TWI664071B - 光學膜製作設備及光學膜的製作方法 - Google Patents

Abstract

一種光學膜製作設備，包含承載裝置、曲面結構及照射器。承載裝置用來導引光學膜。曲面結構具有端面。端面具有曲率半徑且端面用以接觸光學膜之內表面。照射器設置於承載裝置之一側，使得光學膜的一部分位於照射器與曲面結構之間，且照射器用來提供光束照射光學膜。

Description

光學膜製作設備及光學膜的製作方法

本發明是關於一種光學膜製作設備及光學膜的製作方法。

隨著攜帶式電子產品的技術開發，相關產品的厚度也朝更輕更薄方向前進。大多數的電子產品其顯示方式仍需設置額外的光源，且其中這些額外的光源也多會再設置微型結構導引所提供的光束。對此，用來導引光束的微型結構的製作方式已是相關領域重要的研發課題之一。例如，面對微型結構的大量需求，已有多種方式可以量產微型結構，然而，此些方式多會存在缺陷，使得生產成本會過高或是所生產的成品良率不達標準，也因此，如何快速且有效率的量產出微型結構已成相關領域的重要研發課題，亦成為當前相關領域亟需改進的目標。

本發明之一實施方式提供一種光學膜製作設備，包含承載裝置、曲面結構及照射器，其中承載裝置可用來帶動 及導引光學膜。曲面結構具有端面，於承載裝置導引光學膜期間，曲面結構的端面可接觸光學膜之內表面，並進而使得光學膜的光罩膜變形。照射器可用來提供光束照射光學膜，以對光學膜進行曝光製程。藉由變形的光罩膜，光敏材料層在不同位置分別會受到不同的曝光量，從而使光敏材料層於顯影後成為具起伏狀的外形，且此起伏狀的外形可做為柱狀透鏡使用。

本發明之一實施方式提供一種光學膜製作設備，包含承載裝置、曲面結構及照射器。承載裝置用來導引光學膜。曲面結構具有端面。端面具有曲率半徑且端面用以接觸光學膜之內表面。照射器設置於承載裝置之一側，使得光學膜的一部分位於照射器與曲面結構之間，且照射器用來提供光束照射光學膜。

於部分實施方式中，曲面結構為微滾輪，用以頂抵光學膜之內表面，以使光學膜朝向照射器突出。

於部分實施方式中，承載裝置包含至少兩滾輪，且光學膜製作設備更包含微結構模組以及致動器。致動器連接微結構模組，其中致動器用來帶動微結構模組以調整微結構模組與光學膜之間的距離，使得微結構模組頂抵光學膜之內表面而朝向照射器突出。

於部分實施方式中，微結構模組為微結構陣列，且微結構陣列為M*N的矩形陣列，其中M及N分別為正整數。

於部分實施方式中，微結構陣列中的相鄰兩個微結構之間的距離為D微米(μm)，且1μm≦D≦1000μm。

於部分實施方式中，曲面結構之端面所具有的曲 率半徑為R(微米；μm)，且1μm≦R≦1000000μm。

本發明之一實施方式提供一種光學膜的製作方法，包含以下步驟。將光學膜放置光學膜製作設備之承載裝置上，其中光學膜包括光敏材料層和光罩膜。將光學膜之第一曝光區域移動至曲面結構或微結構模組上，並使曲面結構或微結構模組頂抵光學膜之第一曝光區域的內表面，進而使得光罩膜變形。利用照射器對光學膜之第一曝光區域的光敏材料層和光罩膜進行曝光製程。

於部分實施方式中，進行曝光製程後，更包含以下步驟。移除光學膜之光罩膜。對光學膜之光敏材料層進行顯影。

於部分實施方式中，對光學膜之第一曝光區域的光敏材料層和光罩膜進行曝光製程更包含透過至少一狹縫遮罩對光學膜之第一曝光區域照射光束。

於部分實施方式中，進行曝光製程之步驟更包含以下步驟。照射光學膜之第一曝光區域，以進行曝光。停止照射光學膜之第一曝光區域，並將光學膜之第二曝光區域移動至曲面結構上，並使曲面結構頂抵光學膜之第二曝光區域的內表面，進而使得光罩膜變形；並透過具有曲率之端面，而使光學膜之第二曝光區域產生形變。利用照射器對光學膜之第二曝光區域的光敏材料層和光罩膜進行另一曝光製程。

100A、200A‧‧‧光學膜製作設備

102‧‧‧承載裝置

104‧‧‧第一滾輪

106‧‧‧第二滾輪

108、109A、109B‧‧‧導引滾輪

110‧‧‧曲面結構

111‧‧‧微結構

112‧‧‧端面

114‧‧‧照射器

116‧‧‧致動器

118‧‧‧狹縫遮罩

120‧‧‧開口

122‧‧‧遮蔽部

200‧‧‧捲材

202‧‧‧內表面

210、210’、210”‧‧‧光學膜

212、212’、212”‧‧‧軟性基材

214、214’、214”‧‧‧光敏材料層

215、215’、215”‧‧‧圖案層

216、216”‧‧‧光罩膜

216A‧‧‧第一部分

216B‧‧‧第二部分

A1、A2、A3、A4‧‧‧箭頭

D‧‧‧距離

L‧‧‧光束

R‧‧‧曲率半徑

Z1‧‧‧第一曝光區域

Z2‧‧‧第二曝光區域

Z3‧‧‧第三曝光區域

第1圖為依據本揭露內容的第一實施方式繪示光學膜製作設備的側視示意圖。

第2A圖至第2D圖繪示進行光學膜的製作方法的側視示意圖。

第3A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜的立體示意圖。

第3B圖繪示第3A圖的光學膜的側視示意圖。

第4圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜的立體示意圖。

第5A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜的立體示意圖。

第5B圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過狹縫遮罩進行製作光學膜的示意圖。

第6圖為依據本揭露內容的第二實施方式繪示光學膜製作設備的側視示意圖。

第7A圖至第7E圖繪示進行光學膜的製作方法的側視示意圖。

第8A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜的立體示意圖。

第8B圖繪示第8A圖的光學膜的側視示意圖。

以下將以圖式揭露本發明之複數個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。 然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本發明。也就是說，在本發明部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。

在本文中，使用第一、第二與第三等等之詞彙，是用於描述各種元件、組件、區域、層是可以被理解的。但是這些元件、組件、區域、層不應該被這些術語所限制。這些詞彙只限於用來辨別單一元件、組件、區域、層。因此，在下文中的一第一元件、組件、區域、層也可被稱為第二元件、組件、區域、層，而不脫離本發明的本意。

請參考第1圖，第1圖為依據本揭露內容的第一實施方式繪示光學膜製作設備100A的側視示意圖。光學膜製作設備100A可透過曝光及顯影製程而製造出光學膜，並藉此大量生產光學膜。光學膜製作設備100A包含承載裝置102、曲面結構110及照射器114，且捲材200放置於光學膜製作設備100A內。

承載裝置102包含第一滾輪104、第二滾輪106及多個導引滾輪108，承載裝置102可透過其包含的滾輪組合而導引捲材200。舉例而言，捲材200的相對兩端處可分別由第一滾輪104及第二滾輪106捲成如捲軸的樣子，而當承載裝置102的第一滾輪104、第二滾輪106及多個導引滾輪108產生轉動的時候，可帶動捲材200於承載裝置102上移動。

曲面結構110的設置位置對應於承載裝置102的滾輪組合，以使由承載裝置102所導引的捲材200會經過曲面 結構110，也就是說，曲面結構110的設置位置會對應於捲材200的延伸路徑。本實施方式中，曲面結構110可以是微滾輪，並具有端面112。端面112具有曲率半徑R(單位：微米；μm)，其中1μm≦曲率半徑R≦1000000μm，較佳地，1μm≦曲率半徑R≦10000μm，更佳地，1μm≦曲率半徑R≦1000μm。由於曲面結構110的設置位置對應於捲材200的延伸路徑，故曲面結構110的端面112可接觸捲材200之內表面202，即曲面結構110可用以頂抵捲材200之內表面202。

當承載裝置102的滾輪組合產生轉動的時候，由曲面結構110的端面112所頂抵之捲材200可被帶動產生相對曲面結構110的移動。舉例而言，當第一滾輪104以及第二滾輪106沿箭頭A1所示的方向進行逆時針轉動的時候，由端面112所頂抵之捲材200會被帶動而沿箭頭A2所示的方向進行相對曲面結構110的運動。

照射器114設置於承載裝置102之一側，由曲面結構110的端面112所頂抵之捲材200可位於曲面結構110與照射器114之間，且由曲面結構110的端面112所頂抵之捲材200會向照射器114突出。照射器114可用來提供光束照射由承載裝置102導引之捲材200，其中所提供的光束可以是紫外光。更進一步而言，照射器114所照射的光束是朝著曲面結構110行進，以使所提供的光束可照射到由曲面結構110的端面112所頂抵之部分捲材200。

以下將透過第2A圖至第2D圖對光學膜的製作方法做進一步說明，其中第2A圖至第2D圖繪示進行光學膜的製 作方法的側視示意圖。

請參考第2A圖，類似第1圖的捲材200，光學膜210可放置於光學膜製作設備100A的承載裝置102的滾輪組合上。光學膜210可包括軟性基材212、光敏材料層214以及光罩膜216，其中光敏材料層214設置於軟性基材212上，而光罩膜216設置於光敏材料層214上。光敏材料層214可透過將正型光阻材料塗布在軟性基材212上，並經固化後形成。光罩膜216可透過將遮光性材料塗布在光敏材料層214上而形成，或是，光罩膜216也可是一種膜材，並透過可剝離性膠體或是光學膠(optical clear adhesive；OCA)黏附在光敏材料層214上。

光學膜210的軟性基材212與曲面結構110的端面112接觸。當要對光學膜210進行製作流程的時候，可透過承載裝置102的滾輪組合帶動光學膜210。舉例而言，當承載裝置102的滾輪組合進行轉動的時候，光學膜210的第一曝光區域Z1會沿著箭頭A3朝著曲面結構110的位置移動。

請再參考第2B圖以及第2C圖，其中第2C圖為繪示第2B圖的曲面結構110處的放大示意圖。當光學膜210的第一曝光區域Z1移動至曲面結構110的位置處時，曲面結構110的端面112可頂抵光學膜210之第一曝光區域Z1的內表面(或是軟性基材212的內表面)，進而使得光學膜210的光罩膜216變形。接著，利用照射器114對光學膜210之第一曝光區域Z1的光敏材料層214和光罩膜216照射光束L，以對光學膜210之第一曝光區域Z1的光敏材料層214和光罩膜216進行曝光製程，其中光束L可為紫外光。

如第2C圖所示，第一曝光區域Z1的光罩膜216會因拉伸應力而於曲面結構110的端面112處產生變形，且變形後的光罩膜216會因拉伸而變薄。對此，光罩膜216的第一部分216A所受到的拉伸應力會大於光罩膜216的第二部分216B，故使得光罩膜216的第一部分216A的變形程度會較光罩膜216的第二部分216B劇烈，並也使得光罩膜216的第一部分216A的厚度會小於光罩膜216的第二部分216B。

由於光罩膜216的遮光能力會與其厚度呈正相關，故變形後的光罩膜216的遮光能力相對於未變形或變形較輕微的光罩膜216的遮光能力會較低。也就是說，當對變形後的光罩膜216照射光束L的時候，相對於未變形或變形較輕微的光罩膜216，光束L對變形後的光罩膜216會有較強的穿透能力，致使光罩膜216下的光敏材料層214的曝光量也會增加。舉例而言，第2C圖中，於第一曝光區域Z1內，由於光罩膜216的第一部分216A的厚度會小於光罩膜216的第二部分216B，故對第一曝光區域Z1內的光罩膜216照射光束L的時候，由第一部分216A所遮蔽的光敏材料層214的曝光量會大於由第二部分216B所遮蔽的光敏材料層214的曝光量。

於光學膜210之第一曝光區域Z1內的光敏材料層214接受曝光後，可停止對光學膜210之第一曝光區域Z1照射光束L，以完成對光學膜210之第一曝光區域Z1所進行的曝光製程。對光學膜210之第一曝光區域Z1所進行的曝光製程結束後，可將光學膜210之第二曝光區域Z2移動至曲面結構110的位置處，並使曲面結構110的端面112頂抵光學膜210之第二曝 光區域Z2的內表面，進而使得第二曝光區域Z2內的光罩膜216變形。接著，再次利用照射器114對光學膜210之第二曝光區域Z2的光敏材料層214和光罩膜216照射光束L，藉以對光學膜210之第二曝光區域Z2的光敏材料層214和光罩膜216進行另一次的曝光製程。同樣地，於完成對光學膜210之第二曝光區域Z2所進行的曝光製程後，可依序再使用相同的步驟，對第三曝光區域Z3及後續的曝光區域進行曝光製程，依此類推，依序完成光學膜210的曝光製程。

接著請再看到第2D圖，當所進行的曝光製程結束後，可將光罩膜216自光敏材料層214上方移除，以使光學膜210剩餘的部分為光敏材料層214及軟性基材212。於移除光罩膜216後，再接著對光學膜210之光敏材料層214進行顯影，而形成圖案層215。根據前述，由於光敏材料層214所接受的曝光量有所不同，故於進行顯影後，圖案層215的圖案厚度也會不相同。利用此機制，顯影後的圖案層215可做為柱狀透鏡陣列使用，如第3A圖及第3B圖所示，其中第3A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜210的立體示意圖，而第3B圖繪示第3A圖的光學膜210的側視示意圖。第3A圖及第3B圖中，光學膜210的圖案層215具有柱狀透鏡陣列，且柱狀透鏡陣列包含多個彼此平行的柱狀透鏡，其中第2B圖的曝光區域對應地繪示在此些柱狀透鏡上。

以下將以相鄰的第一曝光區域Z1及第二曝光區域Z2為例做說明。於第一曝光區域Z1及第二曝光區域Z2內，光敏材料層214受曝光量最多的地方於顯影後會成為相鄰的柱 狀透鏡之間的界線(凹下處)，而光敏材料層214受曝光量最少的地方於顯影後會成為柱狀透鏡的中心點(凸起處)。也就是說，藉由變形的光罩膜216(如第2C圖所示)，光敏材料層214在不同位置分別會受到不同的曝光量，從而使光敏材料層214於顯影後成為具起伏狀的外形，且此起伏狀的外形可做為柱狀透鏡使用。由於製作光學膜210的製程可透過捲對捲(roll to roll)實現，故光學膜210也可以量產的方式製作。於此實施例中，透鏡形狀類似凸透鏡，然本發明不以此為限，藉由調整曲面結構的端面形狀可以得到不同的形狀。

另一方面，若光敏材料層改以負型光阻材料塗布在軟性基材上而形成的話，則其也可形成具有柱狀透鏡陣列的光學膜，然而，各曝光區域對應於柱狀透鏡的位置將會有變動。舉例而言，請參考第4圖，第4圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜210’的立體示意圖，且光學膜210’的圖案層215’是透過負型光阻材料形成。第4圖中，光學膜210’的圖案層215’會具有柱狀透鏡陣列，且柱狀透鏡陣列包含多個彼此平行的柱狀透鏡，其中第2B圖及第2C圖的曝光區域對應地繪示在此些柱狀透鏡上。以下將以相鄰的第一曝光區域Z1及第二曝光區域Z2為例做說明。於第一曝光區域Z1及第二曝光區域Z2內，圖案層215’受曝光量最多的地方於顯影後會成為相鄰的柱狀透鏡之間的界線(凸起處)，而圖案層215’受曝光量最少的地方於顯影後會成為柱狀透鏡的中心點(凹下處)。於此實施例中，透鏡形狀類似凹透鏡，然本發明不以此為限，藉由調整曲面結構的端面形狀可以 得到不同的形狀。

此外，於所進行的曝光製程中，可進一步使用狹縫遮罩遮蔽照射器所發射的光束，以使光敏材料層於顯影後產生對應的圖案。舉例而言，請同時參考第5A圖及第5B圖，第5A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜210”的立體示意圖，而第5B圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過狹縫遮罩118進行製作光學膜210”的示意圖。第5A圖及第5B圖中，光學膜210”的光敏材料層214”是透過負型光阻材料形成，且於所進行的曝光製程使用了狹縫遮罩遮蔽照射器114(請見第2B圖)所發射的光束。

如第5B圖所示，狹縫遮罩118會具有開口120以及遮蔽部122。透過開口120以及遮蔽部122，由照射器114(請見第2B圖)所發射的光束的一部分會穿過狹縫遮罩118，而由照射器114(請見第2B圖)所發射光束的另一部分會被遮蔽部122遮蔽，其中穿過狹縫遮罩118的光束會射向光學膜210”的光罩膜216”。由於狹縫遮罩118遮蔽了部分由照射器114(請見第2B圖)所發射的光束，第5A圖的光學膜210”中，圖案層215”會具有柱狀透鏡陣列，且同一曝光區域內的柱狀透鏡的數量會是多個並在其之間存在有間隙，其中所存在的間隙會對應狹縫遮罩118的遮蔽部122，即曝光區域內未受到光照的光敏材料層214”會在顯影時被移除而成為柱狀透鏡間的間隙。

請再看到第6圖，其中第6圖為依據本揭露內容的第二實施方式繪示光學膜製作設備的側視示意圖。本實施方式 的光學膜製作設備200A包含承載裝置102、曲面結構110、照射器114及致動器116，且捲材200放置於光學膜製作設備200B內。

承載裝置102包含第一滾輪104、第二滾輪106及多個導引滾輪108、109A及109B。本實施方式中，承載裝置102可透過如第一實施方式所述的方式帶動並導引捲材200。

曲面結構110的設置位置為對應於承載裝置102的滾輪組合，其中曲面結構110可設置於導引滾輪109A與109B之間，以使由承載裝置102的導引滾輪109A與109B所導引的捲材200可經過曲面結構110的設置位置處。本實施方式中，曲面結構110為微結構模組，且包含多個微結構111，亦即此微結構模組可以是微結構陣列。微結構111可以M*N的矩形陣列排列，其中M及N分別為正整數，且微結構陣列中的相鄰兩個微結構111之間的距離為距離D(單位：微米；μm)，其中1μm≦D≦1000μm。此外，每一個微結構111具有端面112，其中端面112具有曲率半徑R(單位：微米；μm)，其中1μm≦曲率半徑R≦1000000μm，較佳地，1μm≦曲率半徑R≦10000μm，更佳地，1μm≦曲率半徑R≦1000μm。

致動器116連接曲面結構110，其中致動器116用來帶動曲面結構110，藉以調整曲面結構110與捲材200之間的距離。由於承載裝置102所導引的捲材200可經過曲面結構110的設置位置處，故當透過致動器116使曲面結構110與捲材200之間的距離縮短時，曲面結構110的微結構111的端面112可接觸捲材200，頂抵捲材200之內表面202。

照射器114設置於承載裝置102之一側，使得由曲面結構110的微結構111的端面112所頂抵之捲材200可位於曲面結構110與照射器114之間。此外，致動器116可帶動曲面結構110，以使由曲面結構110的微結構111的端面112所頂抵之捲材200會向照射器114突出。照射器114可用來提供光束照射由承載裝置102導引之捲材200。更進一步而言，照射器114所提供的光束是朝著曲面結構110行進，以使所提供的光束可照射到由曲面結構110的微結構111的端面112所頂抵之捲材200。

以下將透過第7A圖至第7E圖對光學膜的製作方法做進一步說明，其中第7A圖至第7E圖繪示進行光學膜的製作方法的側視示意圖。

請參考第7A圖，類似第2A圖的光學膜210，本實施方式的光學膜210可放置於光學膜製作設備200B之承載裝置102的滾輪組合上。本實施方式的光學膜210的架構類似第2A圖的光學膜210，即光學膜210包括軟性基材212、光敏材料層214以及光罩膜216，其中本實施方式的光敏材料層為透過負型光阻材料形成，且光罩膜216會位於光敏材料層214與照射器114之間。曲面結構110可位於致動器116與光學膜210之間。

當要對光學膜210進行製程的時候，可透過承載裝置102的滾輪組合帶動光學膜210。舉例而言，當承載裝置102的滾輪組合進行轉動的時候，光學膜210的第一曝光區域Z1會沿著箭頭A4移動至曲面結構110與照射器114之間。

請參考第7B圖，當光學膜210的第一曝光區域Z1移動至曲面結構110與照射器114之間的時候，致動器116可帶動曲面結構110朝著光學膜210移動，以縮短曲面結構110的微結構111的端面112與光學膜210之間的距離，並持續到曲面結構110的微結構111的端面112頂抵光學膜210之第一曝光區域Z1的內表面202，進而使得光學膜210的光罩膜216產生變形。此外，於致動器116帶動曲面結構110朝著光學膜210移動的期間，承載裝置102的滾輪組合會停止轉動。

請同時參考第7C圖及第7D圖，其中第7D圖為繪示第7C圖的曲面結構110頂抵光學膜210處的放大示意圖。當致動器116帶動曲面結構110至定位後，可利用照射器114對光學膜210之第一曝光區域Z1照射光束L，藉以對光學膜210之第一曝光區域Z1的光敏材料層214和光罩膜216進行曝光製程，其中光束L可為紫外光。

如第7D圖所示，第一曝光區域Z1的光罩膜216會因拉伸應力而於曲面結構110的端面112處產生變形，且變形後的光罩膜216會因拉伸而變薄。對此，光罩膜216的第一部分216A所受到的拉伸應力會大於光罩膜216的第二部分216B，故使得光罩膜216的第一部分216A的變形程度會較光罩膜216的第二部分216B劇烈，即光罩膜216的第一部分216A的厚度會小於光罩膜216的第二部分216B。因此，光束L對光罩膜216的第一部分216A的穿透能力會大於光束L對光罩膜216的第二部分216B的穿透能力，致使光罩膜216的第一部分216A下的光敏材料層214的曝光量會大於光罩膜216的第二 部分216B下的光敏材料層214。

於光學膜210之第一曝光區域Z1內的光敏材料層214接受曝光後，可停止對光學膜210之第一曝光區域Z1照射光束L，以完成對光學膜210之第一曝光區域Z1所進行的曝光製程。於對光學膜210之第一曝光區域Z1所進行的曝光製程結束後，可在透過致動器116帶動曲面結構110，以使曲面結構110遠離光學膜210之第一曝光區域Z1的內表面202，接著，再將光學膜210之後續曝光區域移動至曲面結構110與照射器114之間的位置處，並再帶動曲面結構110接近且頂抵光學膜210之後續曝光區域的內表面，藉以對光學膜210之後續曝光區域的光敏材料層214和光罩膜216進行另一次的曝光製程，依此類推，依序完成光學膜210的曝光製程。

接著請再看到第7E圖，當所進行的曝光製程結束後，可將光罩膜216自光敏材料層214上方移除，以使光學膜210剩餘的部分為光敏材料層214及軟性基材212。於移除光罩膜216後，再接著對光學膜210之光敏材料層214進行顯影，而形成圖案層215。顯影後的光學膜可如第8A圖及第8B圖所示，其中第8A圖為根據本揭露內容的部分實施方式繪示透過光學膜製作設備製作而成的光學膜210的立體示意圖，而第8B繪示第8A圖的光學膜210的側視示意圖。第8A圖及第8B圖中，光學膜210的圖案層215會具有透鏡陣列，且透鏡陣列包含以矩陣形式排列的多個半球形透鏡，其中第8A圖及第8B圖所繪的多個半球形透鏡可對應於第7D圖的光學膜210的單個曝光區域的顯影結果，即半球形透鏡可與第7D圖的曲面結構 110的微結構111具有相同的排列方式，皆呈M*N的矩形陣列排列。對此，光敏材料層214受曝光量最多的地方於顯影後會成為半球形透鏡的中心點，而光敏材料層214受曝光量最少的地方於顯影後會成為相鄰的半球形透鏡之間的界線，此外，光敏材料層214受曝光量自最少往最多的區域會成為半球形透鏡的結構本體。於此實施例中，透鏡形狀類似凸透鏡，然本發明不以此為限，藉由調整曲面結構的端面形狀可以得到不同的形狀。

綜上所述，本發明的光學膜製作設備包含承載裝置、曲面結構及照射器，其中承載裝置可用來帶動及導引光學膜。曲面結構具有端面，於承載裝置導引光學膜期間，曲面結構的端面可接觸光學膜之內表面，並進而使得光學膜的光罩膜變形。照射器可用來提供光束照射光學膜，以對光學膜進行曝光製程。藉由變形的光罩膜，光敏材料層在不同位置分別會受到不同的曝光量，從而使光敏材料層於顯影後成為具起伏狀的外形，且此起伏狀的外形可做為柱狀透鏡使用。

雖然本發明已以多種實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (10)

1. 一種光學膜製作設備，包含：一承載裝置，用來導引一光學膜；一曲面結構，設置於該承載裝置內，其中該曲面結構具有一端面，該端面具有一曲率半徑且該端面用以接觸該光學膜之一內表面；以及一照射器，對應該曲面結構設置於該承載裝置之一側，使得該光學膜的一部分位於該照射器與該曲面結構之間，其中該照射器用來提供朝著該曲面結構行進的一光束，以使該光束照射該光學膜。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜製作設備，其中該曲面結構為一微滾輪，用以頂抵該光學膜之該內表面，以使該光學膜朝向該照射器突出。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜製作設備，其中該承載裝置包含至少兩滾輪，且該曲面結構為一微結構模組，該微結構模組用以透過該端面接觸該光學膜之該內表面，其中該光學膜製作設備更包含：一致動器，連接該微結構模組，其中該致動器用來帶動該微結構模組以調整該微結構模組與該光學膜之間的距離，使得該微結構模組頂抵該光學膜之該內表面而朝向該照射器突出。
4. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜製作設備，其中該微結構模組為一微結構陣列，且該微結構陣列為M*N的矩形陣列，其中M及N分別為正整數。
5. 【第5如申請專利範圍第4項所述之光學膜製作設備，其中該微結構陣列中的相鄰兩個微結構之間的距離為D微米(μm)，且1μm≦D≦1000μm。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜製作設備，其中該曲面結構之該端面所具有的該曲率半徑為R(微米；μm)，且1μm≦R≦1000000μm。
7. 一種光學膜的製作方法，包含：將一光學膜放置於如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之光學膜製作設備之該承載裝置上，其中該光學膜包括一光敏材料層和一光罩膜；將該光學膜之一第一曝光區域移動至該曲面結構上，並使該曲面結構之該端面頂抵該光學膜之該第一曝光區域的一內表面，進而使得該光罩膜變形；以及利用該照射器對該光學膜之該第一曝光區域的該光敏材料層和該光罩膜進行一曝光製程。
8. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜的製作方法，其中進行該曝光製程後，更包含：移除該光學膜之該光罩膜；以及對該光學膜之該光敏材料層進行顯影。
9. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜的製作方法，其中對該光學膜之該第一曝光區域的該光敏材料層和該光罩膜進行該曝光製程更包含：透過至少一狹縫遮罩對該光學膜之該第一曝光區域照射該光束。
10. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜的製作方法，其中進行該曝光製程之步驟更包含：照射該光學膜之該第一曝光區域，以進行曝光；停止照射該光學膜之該第一曝光區域，並將該光學膜之一第二曝光區域移動至該曲面結構上，並使該曲面結構之該端面頂抵該光學膜之該第二曝光區域的一內表面，進而使得該光罩膜變形，並透過具有該曲率之該端面，而使該光學膜之該第二曝光區域產生形變；以及利用該照射器對該光學膜之該第二曝光區域的該光敏材料層和該光罩膜進行另一曝光製程。