TWI616268B - 控制多軸件平台設備的設備及方法 - Google Patents
控制多軸件平台設備的設備及方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI616268B TWI616268B TW101141362A TW101141362A TWI616268B TW I616268 B TWI616268 B TW I616268B TW 101141362 A TW101141362 A TW 101141362A TW 101141362 A TW101141362 A TW 101141362A TW I616268 B TWI616268 B TW I616268B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- shaft
- main shaft
- controller
- starting point
- shaft member
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D17/00—Control of torque; Control of mechanical power
- G05D17/02—Control of torque; Control of mechanical power characterised by the use of electric means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Numerical Control (AREA)
Abstract
一種用來控制包括多軸件的平台設備的設備及方法被提供。該用來控制一包括多個軸件及一被該等多個軸件傾斜的平台的平台設備的設備包含一軸件指定單元,其將該等多個軸件中個別的軸件依序地指定為一主要軸件及將未被指定為主要軸件的軸件指定為從屬軸件、及一控制器,其將該被指定的主要軸件回復至其作為一參考位置的起始點及將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到該主要軸件回到其起始點為止。精準控制可被提高,且時間及成本可被降低。
Description
本申請案與2012年2月16日向韓國專利局提申的韓國專利申請案第2012-0015775號有關,該案的揭示內容藉此參照被併於本文中。
本發明係有關於一種包括多個軸件的平台設備的控制。
大體上,一種用於安裝一基材的平台設備係被使用在一平板顯示器(FPD)製程中或半導體設備及材料國際協會(SEMI)製程中。
為了要使用此一平台設備來實施一操作,每一支撐一平台的軸件都被回返至它的參考位置,即每一軸件的起始點(俗稱為‘將每一軸件回返至起始點’),及一用於一操作所需要的移動指令根據該起始點被發出。因此,將每一軸件精準地回返至其起始點會影響到該平台設備的操作效能及產品的品質。
在包括一單一軸件的平台設備的例子中,沒有機械性限制作用於其上,因此,在將該軸件回返至起始點方面並沒有任何困難度。然而,在一包括多個軸件的平台設備的例子中,當只有該等多個軸件中的一個軸件被回返至其起
始點時,該等軸件的其餘的軸件會因為機械性限制(即,導因於一用來將該平台和該等多個軸件機械地連接的結構)而會有應變(strain)被施加於其上。
而且,對於FPD製程或SEMI製程而言,該平台的誤差因子(error factors)(如,滾動(roll)、縱搖(pitch)、橫搖(yaw)、平坦度、及類此者)保持在適當的範圍內是很重要的,為此,一操作者(或技術員)必須重復地拆解及重新組裝該平台設備。
亦即,如圖1所示,當平台設備的組裝被完成時(S100),該等誤差因子的誤差率被測量(S101),且決定該被測量到的誤差量是否在一目標值的範圍內(S102)。根據該決定的結果,當該被測量到的誤差量等於或大於該目標值時,該操作者將該平台設備拆解並實施該平台設備的校正(S103)。之後,步驟S100至S102被重復地實施。
因此,根據習知技術,因為該等誤差因子是由操作者手動地調整,所以其精確度被降低且時間及成本被浪費。
本發明的一個態樣是提供一種用來控制一包括多個軸件的平台設備的設備及方法,其能夠提高控制的精確度並減少時間及成本。
本發明的另一個態樣是提供一種用來控制一包括多個軸件的平台設備的設備及方法,其能夠防止一馬達的負荷
因子(load factor)的累積並減少因為過度的傾斜而施加至該馬達的負荷。
依據本發明的一個態樣,一種用來控制一包括多個軸件及一被該等多個軸件傾斜的平台的平台設備的控制設備被提供,該控制設備包含:一軸件指定單元,其將該等多個軸件中個別的軸件依序地指定為一主要軸件及將未被指定為主要軸件的軸件指定為從屬軸件;及一控制器,其將該被指定的主要軸件回復至其作為一參考位置的起始點並將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到該主要軸件回到其起始點為止。
該控制設備可進一步包括一界限感測器,其測量該主要軸件的運動界限;一線性尺規,其包括一指標,該主要軸件的起始點被標記於其內;及一偵測單元,其偵測該界限感測器及該線性尺規的該指標,其中當該偵測單元根據該主要軸件在一第一軸件方向上的運動偵測到該界限感測器時,該控制器將該主要軸件移動於一與該第一軸件方向相反的方向上,及當該指標被該偵測單元偵測到時,該控制器會停止該主要軸件的運動。
該控制設備可進一步包括:一測量單元,其測量該等軸件的每一軸件的校正量,用以將該平台保持水平,其中該控制器會根據被測量到的校正量來移動個別的軸件。
當一相應的軸件已根據該被測量到的校正量被移動時,該控制器會將每一軸件在該相反的方向上移動該相應的校正量,接著將該被指定的主要軸件回返至作為一參考
位置的該起始點。
該平台設備可進一步包括:一用來驅動該等多個軸件的驅動源,其中當該主要軸件完成回返至該起始點時,該控制器會暫時停止控制該驅動源。
依據本發明的另一態樣,一種用來控制一包括多個軸件及一被該等多個軸件傾斜的平台的平台設備的方法被提供,該方法包含:用一軸件指定單元將該等多個軸件中個別的軸件依序地指定為一主要軸件及將未被指定為主要軸件的軸件指定為從屬軸件;及用一控制器將該被指定的主要軸件回返至其作為一參考位置的起始點及將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到該主要軸件回到其起始點為止。
該主要軸件回返至該起始點可包括:用該控制器將該主要軸件移動於一第一軸件方向上;用一偵測單元來偵測一用來偵測該主要軸件的運動界限的界限感測器;當該界限感測器被偵測到時,用該控制器來將該主要軸件移動於一與該第一軸件方向相反的方向上;用該偵測單元來偵測一標示該主要軸件的該起始點的指標;及當該指標被偵測到時,用該控制器來停止該主要軸件。
該控制方法進一步包括:用該測量單元測量該等軸件的每一軸件的校正量以保持該平台水平;及用該控制器來根據該被測量到的校正量移動一相對應的軸件。
該控制方法可進一步包括:當該相對應的軸件已根據該被測量到的校正量被移動時,用該控制器來將每一軸件
在該相反的方向上移動該相應的校正量並接著將該被指定的主要軸件回返至該作為一參考位置的起始點。
該平台設備可進一步包括一用來驅動該等多個軸件的驅動源,及在該控制方法中,該控制器可在該主要軸件回返至該起始點被完成時暫時停止控制該驅動源。
本發明的實施例現將參考附圖予以詳細描述。然而,本發明可被體現成許多不同的形式且不應被解讀為被侷限在本文中提出的這些實施例。相反地,這些實施例被提供使得此揭露將會是徹底且完全,且將完整地將本發明的範圍傳達給手習此技藝者。在圖式中,元件的形狀及尺寸為了應楚起見會被誇大,且相同的標號將被用來指定相同或相類的構件。
圖2是一例示依據本發明的一實施例之用來控制一包括多個軸件的平台設備的設備的圖式。該用來控制一平台設備的設備包括一軸件指定單元210,其在多個軸件之中依序地將個別的軸件AX1,AX2及AX3指定為主要軸件,並將未被指定為主要軸件的其餘軸件指定為從屬軸件、一控制器220其將該被指定的主要軸件回返至其作為一參考位置的起始點並將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到完成將該主要軸件回返至其起始點為止、界限感測器LS1,LS2,及LS3,其測量該主要軸件的運動界限、線性尺規PS1,PS2,及PS3,其包括一指標,該主要
軸件的該起始點被標記於該指標內、一偵測單元230,其偵測該等界限感測器LS1,LS2,及LS3及該等線性尺規PS1,PS2,及PS3的該指標、及一測量單元240,其測量該等軸件AX1,AX2及AX3的每一者的校正量,用以水平地保持該平台S。
該例示依據本發明的一實施例之用來控制一包括多個軸件的平台設備的設備將參考圖2予以詳細地描述。
參考圖2,該平台設備可包括多個軸件AX1,AX2及AX3及被該等多個軸件AX1,AX2及AX3傾斜的平台S。
一基材(未示出)可被安放於該平台S上且在一FPD製程或一SEMI製程期間一操作可被實施於其上。為了描述的目的,圖2例示該平台S被三個軸件AX1,AX2及AX3支撐,且該平台S亦可被至少兩個或更多個軸件支撐。
同時,個別的軸件AX1,AX2及AX3可被作為驅動源的馬達M1,M2及M3移動(伸展或縮回)於一垂直的方向上(用‘D’來標示),用以校正該平台S的一誤差因子(如,滾動、縱搖、橫搖、平坦度、或類此者,且在此實施例中,該誤差因子主要係指平坦度)。
該等界限感測器LS1,LS2,及LS3被安裝在個別的軸件AX1,AX2及AX3的上部或下部(在此實施例中,該等界限感測器被安裝在下部),用以測量一主要軸件的運動界限(這將被描述)。
而且,位置測量單元(如,線性尺規PS1,PS2,及PS3)可被安裝,用以測量個別的軸件AX1,AX2及AX3
的位置,且指標I1,I2,及I3可被標記在該等線性尺規PS1,PS2,及PS3上,用以指出作為參考位置的該等軸件的起始點。同時,在圖2中顯示出的是,該等位置測量單元為了描述的目的而沿著個別的軸件AX1,AX2及AX3被安裝,但應被理解的是,該等位置測量單元可根據方便性而被安裝在不同的位置。
該軸件指定單元210可依序地將該等多個軸件AX1,AX2及AX3的每一軸件指定為主要軸件,並將未被指定為主要軸件的其餘軸件指定為從屬軸件。該被指定的主要軸件及從屬軸件可被傳送至該控制器220。
同時,該控制器220實施依據本發明的一實施例的一般性控制。詳言之,該控制器220將由該軸件指定單元210傳送來的該被指定的主要軸件回返至其作為一參考位置的起始點並將將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到該主要軸件回返至該起始點被完成為止,或依據該測量單元240測量到的一校正值來移動每一個別的軸件AX1,AX2及AX3,用以消除該平台設備的一初始誤差。一包括該控制器220的詳細控制方法將稍後予以描述。
同時,為了要消除該平台設備的誤差因子,該測量單元240可測量在每一個點P1,P2及P3的誤差因子的校正量,並將該被測量到的校正量傳送至該控制器220。該誤差因子的校正量可包括,例如,每一個別的軸件AX1,AX2及AX3用來水平地保持該平台S的校正量。
圖3是一流程圖,其例示一種依據本發明的一實施例
之用來控制一包括多個軸件的平台設備的方法,及圖4是依據本發明的一實施例之圖3的步驟S305的特定流程圖。
下文中,一種依據本發明的一實施例之用來控制一包括多個軸件的平台設備的方法將被詳細描述。
參考圖2及圖3,首先,當該平台設備的組裝被完成時(S301),該測量單元240可測量一誤差因子(如,滾動、縱搖、橫搖、平坦度、或類此者,且在此實施例中,該誤差因子主要係指平坦度)的誤差量(S302)。該被測量到的誤差量可被傳送至該控制器220。
接下來,該控制器220決定該被測量到的誤差量是否在一目標值之內(S303)。依據該決定結果,當該被測量到的誤差值等於或大於該目標值時,該測量單元240可測量個別的軸件AX1,AX2及AX3的一校正值(S304)。該被測量到的校正值可被輸送至該控制器220。
之後,該控制器220可藉由控制作為驅動源的該等馬達M1,M2,及M3來對所有軸件AX1,AX2及AX3實施一回返至起始點的程序(S305)。該回返至起始點的程序被詳細地例示於圖4中且將參考圖2及圖4予以詳細描述。
參考圖2及4,首先,一主要軸件及諸從屬軸件被該軸件指定單元210指定。在包括多個軸件的平台設備的例子中,當只有該等多個軸件的任一個軸件實施回返至起始點時,其它的軸件會因為機械性限制(即,導因於一用來
將該平台和該等多個軸件機械地連接的結構)而受到應變。因此,依據本發明的一實施例,該等多個軸件AX1,AX2及AX3的每一軸件依序被指定為一主要軸件,且未被指定為主要軸件之其餘的軸件被指定為從屬軸件,且每一被指定的主要軸件被回返至其作為一參考位置的起始點且該等從屬軸件和該主要軸件一起被移動直到該主要軸件被完全回返至其起始點為止。因此,精確控制可被改善,且時間及成本可被減少。
詳言之,該控制器220可決定個別的軸件AX1,AX2及AX3是否已依據該被測量到的校正量被校正(S401)。當該校正已依據該決定結果被實施時,該控制器220可在該相反的方向上將個別的軸件AX1,AX2及AX3校正該被測量到的校正量(亦即,個別的軸件藉由該校正量而被回返至原始的位置)(S402)。其原因是,如果該回返至起始點的程序是在個別的被校正過的狀態下被實施的話,則一過大的負荷會因為傾斜而被施加至馬達M1,M2,及M3上。
之後,該控制器220可暫時停止所有軸件AX1,AX2及AX3的控制(亦即,軸件AX1,AX2及AX3被保持不受馬達M1,M2,及M3的強制控制)(S403)。步驟S403可在所有的軸件AX1,AX2及AX3回返至其起始點被完成(S407及S411)之後實施。
其原因是,在該包括多個軸件的平台設備中,當主要軸件被回返至該起始點時,其餘的從屬軸件遵照該主要軸
件的指令並一起操作,且在此例子中,在一發給該主要軸件的指令和一發給該等從屬軸件的指令之間有一延遲(亦即,發給該等從屬軸件的指令相對於發給該主要軸件的指令被延遲),因此,該主要軸件的馬達的位置和該等從屬軸件的馬達的位置之間有一偏差。
就該包括多個軸件的平台設備的特性而言,該位置偏差造成該等馬達的負荷因子被累積。因此,依據本發明的一實施例,在該主要軸件被回返至其起始點之後,所有軸件AX1,AX2及AX3的控制被暫時停止,用以消除該等馬達之累積的負荷因子。
之後,該軸件指定單元210依序地將該等多個軸件的每一軸件指定為一主要軸件。未被指定為主要軸件的其它軸件可被指定為從屬軸件。詳言之,該軸件指定單元210可將一第一軸件AX1指定為主要軸件及將其它軸件AX2及AX3指定為從屬軸件(S404)。
之後,該控制器220可實施將該被指定的主要軸件AX1回返至該起始點的程序(S405)。詳言之,依據一來自該控制器220的起始點回返指令,該馬達M1將該主要軸件AX1移動(回縮)於一軸件方向(D)上,即一向下的方向上,且在此時,該偵測單元230可偵測該界限感測器LS1。當該界限感測器LS1被偵測到時,該控制器220將該主要軸件AX1移動(或伸展)於相反方向上,且在此時,該偵測單元230可偵測該線性尺規PS1的指標I1。之後,該控制器220停止位在該指標I1的點的該主要軸
件AX1的運動。
同時,在該起始點回返指令被傳送至該主要軸件AX1之後,其餘的從屬軸件AX2及AX3以和該主要軸件AX1相同的速率操作。
之後,該控制器220決定該主要軸件AX1回返至該起始點是否已完成(S406)。根據該決定結果,當該主要軸件AX1回返至該起始點已完成時,該控制器220暫時停止所有軸件AX1,AX2及AX3的控制(亦即,軸件AX1,AX2及AX3被保持不受馬達M1,M2,及M3的強制控制)(S407)。其理由和上文中提到的相同。
之後,該軸件指定單元210可將該第二軸件AX2指定為主要軸件及將其餘的軸件AX1及AX3指定為從屬軸件(S408)。
相類似地,如上文所述,該控制器220可藉由使用該第二軸件AX2作為主要軸件來實施回返至原始點的程序(S409)。因為該第一軸件AX1已被回返至該起始點,所以它的初始位置可以是該指標I1,且該等被指定的從屬軸件AX1及AX3,在該回返指令被傳送至該主要軸件AX2之後,可用和該主要軸件AX2相同的速率來操作。
之後,該控制器220決定該主要軸件AX2回返至該起始點是否已完成(S410)。根據該決定結果,當該主要軸件AX2回返至該起始點已完成時,該控制器220暫時停止所有軸件AX1,AX2及AX3的控制(亦即,軸件AX1,AX2及AX3被保持不受馬達M1,M2,及M3的強
制控制)(S411)。
最後,該軸件指定單元210可將該第三軸件AX3指定為主要軸件及將其餘的軸件AX1及AX2指定為從屬軸件(S412)。
之後,相類似地,如上文所述,該控制器220可藉由使用該第三軸件AX3作為主要軸件來實施回返至原始點的程序(S413)。因為該第一軸件AX1及第二軸件AX2已被回返至該起始點,所以它們的初始位置可以是該指標I1及I2,且該等被指定的從屬軸件AX2及AX3,在該回返指令被傳送至該主要軸件AX2之後,可用和該主要軸件AX3相同的速率來操作。
之後,該控制器220決定該主要軸件AX2回返至該起始點是否已完成(S410)。根據該決定結果,當該主要軸件AX2回返至該起始點已完成時,該控制器220可實施圖3中的步驟S306。
亦即,如圖3所示,該控制器306依據在步驟S304中測量到的校正量來校正個別的軸件AX1,AX2及AX3,且可將已校正完成的個別軸件AX1,AX2及AX3的目前的位置設定為起始點。之後,一操作所須之傳送指令根據該等作為參考點之被設定的起始點被發出。
如上文所述,依據本發明的一實施例,因為一平台的水平的校平和回返至一起始點是由一馬達自動地實施,所以控制的精準度可被提高且時間及成本可被減少。
而且,依據本發明的一實施例,當相關於一個主要軸
件的回返至起始點被完成時,一馬達的控制訊號被暫時地停止,用以防止該馬達的負荷因子的累積。
此外,依據本發明的另一實施例,在將該平台設備回返至該起始點的例子中,在該平台設備藉由一個別的軸件的校正量而被回返至該初始位置之後,該平台設備會回返至該起始點,因此減少一因為過度傾斜而施加在該馬達上的負荷。
雖然本發明已透過實施例被顯示及描述,但熟習此技藝者將可瞭解的是,修改及變化可在不偏離由下面的申請專利範圍所界定之本發明的精神及範圍下被達成。
210‧‧‧軸件指定單元
AX1‧‧‧軸件
AX2‧‧‧軸件
AX3‧‧‧軸件
220‧‧‧控制器
LS1‧‧‧界限感測器
LS2‧‧‧界限感測器
LS3‧‧‧界限感測器
PS1‧‧‧線性尺規
PS2‧‧‧線性尺規
PS3‧‧‧線性尺規
230‧‧‧偵測單元
S‧‧‧平台
M1‧‧‧馬達
M2‧‧‧馬達
M3‧‧‧馬達
I1‧‧‧指標
I2‧‧‧指標
I3‧‧‧指標
240‧‧‧測量單元
本發明的上述及其它態樣、特徵及其它好處從下面配合附圖的詳細說明中將更容易瞭解,其中:圖1是一流程圖,其例示一種依據習知技術之用來控制一包括多個軸件的平台設備的方法;圖2是一例示依據本發明的一實施例之用來控制一包括多個軸件的平台設備的設備的圖式;圖3是一流程圖,其例示一種依據本發明的一實施例之用來控制一包括多個軸件的平台設備的方法;及圖4是依據本發明的一實施例之圖3的步驟S305的特定流程圖。
210‧‧‧軸件指定單元
220‧‧‧控制器
230‧‧‧偵測單元
240‧‧‧測量單元
AX1‧‧‧軸件
AX2‧‧‧軸件
AX3‧‧‧軸件
LS1‧‧‧界限感測器
LS2‧‧‧界限感測器
LS3‧‧‧界限感測器
PS1‧‧‧線性尺規
PS2‧‧‧線性尺規
PS3‧‧‧線性尺規
S‧‧‧平台
M1‧‧‧馬達
M2‧‧‧馬達
M3‧‧‧馬達
I1‧‧‧指標
I2‧‧‧指標
I3‧‧‧指標
P1‧‧‧點
P2‧‧‧點
P3‧‧‧點
Claims (10)
- 一種控制設備,用來控制一包括多個軸件及一被該等多個軸件傾斜的平台的平台設備,該控制設備包含:一軸件指定單元,其將該等多個軸件中個別的軸件依序地指定為一主要軸件並將未被指定為主要軸件的軸件指定為從屬軸件;及一控制器,其將該被指定的主要軸件回復至其作為一參考位置的起始點並將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到該主要軸件回到其起始點為止。
- 如申請專利範圍第1項之控制設備,更包含:一界限感測器,其測量該主要軸件的運動界限;一線性尺規,其包括一指標,該主要軸件的起始點被標記於其內;及一偵測單元,其偵測該界限感測器及該線性尺規的該指標,其中當該偵測單元根據該主要軸件在一第一軸件方向上的運動偵測到該界限感測器時,該控制器將該主要軸件移動於一與該第一軸件方向相反的方向上,及當該指標被該偵測單元偵測到時,該控制器會停止該主要軸件的運動。
- 如申請專利範圍第1項之控制設備,更包含:一測量單元,其測量該等軸件的每一軸件的校正量,用以將該平台保持水平,其中該控制器會根據該被測量到的校正量來移動個別的軸件。
- 如申請專利範圍第3項之控制設備,其中當一相對應的軸件已根據該被測量到的校正量而被移動時,該控制器會將每一軸件在該相反的方向上移動該相對應的校正量,並接著將該被指定的主要軸件回返至其作為一參考位置的該起始點。
- 如申請專利範圍第1項之控制設備,其中該平台設備可進一步包括一用來驅動該等多個軸件的驅動源,其中每當該主要軸件完成回返至該起始點時,該控制器會暫時停止控制該驅動源。
- 一種用來控制一包括多個軸件及一被該等多個軸件傾斜的平台的平台設備的方法,該方法包含:用一軸件指定單元將該等多個軸件中個別的軸件依序地指定為一主要軸件並將未被指定為主要軸件的軸件指定為從屬軸件;及用一控制器將該被指定的主要軸件回返至其作為一參考位置的起始點並將該等從屬軸件和該主要軸件一起移動直到完成該主要軸件回到該起始點時為止。
- 如申請專利範圍第6項之方法,其中該主要軸件回返至該起始點包含:用該控制器將該主要軸件移動於一第一軸件方向上;用一偵測單元來偵測一用來測量該主要軸件的運動界限的界限感測器;當該界限感測器被偵測到時,用該控制器來將該主要軸件移動於一與該第一軸件方向相反的方向上; 用該偵測單元來偵測一標示該主要軸件的該起始點的指標;及當該指標被偵測到時,用該控制器來停止該主要軸件。
- 如申請專利範圍第6項之方法,其更包含:用該測量單元測量該等軸件的每一軸件的校正量以保持該平台水平;及用該控制器來根據該被測量到的校正量移動一相對應的軸件。
- 如申請專利範圍第8項之方法,其更包含:當該相對應的軸件已根據該被測量到的校正量而被移動時,用該控制器來將每一軸件在該相反的方向上移動該相對應的校正量並接著將該被指定的主要軸件回返至該作為一參考位置的起始點。
- 如申請專利範圍第6項之方法,其中該平台設備可進一步包括一用來驅動該等多個軸件的驅動源,及在該控制方法中,該控制器可在該主要軸件回返至該起始點被完成時暫時停止控制該驅動源。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
??10-2012-0015775 | 2012-02-16 | ||
KR1020120015775A KR101269987B1 (ko) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | 다축으로 구성된 스테이지 장치의 제어 장치 및 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201334910A TW201334910A (zh) | 2013-09-01 |
TWI616268B true TWI616268B (zh) | 2018-03-01 |
Family
ID=48667267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101141362A TWI616268B (zh) | 2012-02-16 | 2012-11-07 | 控制多軸件平台設備的設備及方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6038678B2 (zh) |
KR (1) | KR101269987B1 (zh) |
TW (1) | TWI616268B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103488191B (zh) * | 2013-09-27 | 2016-01-20 | 浙江水利水电学院 | 一种分布式调平控制器电路 |
CN104133478A (zh) * | 2014-07-15 | 2014-11-05 | 大连大学 | 一种可移动平台及可移动平台自稳定的方法 |
JP6943268B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2021-09-29 | オムロン株式会社 | 制御装置 |
CN114633904B (zh) * | 2022-03-14 | 2023-01-17 | 哈尔滨工业大学 | 自动调平式重载平面微重力模拟平台 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002049425A (ja) * | 2000-08-03 | 2002-02-15 | Canon Inc | ステージ制御方法及び制御装置 |
TW536442B (en) * | 2002-10-25 | 2003-06-11 | Nat Kaohsiung First University | 6-DOF fine position adjustment platform |
JP2006224285A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法 |
CN1289270C (zh) * | 2001-11-09 | 2006-12-13 | 中国科学院自动化研究所 | 开放式工业机器人视觉控制平台 |
JP2011192867A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
TWI425334B (zh) * | 2010-05-26 | 2014-02-01 | Univ Nat Formosa | Hybrid six - degree - of - freedom nano - level precision positioning platform system |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01303502A (ja) | 1988-05-31 | 1989-12-07 | Fanuc Ltd | 数値制御装置 |
JP3271256B2 (ja) * | 1993-07-29 | 2002-04-02 | ソニー株式会社 | 位置決め制御装置及び位置決め制御装置の原点復帰方法 |
JPH0822313A (ja) * | 1994-07-08 | 1996-01-23 | Fanuc Ltd | 数値制御装置 |
CN1280686C (zh) * | 2002-01-17 | 2006-10-18 | 三菱电机株式会社 | 数控方法及其装置 |
JP3680064B2 (ja) | 2003-04-21 | 2005-08-10 | ファナック株式会社 | 数値制御装置 |
-
2012
- 2012-02-16 KR KR1020120015775A patent/KR101269987B1/ko active IP Right Grant
- 2012-11-07 TW TW101141362A patent/TWI616268B/zh active
-
2013
- 2013-02-14 JP JP2013026488A patent/JP6038678B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002049425A (ja) * | 2000-08-03 | 2002-02-15 | Canon Inc | ステージ制御方法及び制御装置 |
CN1289270C (zh) * | 2001-11-09 | 2006-12-13 | 中国科学院自动化研究所 | 开放式工业机器人视觉控制平台 |
TW536442B (en) * | 2002-10-25 | 2003-06-11 | Nat Kaohsiung First University | 6-DOF fine position adjustment platform |
JP2006224285A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法 |
JP2011192867A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
TWI425334B (zh) * | 2010-05-26 | 2014-02-01 | Univ Nat Formosa | Hybrid six - degree - of - freedom nano - level precision positioning platform system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201334910A (zh) | 2013-09-01 |
JP2013166240A (ja) | 2013-08-29 |
JP6038678B2 (ja) | 2016-12-07 |
KR101269987B1 (ko) | 2013-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI616268B (zh) | 控制多軸件平台設備的設備及方法 | |
CN102909728B (zh) | 机器人工具中心点的视觉校正方法 | |
US8166664B2 (en) | Method of aligning arm reference system of a multiple-arm measurement machine | |
TWI635377B (zh) | 用於直線運動單平面龍門平台,平台設備及製造,測量及檢查設備的動態及熱誤差即時補償系統 | |
EP2538267B1 (en) | A method and a device for titling | |
WO2011099599A1 (ja) | 工作機械の熱変位補正方法および熱変位補正装置 | |
KR102392452B1 (ko) | 갈바노미터 보정 시스템 및 방법 | |
TWI485359B (zh) | 鐳射平面度量測系統及方法 | |
US20190322467A1 (en) | Work robot system and work robot | |
JP2011232298A (ja) | 処理装置、処理システム、座標補正方法および座標補正プログラム | |
KR20130128846A (ko) | 기판 반송 로봇 핸드의 성능 테스트 장치 및 방법 | |
EP2149775B1 (en) | Profile measuring instrument and profile measuring method | |
CN109590168A (zh) | 倾斜旋转式点胶装置的校准方法 | |
JP7080068B2 (ja) | ロボットの位置情報復元方法 | |
JP2003211328A (ja) | 組立治具の調整方法 | |
JP7097722B2 (ja) | ロボットの位置情報復元方法 | |
JPWO2015193985A1 (ja) | 位置決めシステム | |
WO2016033936A1 (zh) | 一种可使用于两柱和小剪举升机的四轮定位方法及定位仪系统 | |
EP2636057B1 (en) | Method for calibrating a robot mounted on active magnetic bearings | |
KR20120069056A (ko) | 공작기계의 공구계측을 이용한 열변위 보정장치 및 방법 | |
TW201515773A (zh) | 對稱去角基板的方法及設備 | |
JP2008299710A (ja) | ステージ位置決め装置 | |
US11862495B2 (en) | Monitor wafer measuring method and measuring apparatus | |
JP2012192498A (ja) | ロボット制御装置およびキャリブレーション方法 | |
JP2010076621A (ja) | ボーディングブリッジ |