TWI630015B - 具有弓形凹埠結構和諧調元件的高爾夫球桿頭 - Google Patents

Abstract

本發明所揭示的一些具體實施例，含有一種具有弓形凹埠結構及諧調元件的高爾夫球桿頭。同時亦揭露其他對於相關高爾夫球桿頭的具體實施例。

Description

具有弓形凹埠結構和諧調元件的高爾夫球桿頭

本申請案主張於2014年2月17日申審之美國臨時申請案第61/940,831號的權利。茲將美國臨時申請案第61/940,831號依其整體而以參考方式併入本案。

本發明所揭示的技術係有關於運動設備，並且特別是關於高爾夫球桿頭。

高爾夫球桿頭通常具有各種特性，這些特性可以經過設計或組合設定，以改善個別高爾夫球桿頭的一種或更多的特徵。例如，可增設諧調元件以在當撞擊到高爾夫球時能夠調整或限制撞擊震動，並且/或是增強高爾夫球桿頭的一些特性。然而，增設此等諧調元件可能會不利地影響到高爾夫球桿頭的一些其他特徵，像是由於增加額外質量，高爾夫球桿頭的重心被重新定位至一或更多的比較不佳位置，以及/或者高爾夫球桿頭的耐固性減低等等。除此之外，製造具有一些用於諧調元件之凹埠結構的高爾夫球桿頭可能會牽涉到複雜的程序。並且，在各種凹埠結構設計及/或諧調元件設計中，諧調元件有時會從凹埠結構脫落。從而，針對於高爾夫球桿頭諧調元件定位的進一步發展，是可增強高爾夫球桿的效能及/或可製造 度。

在本說明書及申請專利範圍裡的「第一」、「第二」、「第三」、「第四」等等這些詞彙，若有，是為在多個類似元件之間加以區分，而非必然地用於描述特定順序或依時次序。應瞭解的是，該等所用詞彙在適當情況下可為互換，使得本揭具體實施例能夠例如按除本文所述之外的序列，或是在此另予說明的方式，進行運作。此外，該等詞彙「包含」、「具有」以及任何其等的變化詞項皆欲以涵蓋非斥他性的包納，使得含有一列元件的程序、方法、系統、物項、裝置或設備不必然地受限於這些元件，然確得含有其他未經顯明列舉或是此程序、方法、系統、物項、裝置或設備裡內隱性地具備的元件。

在本說明書及申請專利範圍中的詞彙「左方」、「右方」、「前方」、「後方」、「頂部」、「底部」、「位於上方」、「位於下方」等等，若有，是用於描述之目的，並非必然地用於陳述永久性的相對位置。應瞭解的是，該等所用詞彙在適當情況下可為互換，使得本案所描述之設備、方法及/或製造物項的具體實施例能夠例如按除本文所述之外的其他指向，或是在此另予說明的方式，進行運作。

該等詞彙「耦接」、「耦接於」、「耦接有」、「耦接」等等應為廣泛解讀並且參照於機械性地及/或其他方式連接兩個或更多元件。可將兩個或更多機械元件機械性地耦接合一，然非依電子或是其他方式所耦合。此耦接可為任何時間長度，即如永久或半永久或者僅某一時刻。「機械性耦接」等等應為廣泛解讀，並且包含所有類型的機械耦接。

在字詞「耦接於」等等的前後文中未撰明「可移除地」、「可移除」等等字詞並不表示此一所針對的耦接等等確屬抑或確非可移除。

如本文中所定義者，若兩個或更多元件含有相同的材料工件，則該等為「整合性」。如本文中所定義者，若兩個或更多元件各者含有不同的材料工件，則該等為「非整合性」。

如本文中所定義者，在一些具體實施例中，「近似地」的意思是在該所述數值的正負百分之十以內。在其他具體實施例中，「近似地」可表示在該所述數值的正負百分之五以內。在進一步具體實施例中，「近似地」可表示在該所述數值的正負百分之三以內。又在其他具體實施例中，「近似地」可表示在該所述數值的正負百分之一以內。

100‧‧‧高爾夫球桿頭

101‧‧‧趾部末端

102‧‧‧踝部末端

110‧‧‧敲擊局部

111‧‧‧敲擊面部

112‧‧‧背面部

113‧‧‧週緣局部

120‧‧‧後方局部

121‧‧‧桿底

150‧‧‧諧調元件

330‧‧‧凹埠結構

331‧‧‧槽孔

332‧‧‧槽孔開口

333‧‧‧槽孔基底

334‧‧‧趾部邊壁

335‧‧‧後方邊壁

336‧‧‧前方邊壁

340‧‧‧帽蓋凹陷

445‧‧‧圓圈

446‧‧‧圓圈

447‧‧‧半徑

448‧‧‧半徑

537‧‧‧踝部邊壁

651‧‧‧主局部

653‧‧‧諧調元件底部側邊

654‧‧‧諧調元件趾部側邊

655‧‧‧諧調元件後方側邊

656‧‧‧諧調元件前方側邊

661‧‧‧帽蓋

663‧‧‧帽蓋底部唇邊

664‧‧‧帽蓋趾部側邊

665‧‧‧帽蓋後方側邊

666‧‧‧帽蓋前方側邊

668‧‧‧帽蓋頂部側邊

757‧‧‧諧調元件踝部側邊

767‧‧‧帽蓋踝部側邊

1170‧‧‧力度法線

1200‧‧‧流程圖/步驟

1210‧‧‧提供高爾夫球桿頭之敲擊局部

1220‧‧‧提供高爾夫球桿頭之後方局部

1230‧‧‧提供凹埠結構

1240‧‧‧將諧調元件耦接於凹埠結構

1300‧‧‧鑄模

1301‧‧‧高爾夫球桿頭鑄模

1310‧‧‧敲擊局部

1311‧‧‧敲擊面部

1312‧‧‧背面部

1313‧‧‧週緣局部

1320‧‧‧後方局部

1321‧‧‧桿底

1336‧‧‧凹埠結構

1380‧‧‧第一鑄模工件

1381‧‧‧第二鑄模工件

1382‧‧‧第二鑄模工件

1384‧‧‧旋轉點

1385‧‧‧圓圈

1390‧‧‧加工工件

1391‧‧‧第一臂部

1392‧‧‧表面

1393‧‧‧樞軸

1394‧‧‧第二臂部

1395‧‧‧鑄模局部

1396‧‧‧前方加工表面

1397‧‧‧後方加工表面

1398‧‧‧基底加工表面

1399‧‧‧背面部加工表面

1480‧‧‧第一腔洞局部

1481‧‧‧第二腔洞局部

1500‧‧‧流程圖/步驟

1510‧‧‧提供含有第一腔洞局部之第一鑄模工件和加工工件

1520‧‧‧提供含有第二腔洞局部之第二鑄模工件

1530‧‧‧將第二鑄模工件閉合至第一鑄模工件

1540‧‧‧在第一及第二腔洞局部之內鑄造射出鑄模

1550‧‧‧自第一鑄模工件開出第二鑄模工件使得加工工件旋轉

在此提供下列圖式，以有助於進一步說明具體實施例，其中：圖1顯示的是根據一具體實施例，具有諧調元件之高爾夫球桿頭的踝部側、底部、後方透視視圖；圖2顯示的是具有圖1中諧調元件之高爾夫球桿頭的底部、後方視圖；圖3是圖1之高爾夫球桿頭的側邊截面視圖，該截面視圖是沿圖2中的截面直線3-3所採繪，並且圖3裡的高爾夫球桿頭並無圖1的諧調元件；圖4是圖1之高爾夫球桿頭的側邊截面視圖，該截面視圖是沿圖2中的截面直線3-3所採繪，同時圖4裡的高爾夫球桿頭係經顯示為具有曲率半徑且無圖1的諧調元件； 圖5是圖1之高爾夫球桿頭的側邊截面視圖，該截面視圖是沿圖2中的截面直線5-5所採繪，並且圖5裡的高爾夫球桿頭係經顯示為無圖1的諧調元件；圖6是對於圖1高爾夫球桿頭之諧調元件的側邊視圖；圖7是圖1之諧調元件的後方視圖；圖8是圖1之諧調元件的頂部視圖；圖9是沿圖1的高爾夫球桿頭，此桿頭具有圖1諧調元件，之圖2直線3-3的側邊截面視圖；圖10是圖1中的高爾夫球桿頭，沿著圖2中的直線3-3的側邊、底部、後方之透視截面視圖；圖11是圖1中的高爾夫球桿頭，沿著圖2中的直線3-3的側邊截面視圖，並且顯示出撞擊時之力度法線；圖12顯示的是，根據另一具體實施例，一種提供高爾夫球桿頭之方法的流程圖；圖13顯示的是，根據另一具體實施例，一在封閉組態下的鑄模；圖14是在開放組態下的圖13鑄模；以及圖15顯示的是，根據另一具體實施例，一種構成高爾夫球桿頭之方法的流程圖。

為簡便且清晰地說明，本案圖式所說明的是一般的建構方式，而且省略眾知特性及技術的敘述與細節，以避免非必要地模糊其內容。此外，圖式中的元件並不必然地依比例繪製。例如，該等圖式中部分構件 的維度可為相對於其他構件而誇大，藉以有助於更加瞭解本揭示的具體實施例。在不同圖式內的相同參考號碼所代表的是相同的元件。

以下所述的一些具體實施例，均包含高爾夫球桿頭。高爾夫球桿頭含有一敲擊局部，而此局部包含一敲擊面部以及一相反於該敲擊面部的背面部。該背面部含有一位於該背面部之頂部末端處的週緣局部。該高爾夫球桿頭進一步含有一後方局部，此局部在該敲擊局部的底部末端處耦接於該敲擊局部。該高爾夫球桿頭另外含有一至少部份地定義於該後方局部之內的凹埠結構。該凹埠結構含有一槽孔，此槽孔自一槽孔開口延伸至一槽孔基底。該敲擊局部的底部末端位在，比起該槽孔開口，較為靠近於該槽孔基底。該槽孔含有一踝部邊壁及一趾部邊壁。該槽孔進一步含有一後方邊壁，此邊壁自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且是在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。該後方邊壁沿著在該槽孔開口與該槽孔基底之間延伸的第一方向上含有一第一後方邊壁曲線。該槽孔進一步含有一前方邊壁，此邊壁自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且是在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。比起該後方邊壁，該敲擊面部位於較靠近該前方邊壁。該前方邊壁沿著該第一方向上含有一第一前方邊壁曲線。

其他的具體實施例包含一種提供高爾夫球桿頭的方法。該方法包含提供一敲擊局部。該敲擊局部含有一敲擊面部以及一相反於該敲擊面部的背面部。該背面部含有一位於該背面部之頂部末端處的週緣局部。該方法進一步包含提供一後方局部，此局部在該敲擊局部的底部末端處耦接於該敲擊局部。該方法另外包含提供一至少部份地定義於該後方局部之 內的凹埠結構。該凹埠結構含有一槽孔，此槽孔自一槽孔開口延伸至一槽孔基底。該方法亦包含將一諧調元件耦接於該凹埠結構。該敲擊局部的底部末端位在，比起該槽孔開口，較為靠近於該槽孔基底。該槽孔含有一踝部邊壁及一趾部邊壁。該槽孔亦含有一後方邊壁，此邊壁自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且是在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。該後方邊壁沿著在該槽孔開口與該槽孔基底之間延伸的第一方向上含有一第一後方邊壁曲線。該槽孔進一步含有一前方邊壁，此邊壁自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且是在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。比起該後方邊壁，該敲擊面部位於較靠近該前方邊壁。該前方邊壁沿著該第一方向上含有一第一前方邊壁曲線。

進一步的具體實施例包含一種構成高爾夫球桿頭的方法。該方法可包含提供一含有一第一腔洞局部的第一鑄模工件，以及一加工工件。該加工工件可為組態設定以相對於該第一鑄模工件繞著該第一鑄模工件上的一固定點從一鑄模位置旋轉至一釋放位置。該方法亦包含提供一含有一第二腔洞局部的第二鑄模工件。該方法進一步包含將該第二鑄模工件閉合至該第一鑄模工件，使得該等第一及第二鑄模工件環繞該等第一及第二腔洞局部，該加工工件可位在該鑄模位置，並且該加工工件的一局部可被插入至少該第一腔洞局部之內。另外，該方法可包含在該等第一及第二腔洞局部之內鑄造一射出鑄模。該射出鑄模可包含一高爾夫球桿頭鑄模，此者含有一敲擊局部、一後方局部以及一至少部份地經定義於該後方局部內的凹埠結構。該加工工件的局部可為同形於該凹埠結構。該方法進一步可包含自該第一鑄模工件開出該第二鑄模工件，使得該加工工件能夠自該 凹埠結構內的鑄模位置至該釋放位置而繞於該固定點旋轉離出。

現參閱圖式，圖1說明，根據一具體實施例，一具有諧調元件150之高爾夫球桿頭100的踝部側、底部、後方視圖。圖2說明一具有諧調元件150之高爾夫球桿頭100的底部、後方透視視圖。該高爾夫球桿頭100僅屬示範性質，同時該高爾夫球桿頭的具體實施例並不受限於本案文所呈現的具體實施例。該高爾夫球桿頭確可運用於本案文中未予特定地描述或說明的眾多不同具體實施例或實例。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可為鐵型桿頭、楔型桿頭或是混合型桿頭。例如，在一些具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可具有約15度至約70度的桿面仰角(Loft Angle)。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可具有約200公克(g)至約325g的桿頭重量。在各種具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可具有約50度至約70度的底角(Lie Angle)。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可包含趾部末端101和踝部末端102。在各種具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可包含一敲擊局部110，此局部可含有敲擊面部111及背面部112。在一些具體實施例裡，該敲擊面部111可為插件，像是在該敲擊局部110內的敲擊板片插件(未予圖示)。在其他具體實施例中，該敲擊面部111可為整合於該敲擊局部110。該背面部112可為相反於該敲擊面部111。在各種具體實施例裡，該背面部112在該背面部112的頂部末端處可含有一週緣局部113。在許多具體實施例裡，該週緣局部113可繞於該背面部112的頂部末端及側邊延伸到或大約至該趾部末端101及/或踝部末端102。該週緣局部113可自該背面部112朝後方凸出。

在各種具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可含有一後方局 部120。該後方局部120可在該敲擊局部110的底部末端處耦接於該敲擊局部110。該後方局部120可含有桿底121。在許多具體實施例裡，當高爾夫球桿頭100位於預備位置時該桿底121的至少一局部可為大致或近似水平，使得當該高爾夫球桿頭100位在該預備位置時截面線3-3及5-5可為大致或近似垂直。在許多具體實施例裡，該敲擊局部110可為整合於該後方局部120，使得該敲擊局部110和該後方局部120可為單一材料工件。在其他的具體實施例中，該敲擊局部110可為一分別的材料工件(或是一個以上的分別材料工件)，而像是藉由焊接、銅焊、黏著及/或其他的機械性或化學性固定器/劑以固接於該後方局部120。在許多具體實施例裡，該後方局部120及/或該敲擊局部110可含有一或更多種材料，這些包含鐵質材料，像是鋼材、碳素鋼材、不鏽鋼材及/或鋼材合金，以及/或是非鐵質材料，像是鈦、鎢及/或鋁。在許多具體實施例裡，這些運用於該後方局部120及/或該敲擊局部110內之材料的一或更多者可擁有高的切變模量及/或高的強度對重量比值。在一些具體實施例裡，該後方局部120及/或該敲擊局部110可具有每立方公分(cc)約2.8g(g/cc)至約18.0g/cc的密度。例如，該後方局部120及/或該敲擊局部110可擁有下列密度，即約2.8g/cc、3.0g/cc、3.5g/cc、4.0g/cc、4.5g/cc、5.0g/cc、5.5g/cc、6.0g/cc、6.5g/cc、7.0g/cc、7.5g/cc、8.0g/cc、8.5g/cc、9.0g/cc、9.5g/cc、10.0g/cc、10.5g/cc、11.0g/cc、11.5g/cc、12.0g/cc、12.5g/cc、13.0g/cc、13.5g/cc、14.0g/cc、14.5g/cc、15.0g/cc、15.5g/cc、16.0g/cc、16.5g/cc、17.0g/cc、17.5g/cc、18.0g/cc，或是在這些密度數值之間的任何其他適當密度數值，並且可為自這些密度數值之任一者至這些密度數值之其他任一者的範圍。例如，用於一些混合型高爾夫球桿頭的後方局部120及/ 或敲擊局部110可具有約4.0g/cc至約8.0g/cc的密度。即如另一實例，在一些鐵型高爾夫球桿頭或一些楔型高爾夫球桿頭裡的後方局部120及/或敲擊局部110可具有約7.0g/cc至約8.0g/cc的密度。而其他鐵型、楔型及/或混合型高爾夫球桿頭裡的後方局部120及/或敲擊局部110則可具有其他的適當密度。

在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭100可含有諧調元件150，以及一用以握持及/或固定該諧調元件150的凹埠結構，像是凹埠結構330(即如在圖3-5和9-11中所繪示並於後文中說明者)。現前進到圖3，圖中說明一高爾夫球桿頭100的側邊截面視圖，其中該截面視圖是沿圖2的截面直線3-3所繪，然圖3中的高爾夫球桿頭100係根據一具體實施例敘述為不含諧調元件150。圖4說明一高爾夫球桿頭100的側邊截面視圖，其中該截面視圖是沿圖2的截面直線3-3所繪，而圖3內的高爾夫球桿頭100係經敘述為具有曲率半徑並且不含諧調元件150。圖5說明一高爾夫球桿頭100的側邊截面視圖，其中該截面視圖是沿圖2的截面直線5-5所繪，然圖5中的高爾夫球桿頭係經敘述為不含諧調元件150。在許多具體實施例中，該高爾夫球桿頭100可含有一凹埠結構330。該凹埠結構330可為至少部份地定義於該後方局部120之內。在一些具體實施例裡，該凹埠結構330可為定義於該敲擊局部110之內。在許多具體實施例裡，該凹埠結構330可為至少部份地定義於該後方局部120及該敲擊局部110兩者之內。在一些其他具體實施例裡，該凹埠結構330可為僅定義於該後方局部120之內。

在各種具體實施例裡，該凹埠結構330可含有一槽孔331，此者可自槽孔開口332延伸至槽孔基底333。在許多具體實施例裡，該槽孔 331可經組態設定以收納該諧調元件150(圖1-2)的主局部651(如圖6-8中所示且如後文詳述)，即如後文中進一步詳細說明。在許多具體實施例裡，該槽孔331可含有趾部邊壁334及踝部邊壁537。該趾部邊壁334可在該高爾夫球桿頭100及/或該槽孔331的側邊位於較靠近該趾部末端101處(圖1-2)，並且該踝部邊壁537可在該高爾夫球桿頭100及/或該槽孔331的側邊位於較靠近該踝部末端102處(圖1-2)。該槽孔331可在該趾部邊壁334與該踝部邊壁537之間延伸。在許多具體實施例裡，該趾部邊壁334及/或該踝部邊壁537可自該槽孔開口332延伸至該槽孔基底333。在許多具體實施例裡，該槽孔331可包含後方邊壁335及前方邊壁336。在各種具體實施例裡，該後方邊壁335可自該槽孔開口332延伸至該槽孔基底333，並且/或者在該踝部邊壁537與該趾部邊壁334之間延伸。在一些具體實施例中，該前方邊壁336可自該槽孔開口332延伸至該槽孔基底333，並且/或者在該踝部邊壁537與該趾部邊壁334之間延伸。該槽孔331可在該前方邊壁336與該後方邊壁335之間延伸。在許多具體實施例裡，該敲擊面部111可位在，比起該後方邊壁335，較靠近於該前方邊壁336。在一些具體實施例裡，該前方邊壁335亦可位於，比起該後方邊壁335，較靠近於該敲擊面部111。

在該等趾部邊壁334、後方邊壁335、踝部邊壁537與前方邊壁336間之介面的角度可為尖銳、正交或鈍角，或者可為圓化。例如，在一些具體實施例裡，該槽孔331可為管狀，使得趾部邊壁334、後方邊壁335、踝部邊壁537與前方邊壁336之間的介面並不含有尖銳邊緣，然即便如此，該槽孔331仍可被視為具有趾部邊壁、後方邊壁、踝部邊壁和前方 邊壁。在這些具體實施例裡，該趾部邊壁是在該管狀邊壁中鄰近於該趾部末端101的局部，並且該踝部邊壁537是在該管狀邊壁中鄰近於該踝部末端102的局部，依此類推。在許多其他的具體實施例裡，該踝部邊壁537可為相對於該後方邊壁335呈大於90度的角度，並且/或者該趾部邊壁334可為相對於該後方邊壁335呈大於90度的角度。在各種具體實施例裡，該踝部邊壁537可為相對於該後方邊壁335呈小於90度的角度，並且/或者該趾部邊壁334可為相對於該後方邊壁335呈小於90度的角度。在許多具體實施例裡，該踝部邊壁537相對於該後方邊壁335可為正交，以及/或者該趾部邊壁334相對於該後方邊壁335可為正交。即如前文所述，就算該等邊壁在當轉移至次一或鄰近邊壁時並不含有角化邊緣，仍能存在有這些角度。在許多具體實施例裡，該踝部邊壁537及/或趾部邊壁可大致上或近似地為直型。在其他具體實施例中，該踝部邊壁537及/或趾部邊壁334可為曲型。

在許多具體實施例裡，該等凹埠結構330、槽孔331及/或一或更多其等元件在一或更多方向上可具有弓形形狀。例如，該後方邊壁335在該槽孔開口332與該槽孔基底333之間延伸的第一方向上可為曲型並且具有一後方邊壁曲線，即如圖3-5所示。即如另一實例，該前方邊壁336在該槽孔開口332與該槽孔基底333之間延伸的第一方向上可為曲型並且具有一前方邊壁曲線，即如圖3-5所示。在許多具體實施例裡，於該槽孔開口332與該槽孔基底333間延伸之第一方向上的前方邊壁曲線及/或後方邊壁曲線可具有圓形、橢圓形、橄欖形或其他曲型形狀。在許多具體實施例裡，即如圖4所示，該後方邊壁335之沿該第一方向上延伸的後方邊壁 曲線可為一具有半徑447之圓圈445的局部，而且/或者該前方邊壁336之沿該第一方向上延伸的前方邊壁曲線可為一具有半徑448之圓圈446的局部。在許多具體實施例裡，該半徑447可為約0.375英吋(0.9525公分(cm))至約10.0英吋(25.4cm)。例如，該半徑447可為概約0.375英吋(0.9525cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.5英吋(1.27cm)、0.55英吋(1.397cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.65英吋(1.651cm)、0.7英吋(1.778cm)、0.75英吋(1.905cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.85英吋(2.159cm)、0.9英吋(2.286cm)、0.95英吋(2.413cm)、1.0英吋(2.54cm)、1.05英吋(2.667cm)、1.1英吋(2.794cm)、1.15英吋(2.921cm)、1.2英吋(3.048cm)、1.25英吋(3.175cm)、1.3英吋(3.302cm)、1.35英吋(3.429cm)、1.4英吋(3.556cm)、1.45英吋(3.683cm)、1.5英吋(3.81cm)、1.55英吋(3.937cm)、1.6英吋(4.064cm)、1.65英吋(4.191cm)、1.7英吋(4.318cm)、1.75英吋(4.445cm)、1.8英吋(4.572cm)、1.85英吋(4.699cm)、1.9英吋(4.826cm)、1.95英吋(4.953cm)、2.0英吋(5.08cm)、2.1英吋(5.334cm)、2.2英吋(5.588cm)、2.3英吋(5.842cm)、2.4英吋(6.096cm)、2.5英吋(6.25cm)、2.6英吋(6.604cm)、2.7英吋(6.858cm)、2.8英吋(7.112cm)、2.9英吋(7.366cm)、3.0英吋(7.62cm)、3.25英吋(8.255cm)、3.5英吋(8.89cm)、3.75英吋(9.525英吋)、4.0英吋(10.16cm)、4.5英吋(11.43cm)、5.0英吋(12.7cm)、5.5英吋(13.97cm)、6.0英吋(15.24cm)、6.5英吋(16.51cm)、7.0英吋(17.78cm)、7.5英吋(19.05cm)、8.0英吋(20.32cm)、8.5英吋(21.59cm)、9.0英吋(22.86cm)、9.5英吋(24.13cm)、10.0英吋(25.4cm)，或是在這些半徑數值之間的任何其他適當半徑數值，並且範圍可為自這些半徑數值之任一者至這些半徑數值之任一其他者。在一些具 體實施例裡，該半徑447例如可為約0.5英吋(1.27cm)至約1.5英吋(3.81cm)。例如，該半徑447可為約1.0英吋(2.54cm)，即如圖4所示。

即如圖4所示，該半徑448可大於該半徑447。在許多具體實施例裡，該半徑448可為約0.575英吋(1.4605cm)至約11.0英吋(27.94cm)。例如，該半徑448可為大約0.575英吋(1.4605cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.65英吋(1.651cm)、0.7英吋(1.778cm)、0.75英吋(1.905cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.85英吋(2.159cm)、0.875英吋(2.2225cm)、0.9英吋(2.286cm)、0.95英吋(2.413cm)、1.0英吋(2.54cm)、1.05英吋(2.667cm)、1.1英吋(2.794cm)、1.15英吋(2.921cm)、1.2英吋(3.048cm)、1.25英吋(3.175cm)、1.3英吋(3.302cm)、1.35英吋(3.429cm)、1.4英吋(3.556cm)、1.45英吋(3.683cm)、1.5英吋(3.81cm)、1.55英吋(3.937cm)、1.6英吋(4.064cm)、1.65英吋(4.191cm)、1.7英吋(4.318cm)、1.75英吋(4.445cm)、1.8英吋(4.572cm)、1.85英吋(4.699cm)、1.9英吋(4.826cm)、1.95英吋(4.953cm)、2.0英吋(5.08cm)、2.1英吋(5.334cm)、2.2英吋(5.588cm)、2.3英吋(5.842cm)、2.4英吋(6.096cm)、2.5英吋(6.25cm)、2.6英吋(6.604cm)、2.7英吋(6.858cm)、2.8英吋(7.112cm)、2.9英吋(7.366cm)、3.0英吋(7.62cm)、3.25英吋(8.255cm)、3.5英吋(8.89cm)、3.75英吋(9.525inches)、4.0英吋(10.16cm)、4.5英吋(11.43cm)、5.0英吋(12.7cm)、5.5英吋(13.97cm)、6.0英吋(15.24cm)、6.5英吋(16.51cm)、7.0英吋(17.78cm)、7.5英吋(19.05cm)、8.0英吋(20.32cm)、8.5英吋(21.59cm)、9.0英吋(22.86cm)、9.5英吋(24.13cm)、10.0英吋(25.4cm)、10.5英吋(26.67cm)、11.0英吋(27.94cm)，或是在這些半徑數值之間的任何其他適當半徑數值，並且範圍可為自這些半徑數值之任一者 至這些半徑數值之任一其他者。在一些具體實施例裡，該半徑448例如可為約0.7英吋(1.778cm)至約1.7英吋(3.81cm)。例如，該半徑447可為約1.0英吋(2.54cm)，即如圖4所示。又在其他的具體實施例裡，該半徑448可為約0.875英吋(2.2225cm)至約11.0英吋(27.94cm)。

在許多具體實施例裡，該等圓圈445和圓圈446可為大致或近似地同心，使得該踝部邊壁537與該趾部邊壁334之間的前方邊壁336中央局部當沿該第一方向上移動時，可距於該踝部邊壁537與該趾部邊壁334之間的後方邊壁335中央局部為大致固定的距離。在相同或其他的具體實施例中，當沿該第一方向上移動時，該前方邊壁336在該前方邊壁336及該後方邊壁334之任何相對應局部處可距於該後方邊壁335為大致或近似地固定距離。例如，在圖4所示的截面切圖裡，該半徑448可近似為1.2英吋(3.048cm)，並且該前方邊壁336在當沿該第一方向上移動時，可離該後方邊壁335約為0.2英吋(0.508cm)。為製造及/或組裝之目的，該前方邊壁336與該後方邊壁335之中央局部間的距離可為大致或近似地固定，即使是當自該槽孔開口332朝向該槽孔基底333而沿著該第一方向上移動時，此距離略微地縮減(即如達百分之十(10%)時亦然)。在許多具體實施例裡，該前方邊壁336距於該後方邊壁335可大約為0.025英吋(0.0635cm)至約0.5英吋(0.254cm)。例如，該前方邊壁336在當沿該第一方向上移動時，距於該後方邊壁335可為大約0.025英吋(0.0635cm)、0.05英吋(0.127cm)、0.075英吋(0.1905cm)、0.1英吋(0.254cm)、0.125英吋(0.3175cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.175英吋(0.4445cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.225英吋(0.5715cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.275英吋(0.6985cm)、0.3英吋(0.762cm)、 0.325英吋(0.8255cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.375英吋(0.9525cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.425英吋(1.0795cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.475英吋(1.2065cm)或0.5英吋(1.27cm)，或者可為這些距離數值之間的任何其他適當距離，並且範圍可為自這些距離數值之任一者至這些距離數值之任一其他者。

在其他具體實施例中，該圓圈445及該圓圈446可具有並非同心的中心點，使得該前方邊壁336在當沿該第一方向上移動時，距於該後方邊壁335為可變距離。例如，在一些具體實施例中，該前方邊壁336與該後方邊壁335間之距離可在當沿著從該槽孔開口332延伸至該槽孔基底333的第一方向上移動時變成狹窄，如此有助於更簡易地自該凹埠結構330上移除該諧調元件150(圖1-2)。而在其他具體實施例裡，該前方邊壁336與該後方邊壁335之間的距離則可在當沿著從該槽孔開口332延伸至該槽孔基底333的第一方向上移動時變寬。在許多具體實施例裡，該圓圈445之中心點與該圓圈446之中心點間的距離可約為0英吋(0cm)至約5.0英吋(12.7cm)。例如，該圓圈445之中心點與該圓圈446之中心點間的距離可約為0英吋(0cm)、0.005英吋(0.0127cm)、0.01英吋(0.0254cm)、0.015英吋(0.0381cm)、0.02英吋(0.0508cm)、0.025英吋(0.0635cm)、0.03英吋(0.0762cm)、0.04英吋(0.1016cm)、0.05英吋(0.127cm)、0.06英吋(0.1524cm)、0.07英吋(0.1778cm)、0.08英吋(0.2032cm)、0.09英吋(0.2286cm)、0.1英吋(0.254cm)、0.125英吋(0.3175cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.175英吋(0.4445cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.225英吋(0.5715cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.275英吋(0.6985cm)、0.3英吋(0.762cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.5英吋(1.27cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.7 英吋(1.778cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.9英吋(2.286cm)、1.0英吋(2.54cm)、1.25英吋(3.175cm)、1.5英吋(3.81cm)、1.75英吋(4.445cm)、2.0英吋(5.08cm)、2.25英吋(5.715cm)、2.5英吋(6.35cm)、2.75英吋(6.985cm)、3.0英吋(7.62cm)、3.25英吋(8.255cm)、3.5英吋(8.89cm)、3.75英吋(9.525cm)、4.0英吋(10.16cm)、4.25英吋(10.795cm)、4.5英吋(11.43cm)、4.75英吋(12.065cm)、5.0英吋(12.7cm)，或者可為這些距離數值之間的任何其他適當距離，並且範圍可為自這些距離數值之任一者至這些距離數值之任一其他者。當該等圓圈445及446的中心點為大致或近似地同心時，這些中心點之間的距離可約為0英吋(0cm)至0.075英吋(0.1905cm)。

在一些具體實施例裡，像是圖4所示，該等圓圈445及圓圈446的中心點可位在比起該前方邊壁336而較靠近於該後方邊壁335，使得該半徑447可小於該半徑448。即如圖4所示，該前方邊壁336於該槽孔331裡在該第一方向上可為內凹(當自該槽孔331內部的觀點而觀看時)，並且/或者該後方邊壁335於該槽孔331裡在該第一方向上可為外凸(當自該槽孔331內部的相同觀點而觀看時)。在其他具體實施例中，該前方邊壁336在該槽孔331裡可為外凸，以及/或者該後方邊壁335在該槽孔331裡可為內凹。在這些具體實施例裡，例如該等圓圈445及圓圈446的中心點可位在比起該後方邊壁335而較靠近於該前方邊壁336，使得該半徑448可小於該半徑447。在一些具體實施例裡，大部份的前方邊壁336及/或後方邊壁335在該第一方向上可為大致曲型。在許多具體實施例裡，該等圓圈445及/或圓圈446的中心點可位於該高爾夫球桿頭100的外部。在其他具體實施例裡，該等圓圈445及/或圓圈446的中心點可位於該高爾夫球桿頭100的 內部。

在許多具體實施例裡，該槽孔331的指向可為讓該敲擊局部110的底部末端能夠位在比起該槽孔開口332而較靠近於該槽孔基底333。在一些具體實施例裡，該槽孔331的指向亦可為使得該槽孔基底333，比起該槽孔開口332，能夠位在較靠近於該敲擊局部110的底部末端。在一些具體實施例裡，該後方邊壁335及/或該前方邊壁336的至少一局部可為平行於該敲擊面部111。在各種具體實施例裡，該後方邊壁335及/或該前方邊壁336的至少一局部可在與該敲擊面部111大致相同的方向上延伸。在許多具體實施例裡，該敲擊面部111與該前方邊壁336之間的距離在該槽孔基底333處比起在該槽孔開口332處可為較寬，像是圖3-5所示，如此可有利地在該敲擊局部110的較低局部上提供增強的高爾夫球桿頭100耐固度。在一些具體實施例裡，該後方邊壁335及/或該前方邊壁336的至少一局部可為平行於該桿底121的至少一局部。在其他的具體實施例裡，該槽孔331於該高爾夫球桿頭100內可具有其他的適當指向。

在許多具體實施例裡，該前方邊壁336的至少一局部可位在比起該背面部112的至少一局部而較靠近於該敲擊面部111。在一些具體實施例裡，該敲擊面部111與該前方邊壁336之間於該槽孔開口332處的距離可為小於該敲擊面部111與該背面部112之至少一局部間的距離。例如，該敲擊局部110在該週緣局部113處於該敲擊局部110之頂部處的厚度可為大於在該槽孔開口332處該敲擊面部111與該前方邊壁336之間的距離。在許多具體實施例裡，該背面部112可為至少部份地內凹。例如，即如圖3-5所示，該背面部112在該週緣局部113與該後方局部120之間可為內凹 地彎曲。在一些具體實施例裡，該背面部112的內凹曲線可為平行於，或另類似於，該後方邊壁335或是該前方邊壁336之至少一者的曲線。在許多具體實施例裡，該背面部112的內凹曲線可有助於較簡易地製造高爾夫球桿頭100，使得即便是當該敲擊局部110在該背面部112之一局部處的厚度大於該敲擊面部111與該前方邊壁336之間在該槽孔開口332處的距離時，仍能以一加工挑件來鑄造該凹埠結構330及/或該槽孔331，而此加工挑件可藉由單一動作予以移除，像是僅須繞於一固定點轉動該加工挑件，然不致牽涉到該背面部112。例如，該加工挑件可類似於該加工工件1390，即如圖13-14所示且按後文所述者。

在許多具體實施例裡，該前方邊壁336可為曲型，並且在與該第一方向相垂直且於該踝部邊壁537及該趾部邊壁334之間延伸的第二方向上擁有一前方邊壁曲線。在其他的具體實施例中，該前方邊壁336在沿該第二方向上可為大致或近似地直型。在許多具體實施例裡，該後方邊壁335可為曲型，並且在該第二方向上擁有一後方邊壁曲線。在其他的具體實施例中，該後方邊壁335在沿該第二方向上可為大致或近似地直型。在該踝部邊壁537和該趾部邊壁334間延伸之第二方向上的前方邊壁曲線及/或後方邊壁曲線可為至少部份地具有圓形、橢圓形、橄欖形或其他的弓形形狀。即以一實例，如圖3-5所示，該前方邊壁336在該槽孔331裡於該第二方向上可為內凹，並且該後方邊壁335在該槽孔331裡於該第二方向上可為大致或近似地直型。在一些具體實施例裡，該前方邊壁336在該踝部邊壁537及/或在該趾部邊壁334處，比起在該踝部邊壁537與該趾部邊壁334間的中點處，距於該後方邊壁336的距離可為較短。在一些具體實 施例裡，大部份的前方邊壁336及/或後方邊壁335在該第二方向上可為大致曲型。在各種具體實施例裡，大部份的前方邊壁336及/或後方邊壁335在該第二方向上可為大致或近似地直型。

在許多具體實施例裡，該凹埠結構330在該槽孔開口332處可含有一帽蓋凹陷340，此者可為組態設定以收納該諧調元件150(圖1-2)的帽蓋661(如圖6-8所示且如後文所述)，即如後文中進一步詳細說明。在許多具體實施例裡，該帽蓋凹陷340可延伸並且在該槽孔開口332處越過前方邊壁336、後方邊壁335、趾部邊壁334及/或踝部邊壁537。在一些具體實施例裡，該帽蓋凹陷340可延伸越過該前方邊壁336而至該背面部112。在許多具體實施例裡，該帽蓋凹陷340在該槽孔開口332處可繞於該槽孔331的整個週緣上界圍或是另外伸展越過該槽孔331約0.02英吋(0.0508cm)至約0.1英吋(0.254cm)。例如，該帽蓋凹陷340可延伸約0.02英吋(0.0508cm)、0.03英吋(0.0762cm)、0.04英吋(0.1016cm)、0.05英吋(0.127cm)、0.06英吋(0.1524cm)、0.07英吋(0.1778cm)、0.08英吋(0.2032cm)、0.9英吋(0.2286cm)，或者可為這些距離數值之間的任何其他適當距離，並且範圍可為自這些距離數值之任一者至這些距離數值之其他任一者。在一些具體實施例裡，例如該帽蓋凹陷340可於該槽孔開口332處延伸越過該槽孔331約0.03英吋(0.0762cm)至約0.07英吋(0.1778cm)。例如，該帽蓋凹陷340的至少一局部可在該槽孔開口332處延伸越過該槽孔331約0.5英吋(2.54cm)，像是圖3-5所示。在一些具體實施例裡，該帽蓋凹陷340可在該槽孔開口332處於該槽孔開口332之一或更多側邊上延伸越過該槽孔331可變或另為不同的距離。在其他具體實施例中，該凹埠結構330並不含該 帽蓋凹陷340，像是用於不含帽蓋的諧調元件。

現續參照附圖，圖6說明，根據一具體實施例，一諧調元件150的側視圖。圖7說明該諧調元件150的後視圖。圖8說明諧調元件150的上視圖。該諧調元件150僅為示範性質，並且該諧調元件的具體實施例不限於本文所揭示的具體實施例。該諧調元件確可運用於本案文中未予特定地描述或說明的眾多不同具體實施例或實例。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150可位於該凹埠結構330之內並且/或者大致與其同形(圖3-5)。在許多具體實施例裡，該諧調元件150可包含主局部651以及帽蓋661。在其他具體實施例中，該諧調元件150可包含主局部651然無含帽蓋661，像是當該凹埠結構330並未包含該帽蓋凹陷340時(圖3-5)。在一些具體實施例裡，該主局部651和該帽蓋661可為由一或多種相同材料所製成。在許多具體實施例裡，該主局部651可為與該帽蓋661相整合及/或共同鑄造。在其他的具體實施例中，該主局部651可為一分別的材料工件，並像是藉由焊接、銅焊、黏著及/或其他的機械性或化學性固定器/劑以固接於該帽蓋661。在一些具體實施例裡，該諧調元件150可為射出鑄造、加工、燒結或是藉由其他的適當製程以製作或設置在該凹埠結構330內(圖3-5)。在各種具體實施例裡，該諧調元件150可為由與該後方局部120(圖1-5)或者該敲擊局部110(圖1-5)相同或不同的材料所製成。在一些具體實施例裡，該諧調元件150可為由一或更多彈性體所製成。例如，該諧調元件150可為由非鐵質熱塑性氨基甲酸乙酯、(多種)熱塑性彈性聚合物、具鐵質顆粒混合物的混合塑料，或是經混合至聚氨基甲酸乙酯或其他彈性聚合物內的其他合金鐵質顆粒，所製成。在其他具 體實施例中，該諧調元件150可為像是鋁、鋼、鎢的金屬，或者像是在當該諧調元件150係經燒結或加工時則可為其他的適當金屬。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150的重量可予有利地組態設定以供強化該敲擊局部110(圖1-5)，藉以協助令非所欲撞擊震動最小化，並且/或者在組裝過程中能夠建立或調整高爾夫球桿頭的重量。例如，該諧調元件150可具有約1.0g至約100g的質量。例如，該諧調元件150的質量可約為1.0g、2.0g、3.0g、4.0g、5.0g、6.0g、7.0g、8.0g、9.0g、10.0g、11.0g、12.0g、13.0g、14.0g、15.0g、16.0g、17.0g、18.0g、19.0g、20.0g、21.0g、22.0g、23.0g、24.0g、25.0g、26.0g、27.0g、28.0g、29.0g、30.0g、35.0g、40.0g、45.0g、50.0g、55.0g、60.0g、65.0g、70.0g、75.0g、80.0g、85.0g、90.0g、95.0g、100.0g，或者可為這些質量數值之間的任何其他適當質量，並且範圍可為自這些質量數值之任一者至這些質量數值之其他任一者。例如，在一些具體實施例裡，該諧調元件150可具有約1.0g至約30.0g的質量。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150可具有約1.0g/cc至約20.0g/cc的密度。例如，該諧調元件150的密度可為約1.0g/cc、1.5g/cc、2.0g/cc、2.5g/cc、3.0g/cc、3.5g/cc、4.0g/cc、4.5g/cc、5.0g/cc、5.5g/cc、6.0g/cc、6.5g/cc、7.0g/cc、7.5g/cc、8.0g/cc、8.5g/cc、9.0g/cc、9.5g/cc、10.0g/cc、10.5g/cc、11.0g/cc、11.5g/cc、12.0g/cc、12.5g/cc、13.0g/cc、13.5g/cc、14.0g/cc、14.5g/cc、15.0g/cc、15.5g/cc、16.0g/cc、16.5g/cc、17.0g/cc、17.5g/cc、18.0g/cc、18.5g/cc、19.0g/cc、19.5g/cc、20.0g/cc，或是在這些密度數值之間的任何其他適當密度數值，並且可為自這些密度數值之任一者至這些密度數值之其他任一者 的範圍。例如，在一些具體實施例裡，該諧調元件150可具有約1.0g/cc至約9.0g/cc的密度。在一些具體實施例裡，該諧調元件150的密度可低於該後方局部120的密度。在其他具體實施例裡，該諧調元件150的密度可高於或等於該後方局部120的密度。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150的主局部651可含有一諧調元件後方側邊655、一諧調元件前方側邊656、一諧調元件踝部側邊757、一諧調元件趾部側邊654，及/或一諧調元件底部側邊653。在該諧調元件後方側邊655、該諧調元件踝部側邊757、該諧調元件前方側邊656與該諧調元件趾部側邊654之間的介面可為銳角、正交或鈍角，或者可為圓角化。例如，在一些具體實施例裡，可將該主局部651予以圓角化，使得該諧調元件後方側邊655、該諧調元件踝部側邊757、該諧調元件前方側邊656與該諧調元件趾部側邊654之間的介面不會含有角度化邊緣。在許多具體實施例裡，該諧調元件踝部側邊757可相對於該諧調元件後方側邊655呈一大於90度的角度，並且/或者該諧調元件趾部側邊654可相對於該諧調元件後方側邊655呈一大於90度的角度，即如圖7所示。在各種具體實施例裡，該諧調元件踝部側邊757可相對於該諧調元件後方側邊655呈一小於90度的角度，並且/或者該諧調元件趾部側邊654可相對於該諧調元件後方側邊655呈一小於90度的角度。在許多具體實施例裡，該諧調元件踝部側邊757可相對於該諧調元件後方側邊655為正交，並且/或者該諧調元件趾部側邊654可相對於該諧調元件後方側邊655為正交。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150的帽蓋661可含有一帽蓋後方側邊665、一帽蓋前方側邊666、一帽蓋踝部側邊767、一帽蓋趾 部側邊664、一帽蓋底部唇邊663，及/或一帽蓋頂部側邊668。在該帽蓋後方側邊665、該帽蓋踝部側邊767、該帽蓋前方側邊666與該帽蓋趾部側邊664之間的介面可為銳角、正交或鈍角，或者可為圓角化。例如，在一些具體實施例裡，可將該帽蓋661予以圓角化，使得該帽蓋後方側邊665、該帽蓋踝部側邊767、該帽蓋前方側邊666與該帽蓋趾部側邊664之間的介面不會含有角度化邊緣。在許多具體實施例裡，該帽蓋踝部側邊767可相對於該帽蓋後方側邊665呈一大於90度的角度，並且/或者該帽蓋趾部側邊664可相對於該帽蓋後方側邊665呈一大於90度的角度，即如圖7-8所示。在各種具體實施例裡，該帽蓋踝部側邊767可相對於該帽蓋後方側邊665呈一小於90度的角度，並且/或者該帽蓋趾部側邊664可相對於該帽蓋後方側邊665呈一小於90度的角度。在許多具體實施例裡，該帽蓋踝部側邊767可相對於該帽蓋後方側邊665為正交，並且/或者該帽蓋趾部側邊664可相對於該帽蓋後方側邊665為正交。在許多具體實施例裡，該帽蓋踝部側邊767可具有與該諧調元件踝部側邊757相同或類似的指向，該帽蓋趾部側邊664可具有與該諧調元件趾部側邊654相同或類似的指向，該帽蓋後方側邊665可具有與該諧調元件後方側邊655相同或類似的指向，並且/或者該帽蓋前方側邊666可具有與該諧調元件前方側邊656相同或類似的指向。在一些具體實施例裡，該帽蓋661在該諧調元件150上可為選擇性，及/或該帽蓋凹陷340(圖3-5)在該凹埠結構330上(圖3-5)可為選擇性。例如，在一些具體實施例裡，該諧調元件150可不包含該帽蓋661，並且可在該凹埠結構330內平齊(圖3-5)而在該槽孔開口332處(圖3-5)沒有該帽蓋凹陷340(圖3-5)，或者該諧調元件150可相對該槽孔開口332略微地凸出或是略微地凹 入(圖3-5)。

在許多具體實施例裡，該諧調元件150或者該諧調元件150的一或更多元件在一或更多方向上可具有弓形的形狀。例如，該諧調元件後方側邊655及/或該帽蓋後方側邊665在該帽蓋頂部側邊668與該諧調元件底部側邊653之間延伸的第一方向上可為曲形。即如另一範例，該諧調元件前方側邊656在該帽蓋頂部側邊668與該諧調元件底部側邊653之間延伸的第一方向上可為曲型。在許多具體實施例裡，該諧調元件後方側邊655及/或該帽蓋前方側邊656在該帽蓋頂部側邊668與該諧調元件底部側邊653間延伸之第一方向上的曲線可為圓形、橢圓形、橄欖形或者其他的曲型形狀，並且在許多具體實施例裡，可在該第一方向上匹配或關聯於該槽孔331(圖3-5)的後方邊壁335(圖3-5)及/或前方邊壁336(圖3-5)。例如，該諧調元件後方側邊655在該第一方向上可具有類似或等同於該圓圈445(圖4)之半徑447(圖4)的半徑，即如前文中關聯於該後方邊壁335(圖3-5)所述者。即如另一範例，該諧調元件前方側邊656在該第一方向上可具有類似或等同於該圓圈446(圖4)之半徑448(圖4)的半徑，即如前文中關聯於該前方邊壁336(圖3-5)所述者。在許多具體實施例裡，像是圖6所示者，該諧調元件後方側邊655及/或該諧調元件前方側邊656沿該第一方向上延伸的曲線各者可為一圓圈的局部。在一些具體實施例裡，各個圓圈可為同心。在許多具體實施例裡，該諧調元件前方側邊656在當沿該第一方向上移動時距於該諧調元件後方側邊655可為大致或近似地固定的距離。在許多具體實施例裡，像是圖6所示，該諧調元件後方側邊655在該第一方向上可為內凹，該諧調元件前方側邊656在該第一方向上可為外凸。在其他 具體實施例中，該諧調元件後方側邊655在該第一方向上可為外凸，而該諧調元件前方側邊656在該第一方向上可為內凹。

在許多具體實施例裡，該諧調元件前方側邊656及/或該帽蓋前方側邊666在一與該第一方向相垂直並且在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654之間延伸的第二方向上可為曲型。在其他具體實施例中，該諧調元件前方側邊656及/或該帽蓋前方側邊666於沿該第二方向上可為大致或近似地直型。在許多具體實施例裡，該諧調元件後方側邊655及/或該帽蓋後方側邊665於該第二方向上可為曲型。在其他具體實施例中，該諧調元件後方側邊655及/或該帽蓋後方側邊665於沿該第二方向上可為大致或近似地直型。在許多具體實施例裡，該諧調元件後方側邊655及/或該諧調元件前方側邊656在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654間延伸之第二方向上的曲線可至少部分地具有圓形、橢圓形、橄欖形或者其他的弓形形狀，並且在許多具體實施例裡，可在該第二方向上匹配或關聯於該槽孔331(圖3-5)的後方邊壁335(圖3-5)及/或前方邊壁336(圖3-5)。

在圖6-8所示的具體實施例中，該諧調元件前方側邊656及該帽蓋前方側邊666在該第二方向上為內凹，並且該諧調元件後方側邊655及該帽蓋後方側邊665在該第二方向上為大致或近似地直型。在所呈現的具體實施例中，該諧調元件後方側邊655在該第一方向上為內凹，而該諧調元件前方側邊656在該第一方向上為外凸。在所呈現的具體實施例中，該諧調元件150具有約2.5英吋(6.35cm)的踝部至趾部長度(從該帽蓋踝部側邊767到該帽蓋趾部側邊664)。在其他具體實施例中，該諧調元件150可 具有約0.5英吋(1.27cm)至約4.0英吋(10.16cm)的踝部至趾部長度。例如，該諧調元件150的踝部至趾部長度可為約0.5英吋(1.27cm)、0.75英吋(1.905cm)、1.0英吋(2.54cm)、1.25英吋(3.175cm)、1.5英吋(3.81cm)、1.75英吋(4.445cm)、2.0英吋(5.08cm)、2.25英吋(5.715cm)、2.5英吋(6.35cm)、2.75英吋(6.985cm)、3.0英吋(7.62cm)、3.25英吋(8.255cm)、3.5英吋(8.89cm)、3.75英吋(9.525cm)、4.0英吋(10.16cm)，或是在這些長度數值之間的任何其他適當長度數值，並且可為自這些長度數值之任一者至這些長度數值之其他任一者的範圍。例如，該諧調元件150可具有約1.0英吋(2.54cm)至約3.0英吋(7.62cm)的踝部至趾部長度。

在所呈現的具體實施例裡，該諧調元件150之主局部651的高度(即自該諧調元件底部側邊653至該帽蓋底部唇邊663)約為0.45英吋(1.143cm)。在其他具體實施例中，該主局部651可具有約0.1英吋(0.254cm)至約1.0英吋(2.54cm)的高度。例如，該主局部651的高度可為約0.1英吋(0.254cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.3英吋(0.762cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.5英吋(1.27cm)、0.55英吋(1.397cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.65英吋(1.651cm)、0.7英吋(1.778cm)、0.75英吋(1.905cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.85英吋(2.159cm)、0.9英吋(2.286cm)、0.95英吋(2.413cm)、1.0英吋(2.54cm)，或是在這些高度數值之間的任何其他適當高度數值，並且可為自這些高度數值之任一者至這些高度數值之其他任一者的範圍。例如，該主局部651可具有約0.1英吋(0.254cm)至約0.7英吋(1.778cm)的高度。

在所呈現的具體實施例裡，該帽蓋661的高度(從該帽蓋底 部唇邊663至該帽蓋頂部側邊668)為約0.15英吋(0.381cm)。在其他具體實施例中，該帽蓋661可具有約0.02英吋(0.0508cm)至約1.0英吋(2.54cm)的高度。例如，該帽蓋661的高度可為約0.02英吋(0.0508cm)、0.05英吋(0.127cm)、0.1英吋(0.254cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.3英吋(0.762cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.5英吋(1.27cm)、0.55英吋(1.397cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.65英吋(1.651cm)、0.7英吋(1.778cm)、0.75英吋(1.905cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.85英吋(2.159cm)、0.9英吋(2.286cm)、0.95英吋(2.413cm)、1.0英吋(2.54cm)，或是在這些高度數值之間的任何其他適當高度數值，並且可為自這些高度數值之任一者至這些高度數值之其他任一者的範圍。例如，該帽蓋661可具有約0.02英吋(0.0508cm)至約0.4英吋(1.016cm)的高度。

在所呈現的具體實施例裡，該諧調元件的高度(從該諧調元件底部側邊653至該帽蓋頂部側邊668)為約0.6英吋(1.524cm)。在其他具體實施例中，該諧調元件150可具有約0.1英吋(0.254cm)至約2.0英吋(5.08cm)的高度。例如，該諧調元件150的高度可為約0.1英吋(0.254cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.3英吋(0.762cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.5英吋(1.27cm)、0.55英吋(1.397cm)、0.6英吋(1.524cm)、0.65英吋(1.651cm)、0.7英吋(1.778cm)、0.75英吋(1.905cm)、0.8英吋(2.032cm)、0.85英吋(2.159cm)、0.9英吋(2.286cm)、0.95英吋(2.413cm)、1.0英吋(2.54cm)、1.05英吋(2.667cm)、1.1英吋(2.794cm)、1.15英吋(2.921cm)、1.2英吋 (3.048cm)、1.25英吋(3.175cm)、1.3英吋(3.302cm)、1.35英吋(3.429cm)、1.4英吋(3.556cm)、1.45英吋(3.683cm)、1.5英吋(3.81cm)、1.55英吋(3.937cm)、1.6英吋(4.064cm)、1.65英吋(4.191cm)、1.7英吋(4.318cm)、1.75英吋(4.445cm)、1.8英吋(4.572cm)、1.85英吋(4.699cm)、1.9英吋(4.826cm)、1.95英吋(4.953cm)、2.0英吋(5.08cm)，或是在這些高度數值之間的任何其他適當高度數值，並且可為自這些高度數值之任一者至這些高度數值之其他任一者的範圍。例如，該諧調元件150可具有約0.1英吋(0.254cm)至約1.0英吋(2.54cm)的高度。

在所呈現的具體實施例中，該帽蓋661在該帽蓋踝部側邊767與該帽蓋趾部側邊664之間的中點處具有約0.28英吋(0.7112cm)的前方至後方厚度(從該帽蓋前方側邊666至該帽蓋後方側邊665)，該主局部651在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654之間的中點處具有約0.22英吋(0.558cm)的前方至後方厚度，同時該主局部651在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654處具有約0.1英吋(0.254cm)的前方至後方厚度。在各種具體實施例裡，該諧調元件150可在包含例如該諧調元件踝部側邊757、該諧調元件趾部側邊654、該帽蓋踝部側邊767及/或該帽蓋趾部側邊664處擁有大於或等於約0.025英吋(0.0635cm)的前方至後方厚度。在許多具體實施例裡，該諧調元件150可在包含例如該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654之間的中點處擁有小於或等於約0.5英吋(1.27cm)的前方至後方厚度。在許多具體實施例裡，該諧調元件150在該諧調元件踝部側邊757、該諧調元件趾部側邊654、該帽蓋踝部側邊767及/或該帽蓋趾部側邊664處的前方至後方厚度可為小於該諧調元件150在 該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654間之中點處的前方至後方厚度。在其他具體實施例中，該諧調元件150的前方至後方厚度在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654之間可為均勻。又在其他具體實施例裡，該諧調元件150在該諧調元件踝部側邊757、該諧調元件趾部側邊654、該帽蓋踝部側邊767及/或該帽蓋趾部側邊664處的前方至後方厚度可為大於該諧調元件150在該諧調元件踝部側邊757與該諧調元件趾部側邊654間之中點處的前方至後方厚度。

在許多具體實施例裡，該帽蓋底部唇邊663可延伸越過該諧調元件踝部側邊757至該帽蓋踝部側邊767，越過該諧調元件趾部側邊654至該帽蓋趾部側邊664，越過該諧調元件後方側邊655至該帽蓋後方側邊665，及/或越過該諧調元件前方側邊656至該帽蓋前方側邊666。在圖6-8所示範例裡，該帽蓋底部唇邊可界圍或是另外在一或更多方向上延伸約0.05英吋(0.127cm)。在其他具體實施例中，該帽蓋底部唇邊663可在一或更多方向上延伸約0.02英吋(0.0508cm)至約0.5英吋(0.127cm)。例如，該帽蓋底部唇邊663可延伸約0.02英吋(0.0508cm)、0.025英吋(0.0635cm)、0.05英吋(0.127cm)、0.075英吋(0.1905cm)、0.1英吋(0.254cm)、0.125英吋(0.3175cm)、0.15英吋(0.381cm)、0.175英吋(0.4445cm)、0.2英吋(0.508cm)、0.225英吋(0.5715cm)、0.25英吋(0.635cm)、0.275英吋(0.6985cm)、0.3英吋(0.762cm)、0.325英吋(0.8255cm)、0.35英吋(0.889cm)、0.375英吋(0.9525cm)、0.4英吋(1.016cm)、0.425英吋(1.0795cm)、0.45英吋(1.143cm)、0.475英吋(1.2065cm)、0.5英吋(1.27cm)，或是在這些長度數值之間的任何其他適當長度數值，並且可為自這些長度數值之任一者至這些長度數值之 其他任一者的範圍。在許多具體實施例裡，該帽蓋底部唇邊663可在兩個或更多方向上延伸不同的維度。

現繼續參照圖式，圖9說明沿具有諧調元件150的高爾夫球桿頭100之圖2直線3-3的側邊截面視圖。圖10說明沿具有諧調元件150的高爾夫球桿頭100之圖2直線3-3的側邊、底部、後方透視截面視圖。即如圖9-10所示，該凹埠結構330可為組態設定以接受及/或固定該諧調元件150。該主局部651可配入於，及/或大致共形於，該槽孔331內，並且/或者該帽蓋661可配入於該帽蓋凹陷340內。在許多具體實施例裡，該凹埠結構330可略微大於該諧調元件150以便能夠將該諧調元件150插入至該凹埠結構340內。該諧調元件150可黏著或另固接於該凹埠結構。例如，可利用像是環氧樹脂的黏著劑以將該諧調元件150固定在該凹埠結構內。在一些具體實施例裡，環氧樹脂的厚度可為至少約0.001英吋(0.00254cm)，並且該凹埠結構330在一或更多方向上可大於該諧調元件150至少約0.001英吋(0.00254cm)。例如，該凹埠結構可在各個方向上大於該諧調元件150約0.01英吋(0.0254cm)。在圖9及10所示的具體實施例裡，相較於該諧調元件150和該凹埠結構340的其他部份之間，該諧調元件底部側邊653與該槽孔基底333之間可存在有較大的間隔。此間隔可用來盛裝過多的黏著劑，從而黏著劑不會溢流到該槽孔331或該凹埠結構340之外。在其他具體實施例中，可利用像是卡鎖、肋條、夾扣的機械性機制，或是其他適當機械性機制，以將該諧調元件150(具有或不含帽蓋661)固裝在該凹埠結構330內。

在許多具體實施例裡，當該諧調元件150座置在該凹埠結構 330之內時，該諧調元件趾部側邊654(圖6-7)可介接於該趾部邊壁334(圖3-4)，該諧調元件踝部側邊757(圖7)可介接於該踝部邊壁537(圖5)，該諧調元件後方側邊655可介接於該後方邊壁335，該諧調元件前方側邊656可介接於該前方邊壁336，及/或該諧調元件底部側邊653可介接於該槽孔基底333。在許多具體實施例裡，當該諧調元件150座置在該凹埠結構330之內時，該帽蓋661可延伸越過該槽孔331並且在該槽孔開口332(圖3-5)處座置在該帽蓋凹陷340內(圖3-5)而延伸越過該前方邊壁336、該後方邊壁335、該踝部邊壁537(圖5)及/或該趾部邊壁334(圖3-4)。

在各種具體實施例裡，該帽蓋661可配入於該帽蓋凹陷340之內，並且/或者該帽蓋頂部側邊668可經塑形以相符於該後方局部120及/或該背面部112的週遭形狀。例如，該帽蓋頂部側邊668可含有一或更多個曲型或角度化表面。在一些具體實施例裡，可在帽蓋頂部側邊668、後方局部120、背面部112以及/或者在帽蓋頂部側邊668、後方局部120及/或背面部112之間的介面上增設一嵌件，使得該等後方局部120、帽蓋頂部側邊668、背面部112及/或其等間的介面可為看似無縫，並且/或者部份地或完全地隱匿出現在該高爾夫球桿頭100內的諧調元件150。在一些具體實施例裡，該嵌件可覆蓋該帽蓋頂部側邊668並且包繞於該帽蓋661的側邊，藉以覆蓋至少一部份或所有的帽蓋前方側邊666(圖6、8)、帽蓋後方側邊665(圖6-8)、帽蓋頂部側邊664(圖6-8)及/或帽蓋踝部側邊767(圖7-8)，因此當該帽蓋661位於該帽蓋凹陷340之內時，能夠隱藏該嵌件的邊緣而無法被看見。在一些具體實施例裡，該帽蓋凹陷340可在一或更多方向上大於該帽蓋661至少約0.01英吋(0.0254cm)。例如，該帽蓋凹陷340可在各個 方向上大於該帽蓋661約0.03英吋(0.0762cm)。

在許多具體實施例裡，該凹埠結構330及/或該諧調元件150的形狀可為使得該諧調元件150能夠僅以單一指向插入及/或配入在該凹埠結構330內，如此可在組裝過程中有利地避免錯誤地插入該諧調元件150。例如，該諧調元件150、該凹埠結構330及/或其等之一或更多元件在一或更多方向上的弓形形狀，並且/或者該帽蓋661及/或該帽蓋凹陷340的形狀，可為組態設定以使得該諧調元件150僅能以單一指向配入於該凹埠結構330內。

在各種具體實施例裡，該凹埠結構330及/或該諧調元件150的形狀可為組態設定，從而增加該凹埠結構330與該諧調元件150之間的接觸表面積，如此可有利地提高將該諧調元件150固定於該凹埠結構330之黏著劑的黏接強度並且防止該諧調元件150自該凹埠結構330落離。例如，在一些具體實施例裡，該諧調元件150的高度可大於該諧調元件150的前方至後方厚度，並且/或者自該槽孔開口332至該槽孔基底333的距離可大於自該前方邊壁336至該後方邊壁335的距離。在所示具體實施例裡，該凹埠結構330具有約2.4平方英吋(in²)(15.48平方公分(cm²))的表面積。在其他的具體實施例中，該凹埠結構330可具有約0.5in²(3.23cm²)至約5.5in²(35.48cm²)的表面積。例如，該凹埠結構330的表面積可為約0.5in²(3.23cm²)、0.75in²(4.84cm²)、1.0in²(6.45cm²)、1.25in2(8.06cm²)、1.5in²(9.68cm²)、1.75in²(11.29cm²)、2.0in²(13.90cm²)、2.25in2(14.52cm²)、2.5in²(16.13cm²)、2.75in²(17.74cm²)、3.0in²(19.35cm²)、3.25in²(20.97cm²)、3.5in²(22.58cm²)、3.75in²(24.19cm²)、4.0in²(25.81cm²)、4.25in²(27.42cm²)、4.5in² (29.03cm²)、4.75in²(30.65cm²)、5.0in²(32.26cm²)、5.25in²(33.87cm²)、5.5in²(35.48cm²)，或是在這些表面積數值之間的任何其他適當表面積數值，並且可為自這些表面積數值之任一者至這些表面積數值之其他任一者的範圍。在許多具體實施例裡，該諧調元件150中與該凹埠結構330相接觸的表面可具有類似或等同於該凹埠結構330的表面積。

在所示具體實施例裡，該凹埠結構330具有約3.3cc的容積。在其他具體實施例裡，該凹埠結構330可具有約0.8cc至約16.0cc的容積。例如，該凹埠結構330的容積可為約0.8cc、1.0cc、1.25cc、1.5cc、1.75cc、2.0cc、2.25cc、2.5cc、2.75cc、3.0cc、3.25cc、3.5cc、3.75cc、4.0cc、4.25cc、4.5cc、4.75cc、5.0cc、5.25cc、5.5cc、5.75cc、6.0cc、6.25cc、6.5cc、6.75cc、7.0cc、7.25cc、7.5cc、7.75cc、8.0cc、8.25cc、8.5cc、8.75cc、9.0cc、9.25cc、9.5cc、9.75cc、10.0cc、10.25cc、10.5cc、10.75cc、11.0cc、11.25cc、11.5cc、11.75cc、12.0cc、12.25cc、12.5cc、12.75cc、13.0cc、13.25cc、13.5cc、13.75cc、14.0cc、14.25cc、14.5cc、14.75cc、15.0cc、15.25cc、15.5cc、15.75cc、16.0cc，或是在這些容積數值之間的任何其他適當容積數值，並且可為自這些容積數值之任一者至這些容積數值之其他任一者的範圍。在許多具體實施例裡，該諧調元件150可具有與該凹埠結構330類似或等同的容積。

現繼續參照圖式，圖11說明沿具有諧調元件150的高爾夫球桿頭100之圖2直線3-3的側邊截面視圖，圖中顯示出當撞擊時的力度法線1170。在許多具體實施例裡，該諧調元件150及/或該凹埠結構330在該高爾夫球桿頭100內的形狀、組態及/或指向可為使得，當該高爾夫球桿頭100撞擊到高爾夫球時，相較於各種其他傳統的諧調凹埠結構會自然地將該 諧調元件推出於該諧調凹埠結構，施加於該諧調元件150上而如力度法線1170所示的力度能夠更均勻地分配及/或均衡將該諧調元件150推出於該凹埠結構330的力度以及將該諧調元件150推入至該凹埠結構330的力度。例如，在一些具體實施例裡，該後方邊壁335的中央局部可為正交於法向力度線1170並且可為外凸，使得該後方邊壁335的底部局部可將該諧調元件150上的撞擊力度導引朝向於該槽孔基底333，同時該後方邊壁335的頂部局部可將該諧調元件150上的撞擊力度導引朝向於該槽孔開口332。該諧調元件150及/或該凹埠結構330的組態可有利地防止該諧調元件150自該凹埠結構330上不利地脫落。

現續參照圖式，圖12說明一對於方法1200的流程圖，此方法可根據本揭示用以提供、構成及/或製造高爾夫球桿頭及/或高爾夫球桿。該方法1200僅為示範性質，並且不限於本揭所述之具體實施例。該方法1200確可運用於本案文中未予特定地描述或說明的眾多不同具體實施例或實例。在一些具體實施例裡，可依照所述次序執行該方法1200的程序、處理及/或活動。在其他具體實施例裡，可依照任何適當次序執行該方法1200的程序、處理及/或活動。又在其他具體實施例中，可合併或跳略該方法1200之程序、處理及/或活動的一或更多者。在一些具體實施例裡，該高爾夫球桿頭可類似於該高爾夫球桿頭100(圖1-5、9-11)。

現參照圖12，該方法1200可包含用以提供一高爾夫球桿頭之敲擊局部的區塊1210。在一些具體實施例裡，該敲擊局部可類似於該敲擊局部110(圖1-5、9-11)。該敲擊局部可含有一敲擊面部，此者可類似於或等同於該敲擊面部111(圖1-5、9-11)。該敲擊局部可含有一背面部，此 者可類似或等同於於該背面部112(圖1-5、9-11)。該背面部可為相反於該敲擊面部。該背面部可含有一位於該背面部之頂部末端處的週緣局部。該週緣局部可類似於或等同於該週緣局部113(圖1-5、9-11)。該敲擊局部可為透過模鑄、鍛造、研磨、加工、模造及/或其他製程所提供，其中該敲擊局部可為單一工件，或者可含有多個工件而經由像是熔接、銅焊及/或黏著處理耦接合一。

該方法1200亦可含有用以提供該高爾夫球桿頭之後方局部的區塊1220。在一些具體實施例裡，該後方局部可類似於或等同於該後方局部120(圖1-5、9-11)。該後方局部可為透過模鑄、鍛造、研磨、加工、模造及/或其他製程所提供，其中該後方局部可為單一工件，或者可含有多個工件而經由像是熔接、銅焊及/或黏著處理耦接合一。該後方局部可在該敲擊局部的底部末端處藉由像是熔接、銅焊、黏著及/或其他的機械性或化學性連接器/劑以耦接於該敲擊局部。在其他具體實施例中，該後方局部可為整合於該敲擊局部所形成，像是藉由如單一材料工件所鑄造而成。在這些其他的具體實施例中，該等區塊1210及1220可彼此同時地執行。

該方法1200亦可包含一用以提供凹埠結構的區塊1230。該凹埠結構可類似於或等同於該凹埠結構330(圖3-5、9-11)。該凹埠結構可為透過模鑄、鍛造、研磨、加工、模造、機具處理及/或其他製程所提供，其中該凹埠結構可為單一工件，或者可含有多個工件而經由像是熔接、銅焊及/或黏著處理耦接合一。在一些實例裡，該凹埠結構及/或其元件可為利用加工挑件鑄造而成，此者可藉由繞於一固定點旋轉該加工挑件以單一動作所移除而不致牽涉到背面部，即如圖13-14所示和後文所述。在許多具體 實施例裡，該背面部的內凹曲線可有助於較簡易地製造高爾夫球桿頭，使得即便是當該敲擊局部在該背面部之一局部處的厚度大於該敲擊面部與該前方邊壁之間在該槽孔開口處的距離時，仍能以一加工挑件來鑄造該凹埠結構及/或該槽孔，而此加工挑件可藉由單一動作予以移除，像是僅須繞於一固定點轉動該加工挑件，然不致牽涉到該背面部。在一些具體實施例裡，該加工挑件可在打開模具之後以人工方式旋轉並且移除。在其他具體實施例裡，該加工挑件可在打開模具之後以自動方式旋轉並且移除。該凹埠結構可為至少部份地定義於該後方局部及/或該敲擊局部之內，並且在許多具體實施例裡可為與該後方局部及/或該敲擊局部整合地構成。從而，區塊1230可與區塊1210及/或1220同時地執行。

該區塊1230的凹埠結構可含有槽孔，此者可類似於或等同於該槽孔331(圖3-5、9-10)。該槽孔可自一槽孔開口，像是該槽孔開口332(圖3-5、11)，延伸至一槽孔基底，像是該槽孔基底333(圖3-5、9-11)。該槽孔基底可位於，比起該槽孔開口，較靠近於該敲擊局部的底部末端，並且/或者該敲擊局部的底部末端可位於，比起該槽孔開口，較靠近於該槽孔基底。該槽孔可含有一踝部邊壁，像是該踝部邊壁537(圖5)，以及一趾部邊壁，像是該趾部邊壁334(圖3-4)。該槽孔可含有一後方邊壁，像是該後方邊壁335(圖3-5、9-11)，此者可自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且/或者可在該踝部邊壁到該趾部邊壁之間延伸。該後方邊壁沿著在該槽孔開口與該槽孔基底之間延伸的第一方向上含有一後方邊壁曲線。該槽孔可含有一前方邊壁，像是該前方邊壁336(圖3-5、9-10)，此者可自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且/或者可在該踝部邊壁到該趾部邊壁之間延伸。該 前方邊壁可位於，比起該後方邊壁，較靠近該敲擊面部，並且/或者該敲擊面部可位於，比起該後方邊壁，較靠近該前方邊壁。該前方邊壁沿著在該槽孔開口與該槽孔基底之間延伸的第一方向上含有一前方邊壁曲線。

該方法1200亦可包含一用以將諧調元件耦接於凹埠結構的區塊1240。該諧調元件可類似於或等同於該諧調元件150(圖1-2、6-11)。在一些實例裡，該諧調元件的一或更多元件可為耦接於該凹埠結構的一或更多元件，即如前文所述者。例如，可藉由繞於一固定點旋轉該諧調元件以將該諧調元件插入至該凹埠結構內。可經由一或更多機制，像是該諧調元件與該凹埠結構之間的摩擦力、黏著劑，並且/或者將該諧調元件接附於該凹埠結構的機械性固定器，以將該諧調元件維持在該固定位置處。在相同或其他的實例中，可自該凹埠結構內的固定位置移除該諧調元件，並且/或者可與一或更多的其他諧調元件，例如像是具有不同密度的諧調元件，互相改換。

在一些實例裡，該方法1200之不同區塊的一或更多者可為合併成單一區塊或是同時地執行，並且/或者可改變此等區塊的序列。例如，即如前文所述，該等區塊1210、1220及/或1230在一些具體實施例裡可為合併或同時地執行。在相同或其他的具體實施例中，可將該方法1200的一些區塊劃分成多個子區塊。例如，可將該區塊1240劃分成一用以鑄造或其他方式提供該諧調元件的子區塊，一用以將一嵌件耦接於該諧調元件的子區塊，一用以將該諧調元件插入至該凹埠結構內的子區塊，並且/或者用以將該諧調元件固定至該凹埠結構內的另一子區塊。亦可存在有該方法1200裡包含進一步或不同區塊的範例。即如一範例，該方法1200可含有一用以 將高爾夫球桿身提供至或耦接於該高爾夫球桿頭的區塊。此外，可有該方法1200包含僅一部份該等前文所述區塊的範例。例如，在一些實作中該區塊1240可為選擇性，像是在不需要或無意於該諧調元件的情況下，或者是在其中交由球員或終端使用者來決定是否須將諧調元件耦接於凹埠結構的情況下。可對該方法1200實作出其他的變化項目而不致悖離本揭示的範疇。

現續參照圖式，圖13說明一在封閉組態下的鑄模1300。圖14說明在開放組態下的鑄模1300。該鑄模1300僅為示範性質，並且該鑄模的具體實施例不限於本文所揭示的具體實施例。該鑄模確可運用於本案文中未予特定地描述或說明的眾多不同具體實施例或實例。在許多具體實施例裡，該鑄模1300可含有一第一鑄模工件1380和一第二鑄模工件1381。在許多具體實施例裡，該第一鑄模工件可含有第一腔洞局部1480(圖14)，並且/或者該第二鑄模工件可含有第二腔洞局部1481(圖14)。在許多具體實施例裡，該鑄模1300可為關閉至一封閉組態，即如圖13所示，使得該第一鑄模工件1381以及該第二鑄模工件1382環繞於該第一腔洞局部1480(圖14)和該第二腔洞局部1481(圖14)，以供在該第一腔洞局部1480和該第二腔洞局部1481內射出模造一高爾夫球桿頭鑄模1301。在許多具體實施例裡，該鑄模1300可為開啟至開放組態，即如圖4所示，使得能夠將該高爾夫球桿頭鑄模1301(圖13)自該第一腔洞局部1480和該第二腔洞局部1481內移出。

在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭鑄模1301可為由蠟質或其他的適當材料透過射出模造處理所製成，這可用於熔模鑄造以構成高爾夫球桿頭100(圖1-5、9-11)。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭 鑄模1301的形狀可為類似於或等同於該高爾夫球桿頭100的形狀(圖1-5、9-11)。例如，該高爾夫球桿頭鑄模1301可含有敲擊局部1310、敲擊面部1311、背面部1312、週緣局部1313、後方局部1320、桿底1321。該敲擊局部1310在形狀上可為類似於或等同於該敲擊局部110(圖1-5、9-11)；該敲擊面部1311在形狀上可為類似於或等同於該敲擊面部111(圖1、3-5、9-11)；該背面部1312在形狀上可為類似於或等同於該背面部112(圖1-5、9-11)；該週緣局部1313在形狀上可為類似於或等同於該週緣局部113(圖1-5、9-11)；該後方局部1320可為類似於或等同於該後方局部120(圖1-5、9-11)；及/或該桿底1321可為類似於或等同於該桿底121(圖1-5、9-10)。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭鑄模1301可含有凹埠結構1336，此者在形狀上可為類似於或等同於該凹埠結構330(圖3-5、9-11)。

在一些具體實施例裡，該第一鑄模工件1380可含有一加工工件1390。在許多具體實施例裡，該加工工件1390可含有第一臂部1391及第二臂部1394，而在樞軸1393處連接合一。在許多具體實施例裡，該加工工件1390可在該樞軸1393上的旋轉點1384處旋轉地接附於該第一鑄模工件1380。在一些具體實施例裡，該加工工件1390可在一鑄模位置，即如圖13所示，與一釋放位置，即如圖14所示，之間旋轉。在許多具體實施例裡，該加工工件1390可含有一經接附於該第二臂部1394的鑄模局部1395。該鑄模局部1395可含有一或更多表面，這些表面，並連同於該第一腔洞局部1480(圖14)和該第二腔洞局部1481(圖14)的表面，可提供鑄模表面，藉以在當該鑄模1300為封閉組態下並且該加工工件1390是在鑄模位置處時，即如圖13所示，能夠射出模造該高爾夫球桿頭鑄模1301。在許 多具體實施例裡，例如該鑄模局部1395可含有後方加工表面1397、基底加工表面1398、前方加工表面1396及/或背面部加工表面1399。例如，即如圖13所示，該後方加工表面1397、該基底加工表面1398及/或該前方加工表面1396可用以鑄造該凹埠結構1336，並且/或者該背面部加工表面1399可用以鑄造該背面部1312。

在許多具體實施例裡，該第二鑄模工件1381可含有一凸起1383。在一些具體實施例裡，該第一鑄模工件1380可含有凹陷1382，此者可為組態設定以接受該凸起1383。在許多具體實施例裡，該加工工件1390的臂部1391可含有一表面1392，此表面可為組態設定以交接於該凸起1383，藉此繞於該旋轉點1384旋轉該加工工件1390。在許多具體實施例裡，該加工工件1390可載有彈簧藉以偏置至該釋放位置，即如圖14所示。在許多具體實施例裡，當該第二鑄模工件1381朝向該第一鑄模工件1380移動以關閉該鑄模1300時，即如圖13所示，該凸起1383可按壓在該表面1392上以將該加工工件1390順時針地旋轉至該鑄模位置，即如圖13所示。在許多具體實施例裡，該加工工件1390的鑄模局部1395可沿一以該旋轉點1384為中心之圓圈1385的局部繞著該旋轉點1384旋轉。例如，該後方加工表面1397可沿著該圓圈1385的局部旋轉。在許多具體實施例裡，該鑄模1300可開啟，藉以當該加工工件1390被偏置在釋放位置處時，讓該加工工件1390能夠自動地旋轉回到釋放位置，即如圖14所示。

在許多具體實施例裡，當該加工工件1390是在鑄模位置並且該鑄模1300是在封閉組態下時，即如圖13所示，該第一腔洞局部1480和該第二腔洞局部1481的表面，並連同該鑄模局部1395，可提供鑄模表面 以供射出鑄造該高爾夫球桿頭鑄模1301。一旦形成該高爾夫球桿頭鑄模1301後，當開啟該鑄模1300時，該加工工件1390即可自動地旋轉回到該釋放位置，即如圖14所示。當開啟該鑄模1300而該加工工件1390旋轉返回該釋放位置時，即如圖14所示，就可從該高爾夫球桿頭鑄模1301的凹埠結構1336自動地移出該鑄模局部1395，這可有利地在射出鑄造該高爾夫球桿頭鑄模1301後藉由單一動作的方式自該鑄模1300取出該高爾夫球桿頭鑄模1301。例如，當藉由從該第一鑄模工件1380拉離該第二鑄模工件1381，或反是，以開啟該鑄模1300時，該加工工件1390載入彈簧的偏置可獲得依隨於該凸起1383的表面1392，使得該加工工件1390能夠繞於該旋轉點1384逆時針旋轉，並且該鑄模局部1395可在與從該鑄模1300移出該高爾夫球桿頭鑄模1301相同時間地自動分離於該高爾夫球桿頭鑄模1301的凹埠結構1336。

現續參照圖式，圖15說明，根據各種具體實施例，一種構成高爾夫球桿頭之方法1500的流程圖。該方法1500僅為示範性質，並且不限於本揭所述之具體實施例。該方法1500確可運用於本案文中未予特定地描述或說明的眾多不同具體實施例或實例。在一些具體實施例裡，可依照所述次序執行該方法1500的程序、處理及/或活動。在其他具體實施例裡，可依照任何適當次序執行該方法1500的程序、處理及/或活動。又在其他具體實施例中，可合併或跳略該方法1500之程序、處理及/或活動的一或更多者。在一些具範例裡，該高爾夫球桿頭可類似於該高爾夫球桿頭100(圖1-5、9-11)。

現參照圖15，在一些具體實施例裡，該方法1500可包含提 供一含有第一腔洞局部之第一鑄模工件和一加工工件的區塊1510。該第一鑄模工件可為類似於或等同於該第一鑄模工件1380(圖13-14)。該第一腔洞局部可為類似於或等同於該第一腔洞局部1480(圖14)。該加工工件可為類似於或等同於該加工工件1390(圖13-14)。在許多具體實施例裡，該加工工件可為組態設定以相對於該第一鑄模工件繞著該第一鑄模工件上的一固定點從一鑄模位置旋轉至一釋放位置。該固定點可為類似於或等同於該固定點1384(圖13-14)。該鑄模位置可為類似於或等同於該加工工件1390在圖13中所示的位置。該釋放位置可為類似於或等同於該加工工件1390在圖14中所示的位置。

在許多具體實施例裡，該方法1500亦可包含提供一含有第二腔洞局部之第二鑄模工件的區塊1520。該第二鑄模工件可為類似於或等同於該第二鑄模工件1381(圖13-14)。該第二腔洞局部可為類似於或等同於該第二腔洞局部1481(圖14)。

在許多具體實施例裡，該方法1500可進一步包含一區塊1530，即將該第二鑄模工件閉合至該第一鑄模工件，或反是，使得該等第一及第二鑄模工件環繞該等第一及第二腔洞局部，該加工工件位在該鑄模位置，並且該加工工件的一局部被插入至少該第一腔洞局部之內。例如，當將該第二鑄模工件1381關閉於該第一鑄模工件1380時，即如圖13所示，該第二鑄模工件可閉合於該第一鑄模工件。該加工工件的局部可為類似於該鑄模局部1395(圖13-14)或者其多個局部，像是後方加工表面1397(圖13)、基底加工表面1398(圖13)、前方加工表面1396(圖13)及/或背面部加工表面1399(圖13)。

在許多具體實施例裡，該方法1500可另包含在該等第一及第二腔洞局部之內鑄造一射出鑄模的區塊1540。該射出鑄模可包含高爾夫球桿頭鑄模。該高爾夫球桿頭鑄模可類似於或等同於該高爾夫球桿頭鑄模1301(圖13)。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭鑄模可包含一敲擊局部、一後方局部以及一至少部份地經定義於該後方局部內的凹埠結構。該敲擊局部可為類似於或等同於該敲擊局部1310(圖13)。該後方局部可為類似於或等同於該後方局部1320(圖13)。該凹埠結構可為類似於或等同於該凹埠結構1336。在一些具體實施例裡，該加工工件的局部可為大致同形於該凹埠結構。在許多具體實施例裡，該高爾夫球桿頭鑄模可為利用蠟質或另一適當鑄模材料經由射出模鑄處理所鑄造。在許多具體實施例裡，於執行該方法1500的次一區塊之前，該蠟質可先凝固以形成該高爾夫球桿頭鑄模。

在許多具體實施例裡，該方法1500進一步可包含一區塊1550，即自該第一鑄模工件開出該第二鑄模工件，或反是，使得該加工工件自該凹埠結構內的鑄模位置至該釋放位置而繞於該固定點旋轉離出。例如，當將該第二鑄模工件1381開離於該第一鑄模工件1380時，即如圖14所示，該第二鑄模工件可開離於該第一鑄模工件。該高爾夫球桿頭鑄模可同時地自該第一鑄模工件、該第二鑄模工件和該加工工件移出，然後按照傳統的熔模鑄造製程運用於熔模鑄造。例如，可對該高爾夫球桿頭鑄模鍍置以陶瓷鑄模；該高爾夫球桿頭鑄模的蠟質可熔化流出該陶瓷鑄模；將金屬注入該陶瓷鑄模內以形成該高爾夫球桿頭鑄模；以及自該高爾夫球桿頭鑄模上剝除該陶瓷鑄模。

雖既已參照於特定具體實施例以說明具有凹埠結構、諧調元件的高爾夫球桿頭以及相關方法，然熟諳本項技藝之人士應能瞭解可進行各種變化而不致悖離本揭示的精神或範疇。例如，熟諳本項技藝之人士將隨即顯知方法1200的區塊1210和區塊1220(圖12)可包含許多不同的程序、處理及活動，並且可由許多不同模組，依許多不同次序執行，而且圖1-15的各種元件可加以修改，同時這些具體實施例的前揭討論並不必然地表示完整地描述所有的可能具體實施例。

由於高爾夫規則可能隨時變更(即如像是「United States Golf Association(USGA)」、「Royal and Ancient Golf Club of St.Andrews(R&A)」等等的高爾夫標準組織及/或領導團體可能會採用新的規定或是消除或修訂舊的規則，因此與本揭所述設備、方法及製造物項相關聯的高爾夫裝備有可能會在任何特定時刻符合於或不符合於高爾夫規則。從而，與本揭所述設備、方法及製造物項相關聯的高爾夫裝備可能是依合規或者不合規的高爾夫裝備所廣告宣傳、促銷及/或販售。本揭所述的設備、方法及製造物項並不就此而受到侷限。

前述範例雖可為關聯於鐵型球桿、楔型球桿或是混合型球桿所描述，然本揭所述的設備、方法及製造物項確可適用於其他種類的高爾夫球桿，像是開球木型高爾夫球桿、球道木型高爾夫球桿、推桿型高爾夫球桿。或另者，本揭所述的設備、方法及製造物項可適用於其他類型的運動裝備，像是曲棍球棍、網球球拍、釣魚竿、滑雪桿等等。

前文說明中既已提供這些變化的額外範例。不同具體實施例裡擁有各圖式之一或更多特性的其他變動亦同樣地被納入考量。從而，該 等具體實施例揭示係欲為示範性質，但非屬限制性。目的為本揭示範疇應僅受限於如後載申請專利範圍所要求的範圍。

本文所說明之具有凹埠結構、諧調元件的高爾夫球桿頭以及相關方法可藉由各種具體實施例實作，而且前文中這些具體實施例的討論並不必然地代表所有可能具體實施例的完整描述。相反地，該等圖式的詳細說明，以及該等圖式本身，揭露至少一較佳具體實施例，並且可揭露替代性的具體實施例。

替換一或更多的所揭示元件可組成重新建構，然並非修改。此外，現已針對於特定具體實施例描述多項益處、其他優點以及問題的解決方案。然而，不應將這些益處、優點與問題的解決方案，以及可能促使任何益處、優點或解決方案出現或是變得更為顯著的任何一或更多元件，詮釋為任一或所有申請專利範圍的關鍵、必要或基本特性或元件，除非在申請專利範圍中對此等益處、優點、解決方案或元件予以顯明陳述外。

同時，本揭示的具體實施例與限制在奉獻學說下並非公獻於大眾，倘若該等具體實施例及/或限制：(1)並未在申請專利範圍中被顯明地主張；以及(2)在等同學說下為或潛在地為申請專利範圍中之表示元件及/或限制的等同項目。

Claims (18)

1. 一種高爾夫球桿頭，其包含：一敲擊局部，其含有：一敲擊面部；以及一背面部，此背面部相反於該敲擊面部，該背面部在該背面部的頂部末端處含有一週緣局部；其中，該背面部至少有部分為內凹；一後方局部，此局部在該敲擊局部的底部末端處耦接於該敲擊局部；以及一凹埠結構，此結構至少部份地定義於該後方局部之內，並且被設計為容納一諧調元件，該凹埠結構含有一自槽孔開口延伸至槽孔基底的槽孔，其中該槽孔具有：一踝部邊壁；一趾部邊壁；一後方邊壁，此邊壁係自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸，該後方邊壁含有一沿著在該槽孔開口與該槽孔基底間延伸之第一方向上的第一後方邊壁曲線，其中該第一後方邊壁曲線在第一方向上是外凸的；其中，該後方邊壁的中心局部正交於該敲擊面部的力度法線；一前方邊壁，此邊壁係自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸，該敲擊面部位在比起該後方邊壁而較為靠近該前方邊壁，並且該前方邊壁含有一沿著該第一方向上的第一前方邊壁曲線；以及槽孔開口到槽孔基底的距離大於前方邊壁到後方邊壁的距離。
2. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該第一前方邊壁曲線包含具有一第一半徑之第一圓圈的局部；該第一後方邊壁曲線包含具有一第二半徑之第二圓圈的局部；以及該第一圓圈及該第二圓圈為近似同心。
3. 如申請專利範圍第2項之高爾夫球桿頭，其中：該第二半徑小於該第一半徑。
4. 如申請專利範圍第2項之高爾夫球桿頭，其中：該第二半徑為約0.5英吋至約1.5英吋。
5. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該前方邊壁在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間的中央局部，相距於該後方邊壁在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間的中央，在沿著該第一方向上為一近似於固定的距離。
6. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該前方邊壁含有一第二前方邊壁曲線，此曲線為沿著與該第一方向相垂直的第二方向並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。
7. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該後方邊壁在沿著與該第一方向相垂直的第二方向上為近似直型，並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸。
8. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該前方邊壁在該踝部邊壁及該趾部邊壁處，比起在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間的中點處，相距於該後方邊壁之距離為較短。
9. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該踝部邊壁相對於該後方邊壁位於大於90度的角度處；以及該趾部邊壁相對於該後方邊壁位於大於90度的角度處。
10. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該敲擊面部與該前方邊壁之間的距離，在該槽孔基底處，比起在該槽孔開口處，為較大。
11. 如申請專利範圍第1項之高爾夫球桿頭，其中：該凹埠結構包含一帽蓋凹陷，此者位在該槽孔開口處延伸越過該前方邊壁、該後方邊壁及該趾部邊壁。
12. 一種高爾夫球桿頭，其包含：一敲擊局部，其含有：一敲擊面部；以及一背面部，此背面部相反於該敲擊面部，該背面部在該背面部的頂部末端處含有一週緣局部；一後方局部，此局部在該敲擊局部的底部末端處耦接於該敲擊局部；以及一凹埠結構，此結構至少部份地定義於該後方局部之內，該凹埠結構含有一自槽孔開口延伸至槽孔基底的槽孔，其中該槽孔具有：一踝部邊壁；一趾部邊壁；一後方邊壁，此邊壁係自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸，該後方邊壁含有一沿著在該槽孔開口與該槽孔基底間延伸之第一方向上的第一後方邊壁曲線，其中該第一後方邊壁曲線在第一方向上是外凸的；其中，該後方邊壁的中心局部正交於該敲擊面部的力度法線，以使該後方邊壁的底部局部可將該諧調元件上的撞擊力度導引朝向於該槽孔基底；一前方邊壁，此邊壁係自該槽孔開口延伸至該槽孔基底，並且在該踝部邊壁與該趾部邊壁之間延伸，該敲擊面部位在比起該後方邊壁而較為靠近該前方邊壁，並且該前方邊壁含有一沿著該第一方向上的第一前方邊壁曲線；槽孔開口到槽孔基底的距離大於前方邊壁到後方邊壁的距離；以及其中該第一前方邊壁曲線包含具有一第一半徑之第一圓圈的局部；該第一後方邊壁曲線包含具有一第二半徑之第二圓圈的局部；以及該第一圓圈及該第二圓圈為近似同心；其中該諧調元件位於該凹埠結構之內，且其形狀實質上與該凹埠結構相一致。
13. 如申請專利範圍第12項之高爾夫球桿頭，其中：該第二半徑小於該第一半徑。
14. 如申請專利範圍第12項之高爾夫球桿頭，其中：該第二半徑為約0.5英吋至約1.5英吋。
15. 如申請專利範圍第12項之高爾夫球桿頭，其中：該諧調元件含有約1.0英吋至約3.0英吋的踝部至趾部長度。
16. 如申請專利範圍第12項之高爾夫球桿頭，其中：該諧調元件含有約0.1英吋至約1.0英吋的高度。
17. 如申請專利範圍第12項中之高爾夫球桿頭，其中：該諧調元件含有一前方至後方厚度；在該踝部邊壁及該趾部邊壁處的前方至後方厚度是小於在該踝部邊壁與該趾部邊壁間之中點處的前方至後方厚度；在該踝部邊壁及該趾部邊壁處的前方至後方厚度是大於或等於約0.025英吋；以及在該踝部邊壁及該趾部邊壁處間之中點處的前方至後方厚度是小於或等於約0.5英吋。
18. 如申請專利範圍第12項中之高爾夫球桿頭，其中：該諧調元件含有一帽蓋，此者延伸越過該槽孔，並且嵌封於一位在該槽孔開口處延伸越過該等前方邊壁、後方邊壁、踝部邊壁及趾部邊壁的帽蓋凹陷之內。