TWI631581B - 磁化處理裝置及磁化處理方法 - Google Patents

磁化處理裝置及磁化處理方法 Download PDF

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Abstract

本實施形態之磁化處理裝置包含有用以載置收納有複數之基板的收納容器之載置台、可收容該收納容器並可對該收納容器內的該複數之基板施加磁場的磁化處理室、及可將該收納容器從該載置台搬送至該磁化處理室內之搬送機構。

Description

磁化處理裝置及磁化處理方法
本揭示係有關於磁化處理裝置及磁化處理方法。
半導體記憶體元件以非揮發性記憶體之一亦即MRAM(Magnetic Random Access Memory：磁性隨機存取記憶體)受到注目。MRAM係藉例如將形成於半導體晶圓(以下稱為「晶圓」。)上之磁性體膜在磁場中熱處理以使其磁特性顯現而製造。
用以使磁性體膜顯現磁特性的裝置已知有一種磁性退火裝置，該磁性退火裝置具有對晶圓施加磁場之磁場產生機構及沿著磁場產生機構之內周配置以將晶圓加熱的加熱機構(例如參照日本專利公開公報2014-183280號)。
在一實施形態中，磁化處理裝置包含有載置台、磁化處理室及搬送機構，該載置台用以載置收納有複數之基板的收納容器；該磁化處理室可收容該收納容器，且可對該收納容器內之該複數的基板施加磁場；該搬送機構可將該收納容器從該載置台搬送至該磁化處理室內。
上述內容僅是用來說明，並非意在任何方式限制。除了上述說明之態樣、實施例及特徵外，追加之態樣、實施例及特徵藉照圖式及以下之詳細說明應可清楚明白。
［用以實施揭示之形態］ 在以下之詳細說明中，參照形成了說明書之一部分的附加圖式。記載於詳細說明、圖式及申請專利範圍之說明的實施例並非意在限制。在不脫離顯示於此之本揭示的思想或範圍下，可使用其他實施例，也可進行其他變形。
在上述磁性退火裝置中，將收納於載具之複數的晶圓移載至晶舟後，將晶舟搬入至磁場產生機構內，對晶圓進行預定之磁性退火，藉此，使磁性體膜顯現磁特性。因此，有於移載晶圓之際產生塵埃等而污染晶圓之情形。此種晶圓之污染有使使用磁性體膜之MRAM的可靠度降低之虞。
是故，鑑於上述課題，本揭示之目的係提供可抑制基板之污染的磁化處理裝置。
為達成上述目的，在一實施形態中，磁化處理裝置包含有載置台、磁化處理室及搬送機構，該載置台用以載置收納有複數之基板的收納容器；該磁化處理室可收容該收納容器，且可對該收納容器內之該複數的基板施加磁場；該搬送機構可將該收納容器從該載置台搬送至該磁化處理室內。
在上述磁化處理裝置中，該收納容器係以非磁性材料形成之密閉式容器，該搬送機構將該收納容器以密閉之狀態從該載置台搬送至該磁化處理室內。
在上述磁化處理裝置中，該收納容器係可收納25片該基板之FOUP(前開式晶圓傳送盒)。
在上述磁化處理裝置中，該搬送機構從該收納容器之上面側固持該收納容器來搬送。
在上述磁化處理裝置中，該磁化處理室在室溫下對該複數之基板施加磁場。
在上述磁化處理裝置中，該磁化處理室具有縱式之螺線管型磁鐵、以可於上下方向移動之方式設於該螺線管型磁鐵之內側以保持該收納容器的保持部、及用以使該保持部於上下方向移動之驅動機構。
在上述磁化處理裝置中，該磁化處理室具有橫式之螺線管型磁鐵、以可於水平方向移動之方式設於該螺線管型磁鐵之內側以保持該收納容器的保持部、及用以使該保持部於水平方向移動之驅動機構。
在上述磁化處理裝置中，該驅動機構用以使該保持部在將該收納容器載置於該保持部之位置與對收納於該收納容器之該複數的基板施加磁場的位置之間移動。
在上述磁化處理裝置中，該螺線管型磁鐵係超導磁鐵。
在本揭示之一實施形態中，磁化處理方法包含有將收納有複數之基板的收納容器載置於載置台的製程、將載置於該載置台之該收納容器搬送至磁化處理室內的製程、及對搬送至該磁化處理室內之該收納容器內的該複數之基板施加磁場的製程。
根據本實施形態，可抑制基板之污染。
以下，就本實施形態，一面參照附加之圖式，一面說明。此外，在本說明書中，對具有實質上同一功能結構之構成要件，附上同一符號，而省略重複之說明。
而根據最近之評價，可知藉對形成於晶圓之磁性體膜施加例如1T(特士拉)~5T之強磁場，可在室溫下使磁特性顯現。
在本實施形態中，就可適合用於藉對形成於基板之一例的晶圓之磁性體膜施加強磁場而在室溫下使磁特性顯現的情形之磁化處理裝置作說明。在以下之實施形態中，就施加強磁場之形態，舉例說明，本實施形態之磁化處理裝置在施加強磁場之形態以外，亦可適用。 (收納容器)
就收納用於本實施形態之磁化處理裝置的晶圓之收納容器，依據圖1來說明。圖1係例示收納容器之概略立體圖。
收納容器C亦稱為載具，如圖1所示，其中一端部形成作為開口部，另一端部形成大約半橢圓形狀。收納容器C亦可以例如以非磁性材料形成之密閉式FOUP(Front Opening Unified Pod：前開式晶圓傳送盒)構成。惟，收納容器C不限FOUP，亦可為可收納晶圓W之其他容器。
於收納容器C之內壁面形成有可將晶圓W配置成多段之圖中未示的支撐部。藉使此支撐部載置支撐例如直徑300mm之晶圓W的周緣部，而可以大約相等之間距將晶圓W收納成多段。可於1個收納容器C收納例如25片之晶圓W。
於收納容器C之上面側(頂部)設有可於固持收納容器C之際供抓持的把手10。
在收納容器C之開口部，對應此開口部之開關蓋12以可裝卸之方式安裝，藉關閉開關蓋12，可使收納容器C內呈氣密狀態。收納容器C之內部的氣體環境為清淨空氣。
於開關蓋12設有例如2個鎖固機構14，藉將鎖固機構鎖上或解開，可使開關部12從開口部裝卸。
於收納容器C之底部的下面設有圖中未示之複數的定位用凹部，而可於載置於後述的載置台之際，將收納容器C定位。又，於收納容器C之底部的下面設有圖中未示之溝部，而可於載置於載置台之際固定。 (磁化處理裝置) ［第1實施形態］
就第1實施形態之磁化處理裝置，依據圖2來說明。圖2係第1實施形態之磁化處理裝置的概略圖。圖2(a)及圖2(b)分別顯示磁化處理裝置之縱截面及上面。此外，在以下，以磁化處理裝置之前後方向為圖2之X方向、以左右方向為Y方向、以上下方向為Z方向來說明。
如圖2(a)及圖2(b)所示，磁化處理裝置100具有殼體102，於殼體102內形成有載具載置區域S1及載具搬送區域S2。
載具載置區域S1係位於大氣氣體環境下之區域，係載置收納有晶圓W之收納容器C的區域。各處理裝置間之區域相當於載具載置區域S1，在本實施形態中，磁化處理裝置100之外部的無塵室內之空間相當於載具載置區域S1。於載具載置區域S1之左右方向設有例如分別載置收納容器C之2個載置台104。此外，載置台104亦可為1個，也可為3個以上。
如圖2(b)所示，在載置台104之載置面，將收納容器C定位之銷106設於例如3處，藉銷106與收納容器C之凹部的卡合，可將收納容器C載置於載置台104之預定位置。又，於載置台104之載置面設有固定收納容器C之叉108，藉叉108與收納容器C之溝部的卡合，可將收納容器C固定於載置台104。
載具搬送區域S2係位於例如大氣氣體環境下之區域，係在載置台104與磁化處理室112之間搬送收納有晶圓W之收納容器C的區域。此外，載具搬送區域S2亦可為氮氣氣體環境等惰性氣體環境。又，從可抑制在磁化處理裝置之內部產生的塵埃等擴散至外部的觀點，宜於載具搬送區域S2設FFU(Fan Filter Unit：風扇過濾組)。
於載具搬送區域S2設置有載具搬送機構110及磁化處理室112。
載具搬送機構110係可從載置台104將收納容器C搬送至磁化處理室112內之搬送機構的一例。在本實施形態中，載具搬送機構110將收納容器C以密閉之狀態搬送。載具搬送機構110具有升降自如之引導部110a、及設於引導部110a以保持收納容器C之把手10而於水平方向搬送之關節臂110b。
磁化處理室112係可收容收納容器C且用以對收納容器C內之晶圓W施加磁場而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性的處理室。磁化處理室112具有上端(圖2之+Z方向)開口之縱式之螺線管型磁鐵114。
螺線管型磁鐵114配置成其中心線軸方向為垂直，並連接於圖中未示之電源裝置。螺線管型磁鐵114可為例如超導磁鐵。藉縱式之螺線管型磁鐵114產生之磁場的方向為上下方向。又，圖中未示之純鐵等強磁性構件設成從外部覆蓋螺線管型磁鐵114。藉此，可抑制磁場從磁化處理室112漏洩。
於螺線管型磁鐵114之內側設有保持部116及上下驅動機構118。
保持部116設成可於上下方向移動而保持收納容器C。保持部116以非磁性材料形成。又，亦可設檢測收納容器C是否保持於保持部116之預定位置的圖中未示之感測器(例如雷射感測器)。
上下驅動機構118使保持部116於上下方向移動。具體而言，上下驅動機構118於以載具搬送機構110將收納容器C搬入至磁化處理室112內之際，使保持部116上升。當保持部116上升至螺線管型磁鐵114之上端附近後，以載具搬送機構110將收納容器C載置於保持部116。又，將收納容器C載置於保持部116後，上下驅動機構118使保持部116下降而將收納容器C收容於磁化處理室112內。
又，亦可不以上下驅動機構118使保持部116於上下方向移動，而以載具搬送機構110將收納容器C搬入至磁化處理室112內，載置於保持部116。
當使用螺線管型磁鐵114，使形成於例如25片晶圓W之磁性體膜顯現均一之磁特性時，為了對所有晶圓W施行均一之處理，而需將晶圓W配置於磁場均一之區域(以下稱為「均一磁場區域」。)。螺線管型磁鐵114之均一磁場區域為其軸方向長度的約20%左右。
此外，如圖2(a)所示，於磁化處理裝置100設有由例如電腦構成之控制部120。控制部120具有包含記憶體、CPU之資料處理部等，CPU以程式運作。於程式編入有命令而可將控制信號從控制部120傳送至磁化處理裝置100之各部，使各處理製程進行。藉此控制信號，進行收納容器C之搬送、對晶圓W之磁場的施加、保持部116之移動等。此程式可儲存於電腦記錄媒體、例如軟磁碟、光碟、硬碟、光磁碟、記憶卡等記錄媒體並可安裝於控制部120。
接著，就使形成於收納容器C內之晶圓W的磁性體膜顯現磁特性的磁化處理方法，依據圖2及圖3說明。圖3係說明於磁化處理室內收容有收納容器之狀態的圖。
首先，以圖中未示之頂部行走式搬送裝置(OHT：Overhead Hoist Transport：懸掛式搬運系統)或地板行走式搬送裝置(RGV：Rail Guided Vehicle：軌道引導車)等，如圖2所示，將收納容器C載置於載置台104。此時，於收納容器C收納有例如形成有磁性體膜之複數(例如25片)的晶圓W。
接著，如圖3所示，以載具搬送機構110將載置於載置台104之收納容器C以收納有晶圓W之狀態搬入至磁化處理室112內來收容。具體而言，以上下驅動機構118使保持部116上升，以載具搬送機構110將載置於載置台104之收納容器C以收納有晶圓W之狀態載置於保持部116。之後，以上下驅動機構118使保持部116下降而將收納容器C收容於磁化處理室112內。此時，在於平行於磁場之方向(上下方向)的方向裝載晶圓W而收納成架狀之狀態下，將收納容器C收容於磁化處理室112內。即，晶圓W以晶圓面垂直於磁場之方向的狀態保持於收納容器C。
接著，藉對收納容器C內之晶圓W依各收納容器C施加磁場，而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性。具體而言，藉在室溫下施加1T~5T之磁場，而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性。此時，由於在於平行於磁場之方向(上下方向)的方向裝載晶圓W而收納成架狀之狀態下，收納容器C收容於磁化處理室112內，故形成於晶圓W之磁性體膜於垂直於膜之方向(perpendicular)磁化。此外，亦可藉以載具搬送機構110使收納容器C旋轉成於垂直於磁場之方向的方向晶圓W裝載成架狀之狀態來收容於磁化處理室112內，而使形成於晶圓W之磁性體膜於膜平面方向(in-plane)磁化。又，本實施形態之室溫係指未從外部進行加熱或冷卻之狀態的溫度。
然後，以載具搬送機構110從磁化處理室112搬出收納容器C，搬送至載置台104來載置。具體而言，以上下驅動機構118使保持部116上升，以載具搬送機構110搬出載置於保持部116之收納容器C，搬送至載置台104來載置。此外，載置於載置台104之收納容器C以例如圖中未示之頂部行走式搬送裝置(OHT)或地板行走式搬送裝置(RGV)從載置台104搬出。根據以上，處理結束。
本實施形態之磁化處理裝置100具有從載置台104將收納容器C搬送至磁化處理室112內之載具搬送機構110、對收納容器C內之晶圓W依各收納容器C施加磁場之磁化處理室112。藉此，可在不將晶圓W從收納容器C取出而收納於收納容器C之狀態下，在載置台104與磁化處理室112之間搬送。因此，可抑制從收納容器C取出晶圓W之際產生的塵埃等引起之晶圓的污染，而可製造可靠度高之MRAM。
又，比起從收納容器將晶圓移載至晶舟來搬入至磁化處理室內之情形，可縮短搬送所需之時間。又，由於亦可不將晶圓從收納容器移載至晶舟，故不需收納容器之開關蓋的自動開關裝置、晶舟、將晶圓從收納容器移載至晶舟的移載機等，而可縮小磁化處理裝置之設置面積(涵蓋面)。再者，由於零件件數減少，故可減低磁化處理裝置之製造成本，且可縮短磁化處理裝置之製造所需的時間。
又，在本實施形態之磁化處理裝置100中，以載具搬送機構110將收納容器C以密閉之狀態從載置台104搬送至磁化處理室112內。藉此，即使載具搬送區域S2非惰性氣體環境時，亦可抑制晶圓W之表面自然氧化而被氧化膜被覆。因此，亦可不引進惰性氣體設備，而可減低磁化處理裝置100之製造成本，且可縮短磁化處理裝置100之製造所需的時間。 ［第2實施形態］
就第2實施形態之磁化處理裝置，依據圖4來說明。圖4係第2實施形態之磁化處理裝置的概略圖，圖4(a)及圖4(b)分別顯示磁化處理裝置之縱截面及上面。此外，在以下，以磁化處理裝置之前後方向為圖4之X方向、以左右方向為Y方向、以上下方向為Z方向來說明。
如圖4(a)及圖4(b)所示，磁化處理裝置200具有殼體102，於殼體102內形成有載具載置區域S1及載具搬送區域S2。
載具載置區域S1係在大氣氣體環境下之區域，係載置收納有晶圓W之收納容器C的區域。各處理裝置間之區域相當於載具載置區域S1，在本實施形態中，磁化處理裝置200之外部的無塵室內之空間相當於載具載置區域S1。於載具載置區域S1之左右方向設例如分別載置收納容器C之2個載置台104。此外，載置台104亦可為1個，也可為3個以上。
如圖4(b)所示，在載置台104之載置面，用以將收納容器C定位之銷106設於例如3處，藉銷106與收納容器C之凹部的卡合，可將收納容器C載置於載置台104之預定位置。又，於載置台104之載置面設有固定收納容器C之叉108，藉叉108與收納容器C之溝部的卡合，可將收納容器C固定於載置台104。
載具搬送區域S2係在例如大氣環境下之區域，係在載置台104與磁化處理室212之間搬送收納有晶圓W之收納容器C的區域。此外，載具搬送區域S2亦可為氮氣環境等惰性氣體環境。又，從可抑制在磁化處理裝置之內部產生的塵埃等擴散至外部之觀點，宜於載具搬送區域S2設FFU。
於載具搬送區域S2設置有載具搬送機構110及磁化處理室212。
載具搬送機構110係可將收納容器C從載置台104搬送至磁化處理室212內之搬送機構的一例。在本實施形態中，載具搬送機構110將收納容器C以密閉之狀態搬送。載具搬送機構110具有升降自如之引導部110a、設於引導部110a且保持收納容器C之把手而於水平方向搬送之關節臂110b。
磁化處理室212係可收納容器C並可對收納容器C內之晶圓W施加磁場而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性的處理室。磁化處理室212具有後端(圖4之-X方向)開口之橫式之螺線管型磁鐵214。
螺線管型磁鐵214配置成其中心線軸方向為水平，並連接於圖中未示之電源裝置。螺線管型磁鐵214可為例如超導磁鐵。以橫式之螺線管型磁鐵214產生之磁場的方向為前後方向。又，圖中未示之純鐵等強磁性構件設成從外部覆蓋螺線管型磁鐵214。藉此，可抑制磁場從磁化處理室212漏洩。
於螺線管型磁鐵214之內側設有保持部216及前後驅動機構218。
保持部216設成可於水平方向(前後方向)移動以保持收納容器C。保持部216以非磁性材料形成。又，亦可設有檢測收納容器C是否保持於保持部216之預定位置的圖中未示之感測器(例如雷射感測器)。
前後驅動機構218使保持部216於前後方向移動。具體而言，前後驅動機構218以載具搬送機構110將收納容器C搬入至磁化處理室212內之際，使保持部216移動至後方。當保持部216移動至螺線管型磁鐵214之後方端附近後，以載具搬送機構110將收納容器C載置於保持部216。又，將收納容器C載置於保持部216後，前後驅動機構218使保持部216移動至前方而將收納容器C收容於磁化處理室212內。
又，亦可不以前後驅動機構218使保持部216於前後方向移動，而以載具搬送機構110將收納容器C搬入至磁化處理室212內並載置於保持部216。
使用螺線管型磁鐵214，使形成於例如25片晶圓W之磁性體膜顯現均一之磁特性時，為對所有晶圓W施行均一之處理，而需於均一磁場區域配置晶圓W。螺線管型磁鐵214之均一磁場區域為其軸方向長度之約20%左右。
此外，如圖4(a)所示，於磁化處理裝置200設有由例如電腦構成之控制部120。控制部120具有包含記憶體、CPU之資料處理部等，CPU藉程式運作。於程式編入有命令而可將控制信號從控制部120傳送至磁化處理部200之各部，使各處理製程進行。藉此控制信號，進行收納容器C之搬送、對晶圓W之磁場的施加、保持部216之移動等。此程式儲存於例如軟磁碟、光碟、硬碟、光磁碟、記憶卡等記錄媒體並可安裝於控制部120。
接著，就使形成於收納容器C內之晶圓W的磁性體膜顯現磁特性之磁化處理方法，依據圖4及圖5來說明。圖5係說明磁化處理室內收容有收納容器之狀態的圖。
首先，以圖中未示之頂部行走式搬送裝置(OHT)或地板行走式搬送裝置(RGV)等，如圖4所示，將收納容器C載置於載置台104。此時，於收納容器C收納有例如形成有磁性體膜之複數(例如25片)的晶圓W。
接著，如圖5所示，以載具搬送機構110將載置於載置台104之收納容器C以收納有晶圓W之狀態搬入至磁化處理室212內來收容。具體而言，以前後驅動機構218使保持部216移動至後方，以載具搬送機構110將載置於載置台104之收納容器C以收納有晶圓W之狀態載置於保持部216。之後，以前後驅動機構218使保持部216移動至前方，而將收納容器C收容於磁化處理室212內。此時，在於垂直於磁場之方向(前後方向)的方向(上下方向)裝載晶圓W而收納成架狀之狀態下，將收納容器C收容於磁化處理室212內。即，晶圓W以晶圓面平行於磁場之方向的狀態保持於收納容器C。
接著，藉對收納容器C內之晶圓W依各收納容器C施加磁場，而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性。具體而言，藉在室溫下施加1T~5T之磁場，而使形成於晶圓W之磁性體膜顯現磁特性。此時，由於在於垂直於磁場之方向(前後方向)的方向(上下方向)裝載晶圓W而收納成架狀之狀態下，將收納容器C收容於磁化處理室212內，故形成於晶圓W之磁性體膜於膜平面方向磁化。此外，亦可藉以載具搬送機構110使收納容器C旋轉成形成為晶圓W於平行於磁場之方向(前後方向)裝載成架狀之狀態來收容於磁化處理室212內，而使形成於晶圓W之磁性體膜於垂直於膜之方向磁化。又，本實施形態之室溫係指未從外部進行加熱或冷卻之狀態的溫度。
接著，以載具搬送機構110，從磁化處理室212搬出收納容器C，搬送至載置台104來載置。具體而言，以前後驅動機構218使保持部216移動至後方，以載具搬送機構110，搬出載置於保持部216之收納容器C，搬送至載置台104來載置。此外，載置於載置台104之收納容器C以例如圖中未示之頂部行走式搬送裝置(OHT)或地板行走式搬送裝置(RGV)，從載置台104搬出。根據以上，處理結束。
本實施形態之磁化處理裝置200具有從載置台104將收納容器C搬送至磁化處理室212內之載具搬送機構110、對收納容器C內之晶圓W依各收納容器C施加磁場之磁化處理室212。藉此，可將晶圓W在不從收納容器C取出而收納於收納容器C之狀態下，在載置台104與磁化處理室212之間搬送。因此，可抑制從收納容器C取出晶圓W之際產生的塵埃等引起之晶圓W的污染，而可製造可靠度高之MRAM。
又，比起將晶圓從收納容器移載至晶舟而搬入至磁化處理室內之情形，可縮短搬送所需之時間。又，由於亦可不將晶圓W從收納容器移載至晶舟，故不需收納容器之開關蓋的自動開關裝置、晶舟、從收納容器將晶圓移載至晶舟之移載機等，而可縮小磁化處理裝置之設置面積。再者，由於零件件數減少，故可減低磁化處理裝置之製造成本，且可縮短磁化處理裝置之製造所需的時間。
又，在本實施形態之磁化處理裝置200，以載具搬送機構110，將收納容器C以密閉之狀態從載置台104搬送至磁化處理室212內。藉此，即使載具搬送區域S2非惰性氣體環境時，亦可抑制晶圓W之表面自然氧化而被氧化膜被覆。因此，亦可不引進惰性氣體設備，而可減低磁化處理裝置200之製造成本，且可縮短磁化處理裝置200之製造所需的時間。
以上，以實施例說明了磁化處理裝置及磁化處理方法，本揭示不限上述實施例，可在本揭示之範圍內，進行各種變形及改良。
在本實施形態之磁化處理裝置中，就載具搬送機構以關節臂固持收納容器之把手而於水平方向搬送的形態作了說明，本揭示不限於此。載具搬送機構只要可在載置台與磁化處理室之間搬送收納容器即可，舉例而言，亦可為支撐收納容器之底部而於水平方向搬送之形態。
在本實施形態之磁化處理裝置中，就於磁化處理室收容1個收納容器並對收納容器內之複數的晶圓施加磁場之形態作了說明，本揭示不限於此。舉例而言，亦可為於磁化處理室收容複數之收納容器並對複數之收納容器內的複數之晶圓同時施加磁場的形態。此時，宜將螺線管型磁鐵之大小設計成可對複數之收納容器內的所有晶圓施行均一之處理。
從上述之內容，應可理解本揭示之各種實施例係為了說明之目的而記載，且各種變形可在不脫離本揭示之範圍及思想下進行。因而，揭示於此之各種實施例並非用以限制以下述各申請專利範圍指定之本質的範圍及思想的實施例。
10‧‧‧把手
12‧‧‧開關蓋
14‧‧‧鎖固機構
100‧‧‧磁化處理裝置
102‧‧‧殼體
104‧‧‧載置台
106‧‧‧銷
108‧‧‧叉
110‧‧‧載具搬送機構
110a‧‧‧引導部
110b‧‧‧關節臂
112‧‧‧磁化處理室
114‧‧‧縱式之螺線管型磁鐵
116‧‧‧保持部
118‧‧‧上下驅動機構
120‧‧‧控制部
200‧‧‧磁化處理裝置
212‧‧‧磁化處理室
214‧‧‧橫式之螺線管型磁鐵
216‧‧‧保持部
218‧‧‧前後驅動機構
C‧‧‧ 收納容器
S1‧‧‧載具載置區域
S2‧‧‧載具搬送區域
W‧‧‧晶圓
X‧‧‧方向
Y‧‧‧方向
Z‧‧‧方向
［圖1］係例示收納容器之概略立體圖。
［圖2］(a)～(b)係第1實施形態之磁化處理裝置的概略圖。
［圖3］係說明磁化處理室內收容有收納容器之狀態的圖。
［圖4］(a)～(b)係第2實施形態之磁化處理裝置的概略圖。
［圖5］係說明磁化處理室內收容有收納容器之狀態的圖。

Claims (10)

  1. 一種磁化處理裝置，包含：載置台，其固定在第1區域，並且用以載置收納有複數之基板的收納容器；磁化處理室，其載置於第2區域並且可收容該收納容器，且可對該收納容器內之該複數的基板施加磁場；及搬送機構，其可將該收納容器從該載置台升起，並且將所升起之該收納容器搬送至該磁化處理室內。
  2. 如申請專利範圍第1項之磁化處理裝置，其中，該收納容器係以非磁性材料形成之密閉式容器，該搬送機構將該收納容器以密閉之狀態從該載置台搬送至該磁化處理室內。
  3. 如申請專利範圍第2項之磁化處理裝置，其中，該收納容器係可收納25片該基板之FOUP(前開式晶圓傳送盒)。
  4. 如申請專利範圍第1項之磁化處理裝置，其中，該搬送機構從該收納容器之上面側固持該收納容器來搬送。
  5. 如申請專利範圍第1項之磁化處理裝置，其中，該磁化處理室在室溫下對該複數之基板施加磁場。
  6. 如申請專利範圍第1項之磁化處理裝置，其中，該磁化處理室具有：縱式之螺線管型磁鐵；保持部，其以可於上下方向移動之方式設於該螺線管型磁鐵之內側以保持該收納容器；及驅動機構，其用以使該保持部於上下方向移動。
  7. 如申請專利範圍第1項之磁化處理裝置，其中，該磁化處理室具有：橫式之螺線管型磁鐵；保持部，其以可於水平方向移動之方式設於該螺線管型磁鐵之內側以保持該收納容器；及驅動機構，其用以使該保持部於水平方向移動。
  8. 如申請專利範圍第6項之磁化處理裝置，其中，該驅動機構用以使該保持部在「將該收納容器載置於該保持部之位置」與「對收納於該收納容器之該複數的基板施加磁場的位置」之間移動。
  9. 如申請專利範圍第6項之磁化處理裝置，其中，該螺線管型磁鐵係超導磁鐵。
  10. 一種磁化處理方法，包含：將載置台固定在第1區域的製程；將收納有複數之基板的收納容器載置於該載置台的製程；藉由搬送機構，將該收納容器從該載置台升起；將所升起之該收納容器搬送至載置於第2區域之磁化處理室內的製程；及對搬送至該磁化處理室內之該收納容器內的該複數之基板施加磁場的製程。
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