TWI626476B - 光漫射板及包含此之背光單元 - Google Patents
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Abstract
所揭示之內容是具有增進的亮度與光均勻度之一光漫射板、以及包含此光漫射板之一背光單元,該光漫射板包括:一漫射基板層,其係插置於在一入光側處的一下漫射層和在一出光側處的一上漫射層之間,且包括散佈於其中的光漫射粒子並具有一線型第一圖樣,該線型第一圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部,其中該上漫射層具有一線型第二圖樣,該線型第二圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部。
Description
本發明關於一種具有增進的亮度和光均勻度的光漫射板,以及包含此種光漫射板之背光單元。
鑑於傳統的影像顯示裝置一般都設有CRT螢幕,在近年來已經大量發展了相關的技術。因此,目前正在導入具有減低重量和加大寬度、甚是至可彎曲(「可撓曲」)的各種影像顯示裝置(例如LCDs、OLEDs、電子紙)。
不同於自發射性二極體(例如液晶裝置(LCD)),顯示裝置通常都具有固定在其一後面之背光單元。背光單元一般是分為直下型與邊緣型,其中直下型是最常使用在大尺寸的顯示設備中(例如電視),而邊緣型則最常使用於小型顯示裝置中(例如電腦螢幕與筆記型電腦)。在這些之中,由於直下型單元具有對齊為一條型圖樣(例如冷陰極螢光燈,CCFL)或一點狀圖樣(例如發光二極體,LED)的複數個光源,因此有某些區域會具有高亮度,同時其他又具有相對較低的亮度,因而產生了整體光均勻度惡化的問題。因此,背光單元係設有一光漫射板,以使光均勻地散佈於一液晶顯示面板間,其中一漫射薄膜與一稜鏡薄片中每一者的至少一薄片係視需要而設置在該光漫射板的頂部上,以使一光路徑改變為一垂直方向,藉此使絕大部分的光都被收集在發光顯示裝置的顯示面上。
因此,為了增進整體的光均勻度和亮度,背光單元係具有一種配置,其分別包括上述光漫射板以外之漫射薄膜與稜鏡薄片中每一個之至少其一。然而,前述方法在降低背光組價格與減少背光組薄膜厚度的實現上面臨到困難。特別是,上述方法具有關於32吋或32吋以上的大尺寸液晶顯示設備的限制,包括減少之燈數、同時又需要高亮度(其為目前持續增加之
需求)。
為了解決前述問題,已經嘗試使用一種用於製造包括氣孔之光漫射板的方法來將空氣納入於一光漫射板中,其是藉由在光漫射板與一稜鏡圖樣之間插入一阻障、或使用一發泡處理而形成。然而,前述方法需要非常複雜的處理,且會面臨高生產成本的問題。
或者是,已有嘗試使用一種在一光漫射板的頂部直接形成一稜鏡圖樣的方法來漫射光線以及增加集光效率,進以增進一整體光均勻度與亮度。然而,此方法在不含氣孔或一空氣層的情況下在整體光均勻度與亮度的增進上會有限制。
因此,本發明之一目的在於提供一種具有高發光亮度與均勻度的光漫射板。
本發明的另一目的在於提供一種具有前述光漫射板之背光單元與影像顯示裝置。
為了完成上述目的,本發明提供如下:(1)一種光漫射板,包含:一漫射基板層,其係插置於在一入光側處的一下漫射層和在一出光側處的一上漫射層之間,該漫射基板層包括散佈於其中的光漫射粒子且具有一線型第一圖樣,該線型第一圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部,其中,該上漫射層具有一線型第二圖樣,該線型第二圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部。(2)如上述(1)之光漫射板,其中該第一與第二樣式是獨立地為各柱狀透鏡圖樣或圓稜鏡圖樣。(3)如上述(1)之光漫射板,其中在該漫射基板層中的該第一圖樣的高度與在該上漫射層中的該第二圖樣的高度之一比例係介於1:0.5至10.0的範圍。(4)如上述(1)之光漫射板,其中該漫射基板層具有相對於該光漫射板的一整體厚度為50%至90%之一厚度。(5)如上述(1)之光漫射板,其中該下漫射板具有形成在其入光側處之一表面上的不平整性。(6)如上述(5)之光漫射板,其中該不平整性係形成為使得在該下漫射層的入光側處的表面上之一表面粗糙度Ra介於0.1至10.0微米之間。(7)如上述(1)之光漫射板,其中該下漫射層進一步具有在其入光側處的表面上之一凹刻
或浮雕圖樣。(8)一種背光單元,其包含如上述(1)至(7)中任一者所述之光漫射板。(9)如上述(8)之背光單元,進一步包括一光源,該光源是在該光漫射板中之該下漫射層的底部處。(10)一種影像顯示裝置,其具有如(9)所述之背光單元。
本發明之光漫射板可維持絕佳的發光亮度。
當本發明之光漫射板應用於一直下型背光單元時,一背光光源的光會均勻發射,以實現絕佳的遮蔽性能和光均勻度,因而避免因光源在一整體顯示螢幕上的位置而發生光影差。
此外,當本發明之光漫射板在其底層上具有不平整性時,則可增進防刮性。
10‧‧‧光漫射板
100‧‧‧漫射基板層
110‧‧‧光漫射粒子
200‧‧‧上漫射層
300‧‧‧下漫射層
EXAMPLE 1‧‧‧實例1
EXAMPLE 2‧‧‧實例2
EXAMPLE 3‧‧‧實例3
EXAMPLE 4‧‧‧實例4
COMPARATIVE EXAMPLE 1‧‧‧比較例1
COMPARATIVE EXAMPLE 2‧‧‧比較例2
COMPARATIVE EXAMPLE 3‧‧‧比較例3
COMPARATIVE EXAMPLE 4‧‧‧比較例4
結合如附圖式與下述詳細說明,將可更清楚理解本發明之上述與其他目的、特徵和其他優點,其中:第1圖是一立體圖,其示意說明了根據本發明的一具體實施例一光漫射板;第2圖是一截面圖,其係分別示意說明了根據本發明的一具體實施例之(a)一柱狀透鏡圖樣及(b)一圓稜鏡圖樣;第3圖是一截面圖,其說明了根據本發明的一具體實施例之一光漫射板;第4圖是一放大截面圖,其說明了本發明之光漫射板的一漫射基板層100與一上漫射層200;第5圖是一截面圖,其示意說明了根據本發明的另一具體實施例之一光漫射板;第6圖是一放大照片,其分別顯示在(a)實例1、及(b)實例2中的漫射基板層與上漫射層;第7圖顯示在實例中所製造的光漫射板的照片,所述實例是根據本發明的實驗實例而得;以及第8圖顯示在比較例中所製造的光漫射板的照片,所述比較例是根據本
發明的實驗實例而得。
本發明揭露了一種具有增進的亮度與光均勻度之光漫射板與一種具有此光漫射板的背光單元,該光漫射板包括:一漫射基板層,其係插置於在一入光側處的一下漫射層和在一出光側處的一上漫射層之間,該漫射基板層包括散佈於其中的光漫射粒子且具有一線型第一圖樣,該線型第一圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部,其中,該上漫射層具有一線型第二圖樣,該線型第二圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部。
在下文中,將參照如附圖式而進一步更詳細說明本發明的具體實施例。
第1圖示意說明了根據本發明的一具體實施例之一光漫射板10;然而,本發明之圖式與實例中所說明的技術配置係僅被提出作為一較佳具體實施例,而非表達本發明的整個技術精神,因此,理應可理解到在本申請案申請時點所可能的各種可替代之等效例及/或修飾例。
本發明之光漫射板10係包括一漫射基板層100、一上漫射層200及一下漫射層300。
漫射基板層100是插置於在一出光側處之上漫射層200以及在一入光側處之下漫射層300之間。漫射基板層100包括一線型第一圖樣,其於出光側處具有於上漫射層200上加寬之彎曲頂部。
具有彎曲頂部之該線型圖樣係具有矩形之一縱向截面(亦即,在長度方向上切割且如第1圖中x方向所示之一截面,下文中均與上述同),其從該光漫射板的一端部至另一端部都具有相同高度;該線型圖樣亦具有一橫截面(亦即寬度方向切割且如第1圖中y方向所示之一截面,下文中均與上述同),該橫截面的頂部部分是呈彎曲的。前述圖樣係包括,例如:(a)一柱狀透鏡圖樣、以及(b)一圓稜鏡圖樣。第2圖分別示意說明了(a)柱狀透鏡圖樣、以及(b)圓稜鏡圖樣的橫截面。
柱狀透鏡圖樣具有呈矩形之一縱向截面、以及具有彎曲頂部(且較佳為,呈半圓形或半橢圓形)之一橫截面,該縱向截面從該光漫射板的一端部至另一端部(亦即,在光漫射板的相對端部之間)都具有相同的高度。
在第一圖中所示之漫射基板層100和上漫射層200的圖樣係僅為柱狀透鏡圖樣的一個示例。
該圓稜鏡圖樣具有呈矩形之一縱向截面(其從該光漫射板的一端部至另一端部都具有相同高度)以及呈三角形之一橫截面(其頂部頂點部分是一弧形)。亦即,前述圓稜鏡圖樣是指一種圖樣,其中在從該橫截面的頂部弧部的兩個端點處分別畫線至該橫載面的基線的兩端點處時,這些線會變成直線。
根據本發明之漫射基板層100的第一圖樣係作用以在該彎曲頂部的介面處使發出的光從圖樣內部漫射至外部,因此,藉由本發明之光漫射板10即可能得到高亮度與光均勻度。
漫射基板層100的材料並不受特定限制,但可包括任何可使用於光漫射板之樹脂。更特定地,可使用透明的、半透明的、白色的或有色的樹脂。較佳地,在透光性、抗光性等方面具有絕佳性能的丙烯酸系樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物樹脂、苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯腈樹脂、聚碳酸酯樹脂等,皆可被單獨使用、或是以其兩種或多種之組合而被使用,而對其無特定限制。
丙烯酸系樹脂較佳是至少一個均聚物,係選自例如:甲基丙烯酸烷基酯,例如,甲基丙烯酸甲基酯、甲基丙烯酸乙基酯、甲基丙烯酸丁基酯、甲基丙烯酸2-乙基己基酯等;丙烯酸烷基酯,例如,丙烯酸甲基酯、丙烯酸乙基酯、丙烯酸丁基酯等;甲基丙烯酸環烷基酯,例如,甲基丙烯酸環己基酯、甲基丙烯酸2-甲基環己基酯、甲基丙烯酸二環戊二醇酯等;丙烯酸環烷基酯,例如,丙烯酸環己基酯、丙烯酸2-甲基環己基酯等;甲基丙烯酸芳基酯,例如,甲基丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸苄基酯等;以及丙烯酸芳基酯,例如,丙烯酸苯基酯、丙烯酸苄基酯等,或其共聚物。
苯乙烯-丙烯酸共聚物樹脂較佳是共聚物,該共聚物由選自甲基丙烯酸烷基酯、丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸環烷基酯、丙烯酸環烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯及丙烯酸芳基酯的至少一者,與選自苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯及對-甲氧基苯乙烯的至少一者所形成。
苯乙烯樹脂較佳是至少一種均聚物,其選自苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯及對-甲氧基苯乙烯或其共聚物。
苯乙烯-丙烯腈共聚物樹脂較佳是共聚物,該共聚物由選自苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯及對-甲氧基苯乙烯的至少一者,與一丙烯腈單體所形成。
聚碳酸酯樹脂較佳是選自由以下所組成的族群的任一種:直鏈或支鏈的芳香族聚碳酸酯均聚物(係藉由將二羥基酚與光氣或碳酸酯前驅物反應而製備)、聚酯共聚物及其至少一種混合物。
前述樹脂可進一步包括各種添加物中的至少其中一種,例如UV吸收劑、發泡劑、抗氧化劑、脫離劑、抗靜電劑等。
漫射基板層100包括分散於其中之光漫射粒子110。第3圖是一截面圖,其示意地說明了光漫射板10。光漫射粒子110是一種藉由光在光漫射粒子的表面和內部之反射、折射和散射而加強通過漫射基板層100的光的漫射的方式。
根據本發明,光漫射粒子110是存在於漫射基板層100中,然而並不存在於漫射層200和300中。由於本發明之光漫射板10只有在漫射基板層100中包括光漫射粒子110,故可達成使光漫射粒子110受限地分佈在光漫射板10的厚度方向中一中心部分附近之效果,藉此而在光漫射板10的光亮度增進上具現可觀效果。
光漫射粒子110可包括在該領域中所使用的任何材料,且有機性或無機性之光漫射粒子可單獨或組合而使用。舉例而言,可使用以聚碳酸酯、烯烴、矽、丙烯酸、苯乙烯或甲基丙烯酸甲酯共聚物(MS為基礎)、二氧化矽、滑石、碳酸鈣、硫酸鋇、二氧化鈦(TiO2)等為基礎之交聯或非交聯的微粒子。雖未特別限制,但粒子的尺寸係介於0.2至50微米之間,而相對於漫射基板層100中基礎樹脂之100重量份,在本文中所使用之粒子量是介於0.001至40重量份(wt.parts)之間,且較佳是,介於0.005至10重量份之間。當前述粒子的含量是落在上述範圍內時,即可達成一較佳的總透光性和霧度。
漫射基板層100的厚度並未特別限制,但(舉例而言)比上漫射層200或下漫射層300中任一更厚,且較佳的是,比上和下漫射層200、300的總和更厚。特別是,漫射基板層100具有相對於光漫射板10之一整體厚度的50至90%之厚度。在高亮度與光均勻度方面,厚度是較佳在上述範圍內。
上漫射層200係配置在漫射基板層100的出光側。如第1圖所述,上漫射層200包括一線型第二圖樣,其在出光側處具有彎曲頂部。如上述說明,具有彎曲頂部之線型圖樣係可用於使發出的光從圖樣內部漫射至外部。因此,根據本發明,由於前述圖樣係用以進一步使通過漫射基板層100的光散射,因而可進一步增進光漫射板10的光均勻度。類似於上述第一圖樣,上漫射層200的第二圖樣亦為例如一柱狀透鏡圖樣或圓稜鏡圖樣。
關於本發明之光漫射板10,由於漫射基板層100和上漫射層200兩者都分別包括具有彎曲頂部之一線型圖樣,因此光漫射性質係可達最大化,以因而增進光均勻度和亮度。漫射基板層100和上漫射層200中所包含的該等線型圖樣(其各具有彎曲頂部)係獨立地具有其各別週期。每一層的圖樣週期可經適當選擇。舉例而言,如第1圖和第3圖所述,該圖樣週期可為一致,使得在漫射基板層100與上漫射層200中的線型圖樣(其都具有彎曲頂部)之單位圖樣係藉申一對一方式而彼此對應。
根據本發明之另一具體實施例,在漫射基板層100中的第一圖樣的高度係形成為對於上漫射層200中的第二圖樣的高度呈一預定比例。參閱第4圖,具有彎曲頂部之線型圖樣的高度即稱為一垂直線型距離,其由從連接下方圖樣開始部分拉一條線至橫截面的圖樣的一最高點而定義。根據本發明,在漫射基板層100中第一圖樣之高度h1對上漫射層200中第二圖樣的高度h2的比例是表示為h1:h2=1:0.5至10,且較佳為1:1.0至8.0,以在亮度與光均勻度的增進上得到最大化的效果。在此例中,第一圖樣的高度h1係介於10至200微米。
形成上漫射層200的材料可在用於形成漫射基板層100之材料相同範圍中被適當地使用,如上述說明者。
下漫射層300係具有將入射於光漫射板10上的光引導至漫射基板層100
的作用。
在本發明的另一態樣中,如第5圖所述,下漫射層300進一步在入光側處具有表面上之不平整性。在光漫射板10的製造或使用期間,刮傷或類似者會形成在光漫射板10的底部上,亦即,在下漫射層300的入光側處的表面上。這類刮傷會導致光均勻度的衰減。然而,根據本發明,係進一步提供於下漫射板300的入光側處之表面上提供不平整性,前述問題被克服,且另外光漫射板10的光均勻度被提升。這類不平整性係根據該領域中所習知的任何傳統方法而形成,例如砂磨等。
鑑於前述態樣,下漫射層300的不平整性較佳為微觀上的不平整性,例如,該不平整性係形成為可達到介於0.1至10.0微米間之表面粗糙度Ra。若該下漫射層300具有在上述範圍內之不平整性,則可最有效地呈現出在抗刮性與光均勻度上的提升。
在本發明的另一態樣中,下漫射層300係包括在光入射側處表面上之另一圖樣,進以確認光均勻度。此一圖樣可為一負的(「凹刻」)或正的(「浮雕」)圖樣。舉例而言,凹刻圖樣係藉由使一雷射光束輻照至下漫射層300的入光側而形成,而浮雕圖樣是藉由對下漫射層300噴射油墨液滴、然後使其固化而形成。下漫射層300中的前述不平整性是在形成上述圖樣之後形成。
類似於傳統的光漫射板,本發明之光漫射板10係進一步包括位於下漫射層300與上漫射層200中任一者上之一功能層、或是本身即具有功能性。功能層的基礎樹脂可包括,例如與用於光漫射板10中之漫射基板層100相同的基礎樹脂。在此方面,可使用與功能層的基礎樹脂相同之光漫射板的基礎樹脂,然也可使用其他的樹脂。功能層係含有UV吸收劑、熱穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、螢光增白劑、脫離劑與擴散劑中至少其一,而該基礎樹脂係包括如上所述之此一功能劑,或是在表面上塗有此一功能劑。
用於製造光漫射板10的方法並未特別受限制,但可包括各種處理,例如擠出成形、真空成形、熱壓成形、薄膜層積、溶劑鍵結、表面塗佈、UV固化、加熱固化等。在這些處理中,考慮到易於製造,較佳係使用擠出成
形與UV固化。或者是,在考慮到生產成本與生產率方面,更佳地是使用擠出成形。具有三層結構之本發明之光漫射板10係可經由共同擠出處理而易於製造。
本發明之光漫射板10可與一光源一起使用,進以配置出一背光單元。從光源發出的光係入射於光漫射板10中的下漫射層300上。光源係位於光漫射板10中的下漫射層300的底側上。雖然較佳為使用配備有一光源(其係置為面向光漫射板10中之下漫射層300)之直下型背光單元,但若一替代之反射裝置可使光入射於光漫射板10中的下漫射層300側上時,則光源也可位於不同位置。光源係包括,例如一發光二極體(LED)、一有機發光二極體(OLED)、一熱陰極螢光燈(HCFL)、一冷陰極螢光燈(CCFL)等,其並無特別限制。
如果需要的話,可於光漫射板10的上漫射層200上進一步提供一漫射薄片、微透鏡薄片、稜鏡薄片、DBEF薄片、保護性薄片等。
本發明之光漫射板10係可被包含於一影像顯示裝置中作為一構件。該影像顯示裝置並不被特別限制(若其是需要一替代表面發光光源來顯示一影像之裝置),然係包括一液晶顯示器(LCD)等。此外,上述之此一光漫射板10也可使用作為一種用於在一般發光系統中供應一表面發光光源之構件。
在下文中,將藉由下述示例來說明本發明之較佳具體實施例,然而,本發明之範疇並不限於此。
雖然提出這類較佳具體實施例是為能更具體地理解本發明,然熟習該領域技術之人士將可顯然知道這類具體實施例係僅作為例示說明之用而提出,其對於如附申請專利範圍並無特定限制,且在不悖離本發明之範疇與精神下,各種修飾例與替代例皆是可行的,這些修飾例與替代例當然都包含在由如附申請專利範圍所定義之本發明中。
例示實例
實例1至4以及比較例1至4
使用聚苯乙烯(折射率:1.59)作為基礎樹脂而藉由共同擠出方式來製
備一上漫射層、漫射基板層與下漫射層,以製得一光漫射板。作為光漫射粒子之矽粒子係分散於該漫射基板層內部,且在所有實例與比較例中皆使用相同的光漫射粒子量。
在該漫射基板層和該上漫射層的出光側上,係以300微米之圖樣週期而分別形成如表1中所列之圖樣。關於圖樣高度,第一圖樣的高度h1係固定為100微米,而另一高度h2則依表1所述而加以調整。
在下漫射板的底部側上,係形成一線型圖樣,並藉由網印方式形成一油墨印刷之圖樣,如表1所述。
作為參考,第6圖分別顯示了在(a)實例1與(b)實例2中所製得之光漫射板的截面中之上漫射層以及漫射基板層的頂部部分之光學顯微照片。
實驗實例
(1)平均亮度
在將所製得之光漫射板放置在一直下型LED的頂部上之後,對總共9個點處所發的光(在一光漫射板的平面中以寬度與長度為觀點(3×3)分別為1/6、1/2、5/6位置處)進行亮度測量,並從測量的數值決定一平均整體亮度。
(2)光均勻度
在將所製得之光漫射板放置在一直下型LED的頂部上之後,對總共9個點處所發的光(在一光漫射板的平面中以寬度與長度為觀點(3×3)分別為1/6、1/2、5/6位置處)進行最小/最大亮度測量,並從測量的數值決定一光均勻度。
所決定之平均亮度與光均勻度係列於下列表2。舉例而言,在本實驗實例中用以發光之光漫射板(其係於實例和比較例中所製得)的照片係分別顯示於第7圖(實例)與第8圖(比較例)中。
實驗實例
(1)平均亮度
在將所製得之光漫射板放置在一直下型LED的頂部上之後,對總共9個點處所發的光(在一光漫射板的平面中以寬度與長度為觀點(3×3)分別為1/6、1/2、5/6位置處)進行亮度測量,並從測量的數值決定一平均整體亮度。
(2)光均勻度
在將所製得之光漫射板放置在一直下型LED的頂部上之後,對總共9個點處所發的光(在一光漫射板的平面中以寬度與長度為觀點(3×3)分別為1/6、1/2、5/6位置處)進行最小/最大亮度測量,並從測量的數值決定一光均勻度。
所決定之平均亮度與光均勻度係列於下列表2。舉例而言,在本實驗實例中用以發光之光漫射板(其係於實例和比較例中所製得)的照片係分別顯示於第7圖(實例)與第8圖(比較例)中。
參閱表2、第7圖與第8圖,可發現到在實例中所製得的光漫射板在平均亮度與光均勻度方面都具有比比較例中所製得者更佳的特性。
更特別地,可發現在比較例3中所製得之光漫射板(其於漫射基板層中並不具有柱狀透鏡圖樣)係呈現出比實例1更低的光均勻度,雖然其具有類似的亮度。或者是,對於比較例1(其中其漫射基板層和上漫射層都不具有柱狀透鏡圖樣)而言,可發現平均亮度與光均勻度都降低過多,甚至是在光漫射板中有光漫射粒子分佈時亦然。
此外對於比較例2(其中光漫射粒子是存在於上漫射層與下漫射層兩者中)而言,平均亮度與光均勻度亦比實例1更降低。特別是,已發現到平均亮度係大量降低。此外,對於比較例4(其中光漫射粒子係分佈在所有層中)而言,特別是可發現到其亮度亦較實例1大幅降低。
另一方面,在比較實例1和實例2時,可證實在實例1中所製得之具有較小厚度漫射基板層的光漫射板係具有絕佳的平均亮度,而在實例2中所製得之光漫射板係具有絕佳的光均勻度。此外,在比較實例2與實例3時,可證實當在下漫射層的入光側上提供不平整性時,抗刮性係得到提升,且光均勻度亦進一步提升。
Claims (9)
- 一種光漫射板,包含:一漫射基板層,其係插置於在一入光側處的一下漫射層和在一出光側處的一上漫射層之間,該漫射基板層包括散佈於其中的光漫射粒子且具有一線型第一圖樣,該線型第一圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部,其中,該上漫射層具有一線型第二圖樣,該線型第二圖樣係於該出光側處具有彎曲頂部,其中該第一與第二圖樣每一個獨立地是柱狀透鏡圖樣或圓稜鏡圖樣。
- 如申請專利範圍第1項所述之光漫射板,其中在該漫射基板層中的該第一圖樣的一高度與在該上漫射層中的該第二圖樣的一高度之一比例係介於1:0.5至10.0的範圍。
- 如申請專利範圍第1項所述之光漫射板,其中該漫射基板層具有相對於該光漫射板的一整體厚度為50%至90%之一厚度。
- 如申請專利範圍第1項所述之光漫射板,其中該下漫射板具有形成在其入光側處之一表面上的不平整性。
- 如申請專利範圍第4項所述之光漫射板,其中該不平整性係形成為使得在該下漫射層的該入光側處的該表面上之一表面粗糙度Ra介於0.1至10.0微米之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之光漫射板,其中該下漫射層進一步具有在其入光側處的該表面上之一凹刻或浮雕圖樣。
- 一種背光單元,其包含如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之光漫射板。
- 如申請專利範圍第7項所述之背光單元,進一步包括一光源,該光源是在該光漫射板中之該下漫射層的該底部處。
- 一種影像顯示裝置,其具有如申請專利範圍第8項所述之背光單元。
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