TWI626684B - 處理裝置 - Google Patents

Abstract

一種處理裝置包含：本體、氣體導引模組及驅動組件。本體包含有多個側壁及處理槽，其中一側壁定義為功能壁，功能壁具有穿孔及氣道，處理槽能通過穿孔與外連通。氣體導引模組設置於功能壁外側，且能使氣道中的氣體向穿孔方向流動。驅動組件包含旋轉軸體及驅動器。旋轉軸體穿過穿孔設置，且兩端分別位於處理槽內及功能壁的外側，驅動器能使旋轉軸體旋轉，以連動處理槽中的待處理件。驅動器驅動旋轉軸體旋轉，而連動待處理件時，氣體導引模組使氣道中的氣體向穿孔方向流動，藉此可避免處理槽的處理氣體或液體由穿孔向外逸散。

Description

處理裝置

本發明涉及一種處理裝置，特別是一種具有處理槽，且處理槽中具有輸送單元的處理裝置。

常見的化學處理槽，特別是電路基板、玻璃等板狀構件的化學處理槽，多會於處理槽中設置有相關的輸送單元，藉此透過輸送單元進行相關板狀構件的運輸。驅動輸送單元運作的相關機電設備則會對應設置於處理槽外。相關板狀構件於處理槽內進行化學處理作業時，處理液與相關板狀構件化學反應後，多會產生侵蝕性的氣體或是液體，而部分的氣體或是液體容易，從處理槽的壁面上用以使輸送單元與外部相關機電設備相連接的穿孔向外逸散，進而容易導致相關機電設備的毀壞的問題。

緣此，本發明人乃潛心研究並配合學理的運用，而提出一種設計合理且有效改善上述問題的本發明。

本發明的主要目的在於提供一種處理裝置，用以解決現有技術中，相關構件於處理裝置中進行處理作業時，所產生的化學氣體或液體容易逸散至外部，從而造成外部機電設備毀壞的問題。

為了實現上述目的，本發明提供一種處理裝置，其包含：一本體、一氣體導引模組及一驅動組件。本體包含有多個側壁，多個側壁共同形成有一處理槽，至少一個側壁定義為一功能壁，功能壁具有至少一個穿孔，處理槽能通過穿孔與外連通，且功能壁內部具有至少一氣道，氣道與穿孔彼此連通；其中，功能壁面對 處理槽的一側定義為一內側，功能壁相反於內側的一側定義為一外側。氣體導引模組設置於功能壁的外側，氣體導引模組與氣道相連通，而氣體導引模組能使氣道中的氣體向穿孔方向流動。驅動組件包含有至少一旋轉軸體及至少一驅動器，旋轉軸體穿過穿孔設置，且旋轉軸體的兩端分別對應位於處理槽中及外側；驅動器設置於外側，且驅動器與旋轉軸體連接，而驅動器能驅動旋轉軸體。其中，驅動器驅動旋轉軸體旋轉時，氣體導引模組能使氣道中的氣體向穿孔方向流動，以避免處理槽中的液體或氣體由穿孔向外側逸散。

本發明的有益效果可以在於：待處理件於處理裝置中進行相關的處理作業時，所產生的處理氣體或液體將不易由功能壁的穿孔向外逸散。

為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用來對本發明加以限制者。

1‧‧‧處理裝置

10‧‧‧本體

11’‧‧‧側壁

111’‧‧‧輸送孔

11‧‧‧功能壁

111‧‧‧穿孔

112‧‧‧氣道

113‧‧‧連通氣道

114‧‧‧導流缺口

11a‧‧‧內側

11b‧‧‧外側

11c‧‧‧內側壁

12‧‧‧夾板

20‧‧‧氣體導引模組

30‧‧‧驅動組件

31‧‧‧旋轉軸體

311‧‧‧導流部

32‧‧‧驅動器

40‧‧‧待驅動組件

41‧‧‧輸送單元

G1‧‧‧活動間隙

G2‧‧‧導流間隙

G3‧‧‧距離

A‧‧‧基座

B‧‧‧蓋體

C‧‧‧氣體交換組件

S‧‧‧處理槽

L1‧‧‧穿孔口徑

L2‧‧‧導流部軸向長度

圖1為本發明的處理裝置的示意圖。

圖2為本發明的處理裝置的側面局部剖視圖。

圖3為本發明的處理裝置的功能壁及驅動組件的局部剖視圖。

圖4為本發明的處理裝置的功能壁的局部剖視圖。

圖5為本發明的處理裝置的功能壁的另一視角的示意圖。

圖6為本發明的處理裝置的旋轉轉軸的示意圖。

圖7為本發明的處理裝置的功能壁與旋轉轉軸的局部放大示意圖。

圖8~11分別為本發明的處理裝置的不同實施例的示意圖。

以下係藉由特定的具體實例說明本發明之處理裝置的實施方式，熟悉此技術之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之其他優點與功效。本發明亦可藉由其他不同的具體實例加 以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明之精神下進行各種修飾與變更。又本發明之圖式僅為簡單說明，並非依實際尺寸描繪，亦即未反應出相關構成之實際尺寸，先予敘明。以下之實施方式係進一步詳細說明本發明之觀點，但並非以任何觀點限制本發明之範疇。

請一併參與圖1及圖2，其為本發明的處理裝置1的示意圖。如圖所示，處理裝置1包含有一本體10、一氣體導引模組20及一驅動組件30。本體10包含有多個側壁11’，且多個側壁11’彼此相連接而共同形成有一處理槽S，各個側壁11’的外型及其所形成的處理槽S的外型，不以圖中所示為限，可依據需求加以變化。於實際應用中，本體10可以是固定設置於一基座A上。處理裝置1還可以是包含有多個蓋體B，其可拆卸地對應設置於處理槽S的上方。氣體導引模組20及驅動組件30可以是設置於其中一個側壁11’，但不以此為限，氣體導引模組20可以是固定設置於基座A，而透過相關的導氣管與其中一側壁相連接；驅動組件30可以是部分構件與側壁11’相連接，而部分構件固定設置於基座A上。驅動組件30用以驅動設置於處理槽S中的待驅動組件40。

本發明的處理裝置1應用於自動化生產線時，本體10的兩個彼此相對的側壁11’可以是分別包含有一輸送孔111’，且各個輸送孔111’與處理槽S相連通。待驅動組件40可以包含有多個輸送單元41，且多個輸送單元41位於兩個輸送孔111’之間。藉此，一待處理件(圖未示，例如電路基板、玻璃等板狀構件)即能通過其中一個輸送孔111’進入處理槽S中進行相關化學處理，待處理件於處理槽S中完成處理後，將可透過多個輸送單元41輸送，而由另一個輸送孔111’離開處理槽S及處理裝置1。另外，於實際應用中，處理裝置1還可以包含有多個氣體交換組件C，以抽取處理槽S中所產生的處理氣體，並導入外部或是特定氣體進入 處理槽S中。

特別說明的是，本體10的其中一個側壁11’定義為一功能壁11，其即為驅動組件30所設置的側壁11’；於本實施例中，所述功能壁11不是設置有輸送孔111’的側壁11’，而設置有輸送孔111’的兩側壁11’可以是對應連接於功能壁11彼此相對的兩側。

請參閱圖3，功能壁11包含有一穿孔111(如圖4所示)，所述穿孔111是貫穿功能壁11設置，而處理槽S(如圖2所示)能據以通過穿孔111與外連通。功能壁11內部還包含有一氣道112，所述氣道112與穿孔111相連通，也就是說，氣道112一端的出口是對應位於形成穿孔111的內壁面。在實際應用中，功能壁11的形成方式可依據需求加以設計，例如功能壁11的內側11a(面對處理槽S的一側)可以是具有夾板12(可以是可拆卸式的或是固定式的)，而相關生產人員可以是先於功能壁11的內側11a形成氣道112後，再將夾板12固定於功能壁11，據以使氣道112對應位於功能壁11的內部。

驅動組件30包含有一旋轉軸體31及一驅動器32，旋轉軸體31穿過穿孔111設置，且旋轉軸體31的兩端分別位於處理槽S中及功能壁11的外側11b(相反於處理槽S的一側)。驅動器32設置於功能壁11的外側11b，且驅動器32與旋轉軸體31相連接，而驅動器32能驅動旋轉軸體31旋轉，以使旋轉軸體31帶動位於處理槽S中的待驅動組件40(可以是如前所述，包含有多個輸送單元41)。關於旋轉軸體31與驅動器32連接方式及驅動器32的驅動方式等，於此不加以限制，其可依據實際需求加以設計變化。

特別說明的是，在另一實施例中，旋轉軸體31也可以是直接連動位於處理槽S中的待處理件，以使待處理件於處理槽S中移動，亦即，旋轉軸體31不限制必需透過待驅動組件40去連動待處理件。另外，於實際應用中，旋轉軸體31及驅動器32的數量，可依據需求決定，於此不加以限制，舉例來說，可以是單一個驅 動器32同時驅動多個旋轉軸體31，或者可以是多個驅動器32，分別驅動不同數量的旋轉軸體31。

氣體導引模組20可以是設置於功能壁11的外側11b，且氣體導引模組20是與氣道112相連通，而氣體導引模組20能使氣道112中的氣體向穿孔111方向流動；也就是說，氣體導引模組20能提供氣道112一正壓，而使氣道112中的氣體持續向穿孔111方向流動。

在具體實施中，驅動組件30及氣體導引模組20可以是電性連接至一處理裝置(圖未示)，而處理裝置1可以是先控制氣體導引模組20啟動，以使氣道112中的氣體持續向穿孔111方向流動，而後控制驅動器32啟動，據以使旋轉軸體31轉動，以連動處理槽S中的待驅動組件40；或者，處理裝置1可以是同時啟動氣體導引模組20及驅動器32啟動。如此，待處理件進入處理槽S進行相關化學處理時，氣道112的氣體將持續地向穿孔111方向流動，而處理槽S中所產生的相關處理氣體、液體，將不易由穿孔111向外逸散，藉此可有效地保護位於功能壁11的外側11b的驅動器32及氣體導引模組20等；也就是說，於處理槽S中的液體或是氣體，將不易通過穿孔111逸散至處理裝置1外。

請一併參閱圖4及圖5，在實際應用中，依據處理槽S的大小，功能壁11可以是包含有多個穿孔111、多個氣道112及一連通氣道113。多個穿孔111彼此間隔設置，多個氣道112彼此間亦間隔設置，且各個氣道112的一端對應與一個穿孔111相連通，各個氣道112的另一端則與連通氣道113相連通。多個穿孔111及多個氣道112通過連通氣道113相互連通，且連通氣道113與氣體導引模組20相連接，而氣體導引模組20將可使各個氣道112中的氣體向相對應的穿孔111方向流動。於圖中是以三個穿孔111、三個氣道112及一個連通氣道113為例，但實際應用中，穿孔111、氣道112及連通氣道113的個數可依據需求加以變化。

請一併參閱圖3、圖6及圖7，在較佳的應用中，旋轉軸體31的部分區段的外徑可以是內縮形成一導流部311，而旋轉軸體31穿過穿孔111設置時，所述導流部311的一部分是對應為於穿孔111中，且導流部311的一部份是對應位於處理槽S中，而氣道112位於形成穿孔111的內側壁11c(如圖4所示)的出口，則可以是面對導流部311設置。如此，通過氣道112由穿孔111流出的氣體，將可受到導流部311的導引，而向處理槽S方向流動，從而可更有效地降低處理槽S中的處理氣體由穿孔111向外逸散的機率。

在具體的實施中，氣道112位於穿孔111的出口，其口徑L1可以是小於導流部311的軸向長度L2，也就是說，通過氣道112由穿孔111流出的氣體，將可直接進入導流部311中，而受導流部311的導引向處理槽S中流動。另外，穿孔111的最小口徑與旋轉軸體31位於穿孔111的區段中的最大外徑的差，定義為一活動間隙G1；導流部311的底部與形成穿孔111的內側壁11c(如圖4所示)的距離定義為一導流間隙G2。較佳地，導流間隙G2是不小於活動間隙G1，藉此可更有效地導引氣體向處理槽S方向流動。

請參閱圖8，在另一實施例中，所述功能壁11可以是具有兩個氣道112，兩個氣道112與同一個穿孔111相互連通，且兩個氣道112位於形成穿孔111的內側壁11c(如圖4所示)的出口，可以是彼此相對地設置。其中，兩個氣道112與氣體導引模組20相連接，而氣體導引模組20能使各個氣道112中的氣體向穿孔111方向流動。藉此，在氣體導引模組20運作時，單一個穿孔111將會同時有來自兩個氣道112中的氣體向處理槽S方向流動，而可更有效地避免處理槽S中的相關處理氣體、液體，由穿孔111向功能壁11的外側逸散。

請參閱圖9，在不同的實施例中，導流部311的外徑可以是由一端向另一端逐漸遞減。也就是說，旋轉軸體31穿過穿孔111設 置時，導流部311的外徑可以是由位於穿孔111中的一端向位於處理槽S中的一端逐漸遞減，如此可更有效地導引通過氣道112流至穿孔111的氣體，向處理槽S方向流動。當然，導流部311的外徑及其外型的變化，亦可依據需求加以變化，不以此為限。其中，於圖9中是以功能壁11具有兩個氣道112為例，但不以此為限，在不同實施例中，圖9的功能壁11可以是僅具有單一個氣道112。

請參閱圖10，在旋轉軸體31不具有導流部311的實施例中，功能壁11於內側11a可以是形成有一導流缺口114，導流缺口114與穿孔111相連通，旋轉軸體31穿過穿孔111設置時，導流缺口114與旋轉軸體31的外緣的最小距離G3，是大於穿孔111與旋轉軸體31的外緣的最大距離(即前述的活動間隙G1)。如此，通過氣道112進入穿孔111的氣體，將可以透過導流缺口114的導引而向處理槽S的方向流動。當然，依據實際需求，在旋轉軸體31具有導流部311的實施例中，功能壁11也可以是具有至少一個導流缺口114。

請參閱圖11，在另一實施例中，功能壁11的單一個穿孔111可以是與兩個氣道112相連通，且功能壁11可以是具有兩個導流缺口114，兩個導流缺口114與穿孔111相互連通，且兩個導流缺口114可以是彼此相對地設置。如此，分別通過兩個氣道112而進入穿孔111的氣體，能通過兩個導流缺口114的導引，而進入處理槽S中，藉此更可以有效地避免處理槽S中的處理氣體、液體，通過穿孔111向外逸散。

綜上所述，本發明的處理裝置可以有效的避免處理槽中的氣體，由旋轉轉軸與側壁的穿孔間的間隙向外逸散的問題，從而可有效防護設置於處理槽外部的相關設備。

以上所述僅為本發明的較佳可行實施例，非因此侷限本發明的專利範圍，故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技 術變化，均包含於本發明的保護範圍內。

Claims (10)

1. 一種處理裝置，其包含：一本體，其包含有多個側壁，多個所述側壁共同形成有一處理槽，至少一個所述側壁定義為一功能壁，所述功能壁具有至少一個穿孔，所述處理槽能通過所述穿孔與外連通，且所述功能壁內部具有至少一氣道，所述氣道與所述穿孔彼此連通；其中，所述功能壁面對所述處理槽的一側定義為一內側，所述功能壁相反於所述內側的一側定義為一外側；至少一蓋體，所述蓋體可拆卸地設置於所述處理槽的上方；所述功能壁鄰接的兩個所述側壁分別具有一輸送孔，各個所述輸送孔與所述處理槽相連通；一氣體導引模組，其設置於所述功能壁的所述外側，所述氣體導引模組與所述氣道相連通，而所述氣體導引模組能使所述氣道中的氣體向所述穿孔方向流動；以及一驅動組件，其包含有至少一旋轉軸體及至少一驅動器，所述旋轉軸體穿過所述穿孔設置，且所述旋轉軸體的兩端分別對應位於所述處理槽中及所述外側；所述驅動器設置於所述外側，且所述驅動器與所述旋轉軸體連接，而所述驅動器能驅動所述旋轉軸體；其中，所述驅動器驅動所述旋轉軸體旋轉時，所述旋轉軸體能直接或間接帶動一待處理件，而使所述待處理件由其中一個所述輸送孔進入所述處理槽中，並使所述待處理件由另一個所述輸送孔離開所述處理槽；其中，所述驅動器驅動所述旋轉軸體旋轉時，所述氣體導引模組能使所述氣道中的氣體向所述穿孔方向流動，以避免所述處理槽中的液體或氣體由所述穿孔向所述外側逸散。
2. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述旋轉軸體的一區段的外徑，內縮而形成有一導流部；其中，所述旋轉軸體穿過所述穿孔設置時，所述導流部的部分對應位於所述穿孔中，且所述氣道位於形成所述穿孔的內側壁的出口，面對於所述導流部設置。
3. 如請求項2所述的處理裝置，其中，所述氣道位於形成所述穿孔的內側壁的出口，其口徑小於所述導流部的軸向長度；其中，所述旋轉軸體穿過所述穿孔設置時，所述導流部的兩端分別位於所述穿孔及所述處理槽中。
4. 如請求項2所述的處理裝置，其中，所述導流部的外徑由一端向另一端逐漸遞減；所述旋轉軸體穿過所述穿孔設置時，所述導流部的外徑由鄰近所述外側的一端向鄰近所述處理槽中的一端逐漸遞減。
5. 如請求項2至4其中任一項所述的處理裝置，其中，所述穿孔的最小口徑與所述旋轉軸體位於所述穿孔的區段中最大的外徑的差，定義為一活動間隙；所述導流部的底部與形成所述穿孔的內側壁的距離定義為一導流間隙，所述導流間隙不小於所述活動間隙。
6. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述處理槽中設置有一待驅動組件，所述旋轉軸體與所述待驅動組件相連接；所述待驅動組件包含有多個輸送單元，多個所述輸送單元設置於所述處理槽中，且多個所述輸送單元位於兩個所述輸送孔之間；其中，所述驅動器驅動所述旋轉軸體旋轉時，所述旋轉軸體能驅動所述待驅動組件旋轉，而一待處理件能通過其中一個所述輸送孔進入所述處理槽中，並透過多個所述輸送單元輸送，而由另一個所述輸送孔離開所述處理槽。
7. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述功能壁包含有多個所述穿孔、多個所述氣道及一連通氣道，多個所述穿孔彼此間隔地設置，各個所述氣道彼此間隔地設置，且各個所述氣道的一端對應與一個所述穿孔相連通，各個所述氣道的另一端與所述連通氣道相連通，多個所述穿孔及多個所述氣道通過所述連通氣道而相互連通，所述連通氣道與所述氣體導引模組相連接，而所述氣體導引模組能使各個所述氣道中的氣體向相對應的所述穿孔方向流動。
8. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述功能壁具有兩個所述氣道，兩個所述氣道與所述穿孔相連通，且兩個所述氣道位於形成所述穿孔的內側壁的出口彼此相對地設置；其中，兩個所述氣道與所述氣體導引模組相連通，而所述氣體導引模組能使各個所述氣道中的氣體向相對應的所述穿孔方向流動。
9. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述功能壁於所述內側形成有一導流缺口，所述導流缺口與所述穿孔相連通；所述旋轉軸體穿過所述穿孔設置時，所述導流缺口與所述旋轉軸體的外緣的最小距離，大於所述穿孔與所述旋轉軸體的外緣的最大距離。
10. 如請求項1所述的處理裝置，其中，所述功能壁具有兩個所述氣道，兩個所述氣道與所述穿孔相連通，且兩個所述氣道位於形成所述穿孔的內側壁的出口彼此相對地設置，所述功能壁於所述內側形成有兩個導流缺口，所述導流缺口與所述穿孔相連通，且所述導流缺口的口徑大於所述穿孔，的口徑。