有一光學模組(65)，供逐一檢測該光罩(100)的其中一表面(112)或同步檢測該光罩(100)另側保護膜(150)表面(151)，該等光學模組(65)包含有一光源尋邊機構及一影像感測器(50)，該影像感測器(50)可以是CCD元件(Charge-coupled Device)或CMOS元件(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)，且該影像感測器(50)可供接收由光源尋邊機構箱體(10)之出光口(18)射出的光線，又該等光學模組(65)之光源尋邊機構光源組(20)與影像感測器(50)並連接至一供運算、比對與分析資料之處理單元(70)上，該處理單元(70)具有一顯示器(75)，該處理單元(70)可用於控制光源組(20)之發光元件(22)強度，且供將經影像感測器(50)接收之光罩(100)的反射光線之成像畫面顯示於該顯示器(75)上，而能供判讀污染物的尺寸、形狀、種類，且做為後續處理之所需。

綜上所述，可以理解到本發明為一創意極佳之發明，除了有效解決習式者所面臨的問題，更大幅增進功效，且在相同的技術領域中未見相同或近似的產品創作或公開使用，同時具有功效的增進，故本發明已符合發明專利有關「新穎性」與「進步性」的要件，乃依法提出發明專利之申請。

Claims

一種應用於檢測一同側具有不同邊界之表面的透光基板之光源尋邊機構，其至少包含有：一光源組，其可產生射向該基板之一受測表面之一入射光線，該入射光線經過該基板後會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線；一箱體，其內部形成有間隔不透光之一第一腔室及一第二腔室，又箱體之第一腔室與第二腔室底部呈開口狀，其中該第一腔室可供安裝前述之光源組，而箱體於第二腔室異於第一腔室之側壁形成有一供一次反射光線通過之出光口；一遮蔽組，其可組裝於箱體之第一腔室與第二腔室的底部開口，該遮蔽組分別具有一道對應第一腔室、供入射光線通過之射出口及一道對應第二腔室、供一次反射光線通過之射入口，令該遮蔽組用以遮蔽該至少一二次反射光線，且讓該照射受測表面之一次反射光線通過後由一設於外部之影像感測器接收，再者該遮蔽組於射出口兩端中至少一端相對射入口的一側分別具有一對應受測表面邊界之尋邊孔槽，以及一調光組，其係組裝於箱體內具光源組之第一腔室內部，該調光組用以讓光源組對該基板之受測表面運動方向邊界形成一反射光線，並讓該照射受測表面運動方向邊界之反射光線通過遮蔽組之尋邊孔槽後由影像感測器接收；藉以透過受測表面的一次反射光線與邊界的反射光射之不同亮度來確認該受測表面的邊界。
如申請專利範圍第1項所述之光源尋邊機構，其中該光源組具有一燈殼，且燈殼內設有至少一向下射出光線之發光元件。
如申請專利範圍第2項所述之光源尋邊機構，其中該光源組之燈殼可利用兩鎖設於箱體第一腔室內壁面之安裝架所固定，該等相對之安裝架上具有一軸孔及一同軸心之長弧槽，供分別設有一凸軸及一鎖固件鎖設該燈殼兩端，供透過凸軸與長弧槽之設計而調整燈殼內發光元件光線射出的角度。
如申請專利範圍第1項所述之光源尋邊機構，其中該遮蔽組係由一第一遮光板及一第二遮光板所組成，該第一遮光板上具有射出口及尋邊孔槽，而該第二遮光板具有射入口，又該遮蔽組於箱體底面兩側分別鎖設有一夾壓板，供選擇性限制第一、二遮光板之位移。
如申請專利範圍第1項所述之光源尋邊機構，其中該調光組則係安裝於箱體內具光源組之第一腔室內部，該調光組係由二個第一反射板及二個第二反射板所組成，供將光源組之光線導由的遮蔽組尋邊孔槽射出。
如申請專利範圍第1項所述之光源尋邊機構，其中該調光組係於對應第一腔室兩端對應尋邊孔槽處分別鎖設有一立板，且兩側立板上分別鎖設有一承座，兩承座上分別設有對應光源組之第一反射板，又該等承座上具有一軸孔及一同軸心之長弧槽，供分別設有一鎖固件鎖設相對的立板上，供調整第一反射板相對光源組發光元件的角度，再者調光組兩端之尋邊孔槽另側分設有一支架，各該支架上設有一可選擇性調整相對第一反射板位置之頂板，且各該頂板底面具有對應第一反射板之第二反射板，供將光源組之反射光線導由尋邊孔槽射出。
一種光學檢測設備，其係於一機台上設有一工作平台，該工作平台上設有一可線性移動之載台，而該載台可供選擇性設置一受測件，且機台於工作平台兩側中至少一側設有一光學模組，供逐一檢測該受測件的其中一表面或同步檢測該受測件的兩表面；而該等光學模組包含有一如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之光源尋邊機構及一影像感測器，該影像感測器可供接收光源尋邊機構所產生經該基板之受測表面之一次反射光線及受測表面邊界之反射光線，又該等光學模組之光源尋邊機構光源與影像感測器並連接有一處理單元，供操控該光源尋邊機構內光源強度及處理該影像感測器之成像資料，且該處理單元具有一供顯示成像畫面之顯示器。
一種可供檢測一同側具有不同邊界之表面的透光基板之光學檢測設備，包含：一光源組，其可產生射向該基板之一受測表面之一入射光線，該入射光線經過該基板後會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線；一箱體，其內部形成有間隔不透光之一第一腔室及一第二腔室，又箱體之第一腔室與第二腔室底部呈開口狀，其中該第一腔室可供安裝前述之光源組，而箱體於第二腔室異於第一腔室之側壁形成有一供一次反射光線通過之出光口；一影像感測器，其對應箱體之出光口，供接收該一次反射光線；一遮蔽組，其可組裝於箱體之第一腔室與第二腔室的底部開口，該遮蔽組分別具有一道對應第一腔室、供入射光線通過之射出口及一道對應第二腔室、供一次反射光線通過之射入口，令該遮蔽組用以遮蔽該至少一二次反射光線，且讓該照射受測表面之一次反射光線通過後由一設於外部之影像感測器接收，再者該遮蔽組於射出口兩端中至少一端相對射入口的一側分別具有一對應受測表面邊界之尋邊孔槽，及一調光組，其係組裝於箱體內具光源組之第一腔室內部，該調光組用以讓光源組對該基板之受測表面運動方向邊界形成一反射光線，並讓該照射受測表面運動方向邊界之反射光線通過遮蔽組之尋邊孔槽後由影像感測器接收。